JPH0693117A - Heat-resistant laminate material and production thereof - Google Patents

Heat-resistant laminate material and production thereof

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JPH0693117A
JPH0693117A JP26954892A JP26954892A JPH0693117A JP H0693117 A JPH0693117 A JP H0693117A JP 26954892 A JP26954892 A JP 26954892A JP 26954892 A JP26954892 A JP 26954892A JP H0693117 A JPH0693117 A JP H0693117A
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JP
Japan
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general formula
represented
formula
group
aromatic group
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Withdrawn
Application number
JP26954892A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Furuya
浩行 古谷
Jiyunya Ida
純哉 井田
Kosaku Nagano
広作 永野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPH0693117A publication Critical patent/JPH0693117A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a material excellent in mechanical and electrical properties and moisture resistance by using a polyimide resin composition comprising a specific thermoplastic polyimide and one or two specific heat-curable oligomers. CONSTITUTION:The material is produced from a polyimide resin composition comprising a thermoplastic polyimide represented by formula I [wherein R1 and R2 each is H or a 1-18C (halogenated) aliphatic or aromatic group and Ar1 is a tetravalent aromatic group] and either or both of two heat-curable oligomers respectively represented by formulae II and III [wherein Ar2 is a divalent aromatic group; Ar3 is a tetravalent aromatic group, provided that 2mol% or more of the Ar3 groups are represented by formula IV (where Y is an aryl or an alkyl); X is a trivalent group represented by formula V, VI, or VII; and n is 1-30]. Since this material has high moisture and heat resistances as well as excellent mechanical and electrical properties, it is usable over a wide range of applications.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規なポリイミド系樹脂
組成物を用いた新規耐熱積層材料及びその製造方法に関
する。更に詳しくは、特に耐熱性に優れ、また良好な有
機溶媒溶解性を示し、積層、成形用に最適なポリイミド
系樹脂組成物を用いた新規耐熱積層材料及びその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel heat resistant laminated material using a novel polyimide resin composition and a method for producing the same. More specifically, it relates to a novel heat-resistant laminated material using a polyimide resin composition which is particularly excellent in heat resistance and shows good organic solvent solubility and is optimal for lamination and molding, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の発達は目ざましく銅張
積層板の使用も多種多様となり、かつ優れた特性のもの
が要求されている。とりわけ、配線の高密度化にともな
って配線板の多層化、スルーホールの小径化が進み、ド
リル加工時のスミア発生が少ないなど加工性の良好な銅
張積層板が求められている。一方、生産性の向上、低コ
スト化の要請にともない、配線板の実装工程でホットエ
アーレベラーやリフローハンダ付け等ますます厳しい加
工条件が加えられている。これらの中で基板である銅張
積層板の耐熱性、耐湿性はこれまで以上に優れたものが
求められるようになってきた。これらの要求を満たすた
めに、一般に銅張積層板用として広く用いられているエ
ポキシ樹脂に代わって、近年、付加硬化型のポリイミド
樹脂が利用されるようになってきている。このポリイミ
ド樹脂を銅張積層板用積層板に用いた場合、ドリル加工
時のスミアの発生がほとんど無くなり、また、加工工程
や長期試験での耐熱性が格段に改良されるという利点を
有することが知られている。しかし乍ら、従来用いられ
てきた付加硬化型のポリイミド樹脂は以下に述べるよう
な種々の問題点を有していた。即ち、不飽和ジカルボン
酸のN,N′−ビスイミドとジアミノジフェニルメタン
とを反応させたものは積層板用として優れたものである
が、反面、ジアミノジフェニルメタンは反応性が高く、
ワニスやプリプレグの可使時間が短いという問題があっ
た。更に、ジアミノジフェニルメタンの生体への毒性が
問題となることがある。更に、不飽和ジカルボン酸の
N,N′−ビスイミドとアミノフェノールとを反応成分
とするものは、積層板用としてバランスのとれた特性を
示し、加工性も優れているが、耐湿性が劣るという問題
点があり、例えば、得られた積層板の長期保存には、吸
湿に格別の注意を払わなければならない。また、不飽和
ジカルボン酸のN,N′−ビスイミドアミノ安息香酸と
を反応させたものは、積層板用として好適であるが、低
沸点溶媒に対して溶解性が悪く、プリプレグ作成時のガ
ラス布等への塗布に問題点を有し、更に樹脂溶液の保存
にも注意しなければならない等の問題点があった。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of electronic devices has been remarkable, and the use of copper-clad laminates has been diversified, and excellent properties have been demanded. In particular, there is a demand for a copper-clad laminate having good workability such as a multilayer wiring board, a through hole having a smaller diameter, and less smear during drilling as wiring density increases. On the other hand, with the demand for improved productivity and cost reduction, increasingly severe processing conditions such as hot air levelers and reflow soldering are being added in the wiring board mounting process. Among these, the heat resistance and moisture resistance of the copper clad laminate, which is the substrate, have been required to be more excellent than ever. In order to meet these requirements, in recent years, an addition-curable polyimide resin has been used in place of an epoxy resin which is widely used for copper-clad laminates. When this polyimide resin is used for a copper clad laminate, it has almost no smear during drilling, and has the advantage that the heat resistance in the machining process or long-term test is significantly improved. Are known. However, the addition-curing type polyimide resin that has been used conventionally has various problems as described below. That is, the one obtained by reacting N, N'-bisimide of unsaturated dicarboxylic acid with diaminodiphenylmethane is excellent for laminates, but on the other hand, diaminodiphenylmethane has high reactivity,
There was a problem that the pot life of varnish and prepreg was short. Furthermore, the toxicity of diaminodiphenylmethane to living bodies may be a problem. Further, those containing N, N'-bisimide of unsaturated dicarboxylic acid and aminophenol as reaction components show well-balanced properties for laminates and have excellent processability but poor moisture resistance. There are problems, for example long term storage of the resulting laminate requires special attention to moisture absorption. Further, a product obtained by reacting an unsaturated dicarboxylic acid with N, N′-bisimidoaminobenzoic acid is suitable for a laminated plate, but has poor solubility in a low boiling point solvent and is a glass for preparing a prepreg. There is a problem in applying to a cloth or the like, and there is a problem in that the resin solution must be stored carefully.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる実情に
鑑み、これらの技術的課題を解決した耐熱積層材料及び
その製造方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, the present invention provides a heat resistant laminated material and a method for producing the same which solve these technical problems.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達したも
のである。即ち、本発明の第1は、一般式(1)
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the first aspect of the present invention is the general formula (1)

【0005】[0005]

【化13】 [Chemical 13]

【0006】(式中、R1 、R2 は水素、C1〜18の
脂肪族基又は芳香族基よりなる群から選ばれる少なくと
も1種で、それぞれハロゲン基を含有してもよい。また
1 、R2 は、それぞれ同種であっても異種であっても
よい。Ar1 は4価の芳香族基を示し、1種であっても
2種以上であってもよい。)で示される熱可塑性ポリイ
ミドと、一般式(2)
[0006] (wherein, R 1, R 2 is hydrogen, at least one selected from the group consisting of an aliphatic group or an aromatic group of C1-18, each may contain a halogen group. The R 1 , R 2 may be the same or different, and Ar 1 represents a tetravalent aromatic group and may be one type or two or more types. Plastic polyimide and general formula (2)

【0007】[0007]

【化14】 [Chemical 14]

【0008】あるいは、一般式(3)Alternatively, the general formula (3)

【0009】[0009]

【化15】 [Chemical 15]

