JP2001200157A - Thermosetting resin composition - Google Patents

Thermosetting resin composition

Info

Publication number
JP2001200157A
JP2001200157A JP2000006656A JP2000006656A JP2001200157A JP 2001200157 A JP2001200157 A JP 2001200157A JP 2000006656 A JP2000006656 A JP 2000006656A JP 2000006656 A JP2000006656 A JP 2000006656A JP 2001200157 A JP2001200157 A JP 2001200157A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
thermosetting resin
mol
component
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000006656A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Yamada
敏明 山田
Hajime Ban
一 伴
Hibiki Ikeda
響 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP2000006656A priority Critical patent/JP2001200157A/en
Publication of JP2001200157A publication Critical patent/JP2001200157A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition having a low dielectric constant. SOLUTION: This thermosetting resin composition is prepared by compounding (1) 100 pts.wt. of a polyfunctional cyanic ester compound or its prepolymer with both of (2) 0.1-1,000 pts.wt. of a polyimide having an imide ring closure rate of 95-100 mol% and (3) 0.005-5 pts.wt. of a heat curing catalyst as essential components.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、
低誘電率で耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性に優れ、プリ
ント配線板用基盤(積層板及び金属張積層板)及び樹脂
付き金属箔に使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION The thermosetting resin composition of the present invention comprises:
It has a low dielectric constant and excellent heat resistance, electrical insulation and chemical resistance, and is used for printed wiring board substrates (laminates and metal-clad laminates) and metal foil with resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドを含む樹脂組成物の例は、特
開昭55−66927号広報及び特開昭56−9082
4号広報に記載されている。
2. Description of the Related Art Examples of resin compositions containing polyimide are disclosed in JP-A-55-66927 and JP-A-56-9082.
No. 4 public information.

【0003】しかし、上記樹脂組成物は、誘電率が高
く、低誘電率用途等の使用に耐え得るものではなかっ
た。
However, the above resin composition has a high dielectric constant and cannot be used for low dielectric constant applications.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐熱性、吸
湿及び耐プレッシャークッカー処理後の電気絶縁性、耐
薬品性に優れた低誘電率熱硬化性樹脂組成物であり、使
用に際して、耐熱性、電気特性、耐薬品性、操作性を保
持したまま、従来の熱硬化性樹脂組成物が問題としてき
た誘電率を大幅に低減するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is a low dielectric constant thermosetting resin composition having excellent heat resistance, moisture absorption and electric insulation after pressure cooker treatment, and excellent chemical resistance. This is to greatly reduce the dielectric constant, which has been a problem with conventional thermosetting resin compositions, while maintaining the properties, electrical properties, chemical resistance, and operability.

【0005】本発明は、上記した課題を解決するために
鋭意研究を続けてきた結果、多官能性シアン酸エステル
化合物、イミド環閉環率が95mol%以上100mo
l%以下であるポリイミド、熱硬化触媒を必須成分とす
る樹脂組成物を使用する事により、低誘電率であり、耐
熱性、吸湿及び耐プレッシャークッカー処理後の電気絶
縁性、耐薬品性、操作性等に優れた熱硬化性樹脂組成物
を得ることが出来ることを見出し、発明を完成すること
に至った。
The present invention has been intensively studied to solve the above-mentioned problems, and as a result, it has been found that a polyfunctional cyanate ester compound has an imide ring closure ratio of 95 mol% or more and 100 mol or more.
By using a resin composition containing polyimide and a thermosetting catalyst of less than 1% as an essential component, it has a low dielectric constant, heat resistance, moisture absorption and electric insulation after pressure cooker treatment, chemical resistance, operation. It has been found that a thermosetting resin composition having excellent properties and the like can be obtained, and the present invention has been completed.

【0006】即ち、本発明は、(1)多官能性シアン酸
エステル化合物または該シアン酸エステルプレポリマー
100重量部に対し、(2)イミド環閉環率が95mo
l%以上100mol%以下であるポリイミド0.1〜
1000重量部、及び(3)熱硬化触媒0.005〜5
重量部を必須成分として添加してなる熱硬化性樹脂組成
物である。
That is, the present invention relates to (1) a polyfunctional cyanate ester compound or 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer, and (2) an imide ring closure rate of 95 mol.
1% or more and 100 mol% or less of polyimide 0.1 to
1000 parts by weight, and (3) thermosetting catalyst 0.005 to 5
It is a thermosetting resin composition in which parts by weight are added as an essential component.

