JP2983616B2 - Compound for heat-resistant laminate and method for producing laminate using the compound - Google Patents
Compound for heat-resistant laminate and method for producing laminate using the compoundInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性、耐湿性、保存安定性に優れた耐熱
積層材用化合物及びこれを用いた耐熱積層材の製造方法
に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound for a heat-resistant laminated material having excellent heat resistance, moisture resistance and storage stability, and a method for producing a heat-resistant laminated material using the same.
近年、電子機器の発達は目ざましく、配線板として使
用される銅張積層板の使用も多種多様となり、かつ優れ
た特性のものが要求されている。とりわけ、電子部品の
高密度実装化による配線の高密度化にともない、配線板
の多層化、スルーホールの小径化が進みつつある。この
ため、ドリル加工時のスミア発生が少ない等、加工性の
良好な銅張積層板が求められている。一方、生産性の向
上、低コスト化の要請にともない、配線板の実装工程で
ホットエアーレベラーやリフローはんだ付け等、ますま
す厳しい加工条件が加えられている。これらの要求の中
で基板である銅張積層板の耐熱性、耐湿性はこれまで以
上に優れたものが求められるようになってきた。2. Description of the Related Art In recent years, the development of electronic devices has been remarkable, and the use of copper-clad laminates used as wiring boards has become diversified. In particular, with the increase in wiring density due to the high-density mounting of electronic components, multilayer wiring boards and smaller through-hole diameters are being promoted. For this reason, a copper-clad laminate having good workability, such as less occurrence of smear during drilling, is required. On the other hand, with the demand for improvement in productivity and cost reduction, increasingly strict processing conditions such as hot air leveler and reflow soldering are added in the wiring board mounting process. Among these requirements, a copper-clad laminate as a substrate has been required to have better heat resistance and moisture resistance than ever before.
これらの要求を満たすために、一般に銅張積層板用の
積層材として広く用いられているエポキシ樹脂に代わっ
て、近年、付加硬化型のポリイミド樹脂が利用されるよ
うになってきている。このポリイミド樹脂を銅張積層板
用積層板として用いた場合、ドリル加工時のスミアの発
生がほとんど無くなり、また、加工工程や長期試験での
耐熱性が格段に改良されるという利点を有することが知
られている。In order to satisfy these requirements, an addition-curable polyimide resin has recently been used in place of an epoxy resin which is generally used widely as a laminate for a copper-clad laminate. When this polyimide resin is used as a laminate for a copper-clad laminate, the occurrence of smear during drilling is almost eliminated, and the advantage that the heat resistance in the processing step and long-term test is significantly improved. Are known.
しかし乍ら、従来用いられてきた付加硬化型のポリイ
ミド樹脂は以下に述べるような種々の問題点を有してい
た。即ち、不飽和ジカルボン酸のN,N′−ビスイミドと
ジアミノジフェニルメタンとを反応させたものは、積層
板用として優れたものであるが、反面、ジアミノジフェ
ニルメタンは反応性が高く、ワニスやプリプレグの可使
時間が短いという問題がある。更に、ジアミノジフェニ
ルメタンの生体への毒性が問題となることがある。ま
た、不飽和ジカルボン酸のN,N′−ビスイミドとジアミ
ノフェノールとを反応成分とするものは、積層板用とし
てバランスのとれた特性を示し、加工性も優れている。
しかし、耐湿性が劣るという問題点があり、例えば、得
られた積層板の長期保存には、吸湿に格別の注意を払わ
なければならなかった。However, conventionally used addition-curable polyimide resins have various problems as described below. That is, the product obtained by reacting the unsaturated dicarboxylic acid N, N'-bisimide with diaminodiphenylmethane is excellent for use as a laminate, but on the other hand, diaminodiphenylmethane has a high reactivity and is suitable for varnish and prepreg. There is a problem that the working time is short. In addition, the toxicity of diaminodiphenylmethane to living organisms can be problematic. Further, those containing N, N'-bisimide of unsaturated dicarboxylic acid and diaminophenol as reaction components show well-balanced properties for laminates and have excellent workability.
However, there is a problem that the moisture resistance is inferior. For example, for the long-term storage of the obtained laminate, special attention must be paid to moisture absorption.
更に、不飽和ジカルボン酸のN,N′−ビスイミドアミ
ノ安息香酸とを反応させたものは、積層板用として好適
であるが、低沸点溶媒に対して溶解性が悪く、プリプレ
グ作成時のガラス布等への塗布に問題点を有し、更に、
樹脂溶液の保存にも注意しなければならない等の問題点
があった。Further, those obtained by reacting an unsaturated dicarboxylic acid with N, N'-bisimidoaminobenzoic acid are suitable for use as laminates, but have poor solubility in low-boiling-point solvents, and the glass used during prepreg production There is a problem in application to cloth etc.
There have been problems such as care must be taken in storage of the resin solution.
本発明者はかかる実情に鑑み、これらの技術的課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達したも
のである。In view of such circumstances, the present inventors have made intensive studies to solve these technical problems, and as a result, have reached the present invention.
即ち、本発明の第1は、一般式(1) (式中、Ar1,Ar3は2価の有機基、Ar2は4価の有機基で
あり、Ar4は熱架橋反応性を有する有機基であり、Ar1,A
r2,Ar3,Ar4はそれぞれ同種であってもよく、異種であっ
てもよい。また、X,Yは共重合比であり、Xは1〜30、
Yは0〜30の正の整数を表す。)で示される化合物を主
成分とすることを特徴とする耐熱性積層用化合物を、 本発明の第2は、上記化合物を有機溶剤に溶解してワ
ニス状樹脂組成物を調整し、次いで補強材を該ワニス樹
脂組成物で塗布・含浸させたのち所定の残溶剤濃度とな
るように乾燥してプリプレグを作成し、該プリプレグの
1枚又は2枚以上を2枚の銅箔の間に挟み、加熱加圧し
て一体成形することを特徴とする両面銅箔積層板の製造
方法を、 それぞれ内容とするものである。That is, the first aspect of the present invention is that the general formula (1) (Wherein, Ar 1 and Ar 3 are divalent organic groups, Ar 2 is a tetravalent organic group, Ar 4 is an organic group having thermal crosslinking reactivity, and Ar 1 and A
r 2 , Ar 3 and Ar 4 may be the same or different. X and Y are copolymerization ratios, X is 1 to 30,
Y represents a positive integer of 0 to 30. A second aspect of the present invention is to prepare a varnish-like resin composition by dissolving the above compound in an organic solvent, and then use a reinforcing material. Is applied and impregnated with the varnish resin composition, and dried so as to have a predetermined residual solvent concentration to prepare a prepreg, and one or more of the prepregs is sandwiched between two copper foils, Each of the methods includes a method for producing a double-sided copper foil laminate characterized by being integrally molded by heating and pressing.
