JPH0710160Y2 - ガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用弁装置 - Google Patents

ガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用弁装置

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JPH0710160Y2
JPH0710160Y2 JP1986067874U JP6787486U JPH0710160Y2 JP H0710160 Y2 JPH0710160 Y2 JP H0710160Y2 JP 1986067874 U JP1986067874 U JP 1986067874U JP 6787486 U JP6787486 U JP 6787486U JP H0710160 Y2 JPH0710160 Y2 JP H0710160Y2
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【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この考案は、ガス貯蔵容器内から超高純度ガスを取出し
始める時点で、ガス取出し導管内に溜っている不純ガス
によって超高純度ガスの純度が低下する事を防ぐため
に、ガスの取出し前に、ガス取出し導管内に不活性ガス
などのパージ用ガスを注入して不純ガスを追い出せるよ
うにした弁装置に関し、そのパージ用ガスによる置換を
充分に行なえるようにする技術である。
〈従来技術〉 近時、半導体集積回路の高密度化に伴ない、その製造に
用いられる水素その他のガスは、次第に超高純度(例え
ば現状では99.99999%以上)のものが要求されだしてき
ている。
この超高純度ガスをガス貯蔵容器から取出してガス取出
し導管でユースポイントに供給する場合において、その
取出し始めの時点で、ガス取出し導管内に溜っている不
純ガスが超高純度ガスに混入してその純度を低下させる
という問題がある。
この問題は実際には、例えば昼休みの1時間だけガス供
給を停止した場合でさえも起ることが確認されている。
その原因は、ガス供給停止中にガス取出し導管内に管接
続部の隙間などから外気が侵入する事、及び、ガス取出
し導管の内表面のごく微細な表面粗さの凹部やその内表
面のごく微細な隙間に溜ったり吸着されていたりしてい
た不純ガスがガス取出し導管内に放出される事にあると
理解される。
このようなガスの純度低下を防ぐために、ガス取出し前
に、ガス取出し導管内に不活性ガスを注入して不純ガス
を追い出す不純ガスのパージ作業が行なわれている。
あるいは、上記の超高純度ガスが反応性、腐食性、毒性
の強いガスの場合には、ガス使用の終了後に、この種の
ガスが長時間にわたって配管系内に封じ込められること
をきらって、アルゴンなどの不活性ガス、高純度の窒素
や水素など特定のパージ用ガスで配管系内をパージする
こともある。
従来の弁装置は、この不純ガスのパージ作業を行なうた
めに、第4図に示すように構成されていた。
即ち、超高純度ガスを貯蔵したガス貯蔵容器50に取付け
られた止め弁51の出口孔52からガス取出し導管54が導出
され、ガス取出し導管54の先端部に出口弁55が接続され
ている。また、不活性ガスの貯蔵容器56の容器元弁57に
パージ弁58の入口が接続され、このパージ弁58の出口
が、出口管59とチーズ60を介してガス取出し導管54の中
途部に接続されている。
〈考案が解決しようとする問題点〉 上記従来例では、ガス取出し導管54のうち、チーズ60よ
りも下流側の管路部分内から不純ガスを追い出せる点で
優れているが、チーズ60よりも上流側の管路部分内及び
止め弁51の出口孔52内から不純ガスを追い出せない点で
問題が残されており、ここに残留する不純ガスの分量だ
け超高純度ガスの純度が低下する欠点がある。
また、パージ弁58をガス取出し導管54に出口管59及びチ
ーズ60を介して接続するため、その管接続部が4箇所も