【0010】(式中、Ar2 は2価の芳香族基で、1種
であっても2種以上であってもよい。Ar3 は4価の芳
香族基であり、少なくとも2モル%以上が一般式(4)
(In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group, and may be one kind or two or more kinds. Ar 3 is a tetravalent aromatic group and is at least 2 mol% or more. Is the general formula (4)

【0011】[0011]

【化16】 [Chemical 16]

【0012】の結合様式を含む。また、式中、Xは3価
の結合様式で、一般式(5)
[0012] Including the binding mode. Further, in the formula, X is a trivalent bonding mode, and is represented by the general formula (5)

【0013】[0013]

【化17】 [Chemical 17]

【0014】の群から選択され、同種であっても異なっ
ていてもよい。nは1〜30の正の整数を表す。)で示
されるいずれか一方あるいは両方の熱硬化性オリゴマー
とを構成成分とするポリイミド系樹脂組成物を用いたこ
とを特徴とする耐熱積層材料を、本発明の第2は、有機
溶剤中において、一般式(6)
Is selected from the group of and may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. ) A heat-resistant laminated material characterized by using a polyimide-based resin composition containing one or both of thermosetting oligomers as a constituent, and the second of the present invention is, in an organic solvent, General formula (6)

【0015】[0015]

【化18】 [Chemical 18]

【0016】で表される酸二無水物あるいは、一般式
(7)
An acid dianhydride represented by the general formula (7)

【0017】[0017]

【化19】 [Chemical 19]

【0018】(式中、Y1 4 は、水素及びC1〜5の
アルキル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種であ
り、同種であっても異なっていてもよい。Ar1 は4価
の芳香族基を示し、1種であっても2種以上であっても
よい。)を不活性ガス雰囲気下、50〜150℃の温度
範囲において、テトラカルボン酸二無水物と対応するア
ルコールから合成し、ついで、同一条件下に、一般式
(8)
(In the formula, Y 1 to 4 are at least one selected from the group consisting of hydrogen and a C 1 to C 5 alkyl group, and they may be the same or different. Ar 1 is tetravalent. Which represents an aromatic group, and may be one kind or two or more kinds) in an inert gas atmosphere in a temperature range of 50 to 150 ° C. from a tetracarboxylic dianhydride and a corresponding alcohol. Then, under the same conditions, the general formula (8)

【0019】[0019]

【化20】 [Chemical 20]

【0020】(式中、R1 ,R2 は、水素、C1〜18
の脂肪族基又は芳香族基から選ばれる少なくとも1種
で、それぞれハロゲン基を含有してもよい。またR1
2 は、それぞれ同種であっても異種であってもよ
い。)の有機ジアミンを混合することでポリアミック酸
プレポリマーを合成し、更に一般式(2)
(Wherein R 1 and R 2 are hydrogen, C 1-18
At least one kind selected from the aliphatic group and the aromatic group described above may each contain a halogen group. Also R 1 ,
R 2 may be the same or different. ), A polyamic acid prepolymer is synthesized by mixing the organic diamine of

【0021】[0021]

【化21】 [Chemical 21]

【0022】あるいは、一般式(3)Alternatively, the general formula (3)

【0023】[0023]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0024】(式中、Ar2 は2価の芳香族基で、1種
であっても2種以上であってもよい。Ar3 は4価の芳
香族基であり、少なくとも2モル%以上が一般式(4)
(In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group, and may be one kind or two or more kinds. Ar 3 is a tetravalent aromatic group and is at least 2 mol% or more. Is the general formula (4)

【0025】[0025]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0026】の結合様式を含む。また、式中、Xは3価
の結合様式で、一般式(5)
Including the binding mode of Further, in the formula, X is a trivalent bonding mode, and is represented by the general formula (5)

【0027】[0027]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0028】の群から選択され、同種であっても異なっ
ていてもよい。nは1〜30の正の整数を表す。)で示
される熱硬化性オリゴマーをブレンドすることにより樹
脂溶液を調製し、ついで補強材を該樹脂溶液で塗布・含
浸させたのち、所定の残溶剤濃度となるように乾燥して
プリプレグを作成し、該プリプレグの所定枚数を加熱・
加圧して一体成形することを特徴とする耐熱積層材料の
製造方法を、それぞれ内容とするものである。
Is selected from the group of and may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. ), A resin solution is prepared by blending a thermosetting oligomer, and then a reinforcing material is applied and impregnated with the resin solution, and then dried to a predetermined residual solvent concentration to prepare a prepreg. , Heating a specified number of prepregs
The method of manufacturing a heat-resistant laminated material is characterized by pressurizing and integrally molding.

【0029】本発明の耐熱積層材料の構成成分である樹
脂組成物の製造方法について説明する。反応槽を充分に
乾燥したのち、アルゴン、チッ素等の不活性ガスで置換
し、所定量の非水系極性溶媒を仕込んだ後、上記不活性
ガス雰囲気下に、一般式(6)
A method for producing a resin composition which is a constituent component of the heat resistant laminated material of the present invention will be described. After sufficiently drying the reaction tank, the reaction tank was replaced with an inert gas such as argon or nitrogen, and a predetermined amount of a non-aqueous polar solvent was charged, and then the reaction mixture was stored in the inert gas atmosphere under the general formula (6).

【0030】[0030]

【化25】 [Chemical 25]

【0031】で表される酸二無水物あるいは、一般式
(7)
An acid dianhydride represented by the following formula or the general formula (7)

【0032】[0032]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0033】(式中、Y1 4 は、水素及びC1〜5の
アルキル基よりなる群から選択される少なくとも1種で
あり、同種であっても異なっていてもよい。Ar1 は4
価の芳香族基で、1種であっても2種以上であってもよ
い。)を不活性ガス雰囲気下、50〜150℃の温度範
囲において、好ましくは、50〜100℃、特に好まし
くは、80℃±5℃で、テトラカルボン酸二無水物と対
応するアルコールから、1〜5時間、好ましくは2時間
以内で合成する。次に、同一条件下に、一般式(8)
(In the formula, Y 1 to 4 are at least one selected from the group consisting of hydrogen and a C1-5 alkyl group, and they may be the same or different. Ar 1 is 4
The valent aromatic group may be one kind or two or more kinds. 1) in an inert gas atmosphere in a temperature range of 50 to 150 ° C., preferably 50 to 100 ° C., particularly preferably 80 ° C. ± 5 ° C., from an alcohol corresponding to tetracarboxylic dianhydride, Synthesis is performed within 5 hours, preferably within 2 hours. Next, under the same conditions, the general formula (8)

【0034】[0034]

【化27】 [Chemical 27]

【0035】(式中、R1 ,R2 は、水素、C1〜18
の脂肪族基又は芳香族基から選ばれる少なくとも1種
で、それぞれハロゲン基を含有していてもよい。またR
1 ,R2は、それぞれ同種であっても異種であってもよ
い。)の有機ジアミンを混合することでポリアミック酸
プレポリマーを合成する。反応を完結させるためには、
上記と同一温度下に、1〜10時間、好ましくは1〜5
時間、更に好ましくは2時間以内である。更に一般式
(2)
(In the formula, R 1 and R 2 are hydrogen, C 1-18
At least one kind selected from the aliphatic group and the aromatic group may be contained in each halogen group. Also R
1 and R 2 may be the same or different. ) Is mixed with the organic diamine to synthesize a polyamic acid prepolymer. To complete the reaction,
1 to 10 hours, preferably 1 to 5 at the same temperature as above
Time, more preferably within 2 hours. Furthermore, the general formula (2)

【0036】[0036]

【化28】 [Chemical 28]