【0007】以下、本発明の構成を説明する。まず、本
発明の(1)多官能性シアン酸エステル化合物とは、分
子中にシアナト基を通常2〜5個有する芳香族性の有機
化合物であって、該シアナト基は、該芳香族性の有機化
合物の芳香環に直接結合したものである。具体的に例示
すると、1,3-または1,4−ジシアナトベンゼン、1,3,5−
トリシアナトベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-
または2,7-ジシアナトナフタレン、1,3,6-トリシアナト
ナフタレン、4,4-ジシアナトビフェニル、ビス(4-ジシ
アナトフェニル)メタン、2,2-ビス(4-シアナトフェニ
ル)プロパン、ビス(4-シアナトフェニル)エーテル、
ビス(4-シアナトフェニル)チオエーテル、ビス(4-シ
アナトフェニル)スルフォン、トリス(4-シアナトフェ
ニル)ホスファイト、トリス(4-シアナトフェニル)ホ
スフェート、及びノボラックとハロゲン化シアンとの反
応により得られるシアネート類等である。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be described. First, the (1) polyfunctional cyanate compound of the present invention is an aromatic organic compound having usually 2 to 5 cyanato groups in a molecule, and the cyanato group is an aromatic organic compound. It is directly bonded to the aromatic ring of an organic compound. Specific examples include 1,3- or 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-
Tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2,6-
Or 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4-dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane , Bis (4-cyanatophenyl) ether,
Reaction of bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cyanatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and novolak with cyanogen halide And the like.

【0008】これらの他に、特公昭41−4928、同
43−18468、同44−4791、同45−117
12、同46−1112、同47−26853及び特開
昭51−63149等に記載された多官能性シアン酸エ
ステル化合物も用いられる。これらは、単独もしくは2
種以上組み合わせて使用される。これらの成分中には、
加水分解性のCl、Na等の不純含量が極めて少なく、本発
明の1成分として配合することによって全体の不純物量
は少なくなり、半導体周辺材料としては最適である。
In addition to these, Japanese Patent Publication Nos. 41-4928, 43-18468, 44-4791, and 45-117
12, 46-1112, 47-26853, and JP-A-51-63149. These can be used alone or 2
Used in combination of more than one species. Among these ingredients,
The impurity content of hydrolyzable Cl, Na, and the like is extremely small, and when incorporated as a component of the present invention, the total amount of impurities is reduced, making the semiconductor peripheral material optimal.

【0009】また、これらの多官能性シアン酸エステル
化合物のシアナト基の三量化によって形成されるトリア
ジン環を有する分子量200〜6000のプレポリマー
が使用される。このプレポリマーは、上記多官能性シア
ン酸エステルモノマーを例えば鉱酸、ルイス酸;ナトリ
ウムアルコラート、第三級アミン等の塩基;炭酸ナトリ
ウム等の塩類を触媒にして重合させることにより得られ
る。このプレポリマー中には、一部モノマーが含まれて
おりモノマーとポリマーとの混合物の形態をしており、
この様な原料は本発明の用途に好適に使用される。
Further, a prepolymer having a molecular weight of 200 to 6000 having a triazine ring formed by trimerization of a cyanato group of these polyfunctional cyanate compounds is used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer with a catalyst such as a mineral acid, a Lewis acid; a base such as sodium alcoholate and tertiary amine; and a salt such as sodium carbonate. This prepolymer contains some monomers and is in the form of a mixture of monomers and polymers,
Such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention.

【0010】本発明に使用する(2)ポリイミドは、イ
ミド環閉環率が95mol%以上100mol%以下で
あり、以下、単に「成分(2)」という。成分(2)
は、イミド基とアミド酸基の合計に対するイミド基の比
率が95mol%以上100mol%以下、好ましくは
97mol%以上100mol%以下、更に好ましくは
99mol%以上100mol%以下である有機化合物
である。イミド環閉環率は、赤外分光法を用いて分析し
た。
The polyimide (2) used in the present invention has an imide ring ring closure of 95 mol% or more and 100 mol% or less, and is hereinafter simply referred to as “component (2)”. Ingredient (2)
Is an organic compound in which the ratio of the imide group to the total of the imide group and the amic acid group is 95 mol% to 100 mol%, preferably 97 mol% to 100 mol%, more preferably 99 mol% to 100 mol%. The imide ring closure rate was analyzed using infrared spectroscopy.

