JPH0695153A - アクティブマトリックス液晶表示装置 - Google Patents

アクティブマトリックス液晶表示装置

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Publication number
JPH0695153A
JPH0695153A JP24817892A JP24817892A JPH0695153A JP H0695153 A JPH0695153 A JP H0695153A JP 24817892 A JP24817892 A JP 24817892A JP 24817892 A JP24817892 A JP 24817892A JP H0695153 A JPH0695153 A JP H0695153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
pixel electrodes
pixel electrode
display device
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP24817892A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Shimotomai
信行 下斗米
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP24817892A priority Critical patent/JPH0695153A/ja
Publication of JPH0695153A publication Critical patent/JPH0695153A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶表示装置の明るさを低下させることな
く、高コントラストで表示のムラがない均一な画質を提
供する。 【構成】 データ線と画素電極間の距離及び、走査線と
画素電極間の距離を各配線と画素電極間の横方向の電界
強度及び液晶分子の回転方向と上下基板のラビング方向
に応じて異ならせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアクティブマトリックス
液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にアクティブマトリックス液晶表示
装置は、一対の基板間に液晶を保持し、該基板上に液晶
の電気光学効果を制御する手段として、能動スイッチン
グ素子、データ線、走査線及び画素電極をマトリックス
状に形成した構造からなり、従来のアクティブマトリッ
クス液晶表示装置は、開口率を少しでも高くして明るい
表示を得るために、データ線と画素電極間の距離及び、
走査線と画素電極間の距離は、製造プロセスで許容され
る最小のパターンルールによって決まり、その距離は等
しいものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では、画素数が増加し画素ピッチが高精細化するのに
伴って、開口率を少しでも高くするために、データ線と
画素電極間の距離及び、走査線と画素電極間の距離を縮
めなければならない。このため、従来のアクティブマト
リックス液晶表示装置は各配線と画素電極間の横方向の
電界が強まり、液晶分子のリバースチルトディスクリネ
ーションが生じてしまい、コントラストの低下や表示の
ムラとなってしまい、著しく表示品質を低下させてしま
うという課題を有する。
【0004】そこで本発明は、このような課題を解決す
るもので、その目的とするところは、明るく、高コント
ラストで表示のムラがない、均一で高画質を有するアク
ティブマトリックス液晶表示装置を得るところにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リックス液晶表示装置は、一対の基板間に液晶を保持
し、該基板上に液晶の電気光学効果を制御する手段とし
て、能動スイッチング素子、データ線、走査線及び画素
電極をマトリックス状に形成したアクティブマトリック
ス液晶表示装置において、データ線と画素電極間の距離
及び、走査線と画素電極間の距離を各配線と画素電極間
の横方向の電界強度及び液晶分子の回転方向と上下基板
のラビング方向に応じて異ならせたことを特徴とする。
【0006】
【実施例】本発明の実施例を以下図面に基づいて説明す
る。図1は本発明のアクティブマトリックス液晶表示装
置の上視図、図1は本発明のアクティブマトリックス液
晶表示装置の断面図である。
【0007】まず、透明基板10上に液晶の電気光学特
性を制御するための手段として、ポリシリコン薄膜トラ
ンジスター6、データ線1、2、走査線3、4及び画素
電極5を下記(1)〜(9)の工程により形成する。
【0008】(1) チャンネル部となるポリシリコン
膜を減圧CVDにより形成し、パターニングする。
【0009】(2) 熱酸化法によりゲート酸化膜を形
成する。
【0010】(3) 走査線3、4となるポリシリコン
膜を3500Åの膜厚となるように減圧CVDで形成
し、パターニングする。
【0011】(4) リンイオンを打ち込みソース、ド
レイン領域を形成する。
【0012】(5) 層間絶縁膜としてSiO2 膜をC
VD法により形成する。
【0013】(6) 層間絶縁膜をパターニングしてコ
ンタクトホールを開口する。
【0014】(7) データ線1、2となるAl膜を6
000Åとなるようにスパッタ法にて形成し、パターニ
ングする。
【0015】(8) 画素電極5となるITO膜を20
00Åの膜厚となるようにスパッタ法にて形成し、パタ
ーニングする。
【0016】(9) 保護膜としてSiO2 膜を200
0Åの膜厚となるようにスパッタ法にて形成し、実装端
子部及び画素電極部をパターニングして開口する。
【0017】ここで、以下の理由により画素電極5と各
配線間の距離a、b、c、dを下記〜となるように
設定した。
【0018】本実施例では、ツイストネマティックの液
晶モードを用い、セルパラメーターを次のように設定し
た。左回りの液晶を用いて、ラビング方向を透明基板1
0側を下側基板のラビング方向12にし、透明基板11
側を上側基板のラビング方向13にする。この場合リバ
ースチルトディスクリネーションの発生領域はデータ線
1と画素電極5の間が一番大きくなるためデータ線1と
画素電極5間の距離aを大きくとる必要がある。
【0019】また本実施例では、電位差、段差ともデー
タ線1、2と画素電極5間の方が走査線3、4と画素電
極5間より大きいので、横方向の電界強度は、データ線
1、2と画素電極5間の方が強くなり、リバースチルト
ディスクリネーションの発生領域も大きくなるためデー
タ線1、3と画素電極5間の距離a、cを走査線3、4
と画素電極5間の距離b、dより大きくとる必要があ
る。
【0020】 データ線1と画素電極5間の距離 a
=7μm 走査線3と画素電極5間の距離 b=3μm データ線2と画素電極5間の距離 c=5μm 走査線4と画素電極5間の距離 d=4μm 次に透明基板11上に遮光層7、カラーフィルター層8
及び共通電極9を形成し、透明基板10と透明基板11
を下記(10)〜(15)の手順で貼り合わせ、液晶を
封入して液晶表示装置を得た。
【0021】(10) 透明基板10及び11にそれぞ
れ配向膜としてポリイミドをスピンコート法により塗布
した後、180℃で焼成する。
【0022】(11) 配向膜を形成した透明基板1
0、11の表面を図1(a)に示したラビング方向1
2、13となるようにそれぞれラビング処理する。
【0023】(12) 透明基板10上にエポキシ樹脂
とグラスファイバーからなるシール材14をスクリーン
印刷法にて印刷する。
【0024】(13) 透明基板10、11をシール材
を介して貼り合わせ、各配線と遮光層が精度よく合わさ
るようにアライメントマークを用いてアライメントす
る。
【0025】(14) 所定のセル厚になるまで十分加
圧しながらシール材を加熱硬化させる。
【0026】本実施例では、セル厚は4μmとなるよう
に設定したが、リバースチルトディスクリネーションを
十分に抑えるためには、セル厚を各配線と画素電極間の
距離の2倍以上にするのが望ましい。
【0027】(15) 貼り合わせた一対の透明基板1
0、11の間隙に液晶14を真空封入した後に封入口を
封止し、液晶14の等方処理を行う。
【0028】ここで、横方向の電界強度が高い場合使用
する配向剤はチルト角が高くできるものがよく、ラビン
グの条件によりチルト角は5〜12゜に設定する。
【0029】また、一対の透明基板10、11をアライ
メントする際に遮光層7はリバースチルトディスクリネ
ーションが発生する領域が広い方にずらしておいたほう
がよい。あるいは、設計時に遮光層7がリバースチルト
ディスクリネーションを完全に覆うようにした方がよ
い。
【0030】
【発明の効果】本発明は以上説明したように、データ線
と画素電極間の距離及び、走査線と画素電極間の距離を
電位差や段差によって決まる各配線と画素電極間の横方
向の電界強度及び液晶分子の回転方向と上下基板のラビ
ング方向に応じて異ならせたことにより、リバースチル
トディスクリネーションの発生を抑えるとともに、電界
強度が低い部分の間隔は狭くできることにより開口率の
低下を最小限に抑えることができ、明るく、高コントラ
ストで表示のムラがない、均一で高画質を有するアクテ
ィブマトリックス液晶表示装置を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアクティブマトリックス液晶表示装置
の上視図である。
【図2】本発明のアクティブマトリックス液晶表示装置
の断面図である。
【符号の説明】
1、2 データ線 3、4 走査線 5 画素電極 6 ポリシリコン薄膜トランジスター 7 遮光層 8 カラーフィルター層 9 共通電極 10 透明基板(下側基板) 11 透明基板(上側基板) 12 透明基板10(下側基板)のラビング方向 13 透明基板11(上側基板)のラビング方向 14 液晶 a データ線1と画素電極5間の距離 b 走査線3と画素電極5間の距離 c データ線2と画素電極5間の距離 d 走査線4と画素電極5間の距離