【0037】あるいは、一般式(3)Alternatively, the general formula (3)

【0038】[0038]

【化29】 [Chemical 29]

【0039】(式中、Ar2 は2価の芳香族基で、1種
であっても2種以上であってもよい。多成分の中から選
択されてもよい。Ar3 は4価の芳香族基であり、少な
くとも2モル%以上が一般式(4)
(In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group, and may be one kind or two or more kinds. It may be selected from multiple components. Ar 3 is a tetravalent group. An aromatic group, at least 2 mol% of which is represented by the general formula (4)

【0040】[0040]

【化30】 [Chemical 30]

【0041】の結合様式を含む。また、式中、Xは3価
の結合様式で、一般式(5)
Including the binding mode of Further, in the formula, X is a trivalent bonding mode, and is represented by the general formula (5)

【0042】[0042]

【化31】 [Chemical 31]

【0043】の群から選択され、同種であっても異なっ
ていてもよい。nは1〜30の正の整数を表す。)で示
される熱硬化性イミドオリゴマーをブレンドすることに
より、本発明に必須の構成成分である樹脂溶液を調製す
ることができる。一般式(2)あるいは(3)に示した
熱硬化性を有するオリゴマーは、本発明の構成上、熱硬
化性イミド系オリゴマーとして公知であるものであれ
ば、いかなるものも使用可能である。しかし乍ら、本発
明の効果を発揮するためには、一般式(2)
Is selected from the group of and may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. By blending the thermosetting imide oligomer represented by (4), a resin solution which is an essential component of the present invention can be prepared. As the thermosetting oligomer represented by the general formula (2) or (3), any one can be used as long as it is known as a thermosetting imide oligomer in the constitution of the present invention. However, in order to exert the effect of the present invention, the general formula (2)

【0044】[0044]

【化32】 [Chemical 32]

【0045】あるいは、一般式(3)Alternatively, the general formula (3)

【0046】[0046]

【化33】 [Chemical 33]

【0047】(式中、Ar2 は2価の芳香族基であり、
1種であっても2種以上であってもよい。Ar3 は4価
の芳香族基であり、少なくとも2モル%以上が一般式
(4)
(In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group,
It may be one kind or two or more kinds. Ar 3 is a tetravalent aromatic group, at least 2 mol% of which is represented by the general formula (4)

【0048】[0048]

【化34】 [Chemical 34]

【0049】の結合様式を含む。また、式中、Xは3価
の結合様式で、一般式(5)
Including the binding mode of Further, in the formula, X is a trivalent bonding mode, and is represented by the general formula (5)

【0050】[0050]

【化35】 [Chemical 35]

【0051】の群から選択され、同種であっても異なっ
ていてもよい。nは1〜30の正の整数を表す。)で示
されるアセチレン末端イミドあるいはイソイミド、更に
はアミック酸の形態で示すことのできる熱硬化性イミド
系オリゴマーを使用することが望ましい。上述のオリゴ
マーとしては、ガルフR&Dの特開昭53−11986
5などの公知の技術を用いることにより容易に合成する
こともできる。ジアミン成分としては、一般式(8)
Selected from the group of, and may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. It is desirable to use an acetylene-terminated imide or isoimide represented by the formula (1), and further a thermosetting imide-based oligomer which can be represented in the form of an amic acid. Examples of the above-mentioned oligomer include those disclosed by Gulf R & D in JP-A-53-11986.
It can also be easily synthesized by using a known technique such as 5. As the diamine component, the general formula (8)

【0052】[0052]

【化36】 [Chemical 36]

【0053】(式中、R1 ,R2 は水素、C1〜18か
ら選択される脂肪族基又は芳香族基よりなる群から選ば
れる少なくとも1種で、それぞれハロゲン基を含有して
もよい。R1 ,R2 は、それぞれ同種であっても異種で
あってもよい。)で表される有機ジアミンを必須成分と
するものであるが、次の一般式(9)
(In the formula, R 1 and R 2 are at least one selected from the group consisting of hydrogen, an aliphatic group selected from C1-18 and an aromatic group, and may each contain a halogen group. R 1 and R 2 may be the same or different and each may have an organic diamine represented by the following general formula (9).

【0054】[0054]

【化37】H2 N−Ar4 −NH2 (9)Embedded image H 2 N—Ar 4 —NH 2 (9)

【0055】(式中、Ar4 は2価の有機基)で表され
るジアミンを共重合することも可能である。Ar4 は本
質的には、2価の有機基ならなんでも使用可能で、具体
的には、
It is also possible to copolymerize a diamine represented by the formula (wherein Ar 4 is a divalent organic group). Ar 4 can be essentially any divalent organic group, and specifically,

【0056】[0056]

【化38】 [Chemical 38]

【0057】[0057]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0058】等を挙げることができるが、芳香族基が望
ましい。具体的には、
The aromatic group is preferred. In particular,

【0059】[0059]

【化40】 [Chemical 40]

【0060】の少なくとも1種類以上を主成分とするこ
とが好適である。また、上記の製造法に示されているよ
うに本発明に用いることのできる有機テトラカルボン酸
二無水物としては、あらゆる構造の有機テトラカルボン
酸二無水物が使用可能であるが、一般式(6)のAr1
基は4価の有機基であり、芳香族基であることが好まし
い。このAr1 基を具体的に例示すると、次の物を挙げ
ることができる。
It is preferred that at least one of the above is used as a main component. As the organic tetracarboxylic dianhydride that can be used in the present invention as shown in the above-mentioned production method, organic tetracarboxylic dianhydrides having any structure can be used. 6) Ar 1
The group is a tetravalent organic group, and is preferably an aromatic group. Specific examples of the Ar 1 group include the following.

【0061】[0061]

【化41】 [Chemical 41]

【0062】これらの有機テトラカルボン酸二無水物を
単独又は2種以上組み合わせて用いてもよい。より具体
的には、諸特性のバランス面から、
These organic tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more. More specifically, in terms of the balance of various characteristics,

【0063】[0063]

【化42】 [Chemical 42]

【0064】の少なくとも1種を主成分とすることが好
適である。ポリアミック酸エステル溶液の生成反応に使
用されるアプロティクな極性有機溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル溶
媒、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等の
スルホキシド系溶媒、N,N′−ジメチルホルムアミ
ド、N,N′−ジエチルホルムアミド等のホルムアミド
系溶媒、N,N′−ジメチルアセトアミド、N,N′−
ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒等を挙げ
ることができる。これらを単独又は2種あるいは3種以
上の混合溶媒として用いることもできる。更に、これら
のアプロティクな極性溶媒とともに、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ベンゼンメチルセロソルブ
等のポリアミック酸エステル溶液と非溶媒との混合溶媒
として用いることもできる。好ましくは、ジメチルアセ
トアミド(以下、DMAcと略す。)とテトラヒドロフ
ラン(以下、THFと略す。)を用いることが、操作性
の点から望ましい。
It is preferable to use at least one of the above as the main component. Examples of the aprotic polar organic solvent used in the reaction for producing the polyamic acid ester solution include, for example, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N′-dimethylformamide, N, Formamide solvents such as N'-diethylformamide, N, N'-dimethylacetamide, N, N'-
Examples thereof include acetamide-based solvents such as diethyl acetamide. These may be used alone or as a mixed solvent of two or three or more. Furthermore, these aprotic polar solvents can be used as a mixed solvent of a polyamic acid ester solution such as methanol, ethanol, isopropanol, benzenemethylcellosolve and the like and a non-solvent. It is preferable to use dimethylacetamide (hereinafter abbreviated as DMAc) and tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF) from the viewpoint of operability.

