JP3033327B2 - Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same

Info

Publication number
JP3033327B2
JP3033327B2 JP4049360A JP4936092A JP3033327B2 JP 3033327 B2 JP3033327 B2 JP 3033327B2 JP 4049360 A JP4049360 A JP 4049360A JP 4936092 A JP4936092 A JP 4936092A JP 3033327 B2 JP3033327 B2 JP 3033327B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
thermosetting resin
same
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4049360A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05247202A (en
Inventor
陽一 上田
茂樹 内藤
康博 遠藤
邦政 神尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP4049360A priority Critical patent/JP3033327B2/en
Priority to PCT/JP1992/001030 priority patent/WO1993012933A1/en
Priority to EP9292917861A priority patent/EP0577836A4/en
Priority to US08/066,099 priority patent/US5399715A/en
Publication of JPH05247202A publication Critical patent/JPH05247202A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3033327B2 publication Critical patent/JP3033327B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱硬化性樹脂組成物お
よびそれを用いる銅張り積層板に関するものであって、
更に詳しくは、低誘電率でありかつ耐熱性に優れる熱硬
化性樹脂組成物及びそれを用いる銅張り積層板に関す
る。
The present invention relates to a thermosetting resin composition and a copper-clad laminate using the same.
More specifically, the present invention relates to a thermosetting resin composition having a low dielectric constant and excellent heat resistance, and a copper-clad laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱硬化性樹脂はプリント配線板用マトリ
ックス樹脂として広く使用されているが、近年高速コン
ピュータ用高多層プリント配線板において半導体素子の
高速演算化に伴うプリント基板上の回路の高速応答性が
要求されつつある。プリント基板回路上の信号伝播速度
は回路を保持している絶縁材料の誘電率に依存し、誘電
率が低い材料ほど伝播速度が大きい。このような用途に
は、これまでポリイミド樹脂や耐熱性エポキシ樹脂が用
いられてきた。
2. Description of the Related Art Thermosetting resins are widely used as matrix resins for printed wiring boards. In recent years, high-speed response of circuits on printed circuit boards accompanying high-speed operation of semiconductor elements in high multilayer printed wiring boards for high-speed computers. Sex is being demanded. The signal propagation speed on a printed circuit board depends on the dielectric constant of an insulating material holding the circuit, and a material having a lower dielectric constant has a higher propagation speed. For such applications, polyimide resins and heat-resistant epoxy resins have been used so far.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが従来のポリイ
ミド樹脂や耐熱性エポキシ樹脂は耐熱性に優れるもの
の、樹脂単独の誘電率が3.4〜3.9と高いため、E
−ガラスクロスと組み合わせた積層板としての誘電率は
さらに高く4.5〜5.0となる。積層板としての誘電
率を4.0以下にするためにポリブタジエン等で変性す
る方法も提案されたが耐熱性が低下する欠点があり実用
化に至っていない。そこで耐熱性を損なわずに積層板と
しての誘電率が4.0以下であるような樹脂組成物が切
望されていた。
However, conventional polyimide resins and heat-resistant epoxy resins have excellent heat resistance, but the dielectric constant of the resin alone is as high as 3.4 to 3.9.
-The dielectric constant of the laminate in combination with the glass cloth is even higher, between 4.5 and 5.0. A method of modifying the laminate with polybutadiene or the like to reduce the dielectric constant of the laminate to 4.0 or less has also been proposed, but has a drawback of lowering heat resistance and has not been put to practical use. Therefore, a resin composition having a dielectric constant of 4.0 or less without losing heat resistance has been desired.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明者が鋭意検討を重ねた結果、特定のポリマレイ
ミド化合物を必須成分とする樹脂組成物が上記目的にか
なうことを見いだし本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of diligent studies conducted by the present inventors to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a resin composition containing a specific polymaleimide compound as an essential component fulfills the above-mentioned objects. Was completed.

【0005】すなわち本発明は一般式(1):That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (1):

【化3】 (式中、Pは、それぞれ独立に、炭素数1〜10のアル
キル基、アルキロキシ基またはアルキルチオ基、炭素数
6〜10のアリール基、アリーロキシ基またはアリール
チオ基、炭素数5〜10のシクロアルキル基、ハロゲン
原子、ニトロ基、水酸基あるいはメルカプト基を表し、
jは0以上4以下の整数値を示す。jが2以上4以下の
場合、Pは同一環内で同じであってもよいし異なってい
てもよい。Qはそれぞれ独立に、炭素数1〜10のアル
キル基、アルキロキシ基またはアルキルチオ基、炭素数
6〜10のアリール基、アリーロキシ基またはアリール
チオ基、ハロゲン原子、水酸基あるいはメルカプト基を
表し、kは0以上3以下の整数値を示す。kが2以上3
以下の場合、Qは同一環内で同じであってもよいし異な
っていてもよい。またXは、一般式(2):
Embedded image (Wherein P is independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group or an alkylthio group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group or an arylthio group, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms) , Represents a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group or a mercapto group,
j represents an integer value of 0 or more and 4 or less. When j is 2 or more and 4 or less, P may be the same or different in the same ring. Q independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group or an alkylthio group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group or an arylthio group, a halogen atom, a hydroxyl group or a mercapto group; Indicates an integer value of 3 or less. k is 2 or more and 3
In the following cases, Q may be the same or different in the same ring. X is a general formula (2):

【0006】[0006]

【化4】 (式中、Qおよびkは前記と同様のものを示し、nは平
均繰返し単位数であり、0.5以上20以下の数値を示
す。)で表される構造を主たる構造として有する。)で
表されるポリマレイミド化合物(A)及び該マレイミド
化合物と反応して三次元架橋を生ずる反応成分(B)と
からなる熱硬化性樹脂組成物並びに該熱硬化性樹脂組成
物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸、乾燥して得られ
るプリプレグと銅箔とを重ね合わせ加熱積層成形してな
る銅張り積層板に関する。
Embedded image (Wherein, Q and k are the same as those described above, n is the average number of repeating units, and is a numerical value of 0.5 or more and 20 or less). A) a thermosetting resin composition comprising a polymaleimide compound (A) represented by the formula (I) and a reaction component (B) which reacts with the maleimide compound to form three-dimensional crosslinking; The present invention relates to a copper-clad laminate obtained by laminating a prepreg obtained by dissolving a base material in a molten state, drying the prepreg and a copper foil, and laminating and heating.

【0007】次に本発明において用いられるポリマレイ
ミド化合物の製造方法について説明する。一般式
(3):
Next, a method for producing the polymaleimide compound used in the present invention will be described. General formula (3):

【0008】[0008]

【化5】 (但し、Yはそれぞれ独立にEmbedded image (However, each Y is independently

【0009】[0009]

【化6】 よりなる群から選ばれる一価の官能基を示しており、2
つのYの少なくとも一方のYのオルト位が水素原子で、
Q及びkは前記と同様のものを示す。)で表される化合
物と、一般式(4):
Embedded image A monovalent functional group selected from the group consisting of
The ortho position of at least one of the two Ys is a hydrogen atom,
Q and k are the same as described above. And a compound represented by the general formula (4):

【0010】[0010]

【化7】 (但し、アミノ基のオルト位、パラ位のうち、少なくと
も1つは水素原子であって、P及びjはそれぞれ前記と
同様のものを示す。)で表されるアニリンまたはその誘
導体とを酸触媒存在下に反応させることにより、一般式
(5)で示す中間体ポリアミノオリゴマーを得る。
Embedded image (However, at least one of the ortho and para positions of the amino group is a hydrogen atom, and P and j are the same as those described above). By reacting in the presence, an intermediate polyamino oligomer represented by the general formula (5) is obtained.