【0011】成分(2)の重合は、酸無水物とジアミン
化合物を原料に用いるジアミン法、または酸無水物とジ
イソシアネート化合物を原料に用いるイソシアネート法
など、公知のポリイミドの重合法により行うことができ
るが、イソシアネート重合法が、容易にイミド環閉環率
を95mol%以上にできるため、好ましい。
The polymerization of the component (2) can be carried out by a known polyimide polymerization method such as a diamine method using an acid anhydride and a diamine compound as raw materials, or an isocyanate method using an acid anhydride and a diisocyanate compound as raw materials. However, the isocyanate polymerization method is preferable because the imide ring closure ratio can be easily increased to 95 mol% or more.

【0012】成分(2)は、テトラカルボン酸二無水物
及びジイソシアネート化合物を反応させ、製造する。テ
トラカルボン酸二無水物は、下記一般式で表される化合
物である。
The component (2) is produced by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diisocyanate compound. Tetracarboxylic dianhydride is a compound represented by the following general formula.

【化1】 (式中、Ar1は、4価の芳香族基または脂肪族基を示
す。)
Embedded image (In the formula, Ar 1 represents a tetravalent aromatic group or an aliphatic group.)

【0013】芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例
としては、以下の物が例示されるが、それに限定される
ものではない。また、2種以上の化合物を混合して使用
する事もできる。
Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include the following, but are not limited thereto. Further, two or more compounds can be used in combination.

【化2】 Embedded image

【0014】成分(2)を製造するために用いられるジ
イソシアネート化合物とは、下記一般式で示される化合
物である。
The diisocyanate compound used for producing the component (2) is a compound represented by the following general formula.

【化3】O=C=N−R2−N=C=O (式中、R2は2価の芳香族基または脂肪族基を表
す。)
Embedded image O = C = N—R 2 —N = C = O (wherein R 2 represents a divalent aromatic group or an aliphatic group)

【0015】その具体例としては、以下の物が例示され
るが、それに限定されるものではない。また、2種以上
の化合物を混合して用いる事もできる。
Specific examples thereof include the following, but are not limited thereto. In addition, two or more compounds can be used as a mixture.

【化4】 Embedded image

【化5】 Embedded image

【0016】成分(2)のイミド環閉環率が95mol
%を下回ると、樹脂組成物の誘電率が上昇するため、好
ましくない。成分(2)の添加量は0.1〜1000重
量部、好ましくは5〜500重量部である。
The imide ring closure rate of the component (2) is 95 mol.
% Is not preferable because the dielectric constant of the resin composition increases. Component (2) is added in an amount of 0.1 to 1000 parts by weight, preferably 5 to 500 parts by weight.

【0017】本発明に使用する(3)熱硬化触媒とは、
(1)成分のシアナト基の反応を促進するために主に用
いる。この触媒としては、例えば、オクチル酸亜鉛、オ
クチル酸錫、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト等の
有機酸金属塩が例示できる。使用量は、0.005〜5
重量部、好ましくは、0.01〜3重量部である。
The (3) thermosetting catalyst used in the present invention is:
It is mainly used to promote the reaction of the cyanato group of the component (1). Examples of the catalyst include organic acid metal salts such as zinc octylate, tin octylate, zinc naphthenate, and cobalt naphthenate. The amount used is 0.005-5
Parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight.