【0065】本発明の構成成分の1方である熱硬化性ポ
リイミドオリゴマーの数平均重合度〔DP;P.J.フ
ローリー,「プリンシプルズ・オブ・ポリマー・ケミス
トリー(Principles of Polymer Chemistry )」Cornel
l University Press: I thaca, NY,91ページ、195
3年〕をコントロールするために重合度は1〜30、好
ましくは1〜15、更に好ましくは1〜10がよい。上
記より大きくなると、有機溶媒溶解性が落ちるという欠
点が出る。また、上記より小さくなると、機械的強度の
点で問題がある。
The number average degree of polymerization of the thermosetting polyimide oligomer which is one of the constituents of the present invention [DP; J. Flory, "Principles of Polymer Chemistry" Cornel
l University Press: I thaca, NY, 91 pages, 195
3 years] to control the degree of polymerization is 1 to 30, preferably 1 to 15, and more preferably 1 to 10. When it is larger than the above, there is a drawback that the solubility in an organic solvent decreases. Further, if it is smaller than the above, there is a problem in mechanical strength.

【0066】本発明のもう一方の構成成分である熱可塑
性ポリイミドの分子量は特に規制されるものではない
が、生成するポリイミド樹脂の強度を維持するために
は、数平均分子量が5万以上、更には8万以上、特には
10万以上、更には12万以上が好ましい。ポリイミド
重合体の分子量は直接測定が困難なことが多いが、この
ようなときには間接的な方法によって推測による測定が
なされる。例えば、ポリイミド重合体がポリアミック酸
あるいはポリアミック酸エステルから合成される場合に
は、対応する前駆体の分子量に相当する値をポリイミド
の分子量とすることもできる。本発明の熱可塑性ポリイ
ミドと熱硬化性オリゴマーは任意の組成比で混合するこ
とができるが、好ましくは一般式(1)で表される熱可
塑性ポリイミドと、一般式(2)及び(3)で表される
熱硬化性オリゴマーの重量分率が99/1〜5/95の
範囲である。この範囲外では加工性が悪化する傾向があ
る。
The molecular weight of the thermoplastic polyimide which is the other component of the present invention is not particularly limited, but in order to maintain the strength of the polyimide resin produced, a number average molecular weight of 50,000 or more, Is preferably 80,000 or more, particularly preferably 100,000 or more, and further preferably 120,000 or more. Although it is often difficult to directly measure the molecular weight of a polyimide polymer, in such a case, it is estimated by an indirect method. For example, when the polyimide polymer is synthesized from polyamic acid or polyamic acid ester, the value corresponding to the molecular weight of the corresponding precursor may be the molecular weight of the polyimide. The thermoplastic polyimide of the present invention and the thermosetting oligomer can be mixed in any composition ratio, but preferably the thermoplastic polyimide represented by the general formula (1) and the general formulas (2) and (3) are used. The weight fraction of the thermosetting oligomer represented is in the range of 99/1 to 5/95. Outside this range, workability tends to deteriorate.

【0067】本発明の組成物は以上説明した反応性を有
するポリイミド樹脂を必須成分とするものであるが、必
要に応じて公知のエポキシ樹脂やエポキシ樹脂硬化剤、
硬化促進剤、充填剤、難燃剤、補強剤、表面処理剤、顔
料、各種エラストマーなどを併用することができる。エ
ポキシ樹脂とは分子中に2個以上のエポキシ(グリシジ
ル)基を有する化合物であり、例示するとビスフェノー
ルA、ビスフェノールF、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、フルルグリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン等の2価あるいは3価以上のフェ
ノール類又はテトラブロムビスフェノールAやブロム化
ポリフェノール類から誘導されるノボラックなどのハロ
ゲン化ポリフェノール類から誘導されるグリシジルエー
テル化合物、フェノール、オルトクレゾール等のフェノ
ール類とホルムアルデヒドの反応生成物であるノボラッ
ク系エポキシ樹脂、アニリン、パラアミノフェノール、
メタアミノフェノール、4−アミノ−メタクレゾール、
6−アミノ−メタクレゾール、4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、8,8′−ジアミノジフェニルメタン、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、パラフェニレンジアミン、メタフェ
ニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、2,6−
トルエンジアミン、パラキシリレンジアミン、メタキシ
リレンジアミン、1,4−シクロヘキサン−ビス(メチ
ルアミン)、1,3−シクロヘキサン−ビス(メチルア
ミン)、5−アミノ−1−(4′−アミノフェニル)−
1,8,8−トリメチルインダン、6−アミノ−1−
(4−アミノフェニル)−1,8,8−トリメチルイン
ダン等から誘導されるアミン系エポキシ樹脂、パラオキ
シ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族カ
ルボン酸から誘導されるグリシジルエステル系化合物、
5,5−ジメチルヒンダントイン等から誘導されるヒン
ダントイン系エポキシ樹脂、2,2′−ビス(3,4−
エポキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス〔4
−(2,3−エポキシプロピル)シクロヘキシル〕プロ
パン、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、3,4−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポ
キシ樹脂、その他、トリグリシジルイソシアヌレート、
2,4,6−トリグリシドキシ−s−トリアジン等の1
種又は2種以上を挙げることができる。
The composition of the present invention contains the above-described reactive polyimide resin as an essential component. If necessary, a known epoxy resin or epoxy resin curing agent,
A curing accelerator, a filler, a flame retardant, a reinforcing agent, a surface treatment agent, a pigment, various elastomers and the like can be used in combination. The epoxy resin is a compound having two or more epoxy (glycidyl) groups in the molecule, and is exemplified by bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone, resorcin, flurglycine, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1. , 2,2-Tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane and other divalent or trivalent phenols or glycidyl derived from halogenated polyphenols such as tetrabromobisphenol A and novolac derived from brominated polyphenols Novolac-based epoxy resin, aniline, para-aminophenol, which is the reaction product of phenols such as ether compounds, phenol, orthocresol, and formaldehyde,
Meta-aminophenol, 4-amino-metacresol,
6-amino-metacresol, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 8,8'-diaminodiphenylmethane,
4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3- Aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-
Toluenediamine, para-xylylenediamine, meta-xylylenediamine, 1,4-cyclohexane-bis (methylamine), 1,3-cyclohexane-bis (methylamine), 5-amino-1- (4'-aminophenyl) −
1,8,8-trimethylindane, 6-amino-1-
An amine-based epoxy resin derived from (4-aminophenyl) -1,8,8-trimethylindane or the like, a glycidyl ester-based compound derived from an aromatic carboxylic acid such as paraoxybenzoic acid, terephthalic acid or isophthalic acid,
Hindantoin-based epoxy resin derived from 5,5-dimethylhindantoin or the like, 2,2'-bis (3,4-
Epoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis [4
Alicyclic epoxy resins such as-(2,3-epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexenedioxide, and 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and triglycidyl isocyanurate,
1, such as 2,4,6-triglycidoxy-s-triazine
There may be mentioned one kind or two or more kinds.