本発明の耐熱積層材用化合物の製造方法について説明
する。The method for producing the compound for a heat-resistant laminate of the present invention will be described.
反応槽を充分に乾燥しアルゴン、窒素などの不活性ガ
ス雰囲気中、一般式(2)で表される有機ジアミン化合
物; H2N−Ar3−NH2 (2) (式中、Ar3は2価の有機基) を極性有機溶媒中に溶解させ、その溶液中に、一般式
(3)で表されるエステル基含有有機テトラカルボン酸
二無水物 (式中、Ar1は2価の有機基)又は該エステル基含有テ
トラカルボン酸二無水物と一般式(4)で表される有機
テトラカルボン酸二無水物; (式中、Ar2は4価の有機基) を上記と同一の極性溶媒に溶解させるか、又は粉体で発
熱及び増粘に注意しながら添加し、酸無水物基末端のテ
レケリックなオリゴマーを得る。この時の反応温度は、
−15〜120℃の範囲が好適であり、好ましくは−15〜100
℃、更に好ましくは−5〜50℃が好適である。反応時間
は、1〜5時間が好ましい。The reaction tank is sufficiently dried, and an organic diamine compound represented by the general formula (2): H 2 N—Ar 3 —NH 2 (2) (where Ar 3 is an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen) Divalent organic group) is dissolved in a polar organic solvent, and an ester group-containing organic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) is dissolved in the solution. (Wherein, Ar 1 is a divalent organic group) or the ester group-containing tetracarboxylic dianhydride and an organic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (4); (Wherein, Ar 2 is a tetravalent organic group) is dissolved in the same polar solvent as described above, or is added as a powder while paying attention to heat generation and thickening, and a telechelic oligomer at the terminal of an acid anhydride group is added. obtain. The reaction temperature at this time is
The range of -15 to 120 ° C is suitable, and preferably -15 to 100 ° C.
C, more preferably -5 to 50C. The reaction time is preferably 1 to 5 hours.
この反応溶液に、一般式(5)で示される1級アミ
ン; H2N−Ar4 (5) (式中、Ar4は熱架橋反応性を有する有機基) を末端を停止するために添加し、新規熱硬化型オリゴマ
ーの前駆体である下記一般式(6)で示されるオリゴエ
ステルアミック酸を得る。To the reaction solution, a primary amine represented by the general formula (5); H 2 N—Ar 4 (5) (wherein, Ar 4 is an organic group having thermal crosslinking reactivity) is added to terminate the terminal. Then, an oligoester amic acid represented by the following general formula (6), which is a precursor of a novel thermosetting oligomer, is obtained.
(式中、Ar1,Ar3は2価の有機基、Ar2は4価の有機基で
あり、Ar4は熱架橋反応性を有する有機基であり、Ar1,A
r2,Ar3,Ar4はそれぞれ同種であってもよく、異種であっ
てもよい。また、X,Yは共重合比であり、Xは1〜30、
Yは0〜30の正の整数を表す。) この時の温度は、0〜120℃が好適であり、より好ま
しくは0〜100℃、更に好ましくは40〜100℃である。反
応時間は1〜5時間程度が好ましい。 (Wherein, Ar 1 and Ar 3 are divalent organic groups, Ar 2 is a tetravalent organic group, Ar 4 is an organic group having thermal crosslinking reactivity, and Ar 1 and A
r 2 , Ar 3 and Ar 4 may be the same or different. X and Y are copolymerization ratios, X is 1 to 30,
Y represents a positive integer of 0 to 30. The temperature at this time is preferably from 0 to 120 ° C, more preferably from 0 to 100 ° C, and still more preferably from 40 to 100 ° C. The reaction time is preferably about 1 to 5 hours.
その後、オリゴエステルアミック酸溶液を熱的に閉
環、脱水させるために非溶媒を加えた後、還流、共沸下
にエステルイミドオリゴマーに変換する。ここで使用す
る非溶媒は、芳香族系炭化水素であるキシレン、トルエ
ン、ベンゼンを使用できるが、好ましくは、ベンゼンを
用いるのがよい。反応は、共沸、留去する水をディーン
・スターク還流器を用いて反応理論量の水が集められる
まで還流させる。更には、化学的閉環法を併用すること
もできる。ここで使用する脱水閉環剤としては、例えば
無水酢酸などの脂肪族酸無水物、無水フタル酸などの芳
香族酸無水物、クロル酢酸などが挙げられる。また、脱
水触媒としては、例えばトリエチルアミン等の脂肪族第
3級アミン類、ピリジン、ピコリン類、イソキノリンな
どの複素環式第3級アミン類などが挙げられる。反応後
は、水あるいはアルコール系の溶媒中に激しく攪拌させ
ながらオリゴエステルイミド溶液を注ぐことでエステル
イミドオリゴマーをパウダーとして沈澱させる。パウダ
ーは濾過して集めた後、約80℃中、減圧下に48時間乾燥
させる。Thereafter, a non-solvent is added for thermally closing and dehydrating the oligoester amic acid solution, and the solution is converted into an ester imide oligomer under reflux and azeotropy. As the non-solvent used here, xylene, toluene, and benzene which are aromatic hydrocarbons can be used, but benzene is preferably used. In the reaction, the azeotropically distilled water is refluxed using a Dean-Stark reflux until a stoichiometric amount of water is collected. Further, a chemical ring closing method can be used in combination. Examples of the dehydration ring closing agent used herein include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, and chloroacetic acid. Examples of the dehydration catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline and isoquinoline. After the reaction, the esterimide oligomer is precipitated as a powder by pouring the oligoesterimide solution into water or an alcohol-based solvent with vigorous stirring. The powder is collected by filtration and dried at about 80 ° C. under reduced pressure for 48 hours.
