JPH0694035B2 - オゾン接触装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明はオゾンで被処理水を除臭、殺菌処理する際
に、被処理水のオゾン吸収効率を向上するようにした、
気泡塔式と、充填塔式とを組合せたオゾン接触装置に関
する。

〈従来の技術〉 気泡塔式接触槽内に下部からオゾンガスを通気すると共
に、上部から被処理水を散水処理で散水して下向流で通
水するオゾン接触装置は従来から公知である。

〈発明が解決しようとする課題〉 上記のような気泡塔式オゾン接触装置では被処理水の混
合状態が完全混合に近いためオゾン吸収効率は80〜90％
であって低い。

そこで従来はオゾン気泡塔式接触槽を多段に分割した
り、未反応オゾン（排オゾンガス）を回収して再度、液
と向流接触させる等の対策を講じ、オゾン吸収率を高め
ているが、そのようにすると装置が複雑化し、設置コス
トが著しく嵩む。

又、特公昭54-24216号公報により充填塔式オゾン接触装
置も公知であるが、河川水等の浄化処理には処理工程で
ポンプ動力を用いない高低差（落差）移水であることか
ら適用不向きとされている。

〈課題を解決するための手段〉 そこで本発明は装置を複雑化することなく、また落差水
流を利用して被処理水のオゾン吸収効率を高めることを
目的に開発したのであって、気泡塔式接触槽内の散水装
置の下方で、且つ水面より上方の位置に充填層を設けた
ことを特徴とする。

〈実施例〉 図示の各実施例において、１は気泡塔式接触槽で、被処
理水は槽内上部に設けた分配器２から一様に散水され、
ほゞ均等に槽内を下向流する。又、槽内底部には散気球
３を取付けたヘッダー４が設けてあり、オゾンガスは給
気管５によりヘッダー４に供給され、散気球３…から槽
内を一様に上向流し、頂壁の放出口６から放出される。
気泡塔式接触槽１に隣接して同高の反応槽７を縦劃壁８
で劃して設け、縦劃壁８の底部には両槽1,7を連通する
連絡口９、反応槽７の上部には水の溢出口10が設けてあ
る。

従って、気泡塔式接触槽１内を下向流し、オゾンガスと
向流接触してこれを吸収し、処理水となった水は、連絡
口９から反応槽７の底部に入り、該槽７内を上向流して
溢出口10からの排水される。これによって、気泡塔式接
触槽１内の被処理水の水面Ｗは反応槽の溢出口10にな
る。

気泡塔式接触槽１内にはこの水面Ｗ上で、且つ分配器２
の下に充填層11を設ける。充填層11の一部を水面下に水
没して設けると、オゾンガスの気泡は会合により径が大
きくなり、ガス表面積が小さくなるので水没部分の充填
層の効果は失われ、その分吸収効率は低下するので好ま
しくないが、水面より上の充填層は吸収効率を高めるこ
とができる。充填層11は多孔支持板12上に充填した充填
材で構成する。

充填材は塩化ビニール、テフロン、ステンレス、ポリプ
ロピレン、磁性物、砂、アンスラサイトなどの破砕物、
加工物などなんでもよいが、オゾンによって品質が変化
しないものであることが好ましい。又、その形状は球
形、円柱形、円筒形、不定形等なんでもよいが、水やガ
スの流れに対して抵抗の少ない10〜200mm、好ましくは2
0〜100mm位の大きさが良い。充填層の層高は200〜5000m
m位あればよいが、許容される水落差や、充填層内での
水の流れの均一化などから300〜1000mmが望ましい。

前述した反応槽７の溢出口10は、上記充填層の高さに応
じ、該層が水面Ｗ上にあるよう、充填層下面よりも低い
位置に設けるのである。

これによって分配器２から散水された被処理水は、充填
層11中を流下する際に該層中を上昇するオゾンガスと接
触してこれを吸収し、その後、水面下を下向流する際に
前述したようにオゾンと向流接触して更にオゾンを吸収
する。こうしてオゾンを吸収した処理水は連絡口９から
反応槽８に入って槽内を上向流し、溢出口10から排水さ
れる。この反応槽は残溜溶存オゾンの反応用のもので、
溶存しているオゾンが酸化反応に供され、消滅するのに
充分な滞溜時間を与える。

被処理水と処理水との落差がある場合は、第１図の実施
例でよいが、落差がない場合は第２図の実施例のように
被処理水の一部を気泡塔式接触槽の水面上に供給し、被
処理水の残部はポンプ13で充填層11の上方から散水すれ
ばよい。この場合は充填層の層高を1000〜5000mmに高く
する。又、ポンプ13で充填層11に上から散水する被処理
水の水量は、被処理水全体の水量の2.5〜25％程度がよ
い。

そして、第１図、第２図、いずれの実施例でも、気泡塔
式接触槽１の水中を、上下方向に開放した格子体やハニ
カム筒の集積体で多数の小区劃に仕切り、散気球３を各
小区劃の中心下方に配置することにより下向流する被処
理水を栓流にし、オゾンの吸収効率を更に向上すること
ができる。

一辺が2mの正方形で、高さ6mの気泡塔式接触槽内に高さ
6mの位置から被処理水を散水して被処理水の水深を4mに
保つようにし、直径25mmのラッシヒリングを槽内の下か
ら4mと5mの間の空間に充填して充填層としたオゾン接触
装置（実施例）と、同じ気泡塔式接触槽で被処理水の水
深を5mに保ち、充填層は設けないオゾン接触槽（比較
例）とによりオゾンガスの吸収率を測定した所、下表の
結果が得られた。

尚、被処理水は河川の凝集沈殿処理水を使用し、オゾン
ガス濃度20mg/l、オゾン注入率3mg/l、気泡塔式接触槽
内での被処理水の滞溜時間10分、水温30℃であった。

〈発明の効果〉 以上で明らかなように、本発明は、気泡塔式と、充填塔
式とを組合せたオゾン接触装置であるため、水位を殆ど
変えることなくオゾンガスの吸収効率を高めることがで
き、しかも水用の動力は不要か、又は極めて小さくてよ
いので運転コストの低減が図れる。又、排オゾン量が少
なくなり、その処理費が低減する。

更に、オゾンガスの吸収効率が被処理水の水質変動に対
して安定するので、排オゾンガス中のオゾン濃度が安定
し、その結果、排オゾン処理の安定運転が可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は夫々本発明のオゾン接触装置の実施例
を示す断面図である。 図中、１は気泡塔式接触槽、２は被処理水を散水する分
配器、３はオゾンガスの散気球、４はヘッダー、５は給
気管、６は排オゾンガスの放出口、７は反応槽、８は縦
劃壁、９は連絡口、10は処理水の溢出口、11は充填層、
12は多孔支持板を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高土居 忠 東京都新宿区西新宿３丁目４番７号 栗田 工業株式会社内 (72)発明者 轟 賀須磨 福岡県宗像郡玄海町大字多礼350番地 宗 像地区水道企業団内 (72)発明者 安部 嘉輝 福岡県宗像郡玄海町大字多礼350番地 宗 像地区水道企業団内 (56)参考文献 特開 昭49−1479（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−143594（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】気泡塔式接触槽内に下部からオゾンガスを
   通気すると共に、上部から被処理水を散水装置で散水し
   て下向流で通水するオゾン接触装置において、 上記気泡塔式接触槽内の散水装置の下方で、且つ水面よ
   り上方の位置に充填層を設けたことを特徴とするオゾン
   接触装置。