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の基板間に液晶を保持し、該基板
    上に液晶の電気光学効果を制御する手段として、能動ス
    イッチング素子、データ線、走査線及び画素電極をマト
    リックス状に形成したアクティブマトリックス液晶表示
    装置において、データ線と画素電極間の距離及び、走査
    線と画素電極間の距離を各配線と画素電極間の横方向の
    電界強度及び液晶分子の回転方向と上下基板のラビング
    方向に応じて異ならせたことを特徴とするアクティブマ
    トリックス液晶表示装置。
JP24817892A 1992-09-17 1992-09-17 アクティブマトリックス液晶表示装置 Pending JPH0695153A (ja)

Priority Applications (1)

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JP24817892A JPH0695153A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 アクティブマトリックス液晶表示装置

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JP24817892A JPH0695153A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 アクティブマトリックス液晶表示装置

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JPH0695153A true JPH0695153A (ja) 1994-04-08

Family

ID=17174368

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JP24817892A Pending JPH0695153A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 アクティブマトリックス液晶表示装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7095478B2 (en) 1996-04-12 2006-08-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7095478B2 (en) 1996-04-12 2006-08-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating thereof
US7196749B2 (en) 1996-04-12 2007-03-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating thereof
US7636136B2 (en) 1996-04-12 2009-12-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating thereof

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