【0011】[0011]

【化8】 (式中、P、Q、j、kおよびXは前記と同じものを表
す。)
Embedded image (In the formula, P, Q, j, k and X represent the same as described above.)

【0012】一般式(5)で表されるポリアミノオリゴ
マーにおいて、Xは前記一般式(2)の構造を示すが、
前記一般式(4)で表されるアニリンまたはその誘導体
中、jは3以下で、かつアミノ基のオルト位とパラ位の
うち少なくとも2つが水素原子である場合には、一般式
(6)で表される構造
In the polyamino oligomer represented by the general formula (5), X represents the structure of the general formula (2),
In the aniline or a derivative thereof represented by the general formula (4), when j is 3 or less and at least two of the ortho and para positions of the amino group are hydrogen atoms, the general formula (6) Represented structure

【0013】[0013]

【化9】 (但し、P、Q、jおよびkは前記と同じである。mは
繰り返し単位数であり1以上20以下の整数値を示
す。)もXの構造中に含まれることがある。
Embedded image (However, P, Q, j and k are the same as described above. M is the number of repeating units and represents an integer of 1 or more and 20 or less.).

【0014】本発明で用いられるポリマレイミド化合物
の特徴である一般式(2)の構造において、平均繰り返
し単位数nは、低い融点(低軟化点)で、かつ溶融粘度
が低く操作性に優れたものとするため、平均値として
0.5以上20以下、好ましくは0.5以上10以下で
ある。nは0.5未満であれば高融点物質の含有量が多
すぎて不都合であり、20を越えると官能基密度が低下
し耐熱性が劣るようになる。
In the structure of the general formula (2), which is a feature of the polymaleimide compound used in the present invention, the average number of repeating units n is low at the melting point (low softening point), low in melt viscosity and excellent in operability. Therefore, the average value is 0.5 or more and 20 or less, preferably 0.5 or more and 10 or less. If n is less than 0.5, the content of the high-melting substance is too large, which is inconvenient. If n exceeds 20, the functional group density decreases and heat resistance deteriorates.

【0015】本発明において用いる前記一般式(3)で
表される化合物(化合物(A)とする)は、特に限定さ
れないが、典型的には、p−及びm−ジイソプロペニル
ベンゼン、p−及びm−ビス(α−ヒドロキシイソプロ
ピル)ベンゼン、1−(α−ヒドロキシイソプロピル)
−3−イソプロペニルベンゼンあるいはこれらの混合物
を用いる。またこれらの化合物の核アルキル基置換体、
例えば、ジイソプロペニルトルエン及びビス(α−ヒド
ロキシイソプロピル)トルエン等も用いることができ、
さらに核ハロゲン置換体、例えば、クロロジイソプロペ
ニルベンゼン及びクロロビス(α−ヒドロキシイソプロ
ピル)ベンゼン等も用いることが可能である。
The compound represented by formula (3) (compound (A)) used in the present invention is not particularly limited, but is typically p- or m-diisopropenylbenzene, p- And m-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 1- (α-hydroxyisopropyl)
-3-Isopropenylbenzene or a mixture thereof is used. Also, a substituted alkyl group of these compounds,
For example, diisopropenyltoluene and bis (α-hydroxyisopropyl) toluene can also be used,
Further, it is also possible to use a halogen-substituted product such as chlorodiisopropenylbenzene and chlorobis (α-hydroxyisopropyl) benzene.

【0016】その他、具体的には次のような化合物を例
示することができる。2−クロロ−1,4−ジイソプロ
ペニルベンゼン、2−クロロ−1,4−ビス(α−ヒド
ロキシイソプロピル)ベンゼン、2−ブロモ−1,4−
ジイソプロペニルベンゼン、2−ブロモ−1,4−ビス
(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、2−ブロモ
−1,3−ジイソプロペニルベンゼン、2−ブロモ−
1,3−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼ
ン、4−ブロモ−1,3−ジイソプロピルベンゼン、4
−ブロモ−1,3−ビス(α−ヒドロキシイソプロピ
ル)ベンゼン、5−ブロモ−1,3−ジイソプロペニル
ベンゼン、5−ブロモ−1,3−ビス(α−ヒドロキシ
イソプロピル)ベンゼン、2−メトキシ−1,4−ジイ
ソプロペニルベンゼン、2−メトキシ−1,4−ビス
(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、5−エトキ
シ−1,3−ジイソプロペニルベンゼン、5−エトキシ
−1,3−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼ
ン、2−フェノキシ−1,4−ジイソプロペニルベンゼ
ン、2−フェノキシ−1,4−ビス(α−ヒドロキシイ
ソプロピル)ベンゼン、2,4−ジイソプロペニルチオ
ール、2,4−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)チ
オール、2,5−ジイソプロペニルチオール、2,5−
ビス(αヒドロキシイソプロピル)チオール、2−メチ
ルチオ−1,4−ジイソプロペニルベンゼン、2−メチ
ルチオ−1,4−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)
ベンゼン、2−フェニルチオ−1,3−ジイソプロペニ
ルベンゼン、2−フェニルチオ−1,3−ビス(α−ヒ
ドロキシイソプロピル)ベンゼン、2−フェニル−1,
4−ジイソプロペニルベンゼン、2−フェニル−1,4
−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、5−
ナフチル−1,3−ジイソプロペニルベンゼン、5−ナ
フチル−1,3−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)
ベンゼン、2−メチル−1,4−ジイソプロペニルベン
ゼン、2−メチル−1,4−ビス(α−ヒドロキシイソ
プロピル)ベンゼン、5−ブチル−1,3−ジイソプロ
ペニルベンゼン、5−ブチル−1,3−ビス(α−ヒド
ロキシイソプロピル)ベンゼン。
In addition, specifically, the following compounds can be exemplified. 2-chloro-1,4-diisopropenylbenzene, 2-chloro-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 2-bromo-1,4-
Diisopropenylbenzene, 2-bromo-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 2-bromo-1,3-diisopropenylbenzene, 2-bromo-
1,3-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 4-bromo-1,3-diisopropylbenzene,
-Bromo-1,3-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 5-bromo-1,3-diisopropenylbenzene, 5-bromo-1,3-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 2-methoxy- 1,4-diisopropenylbenzene, 2-methoxy-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 5-ethoxy-1,3-diisopropenylbenzene, 5-ethoxy-1,3-bis (α -Hydroxyisopropyl) benzene, 2-phenoxy-1,4-diisopropenylbenzene, 2-phenoxy-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 2,4-diisopropenylthiol, 2,4-bis (Α-hydroxyisopropyl) thiol, 2,5-diisopropenylthiol, 2,5-
Bis (α-hydroxyisopropyl) thiol, 2-methylthio-1,4-diisopropenylbenzene, 2-methylthio-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl)
Benzene, 2-phenylthio-1,3-diisopropenylbenzene, 2-phenylthio-1,3-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 2-phenyl-1,
4-diisopropenylbenzene, 2-phenyl-1,4
-Bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 5-
Naphthyl-1,3-diisopropenylbenzene, 5-naphthyl-1,3-bis (α-hydroxyisopropyl)
Benzene, 2-methyl-1,4-diisopropenylbenzene, 2-methyl-1,4-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 5-butyl-1,3-diisopropenylbenzene, 5-butyl-1 , 3-Bis (α-hydroxyisopropyl) benzene.