本発明に用いられるエステル基含有テトラカルボン酸
二無水物としては、あらゆる構造のエステル基含有テト
ラカルボン酸二無水物が使用可能であるが、これらはUS
P 3182073,ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス、
Part1,1531pp(1976)、特開平1−254631、特開平2−
138341に開示されているごとく、公知の技術で合成する
こともできる。As the ester group-containing tetracarboxylic dianhydride used in the present invention, an ester group-containing tetracarboxylic dianhydride of any structure can be used.
P 3182073, Journal of Polymer Science,
Part1,1531pp (1976), JP-A-1-254463, JP-A-2-
As disclosed in 138341, it can also be synthesized by a known technique.
すなわち、アルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気
中、トリメリット酸クロリドを有機溶媒中に溶解させ、
その溶液中に一般式(7) HO−Ar1−OH (7) (式中、Ar1は2価の有機基)で表されるジオールとア
ミン、有機溶媒を反応系の状態に注意しながら添加す
る。ここで反応副生成物の塩化水素の補足剤として使用
するアミンは、ピリジン、トリエチルアミン等の第3級
アミンが使用できるが、好ましくは、ピリジンを用いる
のがよい。また有機溶媒は、芳香族系炭化水素であるキ
シレン、トルエンを使用できるが、好ましくはトルエン
を用いるのがよい。この時の反応温度は−15〜120℃の
範囲が好適であり、より好ましくは0〜100℃、更に好
ましくは40〜100℃である。反応時間は、1〜3時間が
好ましい。That is, in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen, trimellitic acid chloride is dissolved in an organic solvent,
In the solution, a diol represented by the general formula (7) HO-Ar 1 -OH (7) (wherein, Ar 1 is a divalent organic group), an amine and an organic solvent are added while paying attention to the state of the reaction system. Added. Tertiary amines such as pyridine and triethylamine can be used as the amine used as a supplement for the reaction by-product hydrogen chloride, but pyridine is preferably used. As the organic solvent, xylene and toluene which are aromatic hydrocarbons can be used, but toluene is preferably used. The reaction temperature at this time is preferably in the range of −15 to 120 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., and still more preferably 40 to 100 ° C. The reaction time is preferably 1 to 3 hours.
その後、還流条件下でエステル基含有酸二無水物に変
換する。反応後は、反応系を充分冷却し、沈澱している
塩を濾別し、濾液を集めて減圧下に溶媒を留去しエステ
ル基含有酸二無水物の結晶を得る。これを無水酢酸から
再結晶を行い、結晶は80℃中で減圧下に48時間乾燥させ
る。Thereafter, it is converted into an ester group-containing dianhydride under reflux conditions. After the reaction, the reaction system is sufficiently cooled, the precipitated salt is separated by filtration, the filtrate is collected, and the solvent is distilled off under reduced pressure to obtain an ester group-containing acid dianhydride crystal. This is recrystallized from acetic anhydride, and the crystals are dried at 80 ° C. under reduced pressure for 48 hours.
前記一般式(3)のAr1は2価の有機基であり、芳香
族基であることが好ましい。このAr1基を具体的に例示
すると次のものを挙げることができ、これらのうち少な
くとも1種が選択される。Ar 1 in the general formula (3) is a divalent organic group, and is preferably an aromatic group. Specific examples of this Ar 1 group include the following, and at least one of them is selected.
より具体的には、諸特性のバランス面から、 の少なくとも1種類を主成分とすることが好ましい。 More specifically, from the aspect of the balance of various characteristics, It is preferable that at least one of the above is a main component.
更に、本発明においてエステル基含有テトラカルボン
酸二無水物と併用できる有機テトラカルボン酸二無水物
としては、あらゆる構造の有機テトラカルボン酸二無水
物の使用が可能であるが、一般式(4)で示されるもの
が好ましい。一般式(4)のAr4基は4価の有機基であ
り、芳香族基であることが好ましい。このAr2を具体的
に例示すると次のものを挙げることができ、これらのう
ちの少なくとも1種が選択される。Further, in the present invention, as the organic tetracarboxylic dianhydride which can be used in combination with the ester group-containing tetracarboxylic dianhydride, an organic tetracarboxylic dianhydride having any structure can be used, but the general formula (4) Are preferred. The Ar 4 group in the general formula (4) is a tetravalent organic group, and is preferably an aromatic group. Specific examples of this Ar 2 include the following, at least one of which is selected.
これらの有機テトラカルボン酸二無水物を単独又は2
種以上組み合わせて用いてもよい。より具体的には、諸
特性のバランス面から、 の少なくとも1種類を主成分とすることが好適である。 These organic tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or
It may be used in combination of more than one kind. More specifically, from the aspect of the balance of various characteristics, It is preferable that at least one of these is a main component.
また、本発明に用いられる一般式(2)で表される有
機ジアミン化合物中の2価の有機基Ar3は本質的には2
価の有機基なら何でも使用可能であるが、具体的には、
下記のものが挙げられ、これらのうちの少なくとも1種
が選択される。The divalent organic group Ar 3 in the organic diamine compound represented by the general formula (2) used in the present invention is essentially 2
Any valent organic group can be used, but specifically,
The following are mentioned, and at least one of them is selected.
などを挙げることができるが、芳香族基が望ましく、
具体的には、 の少なくとも1種類以上を主成分とすることが好適であ
る。 And the like, but an aromatic group is desirable,
In particular, It is preferable that at least one or more of the above is used as a main component.
末端停止用に本発明で使用される一般式(5)で表さ
れる1級アミンのAr4を例示すると下記のものが挙げら
れ、これらのうち少なくとも1種が選択される。Examples of the primary amine Ar 4 represented by the general formula (5) used in the present invention for terminal termination include the following, and at least one of them is selected.
などがあるが、コスト、取扱いの点で、特に好ましく
は、 が用いられる。 However, in terms of cost and handling, it is particularly preferable that Is used.