【0018】上記成分を必須成分とする感光性熱硬化型
樹脂組成物には、組成物本来の特性が損なわれない範囲
で所望に応じて種々の添加剤を配合することが出来る。
これらの添加剤としては、多官能の液状あるいは固形エ
ポキシ樹脂;多官能性マレイミド類;ポリイミド類;不
飽和ポリエステル、(メタ)アクリレート等の重合性二
重結合含有モノマー類及びそのプレポリマー類;ポリブ
タジエン、エポキシ化ブタジエン、マレイン化ブタジエ
ン、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリクロ
ロプレン、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプレン
ゴム、フッ素ゴム等の低分子量から高分子量のゴム
類、;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポ
リ−4−メチルペンテン、ポリスチレン、AS樹脂、ABS
樹脂、ポリエチレン−ポリプロピレン共重合体;ポリカ
ーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリスルフォ
ン、ポリエステル類、ポリフェニレンサルファイト等の
高分子ポリマー及びそれらの低分子プレポリマーもしく
は、オリゴマー;ポリウレタン等が例示され、適宜使用
される。
Various additives can be added to the photosensitive thermosetting resin composition containing the above-mentioned components as required as long as the inherent properties of the composition are not impaired.
Examples of these additives include polyfunctional liquid or solid epoxy resins; polyfunctional maleimides; polyimides; polymerizable double bond-containing monomers such as unsaturated polyesters and (meth) acrylates, and prepolymers thereof; polybutadiene. Low molecular weight to high molecular weight rubbers such as epoxidized butadiene, maleated butadiene, butadiene-acrylonitrile copolymer, polychloroprene, butadiene-styrene copolymer, isoprene rubber, fluorine rubber, etc .; polyethylene, polypropylene, polybutene, poly -4-methylpentene, polystyrene, AS resin, ABS
Resins, polyethylene-polypropylene copolymers; high-molecular polymers such as polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyesters, and polyphenylene sulfite; and low-molecular prepolymers or oligomers thereof; polyurethane; and the like are used as appropriate.

【0019】また、その他公知の無機及び有機の充填
材、顔料、塗料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベ
リング剤、カップリング剤、難燃剤、光沢剤、重合禁止
剤、などの各種添加剤が、所望に応じて適宜組み合わせ
て用いることが出来る。本発明の感光性熱硬化型樹脂組
成物は、液状の無溶剤、溶剤に溶解させた溶液、あるい
は懸濁状態で分散させた溶液など何れの状態でも使用で
きる。溶剤は、一般に公知な有機溶媒が使用できる。
Other known inorganic and organic fillers, pigments, paints, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, coupling agents, flame retardants, brighteners, polymerization inhibitors, etc. The various additives described above can be used in an appropriate combination as required. The photosensitive thermosetting resin composition of the present invention can be used in any state such as a liquid non-solvent, a solution dissolved in a solvent, or a solution dispersed in a suspension. As the solvent, a generally known organic solvent can be used.

【0020】本発明の樹脂組成物を積層板や金属張積層
板とする場合は、本組成物をメチルエチルケトン、ジメ
チルホルムアミドなどの溶剤に溶解してワニスとし、公
知のガラスや石英の織布、不織布、ゾル−ゲル法による
合成石英繊維織布、アラミド繊維布や不織布等の基材に
含浸・乾燥してプリプレグを作り、これを重ねて積層成
形する方法、本発明の組成物を80〜200℃に加熱し
溶融し、これを補強基材に配置し冷却してプリプレグと
する方法が適宜使用される。また、本組成物の溶液を離
型性のシート又はフィルム上に塗布・乾燥して、離型シ
ート又はフィルム付きのフィルムとする方法、金属箔等
の表面に塗布・乾燥して樹脂付き金属箔等を製造する方
法等が挙げられる。
When the resin composition of the present invention is used as a laminate or a metal-clad laminate, the composition is dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone or dimethylformamide to form a varnish, and a known glass or quartz woven or nonwoven fabric is used. A method of impregnating and drying a substrate such as a synthetic quartz fiber woven fabric, an aramid fiber cloth or a nonwoven fabric by a sol-gel method to form a prepreg, laminating and forming the prepreg, the composition of the present invention at 80 to 200 ° C. Then, a method is used in which the prepreg is heated and melted, placed on a reinforcing substrate, and cooled to form a prepreg. Further, a method of applying and drying a solution of the present composition on a release sheet or film to form a film with a release sheet or film, and applying and drying a surface of a metal foil or the like to form a metal foil with a resin And the like.

【0021】以上の方法による本発明組成物の硬化条件
は、通常、温度60〜250℃、好ましくは80℃〜2
00℃で、樹脂付き金属箔、シート又はフィルムの場合
は無圧下に、積層成形する場合は、0.1〜1000k
g/cm2、好ましくは3〜500kg/cm2で加圧す
ることによる。時間は、熱硬化触媒量によっても異なる
が一般には、30秒〜30時間、好ましくは、3分〜1
0時間である。乾燥には、加熱加圧成形機、熱風乾燥炉
等の一般の装置が使用できる。
The conditions for curing the composition of the present invention by the above method are usually 60 to 250 ° C, preferably 80 to 2 ° C.
At a temperature of 00 ° C., a metal foil with a resin, a sheet or a film under no pressure, and when laminating and molding, 0.1 to 1000 k
g / cm 2 , preferably 3 to 500 kg / cm 2 . The time varies depending on the amount of the thermosetting catalyst, but is generally 30 seconds to 30 hours, preferably 3 minutes to 1 hour.
0 hours. For drying, a general device such as a heating and pressing molding machine and a hot air drying furnace can be used.