できる。これらの管接続部から超高純度ガスが管外に漏
洩したり、外気がその漏洩ガス流のわきで壁面に沿って
逆流して管内に侵入したりして、超高純度ガスの純度を
低下させる等の欠点もある。
本考案は、止め弁の出口孔内及びガス取出し導管内の全
ての部分から不純ガスをすべて追い出して、超高純度ガ
スの純度低下を充分に防止できるうえ、管接続部の数を
減らしてその管接続部からの超高純度ガスの漏洩及び外
気の侵入を無くす事を目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉 本考案は、上記目的を達成するために、例えば第1図か
ら第3図に示すように、次のように構成した。
ガス貯蔵容器1の止め弁5とガス取出し導管3内にパー
ジ用ガスBを導入するパージ弁6との組み合わせからな
るガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用弁装置におい
て、 上記パージ弁6の弁箱29を上記の止め弁5の弁箱9に固
設し、 上記の止め弁5は、第1入口孔11を第1弁座10aと第1
弁室10とを経て第1出口孔12に連通して構成するととも
に、その第1弁室10に設けた第1閉鎖部材14のうちの少
なくとも閉鎖部分を上記の第1弁座10aに対してほぼ垂
直方向へ開閉作動可能に構成し、 前記パージ弁6のパージ用出口孔32を上記の第1出口孔
12へ連通させるパージ路10bを、上記の第1弁室10の内
部に設けたものである。
〈作用〉 本考案は、次のように作用する。
不純ガスのパージ作業は、従来と同様に、止め弁5を閉
じ、パージ弁6を開ける事により行われる。そして、本
考案では、パージ用ガスBが、パージ用出口孔32から第
1弁室10内のパージ路10bと第1出口孔12とガス取出し
導管3とを順に通ってユースポイントに圧送される。こ
れにより、上記の第1弁室10と第1出口孔12及びガス取
出し導管3内に溜っていた不純ガスがパージ用ガスBに
よって完全に追い出される。
パージ弁6を閉じて、不純ガスのパージ作業を終了した
後、止め弁5を開けて、ガス貯蔵容器1から超高純度ガ
スAを取出す場合において、その取出しの始めのとき
に、不純ガスの全てが完全に追い出されているため、超
高純度ガスAは不純ガスの混入が無くて純度低下を起こ
さない。
上記の止め弁5の開閉作動は次のようになされる。止め
弁5を閉じる時には、第1閉鎖部材14のうちの少なくと
も閉鎖部分(ここではディスク15)を第1弁座10aへ向
けてほぼ垂直に移動させてその第1弁座10aに閉止接当
させる。これとは逆に、上記の止め弁5を開く時には、
上記の閉鎖部分15を第1弁座10aから遠ざかる方向へほ
ぼ垂直に移動させてその第1弁座10aから離間させる。
このように、止め弁5の開閉作動時には、第1閉鎖部材
14のうちの少なくとも閉鎖部分が第1弁座10aに対して
ほぼ垂直方向へ移動され、その第1閉鎖部材14を第1弁
室10の内壁面に強力に摺接させる必要がない。従って、
その摺接による微粉末の発生を大幅に抑制でき、超高純
度ガスAの純度低下を確実に防止できる。
〈実施例〉 以下、この考案の実施例を第1図から第3図により説明
する。
第2図において、符号1はガス貯蔵容器で、このガス貯
蔵容器1内に超高純度ガスAが圧縮充填され、また、ガ
ス貯蔵容器1の上部には超高純度ガスA取出し用の弁装
置2がねじ止めされている。この弁装置2の出口側と図
示しないユースポイントとがガス取出し導管3を介して
連結される。
上記弁装置2は、ガス貯蔵容器1に縦向き姿勢で取り付
けられて容器元弁とされる止め弁5と、この止め弁5に
横向き姿勢で取り付けられてガス取出し導管3内をパー
ジするパージ弁6と、同上止め弁5に取り付けられてガ
ス貯蔵容器1内の異常圧力を逃す安全弁7とで構成され
ている。
まず、上記止め弁5を主として第3図に基づいて説明す
る。
図中、符号9は止め弁5の弁箱で、この弁箱9の下部が
ガス貯蔵容器1の上部にねじ止めされる。上記弁箱9
は、軸心が縦向きでシリンダ状の第1弁室10を有し、こ
の第1弁室10の底壁に第1弁座10aが形成されている。