【0068】エポキシ硬化剤としては、芳香族アミンや
キシリレンジアミンなどの脂肪族アミンなどのアミン系
硬化剤、フェニルノボラックやクレゾールノボラック等
のポリフェノール化合物、ヒドラジド化合物などが例示
される。硬化促進剤としてはベンジルジメチルアミン、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、1,8−ジアザビシクロウンデセンなどのアミン類
や、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール化合物、三フッ化ホウ素アミン錯体などが例示で
きる。また、機械的強度を改良するために各種のエラス
トマーの添加も効果的である。有機溶媒に溶解希釈時の
樹脂濃度は、プリプレグ時の樹脂濃度との関係から5〜
75重量%、好ましくは15〜65重量%、更に好まし
くは35〜65重量%の範囲で使用するのが望ましい。
プリプレグの残溶剤濃度は、樹脂に対して1〜20重量
%、好ましくは1〜10重量%、更に好ましくは、1〜
5重量%の範囲で調整するのが望ましい。1重量%未満
では、プリプレグ成形後の積層板の機械特性が低いとい
う問題が発生する。また、20重量%を超えると、プリ
プレグ成形時に残存溶媒が揮発するためボイドの発生が
起こるという不都合がある。
Examples of the epoxy curing agent include amine type curing agents such as aromatic amines and aliphatic amines such as xylylenediamine, polyphenol compounds such as phenyl novolac and cresol novolac, and hydrazide compounds. Benzyldimethylamine as a curing accelerator,
Amines such as 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol and 1,8-diazabicycloundecene, imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole, boron trifluoride amine complex, etc. It can be illustrated. Also, addition of various elastomers is effective for improving the mechanical strength. The resin concentration when dissolved and diluted in an organic solvent is 5 to 5 because of the relationship with the resin concentration during prepreg.
It is desirable to use 75% by weight, preferably 15 to 65% by weight, more preferably 35 to 65% by weight.
The residual solvent concentration of the prepreg is 1 to 20% by weight with respect to the resin, preferably 1 to 10% by weight, more preferably 1 to
It is desirable to adjust in the range of 5% by weight. If it is less than 1% by weight, the mechanical properties of the laminated plate after prepreg molding are low. On the other hand, if it exceeds 20% by weight, the residual solvent is volatilized during the molding of the prepreg, which causes the generation of voids.

【0069】次に、上記のようにして得られた耐熱性プ
リプレグを用いて耐熱性積層板を作成する方法について
説明する。所望の厚みになるように、プリプレグの枚数
を調整する。表面を鏡面仕上げした2枚のステンレスプ
レートあるいは金型の間に、所定のプリプレグを挿入し
たのち所定の時間・圧力下で加熱・加圧すれば所定の積
層板を作成することができる。あるいは、真空状態を併
用して揮発ガス量を調整することもできる。このこと
は、本樹脂系がオートクレーブ加工にも適していること
を示すものである。いわゆるPWB(プリンテッド・ワ
イヤリング・ボード)用途に使用する場合において、各
種の充填剤や補強剤等を使用できる。充填剤としては、
水酸化アルミ、三酸化アンチモン、赤リンなどが例示で
きる。補強材としては、炭素繊維、ガラス繊維、アラミ
ド繊維、ベクトラ等の液晶ポリエステル繊維、ポリベン
ゾチアゾール(PBT)繊維、アルミナ繊維等からなる
織布、不織布、マット、紙(ペーパー)あるいはこれら
の組み合わせが例示できる。また、機械的強度を向上す
るためにアフターキュアを併用することも効果的であ
る。これらの熱硬化性樹脂は、その使用用途に制限はな
く各種の態様での応用が可能である。その中で、電気用
積層板、PWB用マトリックス樹脂として使用すること
も可能である。
Next, a method for producing a heat resistant laminate using the heat resistant prepreg obtained as described above will be described. Adjust the number of prepregs to obtain the desired thickness. A predetermined laminate can be prepared by inserting a predetermined prepreg between two stainless steel plates or dies whose surfaces are mirror-finished and then heating and pressurizing for a predetermined time and under pressure. Alternatively, the amount of volatile gas can be adjusted by using a vacuum state together. This indicates that the resin system is also suitable for autoclave processing. When used for so-called PWB (printed wiring board) applications, various fillers and reinforcing agents can be used. As a filler,
Examples include aluminum hydroxide, antimony trioxide, red phosphorus, and the like. As the reinforcing material, a woven fabric, a non-woven fabric, a mat, a paper (paper) made of carbon fiber, glass fiber, aramid fiber, liquid crystal polyester fiber such as Vectra, polybenzothiazole (PBT) fiber, alumina fiber or the like, or a combination thereof is used. It can be illustrated. In addition, it is also effective to use after-cure together to improve the mechanical strength. These thermosetting resins are not limited in their usage and can be applied in various modes. Among them, it can be used as a laminated board for electricity and a matrix resin for PWB.

【0070】[0070]

【実施例】以下、本発明をより具体的に実施例により説
明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるも
のではなく、また、本発明はその主旨を逸脱しない範囲
内で、種々の修正、改良、変更を加えた態様で実施し得
るものである。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples, and the present invention is within the scope of the present invention. The present invention can be implemented with various modifications, improvements and changes.

【0071】参考例1 1,3−ビス(4,4−ジニトロフェノキシ)−2,2
−ジメチルプロパンの合成 充分に乾燥した2000mlの4ツ口フラスコにN2 導入
管、バブラ−・ジムロート還流冷却器、メカニカルスタ
ーラーを取付け、N2 をフラッシュした。146.1g
(0.920mol )の1−ニトロ−4−クロロベンゼン
と45.1g(0.470mol )の2,2−ジメチルプ
ロパン−1,3−ジオールを乳鉢でよくすりつぶしたの
ち反応器に入れた。200mlのジメチルアセトアミドで
充分に溶かしたのち、400g(2.820mol )のK
2 CO3 を入れた。N2 気流中・還流下に26時間反応
させた。2000mlの氷水に沈澱させ、濃HClで注意
深く中和させ、沈澱を濾別した。得られた沈澱物を、ト
ルエンから2回再結晶した。減圧下、65℃で充分乾燥
したところ、133.3g(収率:82.0%)の1,
3−ビス(4,4−ジニトロフェノキシ)−2,2−ジ
メチルプロパン(以下、BNPDMPと略す。)が得ら
れた。融点は、165−6℃(既報告値:164℃)で
あった。 〔スペクトルデータ〕 IR(KBr,cm-1)ν=3100,2950,168
0,1600,1500,1340,1290,117
0,1120,1040,1000,860,770,
680.1 H−NMR(acetone −d6 ,ppm)δ=1.20
(s,6H,−CH3 ),4.08(s,4H,−CH
2 −O−),7.19(m,4H,aromatic H),8.
15(m,4H,aromatic H) 元素分析値は、C17H18O6N2として 計算値(%):C;58.74,H;23.83 実測値(%):C;58.56,H;23.92 であった。
Reference Example 1 1,3-bis (4,4-dinitrophenoxy) -2,2
- N 2 inlet tube 4 necked flask 2000ml synthesized thoroughly dried dimethyl propane, bubbler - & Dimroth reflux condenser, fitted with a mechanical stirrer, was flushed with N 2. 146.1 g
(0.920 mol) of 1-nitro-4-chlorobenzene and 45.1 g (0.470 mol) of 2,2-dimethylpropane-1,3-diol were ground well in a mortar and then placed in a reactor. After thoroughly dissolving with 200 ml of dimethylacetamide, 400 g (2.820 mol) of K was added.
2 CO 3 was added. The reaction was carried out for 26 hours in a N 2 stream and under reflux. It was precipitated in 2000 ml of ice water, carefully neutralized with concentrated HCl and the precipitate was filtered off. The precipitate obtained was recrystallized twice from toluene. When sufficiently dried at 65 ° C. under reduced pressure, 133.3 g (yield: 82.0%) of 1,
3-bis (4,4-dinitrophenoxy) -2,2-dimethylpropane (hereinafter abbreviated as BNPDMP) was obtained. The melting point was 165-6 ° C (reported value: 164 ° C). [Spectral data] IR (KBr, cm -1 ) ν = 3100, 2950, 168
0, 1600, 1500, 1340, 1290, 117
0, 1120, 1040, 1000, 860, 770,
680. 1 H-NMR (acetone-d 6 , ppm) δ = 1.20
(S, 6H, -CH 3) , 4.08 (s, 4H, -CH
2- O-), 7.19 (m, 4H, aromatic H), 8.
15 (m, 4H, aromatic H) Elemental analysis value was calculated as C17H18O6N2 (%): C; 58.74, H; 23.83 Measured value (%): C; 58.56, H; 23.92 Met.