【0017】また上記一般式(4)で表される化合物
(化合物(B)とする)としては、典型的にはアニリン
の他に、例えばクロロアニリン、ジクロロアニリン、ト
ルイジン、キシリジン、フェニルアニリン、ニトロアニ
リン、アミノフェノール及びシクロヘキシルアニリン等
を用いることができる。また他に、メトキシアニリン、
エトキシアニリン、フェノキシアニリン、ナフトキシア
ニリン、アミノチオール、メチルチオアニリン、エチル
チオアニリン及びフェニルチオアニリンを例示すること
ができる。
The compound represented by the above general formula (4) (hereinafter referred to as compound (B)) is typically aniline, for example, chloroaniline, dichloroaniline, toluidine, xylidine, phenylaniline, nitroaniline. Aniline, aminophenol, cyclohexylaniline and the like can be used. In addition, methoxyaniline,
Examples thereof include ethoxyaniline, phenoxyaniline, naphthoxyaniline, aminothiol, methylthioaniline, ethylthioaniline and phenylthioaniline.

【0018】本発明に用いる一般式(5)で表されるポ
リアミノオリゴマーの製造方法においては、化合物に
(A)と化合物(B)を、化合物(A)に対する化合物
(B)のモル比(化合物(B)/化合物(A))を、最
初は0.1〜2.0、好ましくは0.2〜1.0で仕込
み反応させた後、さらに化合物(B)を、先に加えた化
合物(A)に対するモル比(同上)で0.5〜20.
0、好ましくは1.0〜5.0の量だけさらに加えるこ
とにより、特徴的な構造を有するポリマレイミド化合物
で得ることができる。また、この2段階の反応は反応を
完結させるため、あるいは操作性等の点からも好ましい
結果を与える。
In the method for producing the polyamino oligomer represented by the general formula (5) used in the present invention, the compound (A) and the compound (B) are used in a molar ratio of the compound (B) to the compound (A) (the compound (A)). (B) / Compound (A)) is initially charged at 0.1 to 2.0, preferably 0.2 to 1.0, and reacted, and then compound (B) is added to the previously added compound ( 0.5 to 20 in a molar ratio to A) (as described above).
By adding an additional amount of 0, preferably 1.0 to 5.0, a polymaleimide compound having a characteristic structure can be obtained. In addition, this two-stage reaction gives a favorable result in terms of completion of the reaction or operability.

【0019】前記反応に用いる酸触媒は、塩酸、硫酸の
ような無機酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン
酸等の有機酸、活性白土、酸性白土、シリカアルミナ、
ゼオライト、強酸性イオン交換樹脂のような固体酸、ヘ
テロポリ塩酸等を挙げることができるが、反応後ろ過に
より簡便に触媒除去が可能な固体酸が操作上好ましく、
他の酸を用いるときは、反応後塩基による中和と水によ
る洗浄を行う。
The acid catalyst used in the above reaction includes inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, organic acids such as benzenesulfonic acid and toluenesulfonic acid, activated clay, acidic clay, silica alumina,
Zeolites, solid acids such as strongly acidic ion exchange resins, heteropolyhydrochloric acid and the like can be mentioned, but a solid acid that can easily remove the catalyst by filtration after the reaction is preferable in operation,
When another acid is used, neutralization with a base and washing with water are performed after the reaction.

【0020】該酸触媒の量は、最初に仕込む原料の化合
物(A)、(B)の総量に対して酸触媒を5〜40重量
%の範囲で使用されるが、操作性と経済性の点から10
〜30重量%が好ましい結果を与える。反応温度は、通
常100〜300℃の範囲で選ばれるが、異性体構造の
生成を抑制し、熱分解等の副反応を避けるためには16
0〜230℃が好ましい。
The acid catalyst is used in an amount of 5 to 40% by weight based on the total amount of the compounds (A) and (B) as raw materials to be initially charged. 10 from the point
3030% by weight gives favorable results. The reaction temperature is usually selected in the range of 100 to 300 ° C. However, in order to suppress the generation of the isomer structure and to avoid side reactions such as thermal decomposition, the reaction temperature is set at 16 ° C.
0-230 ° C is preferred.

【0021】反応時間は、短時間では反応が完全に進行
せず、また長時間にすると生成物の熱分解反応等の副反
応が起こることから、上述の温度条件下で、通常は、の
べ2〜48時間の範囲で選ばれるが、好ましくは、のべ
6〜24時間の範囲で選ばれる。
The reaction time is usually shorter than the above range under the above-mentioned temperature conditions, since the reaction does not proceed completely when the reaction time is short, and a side reaction such as thermal decomposition of the product occurs when the reaction time is long. It is selected in the range of 2 to 48 hours, but preferably in the range of 6 to 24 hours in total.

【0022】ポリアミノオリゴマーの製造方法において
は、アニリンまたはその誘導体が溶剤を兼ねるため、必
ずしも他の溶剤は用いなくても良いが、溶剤を用いるこ
ともできる。例えは、脱水反応を兼ねた反応系の場合、
具体的にはα−ヒドロキシプロピル基を有する化合物を
原料として反応させる場合には、トルエン或いはクロロ
ベンゼン等の共沸脱水可能な溶剤を用いて脱水反応を完
結させた後溶媒を留去してから、前述の温度範囲で反応
を行う方法をとってもよい。
In the method for producing the polyamino oligomer, since aniline or a derivative thereof also serves as a solvent, another solvent is not necessarily used, but a solvent can be used. For example, in the case of a reaction system that also serves as a dehydration reaction,
Specifically, when reacting a compound having an α-hydroxypropyl group as a raw material, after the dehydration reaction is completed using an azeotropic dehydration solvent such as toluene or chlorobenzene, the solvent is distilled off, The reaction may be carried out in the above-mentioned temperature range.