【0022】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらの例によって限定されるものでは
ない。 実施例1〜3及び比較例1〜3 下記に記載した成分を適宜、表1に記載のように配合
し、本発明の感光性樹脂組成物、及び比較のための樹脂
組成物を調整した。なお、「部」は特に断らない限り重
量部をあらわす。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 The components described below were appropriately blended as shown in Table 1 to prepare a photosensitive resin composition of the present invention and a resin composition for comparison. In addition, “parts” means parts by weight unless otherwise specified.

【0023】・成分(a):多官能性シアン酸エステル
プレポリマーの合成 合成例1 2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン 10
0gを 150℃で溶融させ、攪拌しながら6時間反応
させ、固形のプレポリマー(成分a−1)を得た。 合成例2 1,4−ジシアナトベンゼン 100gを 140℃で溶
融させ、攪拌しながら2時間反応させ、粘稠なプレポリ
マー(成分a−2)を得た。
Component (a): Synthesis of polyfunctional cyanate ester prepolymer Synthesis Example 1 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane 10
0 g was melted at 150 ° C. and reacted for 6 hours with stirring to obtain a solid prepolymer (component a-1). Synthesis Example 2 100 g of 1,4-dicyanatobenzene was melted at 140 ° C. and reacted for 2 hours with stirring to obtain a viscous prepolymer (component a-2).

【0024】・成分(b):イミド環閉環率が95mo
l%以上100mol%以下であるポリイミドの合成 合成例1 N−メチルピロリドン100mlにピロメリット酸二無
水物21.8g、イソホロンジイソシアネート22.2
gを、シリカゲルを詰めた曲管を繋いだナスフラスコに
仕込み、90℃で1時間、さらに160℃で3時間加熱
攪拌した。常温まで冷却後、反応溶液をメタノールに投
入し、攪拌したところ、褐色沈殿を得た。吸引濾過及び
メタノール洗浄を行い、固体のポリイミド(成分b−
1)35.2gを得た。赤外分光法を用いてイミド環閉
環率を測定したところ、99.9%であった。イミド閉
環率の算出には、FTIR-5300(日本分光(株)製)を使用
し、KBr法により作成したサンプルのスペクトル(イ
ミド環のC=O伸縮振動による吸収:1780cm- 1、及びアミ
ド基のC=O伸縮振動による吸収:1670cm-1)を使用し
た。前述のスペクトルの吸光度を元に検量線を作成し、
イミド閉環率を計算した。 合成例2 ピロメリット酸二無水物に代えて、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物32.2gを用い、合成例1と同
様に実施し、ポリイミド(成分b−2)45.6gを得
た。イミド環閉環率は99.9%であった。 比較例 比較として、既存のポリイミド(商品名:THERMI
D 600 ガルフオイル化学製)(成分b−3)を用
いた。イミド閉環率は43.3%であった。
Component (b): imide ring closure rate is 95 mol
Synthesis of polyimide with l% or more and 100 mol% or less Synthesis Example 1 N-methylpyrrolidone 100 ml
21.8 g of water, 22.2 g of isophorone diisocyanate
g into an eggplant flask connected to a curved tube packed with silica gel
Preparation, heating at 90 ° C for 1 hour, and further at 160 ° C for 3 hours
Stirred. After cooling to room temperature, pour the reaction solution into methanol.
Then, the mixture was stirred and a brown precipitate was obtained. Suction filtration and
After washing with methanol, solid polyimide (component b-
1) 35.2 g was obtained. Imide ring closure using infrared spectroscopy
When the ring ratio was measured, it was 99.9%. Imide closed
FTIR-5300 (manufactured by JASCO Corporation) is used to calculate the ring ratio
Then, the spectrum of the sample prepared by the KBr method (a)
Absorption by C = O stretching vibration of mid ring: 1780cm- 1, And Ami
Absorption by C = O stretching vibration of C-group: 1670cm-1Use
Was. Create a calibration curve based on the absorbance of the aforementioned spectrum,
The imide ring closure was calculated. Synthesis Example 2 Instead of pyromellitic dianhydride, benzophenone tet
As in Synthesis Example 1, using 32.2 g of lacarboxylic dianhydride.
To obtain 45.6 g of a polyimide (component b-2).
Was. The imide ring closure rate was 99.9%. Comparative Example As a comparison, an existing polyimide (trade name: THERMI)
D 600 Gulf Oil Chemical) (Component b-3)
Was. The imide ring closure was 43.3%.