エステルイミドオリゴマー溶液の生成反応に使用され
るアプロティックな有機溶媒としては、例えば、ジメチ
ルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド系溶媒、N,N′−ジメチルホルムアミド、N,N′−ジエ
チルホルムアミド等のホルムアミド系溶媒、N,N′−ジ
メチルアセトアミド、N,N′−ジエチルアセトアミド等
アセトアミド系溶媒等を挙げることができる。これらを
単独又は2種以上の混合溶媒として用いることもでき
る。更に、これらの極性溶媒とともに、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソ
ルブ等のポリアミック酸の非溶媒との混合溶媒として用
いることもできる。好ましくは、ジメチルホルムアミド
(以下、DMFと記す)を用いることが生成するポリマー
の色調、収率の点から望ましい。Examples of the aprotic organic solvent used in the reaction for producing the ester imide oligomer solution include, for example, sulphoxide solvents such as dimethylsulfoxide and diethylsulfoxide, and formamides such as N, N'-dimethylformamide and N, N'-diethylformamide. And acetamide solvents such as N, N'-dimethylacetamide and N, N'-diethylacetamide. These can be used alone or as a mixed solvent of two or more. Further, it can be used as a mixed solvent with a non-solvent of a polyamic acid such as methanol, ethanol, isopropanol, benzene and methyl cellosolve together with these polar solvents. Preferably, use of dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF) is desirable from the viewpoint of the color tone and the yield of the produced polymer.
本発明に係る反応性を有するエステルイミドオリゴマ
ーが特に高い耐熱性を有する硬化物を与えることについ
ての機構は明確ではないが、アセチレンの熱硬化(熱的
3量化)によるベンゼン骨格形成、あるいはビフェニレ
ンの熱硬化によるテトラベンゾシクロオクタジエン骨格
形成等による芳香環の形成の効果であると考えられる
〔例えば、J.K.スティルら、マクロモレキュルズ、第19
巻、第8号、1985ページ、1986年〕。The mechanism by which the esterimide oligomer having reactivity according to the present invention gives a cured product having particularly high heat resistance is not clear, but formation of a benzene skeleton by thermal curing (thermal trimerization) of acetylene or biphenylene. This is considered to be the effect of the formation of an aromatic ring due to the formation of a tetrabenzocyclooctadiene skeleton by thermosetting (for example, JK Stille et al., Macromolecules, No.
Vol. 8, No. 1985, p. 1986].
また、数平均重合度〔DP;P.J.フローリー、Principle
s of Polymer Chemistry:Cornell University Press:It
haca,NY,91ページ、1953年〕をコントロールするため
に、共重合比Xは1〜30,Yは0〜30、好ましくはは1〜
15、更に好ましくは1〜10がよい。30を越えると、有機
溶媒に対する溶解性が落ちるという欠点が出る。また、
1未満となると、機械的強度の点で問題が出る場合があ
る。Further, the number average degree of polymerization (DP; PJ Flory, Principle
s of Polymer Chemistry: Cornell University Press: It
haca, NY, page 91, 1953], the copolymerization ratio X is from 1 to 30, and Y is from 0 to 30, preferably from 1 to 30.
15, more preferably 1 to 10. If it exceeds 30, there is a disadvantage that the solubility in organic solvents is reduced. Also,
If it is less than 1, a problem may occur in terms of mechanical strength.
本発明のエステルイミドオリゴマーから硬化物を得る
に際し、必要に応じて公知のエポキシ樹脂やエポキシ樹
脂硬化剤、硬化促進剤、充填剤、難燃剤、補強剤、表面
処理剤、顔料、各種エラストマーなどを併用することが
出来る。In obtaining a cured product from the ester imide oligomer of the present invention, a known epoxy resin or epoxy resin curing agent, a curing accelerator, a filler, a flame retardant, a reinforcing agent, a surface treatment agent, a pigment, various elastomers and the like are used as necessary. Can be used together.
エポキシ樹脂とは分子中に2個以上のエポキシ(グリ
シジル)基を有する化合物であり、例示するとビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、ハイドロキノン、レゾル
シン、フルルグリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン等の2価あるいは3価以上のフェノー
ル類又はテトラブロムビスフェノールAやブロム化ポリ
フェノール類から誘導されるノボラックなどのハロゲン
化ポリフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル
化合物、フェノール、オルトクレゾール等のフェノール
類とホルムアルデヒドの反応生成物であるノボラック系
エポキシ樹脂、アニリン、パラアミノフェノール、メタ
アミノフェノール、4−アミノ−メタクレゾール、6−
アミノ−メタクレゾール、4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、8,8′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、パラフ
ェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、2,4−ト
ルエンジアミン、2,6−トルエンジアミン、パラキシリ
レンジアミン、メタキシリレンジアミン、1,4−シクロ
ヘキサン−ビス(メチルアミン)、1,3−シクロヘキサ
ン−ビス(メチルアミン)、5−アミノ−1−(4′−
アミノフェニル)−1,8,8−トリメチルインダン、6−
アミノ−1−(4−アミノフェニル)−1,8,8−トリメ
チルインダン等から誘導されるアミン系エポキシ樹脂、
パラオキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の
芳香族カルボン酸から誘導されるグリシジルエステル系
化合物、5,5−ジメチルヒダントイン等から誘導される
ヒダントイン系エポキシ樹脂、2,2′−ビス(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス〔4−(2,3
−エポキシプロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニ
ルシクロヘキサンジオキサイド、3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ樹脂、そ
の他、トリグリシジルイソシアヌレート、2,4,6−トリ
グリシドキシ−s−トリアジン等の1種又は種以上を挙
げることができる。An epoxy resin is a compound having two or more epoxy (glycidyl) groups in a molecule. Examples thereof include bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone, resorcin, furulglycine, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1 Derived from dihydric or trihydric phenols such as 2,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane or halogenated polyphenols such as novolak derived from tetrabromobisphenol A or brominated polyphenols. Glycidyl ether compounds, phenols, novolak epoxy resins which are reaction products of phenols such as orthocresol and formaldehyde, aniline, paraaminophenol, metaaminophenol, 4-amino-metacresol, 6-
Amino-metacresol, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 8,8'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene,
1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, para Xylylenediamine, metaxylylenediamine, 1,4-cyclohexane-bis (methylamine), 1,3-cyclohexane-bis (methylamine), 5-amino-1- (4'-
Aminophenyl) -1,8,8-trimethylindane, 6-
Amine-based epoxy resins derived from amino-1- (4-aminophenyl) -1,8,8-trimethylindane, and the like;
Glycidyl ester compounds derived from aromatic carboxylic acids such as paraoxybenzoic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid; hydantoin-based epoxy resins derived from 5,5-dimethylhydantoin; 2,2'-bis (3,4 -Epoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis [4- (2,3
-Epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexanedioxide, alicyclic epoxy resins such as 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and others such as triglycidyl isocyanurate and 2,4,6-triglycidoxy-s-triazine. Species or species or more can be mentioned.