【0072】参考例2 1,3−ビス(4,4−ジアミノフェノキシ)−2,2
−ジメチルプロパンの合成 充分に乾燥した2000mlの4ツ口フラスコに、バブラ
−・ジムロート還流冷却器、回転子、600g(12.
080mol )のヒドラジン・一水和物を入れた1000
mlの滴下ロートを取り付けた。286.44g(0.8
41mol )の参考例1で得られたBNPDMPと13.
71gの5wt%Pd−Cと1000mlの乾燥エタノール
を反応系に加えた。還流下にヒドラジンを約90分かけ
て滴下した。還流下に24時間反応させた。反応後は、
沈澱物を減圧下にセライト上で濾過したのち、有機層を
減圧下に留去した。沈澱を集めて、エタノールから再結
晶した。融点が114−5℃(既報告値:113℃)で
ある196.8g(収率;95.5%)の1,3−ビス
(4,4−ジアミノフェノキシ)−2,2−ジメチルプ
ロパン(以下、BAPDMPと略す。)を得た。 〔スペクトルデータ〕 IR(KBr,cm-1)ν=3420,3350,320
0,2950,2900,2850,1725,161
0,1510,1460,1410,1250,113
0,1040,8201 H−NMR(acetone −d6 ,ppm)δ=1.10
(s,6H,−CH3 ),3.40(bs,4H,−N
2 ),3.80(s,4H,−CH2 −O−),6.
15(m,8H,aromatic H) 元素分析値は、C17H22O2N2として 計算値(%):C;73.30,H;7.91 実測値(%):C;73.56,H;7.78 であった。なお、エチニルアニリンは、USP4,125,56
3 (ヒューズエアクラフト社)を参考に、ニトロアセト
フェノンから3ステップで70%収率で合成した。ま
た、エチニルフタル酸無水物は、ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー、48巻、5135〜513
7ページ(1983,E. T. Sabourinら)を参考に、フ
タル酸から5ステップで38%収率で合成した。エチニ
ルフタル酸無水物は、昇華精製の後使用した。
Reference Example 2 1,3-bis (4,4-diaminophenoxy) -2,2
-Synthesis of dimethyl propane In a well-dried 2000 ml 4-necked flask, bubbler-Dimroth reflux condenser, rotor, 600 g (12.
080 mol) of hydrazine monohydrate in 1000
A ml dropping funnel was attached. 286.44 g (0.8
41 mol) of BNPDMP obtained in Reference Example 1 and 13.
71 g of 5 wt% Pd-C and 1000 ml of dry ethanol were added to the reaction system. Hydrazine was added dropwise under reflux over about 90 minutes. The reaction was carried out under reflux for 24 hours. After the reaction,
The precipitate was filtered under reduced pressure on Celite, and the organic layer was evaporated under reduced pressure. The precipitate was collected and recrystallized from ethanol. 196.8 g (yield; 95.5%) of 1,3-bis (4,4-diaminophenoxy) -2,2-dimethylpropane (whose melting point is 114-5 ° C (reported value: 113 ° C)) Hereinafter, it is abbreviated as BAPDMP). [Spectral data] IR (KBr, cm -1 ) ν = 3420, 3350, 320
0,2950,2900,2850,1725,161
0,1510,1460,1410,1250,113
0,1040,820 1 H-NMR (acetone-d 6 , ppm) δ = 1.10.
(S, 6H, -CH 3) , 3.40 (bs, 4H, -N
H 2), 3.80 (s, 4H, -CH 2 -O -), 6.
15 (m, 8H, aromatic H) Elemental analysis value was calculated as C17H22O2N2 (%): C; 73.30, H; 7.91 Actual measurement value (%): C; 73.56, H; 7.78 Met. In addition, ethynylaniline is USP 4,125,56
With reference to 3 (Hughes Aircraft Co.), it was synthesized from nitroacetophenone in 70% yield in 3 steps. Further, ethynylphthalic anhydride is described in Journal of Organic Chemistry, Volume 48, 5135-513.
Referring to page 7 (1983, ET Sabourin et al.), It was synthesized from phthalic acid in 5 steps in 38% yield. Ethynyl phthalic anhydride was used after sublimation purification.

【0073】実施例1 1000mlの4ツ口セパラブル反応容器に、N2 導入
管、バブラー、メカニカルスターラー減圧弁を取付け、
2 をフラッシュした。反応系を、76±2℃にコント
ロールしながら、38.8631g(0.12528mo
l )のオキシジフタリック酸二無水物(以下、ODPA
とする)を仕込み、15mlのN−メチルピロリドン(N
MP)で溶解した。均一溶液になったのを確かめて、5
0.0ml(1.26mol )の乾燥メタノールを滴下し、
オキシジフタリック酸ジメチルエステルを合成した。そ
の温度で60分攪拌したのち、34.8610g(0.
12526mol )の参考例2で得られたBAPDMPを
100mlの乾燥THFで76±2℃で調整していた溶液
を加えた。温度コントロールに注意しながら2時間攪拌
させた。そののち、10.1g(17.5mmmol)のビス
フェノールAビストリメリット酸二無水物と5.6g
(17.5mmmol)のベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物と5.1g(17.5mmmol)のビスアミノフェノ
キシベンゼンと4.1g(34.9mmmol)のエチニルア
ニリンから合成した25gの構造式(8)
Example 1 A 1000-ml 4-neck separable reaction vessel was equipped with a N 2 introducing tube, bubbler, and mechanical stirrer pressure reducing valve.
N 2 was flushed. Controlling the reaction system at 76 ± 2 ° C, 38.8863 g (0.12528 mo)
l) oxydiphthalic dianhydride (hereinafter referred to as ODPA
15 ml of N-methylpyrrolidone (N)
MP). Make sure that a homogeneous solution is obtained, and
0.0 ml (1.26 mol) of dry methanol was added dropwise,
Oxydiphthalic acid dimethyl ester was synthesized. After stirring at that temperature for 60 minutes, 34.8610 g (0.
(12526 mol) of the BAPDMP obtained in Reference Example 2 was added to a solution prepared with 100 ml of dry THF at 76 ± 2 ° C. The mixture was stirred for 2 hours while paying attention to temperature control. After that, 10.1 g (17.5 mmol) of bisphenol A bistrimellitic dianhydride and 5.6 g
25 g of structural formula (8) synthesized from (17.5 mmol) benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 5.1 g (17.5 mmol) bisaminophenoxybenzene and 4.1 g (34.9 mmol) ethynylaniline.