即ち、弁箱9の下部に、前記ガス貯蔵容器1内に連通す
る第1入口孔11が第1弁室10と同軸上に形成され、この
第1入口孔11の終端部が上記の第1弁室10の底壁に開口
される。また、弁箱9の上下方向中途部には軸心が横向
きの第1出口孔12が形成され、この第1出口孔12の始端
部12aが上記の第1弁室10の周壁下部に開口される。な
お、上記の第1入口孔11からは、前記安全弁7に連通す
る逃し孔7aが横向きに分岐されている(第1図にて図
示)。
上記の第1弁座10aを開閉自在に閉じるための第1閉鎖
部材である第1弁体14が第1弁室10に上下移動自在に設
けられ、この第1弁体14の下部と上記の第1弁室10の周
壁下部との間には環状のパージ路10bが形成されてい
る。また、上記の第1弁体14の下端には、前記の第1弁
座10aに押圧される閉鎖部分である弾性ディスク15が嵌
着される。そして、上記の第1弁体14の上部と弁箱9と
の間には圧縮ばね16が装着され、この圧縮ばね16によっ
て上記の第1弁体14が第1弁座10aから離れる方向に付
勢されている。
上記の第1弁体14の上面に接当すると共に第1弁室10を
気密状に仕切るダイヤフラム17が設けられる。このダイ
ヤフラム17は円板状に形成されており、その周縁部を弁
箱9に押圧する押え筒19が弁箱9の上部に内嵌される。
一方、弁箱9の上部外周には、押え筒19を上方側に押圧
する筒状の押えナット20が螺合され、この押えナット20
をねじ回し操作することによって弁箱9と押え筒19との
間にダイヤフラム17が挟み付けられている。
上記押えナット20に、ダイヤフラム17を下方に押圧する
弁棒22が螺合される。この弁棒22の上端にハンドル車23
が着脱自在に取り付けられると共に、同上弁棒22の下部
に押圧片24が取り付けられ、この押圧片24を介してダイ
ヤフラム17の径方向中央側を下方に押圧することが可能
とされる。また、第1出口孔12の終端部12bには出口ノ
ズル26が形成され、この出口ノズル26は継手27を介して
前記ガス取出し導管3に接続されている。
そして、ハンドル車23を回して上記押圧片24がダイヤフ
ラム17に向う方向に弁棒22を螺進させれば、ダイヤフラ
ム17を介して、圧縮ばね16の付勢力に抗して上記の第1
弁体14が下方に移動して、ディスク15が第1弁座10aに
押圧される(第3図中二点鎖線図示)。これによって第
1弁座10aが閉じられ、ガス貯蔵容器1内からの超高純
度ガスAの供給が止められる。
一方、上記とは逆の方向に弁棒22を螺進させれば、圧縮
ばね16の付勢力によって第1弁体14がダイヤフラム17側
に向って上方に移動し、第1弁座10aが開かれる(第3
図中実線図示)。これによって、第1入口孔11と第1出
口孔12とが連通され、ガス貯蔵容器1からの超高純度ガ
スAの供給が許容される(同図中一点鎖線矢印)。
次に、前記パージ弁6を主として第1図に基づいて説明
する。このパージ弁6は上記止め弁5とほぼ同様に構成
されている。
図中、符号29はパージ弁6の弁箱で、この弁箱29は、前
記の出口ノズル26と向い合う位置で止め弁5の弁箱9に
継目なしで一体的に形成されている。また、そのパージ
弁6の第2弁室30の軸心は前記の第1出口孔12の軸心と
ほぼ同軸上に設けられ、この第2弁室30の底壁に第2弁
座30aが形成される。即ち、上記の第2弁室30の周壁
に、パージ用ガスBのパージ用入口孔31の終端部が開口
される。また、前記の第1弁室10と上記の第2弁室30の
両室同士を連通するパージ用出口孔32が前記の第1出口
孔12とほぼ同軸上に設けられる。このパージ用出口孔32
の始端部32aが第2弁室30の底壁に開口されるととも
に、その終端部32bが第1弁室10の周壁に開口されてい
る。
上記の第2弁室30に、第2閉鎖部材である第2弁体34と
ディスク35と圧縮ばね36とダイヤフラム37が装着され、
このダイヤフラム37が押え筒39と押えナット40を介して
弁箱29に取り付けられている。符号42は弁棒で、符号43
は押圧片である。また、上記パージ用入口孔31の始端部