公知のエポキシ硬化剤としては、芳香族アミンやキシ
リレンジアミン等の脂肪族アミン等のアミン系硬化剤、
フェノールノボラックやクレゾールノボラック等のポリ
フェノール化合物、ヒドラジド化合物等が例示される。Known epoxy curing agents include amine curing agents such as aliphatic amines such as aromatic amines and xylylenediamine,
Examples thereof include polyphenol compounds such as phenol novolak and cresol novolak, and hydrazide compounds.
硬化促進剤としてはベンジルジメチルアミン、2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−
ジアザビシクロウンデセン等のアミン類や、2−エチル
−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、三
フッ化ホウ素アミン錯体等が例示できる。Benzyldimethylamine, 2,4,6 as curing accelerator
-Tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-
Examples thereof include amines such as diazabicycloundecene, imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole, and boron trifluoride amine complex.
機械的強度を改良するために公知のエラストマーの添
加も効果的である。公知のエラストマーとは、具体的に
は、以下のものを例示することができる。The addition of known elastomers to improve mechanical strength is also effective. As the known elastomer, the following can be specifically exemplified.
上記記載のエラストマーは、Silastic(LS−420)、S
ylgard(184)はダウコーニング社から、ハイカー・ATB
N(1300×16等)、CTB(2000×162)、CTBN(1300×13,
1300×8,1300×31)、VTBN(1300×23)は株式会社宇部
興産から、3Fはモンサントから購入できる。 The elastomers described above include Silastic (LS-420), S
ylgard (184) is a hiker / ATB from Dow Corning
N (1300x16 etc.), CTB (2000x162), CTBN (1300x13,
1300 x 8,1300 x 31) and VTBN (1300 x 23) can be purchased from Ube Industries, Ltd., and 3F can be purchased from Monsanto.
また、難燃性付与のため難燃材、無機充填剤を適宜配
合することができる。Further, a flame-retardant material and an inorganic filler can be appropriately blended for imparting flame retardancy.
無機充填剤は、水不溶性で、絶縁性のものが用いられ
る。その例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、
二酸化チタン、亜鉛華などの金属酸化物、水酸化マグネ
シウム、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、タル
ク、カオリン、雲母、ワラストナイト、粘土鉱物等の天
然鉱物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリ
ウム、燐酸カルシウム等の不溶性塩等があり、これらは
単独又は2種以上組み合わせて用いられる。As the inorganic filler, a water-insoluble and insulating material is used. Examples include silica, alumina, zirconia,
Metal oxides such as titanium dioxide and zinc oxide, metal hydroxides such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide, natural minerals such as talc, kaolin, mica, wollastonite, clay minerals, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate And insoluble salts such as calcium phosphate, and these are used alone or in combination of two or more.
補強材としては、炭素繊維、ガラス繊維、アラミド繊
維、ベクトラ等の液晶ポリエステル繊維、ポリベンゾチ
アゾール(PBT)繊維、アルミナ繊維等からなる不織
布、マット、紙(ペーパー)あるいはこれらの組み合わ
せが例示できる。これらの補強材は、接着性付与のため
シランカップリング剤処理を併用することも効果的であ
る。Examples of the reinforcing material include a liquid crystal polyester fiber such as a carbon fiber, a glass fiber, an aramid fiber, and Vectra, a nonwoven fabric made of a polybenzothiazole (PBT) fiber, an alumina fiber, and the like, a mat, a paper (paper), or a combination thereof. It is also effective to use these reinforcing materials together with a silane coupling agent treatment for imparting adhesiveness.
次に、代表的な塗布工程を例を挙げて説明する。上記
一般式(I)で表されるエステルイミドオリゴマーを所
定の樹脂濃度になるように所定量の有機溶剤で溶解・攪
拌することにより、均一なワニス状樹脂組成物を得る。
このようにして製造した樹脂組成物を、ガラス布、ガラ
ス不織布、ガラスペーパー等の補強材を塗布・含浸した
のち、熱風循環乾燥炉内で50〜250℃、好ましくは50〜2
00℃、更に好ましくは100〜200℃の温度範囲内で、所定
の残溶剤濃度になるように炉内滞留時間を設定・乾燥
し、耐熱性積層板用プリプレグを製造する。Next, a typical coating process will be described with an example. A uniform varnish-like resin composition is obtained by dissolving and stirring the ester imide oligomer represented by the general formula (I) with a predetermined amount of an organic solvent so as to have a predetermined resin concentration.
After applying and impregnating the thus-prepared resin composition with a reinforcing material such as a glass cloth, a glass nonwoven fabric, and a glass paper, the resin composition is heated to 50 to 250 ° C. in a circulating hot air drying oven, preferably 50 to 250 ° C.
A residence time in a furnace is set and dried at a temperature of 00 ° C., more preferably within a temperature range of 100 ° C. to 200 ° C., to obtain a predetermined residual solvent concentration, thereby producing a prepreg for a heat-resistant laminate.
使用される有機溶剤としては、例えば、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶
剤、N,N′−ジメチルホルムアミド、N,N′−ジエチルホ
ルムアミド等のホルムアミド系溶剤、N,N′−ジメチル
アセトアミド、N,N′−ジエチルアセトアミド等のアセ
トアミド系溶剤、ジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル系溶剤;アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン系溶剤等を挙げることができ
る。これらを単独又は2種以上の混合溶剤として用いる
こともできる。更に、これらの有機極性溶剤とともに、
メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール系溶剤、ベンゼン、メチルセロソルブ等との混合溶
剤として用いることもできる。Examples of the organic solvent used include, for example, dimethyl sulfoxide, sulfoxide solvents such as diethyl sulfoxide, N, N′-dimethylformamide, N, N′-diethylformamide and other formamide solvents, N, N′-dimethylacetamide, Acetamide solvents such as N, N'-diethylacetamide; ether solvents such as dimethyl ether, diethyl ether and dioxane; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; These can be used alone or as a mixed solvent of two or more. Furthermore, with these organic polar solvents,
It can also be used as a mixed solvent with alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, and benzene and methyl cellosolve.