【0074】[0074]

【化43】 [Chemical 43]

【0075】で表される化合物をTHF60/NMP1
5mlの混合溶媒中で溶解したものを加え、2時間攪拌し
た。ブルックフィールド・ビスコメーター(Brookfield
Viscometer)を使用して反応後の樹脂粘度を測定したと
ころ、19ポイズであった。次に、Reseach Tool Co. L
td.,の「Model 30 Prepregger 」を使用し、株式会社日
東紡の「RST57PA−535CS」を2ロール用い
て一方向強化プリプレグを作成した。プリプレグを所定
の規格の大きさに切断したのち乾燥した。その乾燥条件
を図1に示した。4インチ(タテ)×3インチ(ヨコ)
のプリプレグを22枚、精密金型を用いて図2の条件で
プレス成型し、厚み3.25mmの耐熱性積層材料を作成
した。その評価結果を表1に示した。
The compound represented by the formula: THF60 / NMP1
What was dissolved in 5 ml of the mixed solvent was added, and the mixture was stirred for 2 hours. Brookfield Viscometer
The viscosity of the resin after the reaction was measured using a Viscometer) and was found to be 19 poise. Next, Reseach Tool Co. L
A unidirectional reinforced prepreg was prepared by using two rolls of "RST57PA-535CS" manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd. using "Model 30 Prepregger" of td. The prepreg was cut to a predetermined size and then dried. The drying conditions are shown in FIG. 4 inches (vertical) x 3 inches (horizontal)
22 pieces of the prepreg of Example 2 were press-molded using a precision mold under the conditions shown in FIG. 2 to prepare a heat-resistant laminated material having a thickness of 3.25 mm. The evaluation results are shown in Table 1.

【0076】実施例2 40.0686g(0.1248mol)のベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物(以下、BTDAとする)、
34.7545(0.1249mol)のBAPDMP、1
0.1g(17.5mmmol)のビスフェノールAビストリ
メリット酸二無水物と5.6g(17.5mmmol)のベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と5.8g(1
7.5mmmol)の2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘ
キサフルオロプロパンと4.1g(34.9mmmol)のエ
チニルアニリンから合成した19gの構造式(9)
Example 2 40.0686 g (0.1248 mol) of benzophenone tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as BTDA),
34.7545 (0.1249 mol) of BAPDMP, 1
0.1 g (17.5 mmol) bisphenol A bistrimellitic dianhydride, 5.6 g (17.5 mmol) benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 5.8 g (1
19 g of the structural formula (9) synthesized from 7.5 mmol of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane and 4.1 g (34.9 mmol) of ethynylaniline.

【0077】[0077]

【化44】 [Chemical 44]

【0078】で表される化合物を用いたほかは実施例1
と同様にして、粘度21ポイズの樹脂溶液を得、厚み
3.42mmの耐熱性積層材料を得た。その評価結果を表
1に示した。
Example 1 except that the compound represented by
In the same manner as above, a resin solution having a viscosity of 21 poise was obtained, and a heat-resistant laminated material having a thickness of 3.42 mm was obtained. The evaluation results are shown in Table 1.

【0079】実施例3 9.2031g(0.04220mol)のピロメリット酸
二無水物(以下、PMDAとする)、20.3560g
(0.06318mol)のBTDA、29.3297g
(0.10539mol)のBAPDMP、10.6g(1
7.5mmmol)のビスフェノールAビストリメリット酸二
無水物と5.6g(17.5mmmol)のベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物と4.3g(19.7mmmol)の
ビスアミノフェニルスルフォンと6.0g(34.9mm
mol)のエチニルフタル酸無水物から合成した20gの構
造式(10)
Example 3 9.2031 g (0.04220 mol) of pyromellitic dianhydride (hereinafter referred to as PMDA), 20.3560 g
(0.06318 mol) BTDA, 29.3297 g
(0.10539 mol) BAPDMP, 10.6 g (1
7.5 mmol of bisphenol A bistrimellitic dianhydride, 5.6 g (17.5 mmol) of benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4.3 g (19.7 mmol) of bisaminophenyl sulfone and 6.0 g (34 .9 mm
20 g of structural formula (10) synthesized from (mol) ethynylphthalic anhydride

【0080】[0080]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0081】で表される化合物を用いたほかは、実施例
1と同様にして、粘度16ポイズの樹脂溶液を得、厚み
3.42mmの耐熱性積層材料を得た。その評価結果を表
1に示した。
A resin solution having a viscosity of 16 poise was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the formula (1) was used to obtain a heat-resistant laminated material having a thickness of 3.42 mm. The evaluation results are shown in Table 1.

【0082】実施例4 20.8816g(0.09574mol)のPMDA、4
4.5310g(0.14356mol)のODPA、6
6.4659g(0.23883mol)のBAPDMP、
10.6g(17.5mmmol)のビスフェノールAビスト
リメリット酸二無水物と5.6g(17.5mmmol)のベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と4.3g(1
9.7mmmol)のオキシジアニリンと4.3g(34.9
mmmol)のエチニルアニリンから合成した57gの構造式
(11)
Example 4 20.8816 g (0.09574 mol) of PMDA, 4
4.5310 g (0.14356 mol) ODPA, 6
6.4659 g (0.23883 mol) of BAPDMP,
10.6 g (17.5 mmol) of bisphenol A bistrimellitic dianhydride and 5.6 g (17.5 mmol) of benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 4.3 g (1
9.7 mmol of oxydianiline and 4.3 g (34.9)
(57) structural formula (11) synthesized from ethynylaniline (mmmol)

【0083】[0083]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0084】で表される化合物を用いたほかは、実施例
1と同様にしたところ、粘度28ポイズの樹脂溶液を
得、厚み3.64mmの耐熱性積層材料を得た。その評価
結果を表1に示した。
A resin solution having a viscosity of 28 poise was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the formula (1) was used to obtain a heat resistant laminated material having a thickness of 3.64 mm. The evaluation results are shown in Table 1.

【0085】比較例1 「ケルイミド601」(株式会社日本ポリイミド製)9
5gをDMF120gに溶解(樹脂濃度;45重量%)
した。熱風循環乾燥炉内で120℃・85分乾燥させ樹
脂濃度40.2重量%、残溶媒濃度6.4%のプリプレ
グを作成した。こうして作成したプリプレグを8枚を用
いて、220℃・2時間・25kg/cm2加熱・加圧一体
成形して板厚5.7mmの積層板を得た。その評価結果を
表1に示した。
Comparative Example 1 "Kelimide 601" (manufactured by Nippon Polyimide Co., Ltd.) 9
Dissolve 5g in 120g DMF (resin concentration: 45wt%)
did. It was dried at 120 ° C. for 85 minutes in a hot air circulation drying furnace to prepare a prepreg having a resin concentration of 40.2% by weight and a residual solvent concentration of 6.4%. Eight prepregs prepared in this manner were used and integrally molded by heating at 220 ° C. for 2 hours at 25 kg / cm 2 under pressure to obtain a laminated plate having a thickness of 5.7 mm. The evaluation results are shown in Table 1.