【0025】・成分(c):熱硬化触媒 オクチル酸亜鉛(成分c−1)を使用した。また、上記
以外の添加成分として、エポキシ樹脂として、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(商品名:ESCN−22
0F、住友化学工業(株)製)(成分d−1)、及び溶
剤としてメチルエチルケトン(成分e−1)、ジメチル
ホルムアミド(e−2)を使用した。
Component (c): heat curing catalyst Zinc octylate (component c-1) was used. As an additional component other than the above, a cresol novolak type epoxy resin (trade name: ESCN-22) as an epoxy resin
0F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) (component d-1), and methyl ethyl ketone (component e-1) and dimethylformamide (e-2) as solvents.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】得られた樹脂組成物を厚み0.18mm、
203g/m2の平織Eガラスクロスに含浸し、140
℃で6分間加熱乾燥してBステージのプリプレグとし、
このプリプレグを4枚重ね両面に厚み12μmの電解銅
箔を重ね、温度200℃、圧力30kg/cm2で2時
間積層成形し、厚み0.65mmの銅張積層板を製造し
た。
The resulting resin composition was 0.18 mm thick.
Impregnated into a plain weave E glass cloth of 203 g / m 2 ,
Baked for 6 minutes at ℃ to make B-stage prepreg,
Four such prepregs were stacked, and an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm was stacked on both sides, and laminated and formed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 30 kg / cm 2 for 2 hours to produce a copper-clad laminate of 0.65 mm in thickness.

【0028】さらに、得られた銅張積層板の特性を以下
の方法により評価した。 誘電率及び誘電正接:変圧ブリッジ法にて1MHz、2
5℃に於ける値を測定した。 銅箔引剥し強度:試験片に1cm間隔に切断し、銅箔の
引き剥がし試験を行い、強度を測定した。 半田耐熱性:260℃の半田槽に10分間浸漬後、塗膜
の異常の有無を目視にて観察した。 ガラス転移温度:DSCにて測定した。
Further, the properties of the obtained copper-clad laminate were evaluated by the following methods. Dielectric constant and dielectric loss tangent: 1 MHz by the transformer bridge method, 2
The value at 5 ° C. was measured. Copper foil peeling strength: A test piece was cut at 1 cm intervals, a copper foil peeling test was performed, and the strength was measured. Solder heat resistance: After dipping in a solder bath at 260 ° C. for 10 minutes, the presence or absence of abnormality in the coating film was visually observed. Glass transition temperature: measured by DSC.

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】発明の効果 本発明の熱硬化性樹脂組成物は、低誘電率であり、耐熱
性、吸湿及び耐プレッシャークッカー処理後の電気絶縁
性、耐薬品性、操作性等に優れた樹脂組成物であり、プ
リント配線板用基盤(積層板及び金属張積層板)及び樹
脂付き金属箔等として使用するのに適している。
Effects of the Invention The thermosetting resin composition of the present invention has a low dielectric constant, and is excellent in heat insulation, electrical absorption after moisture absorption and pressure cooker treatment, chemical resistance, operability and the like. It is suitable for use as a substrate for printed wiring boards (laminates and metal-clad laminates), metal foil with resin, and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 響 茨城県つくば市和台22番地 三菱瓦斯化学 株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J002 CM02W CM04X EG047 ER006 EU186 EV046 EV216 EW046 EW066 GQ05  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Hibiki Ikeda 22nd Wadai, Tsukuba, Ibaraki Pref.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(1)多官能性シアン酸エステル化合物ま
たは該シアン酸エステルプレポリマー100重量部に対
し、(2)イミド環閉環率が95mol%以上100m
ol%以下であるポリイミド0.1〜1000重量部、
及び(3)熱硬化触媒0.005〜5重量部を必須成分
として添加してなる熱硬化性樹脂組成物。
(1) An imide ring closure rate of 95 mol% or more and 100 m / (100) parts by weight of (1) a polyfunctional cyanate compound or 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer.
0.1 to 1000 parts by weight of polyimide,
And (3) a thermosetting resin composition obtained by adding 0.005 to 5 parts by weight of a thermosetting catalyst as an essential component.
【請求項2】低誘電率を示す、請求項1記載の熱硬化性
樹脂組成物。
2. The thermosetting resin composition according to claim 1, which has a low dielectric constant.
JP2000006656A 2000-01-14 2000-01-14 Thermosetting resin composition Pending JP2001200157A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000006656A JP2001200157A (en) 2000-01-14 2000-01-14 Thermosetting resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000006656A JP2001200157A (en) 2000-01-14 2000-01-14 Thermosetting resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001200157A true JP2001200157A (en) 2001-07-24