有機溶剤に溶解稀釈時の樹脂濃度は、プリプレグ時の
樹脂濃度との関係から5〜75重量%、好ましくは15〜65
重量%、更に好ましくは35〜65重量%の範囲で使用する
のが好ましい。プリプレグの残溶剤濃度は、残溶剤/樹
脂比計算で1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%、更
に好ましくは1〜5重量%の範囲で調整するのが望まし
い。上記範囲よりも大きくなると、プリプレグ成形後の
積層板の機械特性が低いという問題が発生する。また、
上記範囲よりも小さいと、プリプレグ成形時に残存溶剤
が揮発するためボイドの発生が起こるという不都合があ
る。The resin concentration at the time of dissolving and diluting in an organic solvent is 5 to 75% by weight, preferably 15 to 65% by weight, based on the relationship with the resin concentration at the time of prepreg.
%, More preferably 35 to 65% by weight. It is desirable that the residual solvent concentration of the prepreg is adjusted in the range of 1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight, and more preferably 1 to 5% by weight, based on the calculation of the residual solvent / resin ratio. If it is larger than the above range, a problem occurs that the mechanical properties of the laminate after prepreg molding are low. Also,
If it is smaller than the above range, the residual solvent is volatilized during prepreg molding, so that there is a disadvantage that voids are generated.
次に、上記のようにして得られた耐熱性プリプレグを
用いて両面銅張積層板を作成する方法について説明す
る。希望する厚みになるように、銅箔及びプリプレグの
枚数を調整する。表面を鏡面仕上げした2枚のステンレ
スプレートの間に、所定の銅箔、プリプレグを挿入した
のち所定の時間・圧力下で加熱・加圧すれば両面銅張積
層板を作成することが出来る。また、機械的強度を向上
するためにアフターキュアを併用することも効果的であ
る。Next, a method for producing a double-sided copper-clad laminate using the heat-resistant prepreg obtained as described above will be described. Adjust the number of copper foils and prepregs to the desired thickness. By inserting a predetermined copper foil and prepreg between two stainless steel plates whose surfaces are mirror-finished, and then heating and pressing under a predetermined time and pressure, a double-sided copper-clad laminate can be produced. It is also effective to use aftercure in combination to improve the mechanical strength.
次に、本発明をより具体的に実施例により説明する
が、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものでは
なく、また、本発明はその趣旨を何ら逸脱しない範囲内
で、当業者の知識に基づき種々なる修正、改良、変更を
加えた態様で実施し得るものである。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples, and the present invention is not limited to those skilled in the art without departing from the scope of the present invention. Various modifications, improvements, and changes can be made based on the knowledge of the above.
参考例1 1リットルの3口フラスコに、3方コック、ジムロー
ト還流冷却器及び滴下ロートを取り付けた。反応系を充
分乾燥、窒素置換したのち、42.1g(200mmol)のトリメ
リット酸クロリドと250mlの乾燥トルエン(ナトリウム
ワイヤー上で乾燥)をフラスコ内に入れ、オイルバスで
100℃に加熱し、トリメリット酸クロリドを溶解させ
た。滴下ロートに22.8g(100mmol)のビスフェノールA
と20mlの乾燥トルエンを入れ、反応系の状態に注意しな
がら15分かけて滴下した後、そのまま30分反応させた。
その後還流下に3時間反応させた。反応終了後は反応系
を充分冷却した後、沈澱しているピリジニウム塩の白色
沈澱を吸引濾過した。濾液を集めてエバポレーターで減
圧下に溶媒を留去したところ、57.2g(収率:99%)の白
色結晶が析出した。これを無水酢酸から再結晶したとこ
ろ、16.3gの下記構造式で示される目的化合物を得た。Reference Example 1 A 1-liter three-necked flask was equipped with a three-way cock, a Dimroth reflux condenser, and a dropping funnel. After the reaction system was sufficiently dried and purged with nitrogen, 42.1 g (200 mmol) of trimellitic acid chloride and 250 ml of dry toluene (dried on a sodium wire) were placed in a flask, and the oil bath was used.
The mixture was heated to 100 ° C. to dissolve trimellitic chloride. 22.8 g (100 mmol) of bisphenol A in the dropping funnel
And 20 ml of dry toluene were added thereto, and the mixture was added dropwise over 15 minutes while paying attention to the state of the reaction system, and then reacted as it was for 30 minutes.
Thereafter, the reaction was carried out under reflux for 3 hours. After the reaction was completed, the reaction system was sufficiently cooled, and the white precipitate of the precipitated pyridinium salt was filtered by suction. When the filtrate was collected and the solvent was distilled off under reduced pressure by an evaporator, 57.2 g (yield: 99%) of white crystals was precipitated. This was recrystallized from acetic anhydride to obtain 16.3 g of the target compound represented by the following structural formula.
下記式 実施例1 1リットルの4口フラストに、3方コック、ディンス
ターク蒸留器、ジムロート還流冷却器、滴下ロート、シ
ーラムキャップを取り付けた。反応器を減圧下に乾燥さ
せ、充分に窒素置換した後、下記式 で示されるジアミンを3.54g(10.0mmol)、乾燥ジメチ
ルホルムアミド(以下DMFという。)30mlを反応系に仕
込み氷冷した。The following formula Example 1 A three-way cock, a Din Stark still, a Dimroth reflux condenser, a dropping funnel, and a seam cap were attached to a 1-liter four-port frust. After drying the reactor under reduced pressure and sufficiently purging with nitrogen, the following formula The reaction system was charged with 3.54 g (10.0 mmol) of the diamine represented by the formula and 30 ml of dry dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), and cooled with ice.