【0023】本発明で用いられるポリマレイミド化合物
は、前記の方法で得られた一般式(5)で表されるポリ
アミノオリゴマーを反応器に仕込み、適当な溶媒に溶解
した後、無水マレイン酸と脱水剤、触媒及び塩基類の存
在下で反応させ、反応後水洗等により未反応の無水マレ
イン酸や他の不純物を除去し、減圧によって溶媒を除く
ことにより得られる。
The polymaleimide compound used in the present invention is prepared by charging a polyamino oligomer represented by the general formula (5) obtained by the above-mentioned method into a reactor, dissolving the polyamino oligomer in a suitable solvent, and dissolving with maleic anhydride. It is obtained by reacting in the presence of an agent, a catalyst and a base, removing unreacted maleic anhydride and other impurities by washing with water or the like after the reaction, and removing the solvent under reduced pressure.

【0024】本発明で用いられるポリマレイミド化合物
は前記のように一般式(1)の骨格を有する。Xは一般
式(2)で表される構造を有するがjが3以下でかつア
ミノ基のオルト位とパラ位のうち少なくとも2つが水素
原子である場合前記一般式(6)に対応する構造、すな
わち一般式(7)で表される構造もXの構造として含ま
れる。
The polymaleimide compound used in the present invention has a skeleton represented by the general formula (1) as described above. X has a structure represented by the general formula (2), and when j is 3 or less and at least two of the ortho and para positions of the amino group are hydrogen atoms, a structure corresponding to the general formula (6); That is, the structure represented by the general formula (7) is also included as the structure of X.

【0025】[0025]

【化10】 (式中P、Q、j、k及びmは前記と同様のものを表
す。)構造Xの平均繰り返し単位数nの値としては低軟
化点、低溶融粘度、高熱変形温度、あるいは高ガラス転
移点等の点から0.5以上10以下が好ましい。
Embedded image (In the formula, P, Q, j, k and m represent the same as described above.) The value of the average number of repeating units n of the structure X is a low softening point, a low melt viscosity, a high heat deformation temperature, or a high glass transition. It is preferably 0.5 or more and 10 or less from the point of view.

【0026】前記のポリマレイミド化反応で使用される
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェ
ノン等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、アセトニトリル、ス
ルホラン等の非プロトン性溶媒、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等の環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン等のハロゲン系溶媒等が挙げられるが、特
にメチルイソブチルケトンが好ましく使用できる。
Examples of the organic solvent used in the above-mentioned polymerization reaction include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and acetophenone, N, N-dimethylformamide, and the like.
Aprotic solvents such as N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, acetonitrile, and sulfolane; cyclic ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; chlorobenzene; Examples thereof include halogen solvents such as chlorobenzene, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, and trichloroethane. Of these, methyl isobutyl ketone is particularly preferred.

【0027】ポリマレイミド化反応においては、上記ポ
リアミノオリゴマーと無水マレイン酸を、ポリアミノオ
リゴマーのアミノ当量に対する無水マレイン酸の当量比
を、1〜1.5の範囲、好ましくは1.1〜1.2で仕
込み、ポリアミノオリゴマーと無水マレイン酸の合計量
に対し1〜50重量比、好ましくは2〜5の重量比の有
機溶媒中で反応させることが好ましい結果を与える。
In the polymaleimidation reaction, the above-mentioned polyamino oligomer and maleic anhydride are used in an amount equivalent to maleic anhydride to amino equivalent of polyamino oligomer in the range of 1 to 1.5, preferably 1.1 to 1.2. And the reaction is preferably carried out in an organic solvent having a weight ratio of 1 to 50, preferably 2 to 5 with respect to the total amount of the polyamino oligomer and maleic anhydride.

【0028】ポリマレイミド化反応に用いる脱水剤は、
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸のような低級脂
肪族カルボン酸無水物、五酸化リン、酸化カルシウム、
酸化バリウム等の酸化物、硫酸等の無機酸、モレキュラ
ーシーブ等の多孔性セラミック等が挙げられるが好まし
くは無水酢酸を用いることができる。
The dehydrating agent used in the polymaleimidation reaction is as follows:
Lower aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, phosphorus pentoxide, calcium oxide,
Examples thereof include oxides such as barium oxide, inorganic acids such as sulfuric acid, and porous ceramics such as molecular sieve. Preferably, acetic anhydride can be used.

【0029】ポリマレイミド化反応で使用される触媒と
しては、ニッケル、コバルト、ナトリウム、カルシウ
ム、鉄、リチウム、マンガン等の酢酸塩、塩化物、臭化
物、硫酸塩、硝酸塩等の無機塩が例示できるが、特に酢
酸ニッケルが好ましく用いられる。また同様に使用でき
る塩基類としては、トリエチルアミン、トリ−n−ブチ
ルアミン、N−メチルピペラジン、N,N−ジメチルベ
ンジルアミン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕
−7−ウンデセン等の第3級アミン、ナトリウム、カリ
ウムの炭酸塩等の無機アルカリ物が例示できるが、好ま
しくは、トリエチルアミンが用いられる。
Examples of the catalyst used in the polymaleimidation reaction include inorganic salts such as acetates such as nickel, cobalt, sodium, calcium, iron, lithium and manganese, chlorides, bromides, sulfates and nitrates. Particularly, nickel acetate is preferably used. Bases that can be used in the same manner include triethylamine, tri-n-butylamine, N-methylpiperazine, N, N-dimethylbenzylamine, and 1,8-diazabicyclo [5,4,0].
Inorganic alkalis such as tertiary amines such as -7-undecene and sodium and potassium carbonates can be exemplified, but preferably triethylamine is used.

【0030】ポリマレイミド化反応で使用される脱水
剤、触媒、塩基類の使用量の制限は特にないが、通常、
ポリアミンのアミノ基1当量に対し、脱水剤は1〜3モ
ル、好ましくは1〜1.5モル、触媒は0.0001〜
1.0モル、好ましくは0.001〜0.1モル、塩基
類は0.01〜1.0モル、好ましくは0.05〜0.
5モルである。ポリマレイミド化の反応条件は、上記ポ
リアミノオリゴマーと無水マレイン酸を上記比で仕込
み、10〜100℃、好ましくは30〜50℃の温度範
囲で1〜12時間、好ましくは4〜8時間反応した後、
上記脱水剤、触媒及び塩基類を加えて20〜110℃、
好ましくは50〜80℃の温度で、2〜24時間好まし
くは6〜10時間反応させる。
There are no particular restrictions on the amounts of the dehydrating agent, catalyst, and bases used in the polymaleimidation reaction.
The dehydrating agent is used in an amount of 1 to 3 moles, preferably 1 to 1.5 moles, and the catalyst is used in an amount of 0.0001 to 1 equivalent to 1 equivalent of the amino group of the polyamine.
1.0 mol, preferably 0.001 to 0.1 mol, and the bases are 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol.
5 moles. The reaction conditions for the polymaleimidization are as follows: the polyamino oligomer and the maleic anhydride are charged at the above ratio, and the mixture is reacted at a temperature of 10 to 100 ° C., preferably 30 to 50 ° C. for 1 to 12 hours, preferably 4 to 8 hours. ,
20 to 110 ° C. by adding the above dehydrating agent, catalyst and bases,
The reaction is preferably performed at a temperature of 50 to 80 ° C for 2 to 24 hours, preferably 6 to 10 hours.