Family

ID=18535152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000006656A Pending JP2001200157A (en) 2000-01-14 2000-01-14 Thermosetting resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001200157A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003076515A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-18 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition and laminates and circuit board substrates made by using the same
JP2004511587A (en) * 2000-09-28 2004-04-15 住友ベークライト株式会社 Low temperature bonding adhesive composition
WO2004094499A1 (en) * 2003-04-18 2004-11-04 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition, multilayer body using same, and circuit board
JP2011049332A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Panasonic Electric Works Co Ltd Resin sheet with metal foil and flexible printed wiring board

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004511587A (en) * 2000-09-28 2004-04-15 住友ベークライト株式会社 Low temperature bonding adhesive composition
WO2003076515A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-18 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition and laminates and circuit board substrates made by using the same
CN1309786C (en) * 2002-03-08 2007-04-11 钟渊化学工业株式会社 Thermosetting resin composition and laminates and circuit board substrates made by using same
KR100960174B1 (en) * 2002-03-08 2010-05-26 가부시키가이샤 가네카 Thermo-setting resin composition and lamination body and circuit board using the composition
WO2004094499A1 (en) * 2003-04-18 2004-11-04 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition, multilayer body using same, and circuit board
US7521511B2 (en) 2003-04-18 2009-04-21 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition, multilayer body using same, and circuit board
US8501874B2 (en) 2003-04-18 2013-08-06 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition, multilayer body using same, and circuit board
JP2011049332A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Panasonic Electric Works Co Ltd Resin sheet with metal foil and flexible printed wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6872081B2 (en) Polyamic acid resin, polyimide resin and resin composition containing these
CN108329676A (en) Resin composition, and prepreg, metal foil laminate and printed wiring board produced using the same
JP4918057B2 (en) Phosphorus-containing ester group-containing tetracarboxylic acid or dianhydride thereof and phosphorus-containing polyesterimide
WO2004094499A1 (en) Thermosetting resin composition, multilayer body using same, and circuit board
JPS6312898B2 (en)
US5434232A (en) Bisimide compositions
EP0456515B1 (en) Polyimides and thermosetting resin compositions containing the same
JP2001200157A (en) Thermosetting resin composition
WO2019230944A1 (en) Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board
US4296219A (en) Bismide-ether compounds, compositions thereof, and method of producing same
JP2776056B2 (en) Polyaminobismaleimide resin composition and method for producing copper-clad laminate using same
JP4749606B2 (en) Epoxy group-containing polyimide copolymer and cured product thereof
JPH07316294A (en) Polyimide copolymer and production thereof
KR0179655B1 (en) Imide prepolymer and cure products thereof
JP2002309086A (en) Tightly adhering resin composition
JP2880037B2 (en) Unsaturated dicarboxylic acid imide resin composition
JP3261062B2 (en) Resin varnish for printed wiring board and method for producing prepreg and metal-clad laminate using the same
JPS635423B2 (en)
US5302723A (en) Process for preparing flame retardant bisimide compositions
JP2983616B2 (en) Compound for heat-resistant laminate and method for producing laminate using the compound
JPS61218626A (en) Heat-resistant resin composition and production thereof
JPS6140322A (en) Production of curable polyaminobisimide resin
JPS60240729A (en) Curable resin composition
JP3026587B2 (en) Heat-resistant laminated material and method for producing the laminated material
JP2580935B2 (en) Manufacturing method of copper-clad laminate