次に、参考例1で得られた下記式 で示される酸二無水物を11.53g(20.0mmol)DMFに溶解
させたものを、滴下ロートに入れ発熱に注意しながら反
応系に添加した。0℃で1時間、60℃で0.5時間反応さ
せた後、下記式 で示されるエチニルアニリン2.34g(20mmol)をDMFに溶
解して反応系に加えた。60℃0.5時間反応させた後、ト
ルエン200mlを加えた。Next, the following formula obtained in Reference Example 1 Was dissolved in 11.53 g (20.0 mmol) of DMF in a dropping funnel and added to the reaction system while paying attention to heat generation. After reacting at 0 ° C for 1 hour and at 60 ° C for 0.5 hour, the following formula Was dissolved in DMF and added to the reaction system. After the reaction at 60 ° C. for 0.5 hour, 200 ml of toluene was added.
還流下に45時間反応させ、トルエン共沸下に0.6ml
(理論値:0.72ml)の水を留去した。反応後はメタノー
ル500ml中に反応溶液を投入し、イミドオリゴマーを沈
澱させた。沈澱したオリゴマーは減圧下に濾過し、真空
中、80℃で48時間乾燥したところ、14.88g(収率:89.1
%)の淡黄色パウダーとして得られた。Reaction under reflux for 45 hours, 0.6 ml under azeotropic toluene
(Theoretical value: 0.72 ml) was distilled off. After the reaction, the reaction solution was poured into 500 ml of methanol to precipitate an imide oligomer. The precipitated oligomer was filtered under reduced pressure and dried in vacuum at 80 ° C. for 48 hours to give 14.88 g (yield: 89.1
%) As a pale yellow powder.
得られたエステルイミドオリゴマー165gを、DMF200g
に溶解(樹脂濃度;45重量%/DMF)した。20×20cmのガ
ラス布(WEA−18K105F117;(株)日東紡製)16枚に含浸
させた。熱風循環乾燥炉内で、120℃・90分乾燥させ、
樹脂濃度38.9重量%(ガラス布1枚当たり)、残溶剤濃
度4.2%のプリプレグを作成した。165 g of the obtained ester imide oligomer, 200 g of DMF
(Resin concentration; 45% by weight / DMF). Sixteen 20 × 20 cm glass cloths (WEA-18K105F117; manufactured by Nitto Boseki) were impregnated. In a hot air circulating drying oven, dry at 120 ° C for 90 minutes,
A prepreg having a resin concentration of 38.9% by weight (per glass cloth) and a residual solvent concentration of 4.2% was prepared.
こうして作成したプリプレグ8枚を電解銅箔(35μ
m、3EC;(株)三井金属工業製)2枚に挟みこみ180℃
・2時間・25kg/cm2の条件下で加熱・加圧一体成形して
板厚13mmの両面銅張積層板を得た。Eight pieces of prepreg thus prepared were subjected to electrolytic copper foil (35μ).
m, 3EC; manufactured by Mitsui Kinzoku Kogyo Co., Ltd.)
Heat and pressure were integrally molded under the conditions of 2 hours and 25 kg / cm 2 to obtain a 13 mm thick double-sided copper-clad laminate.
実施例2 芳香族酸二無水物 11.53g(20mmol) 芳香族ジアミン 2.92g(10mmol) 芳香族1級アミン 2.34g(20mmol) を用いて、実施例1と同様の条件で反応を行い、エステ
ルイミドオリゴマーを14.50g(収率:90.2%)得た。Example 2 11.53 g (20 mmol) of aromatic acid dianhydride 2.92 g (10 mmol) of aromatic diamine 2.34 g (20 mmol) of aromatic primary amine Was used to carry out a reaction under the same conditions as in Example 1 to obtain 14.50 g of an esterimide oligomer (yield: 90.2%).
上記エステルイミドオリゴマーを165g用いて実施例1
と同様の条件で板厚9mmの両面銅張積層板を得た。Example 1 using 165 g of the above esterimide oligomer
Under the same conditions as above, a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 9 mm was obtained.
実施例3 芳香族酸二無水物(A) 5.77g(10mmol) 芳香族酸二無水物(B)4.44g(10mmol) 芳香族ジアミン 2.92g(10mmol) 芳香族1級アミン 2.34g(20mmol) を用いて、実施例1と同様の条件で反応を行い、エステ
ルイミドオリゴマーを13.16g(収率:89.2%)得た。Example 3 Aromatic acid dianhydride (A) 5.77 g (10 mmol) 4.44 g (10 mmol) of aromatic dianhydride (B) 2.92 g (10 mmol) of aromatic diamine 2.34 g (20 mmol) of aromatic primary amine Was used to carry out a reaction under the same conditions as in Example 1 to obtain 13.16 g (yield: 89.2%) of an ester imide oligomer.
上記エステルイミドオリゴマーを165gを用いて実施例
1と同様の条件で板厚9mmの両面銅張積層板を得た。Using 165 g of the esterimide oligomer, a 9 mm-thick double-sided copper-clad laminate was obtained under the same conditions as in Example 1.
実施例4 芳香族酸二無水物 11.53g(20mmol) 芳香族ジアミン 4.32g(10mmol) 芳香族1級アミン 3.34g(20mmol) を用いて、実施例1と同様の反応条件で行い、エステル
イミドオリゴマーを16.93g(収率:91.6%)得た。Example 4 11.53 g (20 mmol) of aromatic dianhydride 4.32 g (10 mmol) of aromatic diamine Aromatic primary amine 3.34g (20mmol) Was performed under the same reaction conditions as in Example 1 to obtain 16.93 g of an esterimide oligomer (yield: 91.6%).
上記エステルイミドオリゴマーを165g用いて実施例1
と同様の条件で板厚9mmの両面銅張積層板を得た。Example 1 using 165 g of the above esterimide oligomer
Under the same conditions as above, a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 9 mm was obtained.
実施例5 芳香族酸二無水物(A)5.77g(10mmol) 芳香族酸二無水物(B)3.52g(10mmol) 芳香族ジアミン 4.32g(10mmol) 芳香族1級アミン 3.34g(20mmol) を用いて、実施例1と同様の条件で反応を行い、エステ
ルイミドオリゴマーを15.05g(収率:92.7%)得た。Example 5 Aromatic acid dianhydride (A) 5.77 g (10 mmol) 3.52 g (10 mmol) of aromatic dianhydride (B) 4.32 g (10 mmol) of aromatic diamine Aromatic primary amine 3.34g (20mmol) Was used to carry out a reaction under the same conditions as in Example 1 to obtain 15.05 g of an esterimide oligomer (yield: 92.7%).