【0086】比較例2 イミドオリゴマー「サーミッドMC−600」(株式会
社カネボーNSC製)165gをDMF200gに溶解
(樹脂濃度;45重量%)した。熱風循環乾燥炉内で1
20℃・85分乾燥させ樹脂濃度31.2重量%、残溶
媒濃度9.4%のプリプレグを作成した。こうして作成
したプリプレグを8枚を用いて、220℃・2時間・2
5kg/cm2 加熱・加圧一体成形して板厚6.2mmの積層
板を得た。その評価結果を表1に示した。
Comparative Example 2 165 g of an imide oligomer "Thermid MC-600" (manufactured by Kanebo NSC Co., Ltd.) was dissolved in 200 g of DMF (resin concentration: 45% by weight). 1 in the hot air circulation drying furnace
It was dried at 20 ° C. for 85 minutes to prepare a prepreg having a resin concentration of 31.2% by weight and a residual solvent concentration of 9.4%. Using 8 sheets of prepreg thus prepared, 220 ° C for 2 hours / 2
5 kg / cm 2 heating and pressurizing were integrally molded to obtain a laminated plate having a plate thickness of 6.2 mm. The evaluation results are shown in Table 1.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】[0088]

【発明の効果】上記のように、本発明の耐熱性積層材料
は、優れた機械的及び電気的特性を有するとともに高い
耐湿性、耐熱性を有するので広汎な用途に使用され得
る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the heat-resistant laminated material of the present invention has excellent mechanical and electrical properties and high moisture resistance and heat resistance, and therefore can be used in a wide variety of applications.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例におけるプリプレグの乾燥条件を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a drying condition of a prepreg in an example.

【図2】実施例におけるプレス成型条件を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing press molding conditions in Examples.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 、R2 は水素、C1〜18の脂肪族基又は
芳香族基よりなる群から選ばれる少なくとも1種で、そ
れぞれハロゲン基を含有してもよい。またR1 、R
2 は、それぞれ同種であっても異種であってもよい。A
1 は4価の芳香族基を示し、1種であっても2種以上
であってもよい。)で示される熱可塑性ポリイミドと、
一般式(2) 【化2】 あるいは、一般式(3) 【化3】 (式中、Ar2 は2価の芳香族基で、1種であっても2
種以上であってもよい。Ar3 は4価の芳香族基であ
り、少なくとも2モル%以上が一般式(4) 【化4】 の結合様式を含む。また、式中、Xは3価の結合様式
で、一般式(5) 【化5】 の中から選択され、同種であっても異なっていてもよ
い。nは1〜30の正の整数を表す。)で示されるいず
れか一方あるいは両方の熱硬化性オリゴマーとを構成成
分とするポリイミド系樹脂組成物を用いたことを特徴と
する耐熱積層材料。
1. A compound represented by the general formula (1): (Wherein, in at least one R 1, R 2 is hydrogen, is selected from the group consisting of an aliphatic group or an aromatic group of C1-18, may each contain a halogen group. The R 1, R
2 may be the same or different. A
r 1 represents a tetravalent aromatic group, and may be one type or two or more types. ) Thermoplastic polyimide,
General formula (2) Alternatively, general formula (3): (In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group, and even if one kind is 2
It may be more than one species. Ar 3 is a tetravalent aromatic group, and at least 2 mol% or more is represented by the general formula (4): Including the binding style of. Further, in the formula, X is a trivalent bond mode and is represented by the general formula (5): And may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. ) A heat-resistant laminated material comprising a polyimide resin composition containing one or both of the thermosetting oligomers represented by the formula (1).
【請求項2】 一般式(1)で表される熱可塑性ポリイ
ミドと、一般式(2)及び/又は(3)で表される熱硬
化性オリゴマーの重量分率が99/1〜5/95の範囲
である請求項1記載の耐熱積層材料。
2. The thermoplastic polyimide represented by the general formula (1) and the thermosetting oligomer represented by the general formula (2) and / or (3) have a weight fraction of 99/1 to 5/95. The heat-resistant laminated material according to claim 1, wherein
【請求項3】 一般式(1)で表される熱可塑性ポリイ
ミドの数平均分子量が5万以上である請求項1記載の耐
熱積層材料。
3. The heat-resistant laminated material according to claim 1, wherein the thermoplastic polyimide represented by the general formula (1) has a number average molecular weight of 50,000 or more.
【請求項4】 有機溶剤中において、一般式(6) 【化6】 で表される酸二無水物あるいは、一般式(7) 【化7】 (式中、Y1 4 は、水素及びC1〜5のアルキル基よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種であり、同種であ
っても異なっていてもよい。Ar1 は4価の芳香族基を
示し、1種であっても2種以上であってもよい。)を不
活性ガス雰囲気下、50〜150℃の温度範囲におい
て、テトラカルボン酸二無水物と対応するアルコールか
ら合成し、ついで、同一条件下に、一般式(8) 【化8】 (式中、R1 ,R2 は、水素、C1〜18の脂肪族基又
は芳香族基から選ばれる少なくとも1種で、それぞれハ
ロゲン基を含有してもよい。またR1 ,R2 は、それぞ
れ同種であっても異種であってもよい。)の有機ジアミ
ンを混合することでポリアミック酸プレポリマーを合成
し、更に一般式(2) 【化9】 あるいは、一般式(3) 【化10】 (式中、Ar2 は2価の芳香族基で、1種であっても2
種以上であってもよい。Ar3 は4価の芳香族基であ
り、少なくとも2モル%以上が一般式(4) 【化11】 の結合様式を含む。また、式中、Xは3価の結合様式
で、一般式(5) 【化12】 の群から選択され、同種であっても異なっていてもよ
い。nは1〜30の正の整数を表す。)で示される熱硬
化性オリゴマーをブレンドすることにより樹脂溶液を調
製し、ついで補強材を該樹脂溶液で塗布・含浸させたの
ち、所定の残溶剤濃度となるように乾燥してプリプレグ
を作成し、該プリプレグの所定枚数を加熱・加圧して一
体成形することを特徴とする耐熱積層材料の製造方法。
4. A compound represented by the general formula (6): An acid dianhydride represented by the general formula (7) (In the formula, Y 1 to 4 are at least one selected from the group consisting of hydrogen and a C1-5 alkyl group, and may be the same or different. Ar 1 is a tetravalent aromatic group. Which may be one type or two or more types) in an inert gas atmosphere in the temperature range of 50 to 150 ° C. from tetracarboxylic dianhydride and the corresponding alcohol, and then , Under the same conditions, the general formula (8): (In the formula, R 1 and R 2 are at least one selected from hydrogen, a C1-18 aliphatic group or an aromatic group, and may each contain a halogen group. R 1 and R 2 are The same type or different types may be mixed together) to synthesize a polyamic acid prepolymer, and further, a polyamic acid prepolymer is prepared. Alternatively, the compound represented by the general formula (3): (In the formula, Ar 2 is a divalent aromatic group, and even if one kind is 2
It may be more than one species. Ar 3 is a tetravalent aromatic group, and at least 2 mol% is represented by the general formula (4): Including the binding style of. Further, in the formula, X is a trivalent bond mode and is represented by the general formula (5): Selected from the group of, and may be the same or different. n represents a positive integer of 1 to 30. ), A resin solution is prepared by blending a thermosetting oligomer, and then a reinforcing material is applied and impregnated with the resin solution, and then dried to a predetermined residual solvent concentration to prepare a prepreg. A method for manufacturing a heat-resistant laminated material, characterized in that a predetermined number of the prepregs are heated and pressed to be integrally molded.
【請求項5】 樹脂溶液の濃度が、5〜75重量%であ
る請求項4記載の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the resin solution has a concentration of 5 to 75% by weight.
【請求項6】 プリプレグの残溶剤濃度が樹脂に対して
1〜20重量%である請求項4又は5記載の製造方法。
6. The production method according to claim 4, wherein the residual solvent concentration of the prepreg is 1 to 20% by weight based on the resin.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006193576A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Amt Kenkyusho:Kk Polyimide resin composition
JP2006335789A (en) * 2005-05-31 2006-12-14 Amt Kenkyusho:Kk Polyimide resin composition
JP2007137960A (en) * 2005-11-16 2007-06-07 Amt Kenkyusho:Kk Bisimide or bisisoimide compound and resin composition comprising the same

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