【0031】本発明の熱硬化性樹脂組成物は前記一般式
(1)のポリマレイミド化合物(A)及び反応成分
(B)からなる。該反応成分(B)としてはポリマレイ
ミド化合物の不飽和結合との反応により三次元架橋を生
じる成分を用いる。そのような反応成分(B)として、
好ましくはトリアリルイソシアヌレートまたは芳香族ジ
アミンを用いることができる。
The thermosetting resin composition of the present invention comprises the polymaleimide compound (A) of the general formula (1) and the reaction component (B). As the reaction component (B), a component that produces three-dimensional crosslinking by reacting with the unsaturated bond of the polymaleimide compound is used. As such a reaction component (B),
Preferably, triallyl isocyanurate or aromatic diamine can be used.

【0032】その芳香族ジアミンについて例示すると、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジア
ミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニル
エーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
2,2−ビス(4−アミノフェノキシ)プロパン、2,
2−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘキサフルオロプロ
パン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、
3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−
ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフ
ェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、2,4−
トルエンジアミン、2,6−トルエンジアミン、m−フ
ェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、ベンジジ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,
3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルスルフ
ォン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェ
ニルプロパン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミ
ノジフェニルメタン、3,3’−ジメトキシ−4,4’
−ジアミノビフェニル、 3,3’−ジメチル−4,
4’−ジアミノビフェニル、1,3−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェノキ
シフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス
(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフォン、4,
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフ
ォン、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレ
ン、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフ
ェニルメタン、2,4−ジアミノアニソール、ビス(3
−アミノフェニル)メチルホスフィンオキサイド、4,
4’−メチレン−ビス−o−クロロアニリン、テトラク
ロロジアミノジフェニルメタン、m−キシリレンジアミ
ン、p−キシリレンジアミン、4,4’−ジアミノスチ
ルベン、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−
1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−
(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、5−アミノ−6−メチル−1−(3’−アミノ
−4’−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、7−アミノ−6−メチル−1−(3’−アミノ
−4’−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、6−アミノ−5−メチル−1−(4’−アミノ
−3’−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、6−アミノ−7−メチル−1−(4’−アミノ
−3’−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン等の1種または2種以上がある。
Illustrating the aromatic diamine,
4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylether, 3,4′-diaminodiphenylether,
2,2-bis (4-aminophenoxy) propane, 2,
2-bis (4-aminophenoxy) hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone,
3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-
Diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 2,4-
Toluenediamine, 2,6-toluenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, benzidine, 4,4′-diaminodiphenylsulfide, 3,
3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'- Dimethoxy-4,4 '
-Diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,
4'-diaminobiphenyl, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) hexafluoropropane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) diphenylsulfone, 4,
4'-bis (3-aminophenoxy) diphenylsulfone, 9,9'-bis (4-aminophenyl) fluorene, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4-diaminoanisole, Screw (3
-Aminophenyl) methylphosphine oxide, 4,
4'-methylene-bis-o-chloroaniline, tetrachlorodiaminodiphenylmethane, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 4,4'-diaminostilbene, 5-amino-1- (4'-aminophenyl) −
1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1-
(4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 5-amino-6-methyl-1- (3'-amino-4'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 7 -Amino-6-methyl-1- (3'-amino-4'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-5-methyl-1- (4'-amino-3'- One or two of methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-7-methyl-1- (4′-amino-3′-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, etc. There are more than seeds.

【0033】なお、本発明の樹脂組成物に目的を損なわ
ない範囲でアルケニル基含有化合物、例えばビスマレイ
ミド類、アリルエーテル系化合物、アリルアミン系化合
物、トリアリルシアヌレート、アルケニルフェノール系
化合物、ビニル基含有ポリオレフィン化合物等を添加す
ることもできる。また他の熱硬化性樹脂、例えば熱硬化
性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シ
アネート樹脂等も目的に応じて適宜配合することも可能
である。
The alkenyl group-containing compounds such as bismaleimides, allyl ether compounds, allylamine compounds, triallyl cyanurate, alkenylphenol compounds, and vinyl group-containing compounds can be used in the resin composition of the present invention within a range not to impair the purpose. A polyolefin compound or the like can be added. Further, other thermosetting resins, for example, thermosetting polyimide resin, epoxy resin, phenol resin, cyanate resin and the like can be appropriately compounded according to the purpose.

【0034】特に積層板に難燃性を付与する目的で反応
基を有する難燃剤を添加することも可能である。添加量
は樹脂中に占める臭素が5〜20重量%になるように配
合することが好ましい。
In particular, a flame retardant having a reactive group can be added for the purpose of imparting flame retardancy to the laminate. It is preferable to add bromine in an amount of 5 to 20% by weight in the resin.

【0035】本発明の樹脂組成物の各成分の量的割合は
所望の性能に応じて適宜選択できるがトリアリルイソシ
アネートについては樹脂組成物全体の5〜50重量%に
なるように配合するのが好ましく、さらに好ましくは1
0〜30重量%である。また芳香族ジアミンの場合はポ
リマレイミド化合物の二重結合と芳香族ジアミンの活性
水素の当量比が二重結合当量/活性水素当量=0.5〜
2.0となるように配合するのが好ましく、さらに好ま
しくはその比が0.8〜1.5である。
The quantitative ratio of each component of the resin composition of the present invention can be appropriately selected according to the desired performance. However, triallyl isocyanate is preferably blended in an amount of 5 to 50% by weight of the whole resin composition. Preferably, more preferably 1
0 to 30% by weight. In the case of an aromatic diamine, the equivalent ratio of the double bond of the polymaleimide compound and the active hydrogen of the aromatic diamine is such that the double bond equivalent / active hydrogen equivalent = 0.5 to
It is preferable to mix them so as to be 2.0, and more preferably the ratio is 0.8 to 1.5.

【0036】本発明の樹脂組成物の熱硬化反応は無触媒
下でも容易に行われるが、さらに速く反応させたい場合
には有機過酸化物、アゾ化合物のような重合開始剤やホ
スフィン系化合物、三級アミンの様な塩基性触媒の添加
が効果的である。例示するとベンゾイルパーオキシド、
ジクミルパーオキシド、アゾビスイソブチロニトリル、
トリフェニルホスフィン、トリエチルアミン、イミダゾ
ール類等があり、添加量は樹脂組成物全体の0.05〜
5重量%が好ましい。
The thermosetting reaction of the resin composition of the present invention can be easily carried out in the absence of a catalyst. However, when a faster reaction is desired, a polymerization initiator such as an organic peroxide or an azo compound, a phosphine compound, The addition of a basic catalyst such as a tertiary amine is effective. For example, benzoyl peroxide,
Dicumyl peroxide, azobisisobutyronitrile,
Triphenylphosphine, triethylamine, imidazoles and the like, the amount of addition is 0.05 to the total of the resin composition
5% by weight is preferred.