上記エステルイミドオリゴマー165gを用いて実施例1
と同様の条件で板厚9mmの両面銅張積層板を得た。Example 1 using 165 g of the above esterimide oligomer
Under the same conditions as above, a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 9 mm was obtained.
比較例1 市販のイミドオリゴマー165gを、DMF200gに溶解(樹
脂濃度;45重量%/DMF)した。20×20cmのガラス布(WEA
−18K105F117;(株)日東紡製)16枚に含浸させた。熱
風乾燥炉内で、120℃・80分乾燥させ、樹脂濃度38.9重
量%(ガラス布1枚当たり)、残溶剤濃度4.1%のプリ
プレグを作成した。Comparative Example 1 165 g of a commercially available imide oligomer was dissolved in 200 g of DMF (resin concentration; 45% by weight / DMF). 20 × 20cm glass cloth (WEA
−18K105F117; Nittobo Co., Ltd.). It was dried in a hot air drying oven at 120 ° C. for 80 minutes to prepare a prepreg having a resin concentration of 38.9% by weight (per glass cloth) and a residual solvent concentration of 4.1%.
こうして作成したプリプレグ8枚を電解銅箔(35μ
m、3EC;(株)三井金属工業製)2枚に挟みこみ220℃
・2時間・25kg/cm2の条件下で加熱・加圧一体成形して
板厚13mmの両面銅張積層板を得た。Eight pieces of prepreg thus prepared were subjected to electrolytic copper foil (35μ).
m, 3EC; manufactured by Mitsui Kinzoku Kogyo Co., Ltd.)
Heat and pressure were integrally molded under the conditions of 2 hours and 25 kg / cm 2 to obtain a 13 mm thick double-sided copper-clad laminate.
上記実施例1〜5及び比較例1で得られた銅張積層板
の物性を第1表に示した。Table 1 shows the physical properties of the copper-clad laminates obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1.
〔発明の効果〕 本発明の耐熱積層材用化合物は、耐湿性が高く保存安
定性に優れた耐熱積層板用プリプレグの製造を可能と
し、更に該プリプレグを用いて工業的価値の高い、耐湿
性及び耐熱性に優れた両面銅張積層板等の積層板の製造
を可能とするもので、その有用性は極めて大である。 [Effect of the Invention] The compound for heat-resistant laminates of the present invention enables the production of prepregs for heat-resistant laminates having high moisture resistance and excellent storage stability. It is capable of producing a laminate such as a double-sided copper-clad laminate having excellent heat resistance, and its usefulness is extremely large.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 179/08 C09D 179/08 Z // C07D 209/48 H05K 1/03 630C H05K 1/03 630 630H C07D 209/48 Z B29K 101:10 105:06 C08L 79:08 (56)参考文献 米国特許4649189(US,A) J.Macromol.Sci.−C hem.,A28(7)(1991),pp. 633−640 Acta Polymerica,42 (2−3)(1991),pp.125−128 Revue Roumaine de Chimie,34(7)(1989),p p.1467−1472 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 73/06 - 73/22 C08L 79/04 - 79/08 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C09D 179/08 C09D 179/08 Z // C07D 209/48 H05K 1/03 630C H05K 1/03 630 630H C07D 209/48 Z B29K 101: 10 105: 06 C08L 79:08 (56) Reference US Pat. No. 4,649,189 (US, A). Macromol. Sci. -C hem. , A28 (7) (1991), pp. 633-640 Acta Polymerica, 42 (2-3) (1991), pp. 125-128 Revue Roumaine de Chimie, 34 (7) (1989), pp. 1467-1472 (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C08G 73/06-73/22 C08L 79/04-79/08
Claims (8)
あり、Ar4は熱架橋反応性を有する有機基であり、Ar1,A
r2,Ar3,Ar4はそれぞれ同種であってもよく、異種であっ
てもよい。また、X,Yは共重合比であり、Xは1〜30、
Yは0〜30の正の整数を表す。)で示される化合物を主
成分とすることを特徴とする耐熱積層用化合物。1. The general formula (1) (Wherein, Ar 1 and Ar 3 are divalent organic groups, Ar 2 is a tetravalent organic group, Ar 4 is an organic group having thermal crosslinking reactivity, and Ar 1 and A
r 2 , Ar 3 and Ar 4 may be the same or different. X and Y are copolymerization ratios, X is 1 to 30,
Y represents a positive integer of 0 to 30. A compound for heat-resistant lamination, comprising the compound represented by the formula (1) as a main component.
1種である請求項1記載の化合物。 2. The compound according to claim 1, wherein Ar 1 is at least one selected from the following groups.
1種である請求項1記載の化合物。 3. The compound according to claim 1, wherein Ar 2 is at least one selected from the following groups.
1種である請求項1記載の化合物。 4. The compound according to claim 1, wherein Ar 3 is at least one selected from the following groups.
1種である請求項1記載の化合物。 5. The compound according to claim 1, wherein Ar 4 is at least one selected from the following groups.
に溶解してワニス状樹脂組成物を調整し、次いで補強材
を該ワニス樹脂組成物で塗布・含浸させたのち所定の残
溶剤濃度となるように乾燥してプリプレグを作成し、該
プリプレグの1枚又は2枚以上を2枚の銅箔の間に挟
み、加熱加圧して一体成形することを特徴とする両面銅
箔積層板の製造方法。6. A varnish-like resin composition is prepared by dissolving the compound according to claim 1 in an organic solvent, and then a reinforcing material is applied and impregnated with the varnish resin composition, and then a predetermined residual solvent is prepared. A double-sided copper foil laminate, wherein one or more of the prepregs are sandwiched between two copper foils, and heated and pressed to be integrally formed. Manufacturing method.
である請求項6記載の製造方法。7. A varnish-like resin composition having a concentration of 5 to 75% by weight.
7. The method according to claim 6, wherein
〜20重量%である請求項6又は7記載の製造方法。8. A prepreg having a residual solvent concentration of 1 to resin.
The method according to claim 6 or 7, wherein the amount is from 20 to 20% by weight.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2324137A JP2983616B2 (en) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | Compound for heat-resistant laminate and method for producing laminate using the compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2324137A JP2983616B2 (en) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | Compound for heat-resistant laminate and method for producing laminate using the compound |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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