にはパージノズル45が形成され、このパージノズル45
は、継手46とパージ用導管47を介してパージ用ガスBの
貯蔵容器に接続されている。
そして、止め弁5からハンドル車23を取り外してこのハ
ンドル車23をパージ弁6の弁棒42に取付け、押圧片43が
ダイヤフラム37に向う方向に弁棒42を螺進させれば、第
2弁座30aが閉じられてパージ用ガスBの供給が止めら
れる(第1図および第3図中二点鎖線図示)。
一方、上記とは逆の方向に弁棒42を螺進させれば、圧縮
ばね36の付勢力によって第2弁体34がダイヤフラム37側
に向けて摺動し、上記の第2弁座30aが開かれる(同第
1図および第3図中実線図示)。これによって、パージ
用入口孔31とパージ用出口孔32とが連通され、パージ用
ガスBが上記パージ用出口孔32を介して前記の第1弁室
10内へ流入することが許容される(同図中実線矢印)。
上記構成の弁装置2では次のような切り換え操作がなさ
れる。即ち、超高純度ガスAの供給時には、止め弁5が
開、かつ、パージ弁6が閉に操作される。そして、超高
純度ガスAは、第1入口孔11、第1弁室10、第1出口孔
12の経路でガス取出し導管3に圧送される(第1図およ
び第3図中一点鎖線矢印)。これに対して、パージ用ガ
スBのパージ作業時には、止め弁5が閉、かつ、パージ
弁6が開に操作される。そして、パージ用ガスBは、パ
ージ用入口孔31、第2弁室30、パージ用出口孔32、第1
弁室10のパージ路10b、第1出口孔12の経路でガス取出
し導管3に圧送される(第1図および第3図中実線矢
印)。
この場合、第1出口孔12の始端部12aとパージ用出口孔3
2の終端部32bとを第1弁室10の軸心に対して対称な位置
に配設したため、パージ用ガスBが上記の第1弁室10内
で偏流することは抑制される。その結果、その第1弁室
10内のパージはより効果的になされる。
なお、上記の実施例では、止め弁5の弁箱9に対してパ
ージ弁6の弁箱29を一体的に形成するとしたが、これに
代えて、その弁箱9とは別体にパージ弁6の弁箱29を設
けて、これを止め弁5の弁箱9に対して気密状にねじ止
め固定してもよい。また、止め弁5の第1出口孔12とパ
ージ弁6のパージ用出口孔32とをほぼ同軸上に設けると
したが、これに代えて、上記の第1出口孔12の軸心に対
してパージ用出口孔32の軸心が所定の角度で交わるよう
に、そのパージ用出口孔32の終端部32bを前記の第1弁
室10に開口させてもよい。さらに、この終端部32bが第
1弁室10の周壁上部に開口されるようにパージ弁6を配
設してもよい。
〈考案の効果〉 本考案は、上記のように構成され、作用する事から次の
効果を奏する。
イ.不純ガスのパージ作業時には、パージ用ガスが、パ
ージ用出口孔から第1弁室と第1出口孔とガス取出し導
管とを順に通って、これら第1弁室と第1出口孔及びガ
ス取出し導管内に溜っていた不純ガスを完全に追い出す
ので、不純ガスのパージ作業終了後の超高純度ガスの取
出し始めのときに、取出される超高純度ガスは不純ガス
が混入しないため純度低下が起らない。
さらに、使用する超高純度ガスが反応性、腐食性、ある
いは毒性を有する場合でも、本考案の弁装置を用いれ
ば、この種のガスの使用終了後に、弁装置からユースポ
イント部に至るまでの配管系内をパージ用ガスによって
完全にパージできることになる。この結果、配管内面が
侵されたり、あるいは、この配管内面に反応生成物が推
積したりすることによる配管系の性能劣化を完全に防ぐ
ことができ、また、有毒ガスのリークによる危険なども
まったく無くなる。
ロ.例えば第1図に示すように、パージ弁の弁箱が止め
弁の弁箱に固設されるので、第4図に示す従来例の出口
管59及びチーズ60を省略する事ができ、その配管の構造
も作業も簡略化する事ができる。
ハ.上記従来例の出口管59及びチーズ60を省略できた分
だけ、管接続部の数が3乃至4箇所減るので、その管接
続部から超高純度ガスが漏洩したり外気が侵入したりす
るのを無くす事ができる。
ニ.止め弁の開閉作動時には、第1閉鎖部材のうちの少
なくとも閉鎖部分を第1弁座に対してほぼ垂直方向へ移