【0037】本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いた銅張
り積層板の作成は公知の方法に従って行うことができ
る。すなわち上記樹脂組成物を有機溶剤に溶解した樹脂
ワニスを基材に含浸させ、熱処理してプリプレグとした
後に、プリプレグと銅箔とを加熱積層成形して銅張り積
層板とする方法である。使用される有機溶剤はトルエ
ン、キシレン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等の中から単独或いは二
種以上の混合溶媒として選択することができる。
The production of a copper-clad laminate using the thermosetting resin composition of the present invention can be carried out according to a known method. That is, a resin varnish obtained by dissolving the resin composition in an organic solvent is impregnated into a base material, heat-treated to form a prepreg, and then the prepreg and copper foil are laminated by heating to form a copper-clad laminate. The organic solvents used are toluene, xylene, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran and the like can be selected alone or as a mixture of two or more solvents.

【0038】樹脂ワニスを含浸させる基材はガラス繊
維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維等の無機繊維、
有機繊維からなる織布、若しくは不織布またはマット、
紙等ででありこれらを単独或いは組み合わせて用いるこ
とができる。プリプレグの熱処理条件は使用する溶剤、
添加触媒、各種添加剤の種類や使用量に応じて適宜選択
されるが通常80℃〜220℃の温度で3分〜30分と
いった条件で行われる。加熱成形条件は150℃〜30
0℃の温度で10kg/cm2 〜100kg/cm2
成形圧で20分〜300分の熱プレス成形が例示され
る。
The base material to be impregnated with the resin varnish includes inorganic fibers such as glass fibers, polyester fibers, and polyamide fibers;
Woven or non-woven fabric or mat made of organic fiber,
Paper and the like can be used alone or in combination. The heat treatment conditions for the prepreg are the solvent used,
It is appropriately selected according to the type and amount of the added catalyst and various additives, but is usually performed at a temperature of 80 ° C to 220 ° C for 3 minutes to 30 minutes. Heat molding condition is 150 ℃ ~ 30
0 temperature 10kg / cm 2 ~100kg / cm 20 to 300 minutes of heat-pressed at 2 of the molding pressure ℃ are exemplified.

【0039】[0039]

【実施例】以下本発明を実施例によってさらに詳細に説
明するが本発明はこれら実施例によって何ら限定される
ものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0040】合成例1 (1)o−トルイジンオリゴマー(中間体ポリアミノオ
リゴマー)の合成:水分分離用にディーンスターク管を
付した還流冷却器、温度計、撹拌器及び窒素導入装置を
付した2000mlの反応器にm−ジ(α−ヒドロキシ
イソプロピル)ベンゼン271g(1.4mol)、o
−トルイジン37.5g(0.35mol)、キシレン
308.5gおよび酸性白土65.3gを仕込み、撹拌
しながら内温120℃になるまで昇温する。さらに留出
水をディーンスターク管で取り除きながら内温が210
℃になるまで昇温し、7時間保温する。
Synthesis Example 1 (1) Synthesis of o-toluidine oligomer (intermediate polyamino oligomer): 2000 ml of a reflux condenser equipped with a Dean-Stark tube, a thermometer, a stirrer, and a nitrogen introducing device for separating water. In a reactor, m-di (α-hydroxyisopropyl) benzene (271 g, 1.4 mol), o
-Charge 37.5 g (0.35 mol) of toluidine, 308.5 g of xylene and 65.3 g of acid clay, and raise the temperature to 120 ° C. while stirring. Furthermore, the internal temperature was reduced to 210 while removing the distillate with a Dean-Stark tube.
The temperature was raised to 0 ° C. and kept for 7 hours.

【0041】この時、留出水総量は57.0gであっ
た。ついで、内温が140℃になるまで冷却し、o−ト
ルイジン75g(0.7mol)を加えた後、内温を2
10℃に昇温してその温度で12時間保持した。反応終
了後、内温が100℃以下になるまで冷却してからトル
エン313.1gで希釈して、ろ過により酸性白土を除
く。減圧下で溶媒及び未反応物などの低分子量物を留去
することにより、目的物のo−トルイジンオリゴマー2
54.8gを得た。アミン当量は393g/eqであ
り、軟化点は64.8℃であった。前記一般式(2)の
平均繰り返し単位数n値(数平均)を液体クロマトグラ
フィーで求めたところ2.6であった。
At this time, the total amount of distillate was 57.0 g. Then, the mixture was cooled until the internal temperature reached 140 ° C., and 75 g (0.7 mol) of o-toluidine was added.
The temperature was raised to 10 ° C. and kept at that temperature for 12 hours. After the completion of the reaction, the reaction mixture is cooled until the internal temperature becomes 100 ° C. or lower, diluted with 313.1 g of toluene, and the acid clay is removed by filtration. The solvent and unreacted substances and other low molecular weight substances are distilled off under reduced pressure to obtain the o-toluidine oligomer 2 as the target substance.
54.8 g were obtained. The amine equivalent was 393 g / eq and the softening point was 64.8 ° C. The average repetition unit number n value (number average) of the general formula (2) was determined by liquid chromatography to be 2.6.

【0042】(2)o−トルイジンオリゴマーポリマレ
イミド化物の合成:o−トルイジンオリゴマーと無水マ
レイン酸との反応による本発明にて用いられるポリマレ
イミド化合物の製法を説明する。還流冷却器、温度計、
撹拌器及び窒素導入装置を付した2000mlの反応器
に、合成例2で得たo−トルイジンオリゴマー100g
(0.254mol当量、アミノ基当量393g/e
q)、無水マレイン酸29.9g(0.305mol)
およびアセトン303.3gを仕込み、室温下で撹拌溶
解させた。溶解後、40℃に昇温してその温度で9時間
保持した。ついで無水酢酸33.8g(0.331mo
l)、酢酸ニッケル4水和物0.28g(1.1mo
l)およびトリエチルアミン1.92g(19.0mo
l)を加え、60℃に昇温してその温度で8時間保持し
た。反応終了後室温まで冷却し、トルエン303.0g
まで希釈した。希炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで水
で洗浄し、共沸脱水した後、無機塩をろ過で取り除い
た。減圧下で溶媒を除くことにより、目的とするポリマ
レイミド化合物101.9gを得た。軟化点は、110
℃であった。生成物の赤外吸収スペクトル測定の結果、
インダン構造由来の吸収(2960、1490、146
0、1430、765cm-1)と、マレイミド構造由来
の吸収(1715、1805cm-1)が認められた。
(2) Synthesis of o-toluidine oligomer polymaleimide: A method for producing a polymaleimide compound used in the present invention by reacting an o-toluidine oligomer with maleic anhydride will be described. Reflux condenser, thermometer,
100 g of the o-toluidine oligomer obtained in Synthesis Example 2 was placed in a 2000 ml reactor equipped with a stirrer and a nitrogen introducing device.
(0.254 mol equivalent, amino group equivalent 393 g / e
q), 29.9 g (0.305 mol) of maleic anhydride
And 303.3 g of acetone were charged and dissolved by stirring at room temperature. After dissolution, the temperature was raised to 40 ° C. and maintained at that temperature for 9 hours. Then, 33.8 g of acetic anhydride (0.331 mol)
l), nickel acetate tetrahydrate 0.28 g (1.1 mol)
l) and 1.92 g of triethylamine (19.0 mol)
1) was added, and the temperature was raised to 60 ° C. and maintained at that temperature for 8 hours. After the completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, and 303.0 g of toluene was used.
Diluted. After washing with a dilute aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water and azeotropic dehydration, inorganic salts were removed by filtration. By removing the solvent under reduced pressure, 101.9 g of the desired polymaleimide compound was obtained. Softening point is 110
° C. As a result of infrared absorption spectrum measurement of the product,
Absorption from indane structure (2960, 1490, 146
0, 1430, 765 cm -1 ) and absorption (1715, 1805 cm -1 ) derived from a maleimide structure.

【0043】合成例2 (1)2,6−キシリジンオリゴマー(中間体ポリアミ
ノオリゴマー)の合成:水分分離用にディーンスターク
管を付した還流冷却器、温度計、撹拌器および窒素導入
装置を付した5000mlの反応器にm−ジ(α−ヒド
ロキシイソプロピル)ベンゼン972g(6.15mo
l)、2,6−キシリジン303g(2.50mo
l)、キシレン1275gおよび酸性白土334gを仕
込み、撹拌しながら内温120℃になるまで昇温する。
さらに留出水をディーンスターク管で取り除きながら内
温が210℃になるまで昇温し、3時間保温する。
Synthesis Example 2 (1) Synthesis of 2,6-xylysine oligomer (intermediate polyamino oligomer): equipped with a reflux condenser equipped with a Dean-Stark tube, a thermometer, a stirrer, and a nitrogen introducing device for separating water. 972 g (6.15 mo) of m-di (α-hydroxyisopropyl) benzene was added to the 5000 ml reactor.
l), 303 g of 2,6-xylidine (2.50 mo
1), 1275 g of xylene and 334 g of acid clay are charged, and the temperature is increased to 120 ° C. while stirring.
Further, while removing the distillate with a Dean-Stark tube, the temperature is raised until the internal temperature becomes 210 ° C., and the temperature is kept for 3 hours.

【0044】この時、留出水総量は214.4gであっ
た。ついで、内温が140℃になるまで冷却し、2,6
−キシリジン1052g(8.69mol)を仕込んだ
後、内温が220℃になるまで昇温してその温度で3時
間保持した。反応終了後、内温が100℃以下になるま
で冷却してからトルエン1500gで希釈して、ろ過に
より酸性白土を除く。減圧下で溶媒及び未反応物等の低
分子量物を留去することにより、目的物の2,6−キシ
リジンオリゴマー1310gを得た。アミン当量は29
2g/eqであり、軟化点は60.6℃であった。
At this time, the total amount of distillate was 214.4 g. Then, cool until the internal temperature reaches 140 ° C.
After charging 1052 g (8.69 mol) of xylidine, the temperature was raised until the internal temperature reached 220 ° C., and maintained at that temperature for 3 hours. After the completion of the reaction, the reaction mixture is cooled until the internal temperature becomes 100 ° C. or lower, diluted with 1500 g of toluene, and the acid clay is removed by filtration. The solvent and unreacted substances and other low molecular weight substances were distilled off under reduced pressure to obtain 1310 g of the objective 2,6-xylysine oligomer. The amine equivalent is 29
2g / eq, and the softening point was 60.6 ° C.

【0045】本法により得られた生成物の赤外吸収スペ
クトルを測定した結果、前記一般式(2)のインダン骨
格に特徴的な2960,1490,1461,144
0,755cm-1の吸収がみられた。生成物のFD−M
Sスペクトル測定の結果、前記一般式(1)(但し、X
は、前記一般式(2)の構造)に対するm/e=400
(n’=0),558(n’=1),716(n’=
2),874(n’=3)がメインピークとして検出さ
れた。但し、ここでn’はXの繰返し単位数を表す。前
記一般式(2)の平均繰返し単位数n値(数平均)を質
量分析結果をもとにした検量線を用いて、液体クロマト
グラフィーで求めたところ0.92であった。
As a result of measuring the infrared absorption spectrum of the product obtained by this method, 2960, 1490, 1461, 144 characteristic of the indane skeleton of the general formula (2) were obtained.
An absorption of 0.755 cm -1 was observed. FD-M of product
As a result of the S spectrum measurement, the above general formula (1) (provided that X
Is m / e = 400 with respect to the structure of the general formula (2).
(N '= 0), 558 (n' = 1), 716 (n '=
2), 874 (n '= 3) was detected as the main peak. Here, n ′ represents the number of repeating units of X. The average repetition unit number n value (number average) of the general formula (2) was determined by liquid chromatography using a calibration curve based on the results of mass spectrometry, and was 0.92.

【0046】(2)2,6−キシリジンオリゴマーポリ
マレイミド化物の合成:2,6−キシリジンオリゴマー
と無水マレイン酸との反応による本発明にて用いられる
ポリマレイミド化合物の製法を説明する。還流冷却器、
温度計、撹拌器および窒素導入装置を付した5000m
lの反応器に、合成例1で得た2,6−キシリジンオリ
ゴマー308g(1.05当量、アミノ基当量292g
/eq)、無水マレイン酸113.8g(1.16mo
l)およびメチルイソブチルケトン984.2gを仕込
み、室温下で撹拌溶解させた。溶解後、40℃に昇温し
てその温度で6時間保持した。ついで無水酢酸151.
8g(1.05mol)、酢酸ニッケル4水和物1.1
0g(3.78mmol)およびトリエチルアミン7.
94g(78.6mmol)を加え、60℃に昇温して
その温度で8時間保持した。反応終了後室温まで冷却
し、メチルイソブチルケトン703gで希釈した。希炭
酸水素ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄し、共沸脱水
した後無機塩をろ過で取り除いた。減圧下で溶媒を除く
ことにより、目的とするポリマレイミド化合物305.
8gを得た。軟化点は98.1℃であった。生成物の赤
外吸収スペクトル測定の結果、インダン構造由来の吸収
(2960,1485,1460,1440,760c
-1)と、マレイミド構造由来の吸収(1715,18
05cm-1)が認められた。
(2) Synthesis of 2,6-xylidine oligomer polymaleimide: A method for producing a polymaleimide compound used in the present invention by reacting a 2,6-xylidine oligomer with maleic anhydride will be described. Reflux condenser,
5000 m with thermometer, stirrer and nitrogen introduction device
308 g of the 2,6-xylidine oligomer obtained in Synthesis Example 1 (1.05 equivalent, amino group equivalent 292 g)
/ Eq), 113.8 g of maleic anhydride (1.16 mo)
l) and 984.2 g of methyl isobutyl ketone were charged and dissolved by stirring at room temperature. After dissolution, the temperature was raised to 40 ° C. and maintained at that temperature for 6 hours. Then, acetic anhydride 151.
8 g (1.05 mol), nickel acetate tetrahydrate 1.1
0 g (3.78 mmol) and triethylamine 7.
94 g (78.6 mmol) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the temperature was maintained for 8 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and diluted with 703 g of methyl isobutyl ketone. After washing with a dilute aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water and azeotropic dehydration, the inorganic salts were removed by filtration. By removing the solvent under reduced pressure, the objective polymaleimide compound 305.
8 g were obtained. The softening point was 98.1 ° C. As a result of infrared absorption spectrum measurement of the product, the absorption derived from the indane structure (2960, 1485, 1460, 1440, 760c)
m -1 ) and the absorption derived from the maleimide structure (1715, 18
05 cm -1 ).