動させればよく、その第1閉鎖部材を第1弁室の内壁面
に強力に摺接させる必要がないので、その摺接による微
粉末の発生を大幅に抑制できる。その結果、超高純度ガ
スの純度低下を確実に防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第3図はこの考案の実施例を示し、第1図
は、弁装置の横断面図を示し、第2図のI−I線矢視拡
大断面図、 第2図は、弁装置の取付状態を示す側面視部分断面図、 第3図は弁装置の縦断面図で、 第4図は従来例の弁装置を示す模式図である。 1……ガス貯蔵容器、3……ガス取出し導管、5……止
め弁、6……パージ弁、9……弁箱、10……第1弁室、
10a……第1弁座、10b……パージ路、11……第1入口
孔、12……第1出口孔、14……第1閉鎖部材(第1弁
体)、29……弁箱、32……パージ用出口孔、B……パー
ジ用ガス。
フロントページの続き (72)考案者 菅野 洋一 宮城県仙台市堤町1丁目12番1号 株式会 社本山製作所内 (72)考案者 米沢 慶多朗 兵庫県宝塚市中山五月台3丁目24−7 (72)考案者 大長 則雄 兵庫県尼崎市下坂部4丁目6番1号 株式 会社ネリキ内 (72)考案者 新田 次郎 兵庫県尼崎市下坂部4丁目6番1号 株式 会社ネリキ内 (72)考案者 宮崎 功司 兵庫県尼崎市下坂部4丁目6番1号 株式 会社ネリキ内 (72)考案者 三好 肇 兵庫県尼崎市下坂部4丁目6番1号 株式 会社ネリキ内 (56)参考文献 特公 昭58−48799(JP,B2)

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガス貯蔵容器(1)の止め弁(5)とガス
    取出し導管(3)内にパージ用ガス(B)を導入するパ
    ージ弁(6)との組み合わせからなるガス貯蔵容器内の
    超高純度ガス取出し用弁装置において、 上記パージ弁(6)の弁箱(29)を上記の止め弁(5)
    の弁箱(9)に固設し、 上記の止め弁(5)は、第1入口孔(11)を第1弁座
    (10a)と第1弁室(10)とを経て第1出口孔(12)に
    連通して構成するとともに、その第1弁室(10)に設け
    た第1閉鎖部材(14)のうちの少なくとも閉鎖部分を上
    記の第1弁座(10a)に対してほぼ垂直方向へ開閉作動
    可能に構成し、 前記のパージ弁(6)のパージ用出口孔(32)を上記の
    第1出口孔(12)へ連通させるパージ路(10b)を、上
    記の第1弁室(10)の内部に設けた、ことを特徴とする
    ガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用弁装置。
  2. 【請求項2】前記パージ弁(6)の前記の弁箱(29)
    を、前記の止め弁(5)の前記の弁箱(9)に継目なし
    で一体に形成して構成した、実用新案登録請求の範囲第
    1項に記載したガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用
    弁装置。
  3. 【請求項3】前記パージ弁(6)の前記の弁箱(29)
    を、前記の止め弁(5)の前記の弁箱(9)に対して別
    体に形成して保密状に固定した、実用新案登録請求の範
    囲第1項に記載したガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出
    し用弁装置。
  4. 【請求項4】前記のパージ路(10b)を前記の第1弁室
    (10)とほぼ同軸上で環状に形成した、実用新案登録請
    求の範囲第1項に記載したガス貯蔵容器内の超高純度ガ
    ス取出し用弁装置。
JP1986067874U 1986-05-06 1986-05-06 ガス貯蔵容器内の超高純度ガス取出し用弁装置 Expired - Lifetime JPH0710160Y2 (ja)

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