【0047】実施例1〜2 合成例1及び2で得られたポリマレイミド化合物とトリ
アリルイソシアヌレートをトルエンに溶解し均一な樹脂
ワニスを得た。該ワニスをガラスクロス(鐘紡(株)製
商品名:KS−1600,E−ガラス)に含浸させ、1
80℃熱風乾燥器中で10〜20分熱処理してプリプレ
グとした。このプリプレグ6枚と銅箔(古河電工(株)
製TTAI処理品、35μm厚)を重ね200℃、50
kg/cm2 の圧力で2時間プレス成形し、更に250
℃で5時間硬化させて厚さ1mmの銅張り積層板を得
た。
Examples 1-2 The polymaleimide compound and triallyl isocyanurate obtained in Synthesis Examples 1 and 2 were dissolved in toluene to obtain a uniform resin varnish. The varnish was impregnated into glass cloth (trade name: KS-1600, E-glass, manufactured by Kanebo Co., Ltd.), and
The prepreg was heat-treated in an 80 ° C. hot air drier for 10 to 20 minutes. Six prepregs and copper foil (Furukawa Electric Co., Ltd.)
(TTAI treated product, 35 μm thick), 200 ° C, 50
Press molding at a pressure of kg / cm 2 for 2 hours and then 250
This was cured at 5 ° C. for 5 hours to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm.

【0048】この積層板のガラス転移温度、銅箔引き剥
し強さ、半田耐熱性、煮沸吸水率、誘電率を測定した。
ガラス転移温度の測定は東洋精機(株)製動的粘弾性測
定装置レオログラフソリッドを用い、損失弾性率が最大
となる温度を採用した。誘電率の値は横河ヒューレット
パッカード(株)製Multi−FrequencyL
CR meter 4275Aにより求めた室温、1M
Hzでの試料の静電容量から算出した。その他の積層板
物性はJIS−C−6481に準じて測定した。表1に
測定結果を示す。
The glass transition temperature, copper foil peeling strength, solder heat resistance, boiling water absorption and dielectric constant of the laminate were measured.
The glass transition temperature was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device, Rheograph Solid, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., and the temperature at which the loss modulus was maximized was adopted. The value of the dielectric constant is Multi-Frequency L manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.
Room temperature, 1M determined by CR meter 4275A
It was calculated from the capacitance of the sample in Hz. Other physical properties of the laminate were measured according to JIS-C-6481. Table 1 shows the measurement results.

【0049】実施例3 合成例2で得られたポリマレイミド化合物と4,4’−
ジアミノジフェニルメタン(商品名スミキュアーM,住
友化学工業(株)製)とをトルエンに溶解し、得られた
樹脂ワニスを実施例1〜2と同様の方法で銅張り積層板
とした。この積層板の物性を実施例1〜2と同様の方法
で測定した。結果を表1に示す。
Example 3 The polymaleimide compound obtained in Synthesis Example 2 and 4,4′-
Diaminodiphenylmethane (trade name: Sumicure M, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was dissolved in toluene, and the obtained resin varnish was formed into a copper-clad laminate in the same manner as in Examples 1 and 2. The physical properties of this laminate were measured in the same manner as in Examples 1 and 2. Table 1 shows the results.

【0050】比較例1 N,N’−(4,4’−ジアミノジフェニルメタン)ビ
スマレイミド(商品名ベストレックスBH−180, 住
友化学工業(株)製)と4,4’−ジアミノジフェニル
メタン(商品名スミキュアーM, 住友化学工業(株)
製)とをN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、得ら
れた樹脂ワニスを実施例1〜2と後硬化条件を200℃
で3時間行う以外は同様の方法で銅張り積層板とした。
この積層板の物性を実施例1〜2と同様の方法で測定し
た。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 N, N '-(4,4'-diaminodiphenylmethane) bismaleimide (trade name Bestrex BH-180, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and 4,4'-diaminodiphenylmethane (trade name) Sumicure M, Sumitomo Chemical Co., Ltd.
Was dissolved in N, N-dimethylformamide, and the obtained resin varnish was prepared in Examples 1 and 2 at 200 ° C.
Except for 3 hours.
The physical properties of this laminate were measured in the same manner as in Examples 1 and 2. Table 1 shows the results.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】実施例4〜8 合成例2で得られたポリマレイミド化合物と各種芳香族
ジアミン化合物を表2で示す割合で配合し加熱溶融混合
して均一な樹脂混合物を得た。該樹脂混合物をプレス成
形機にて200℃で2時間成形後、250℃で5時間後
硬化して樹脂硬化物を得た。この樹脂硬化物のガラス転
移温度および誘電率を測定した。ガラス転移温度は島津
製作所(株)製熱分析装置DT−30により求め、誘電
率の値は横河ヒューレットパッカード(株)製Mult
i−Frequency LCRmeter 4275
Aにより求めた室温、1MHzでの試料の静電容量から
算出した。表2に測定結果を示す。
Examples 4 to 8 The polymaleimide compound obtained in Synthesis Example 2 and various aromatic diamine compounds were blended in the proportions shown in Table 2 and melted by heating to obtain a uniform resin mixture. The resin mixture was molded at 200 ° C. for 2 hours with a press molding machine, and post-cured at 250 ° C. for 5 hours to obtain a cured resin. The glass transition temperature and the dielectric constant of the cured resin were measured. The glass transition temperature was determined by a thermal analyzer DT-30 manufactured by Shimadzu Corporation, and the value of the dielectric constant was determined by Multi manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.
i-Frequency LCRmeter 4275
Calculated from the capacitance of the sample at room temperature and 1 MHz obtained by A. Table 2 shows the measurement results.

【0053】比較例2 比較例1と同一組成の樹脂配合物を溶剤を使わずに加熱
溶融混合して実施例4〜8と後硬化条件を200℃で3
時間行う以外は同様の方法で樹脂硬化物とした。ガラス
転移温度、および誘電率を実施例4〜8と同様に測定し
た結果を表2に示す。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 A resin composition having the same composition as in Comparative Example 1 was heated and melt-mixed without using a solvent.
A cured resin was obtained in the same manner except that the curing was performed for a long time. Table 2 shows the results of measuring the glass transition temperature and the dielectric constant in the same manner as in Examples 4 to 8.

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【発明の効果】かくして得られた本発明の熱硬化性樹脂
組成物およびその銅張り積層板は耐熱性に優れかつ低誘
電率であるため多層プリント基板用として有用である。
The thermosetting resin composition of the present invention thus obtained and the copper-clad laminate thereof are excellent in heat resistance and have a low dielectric constant, so that they are useful for multilayer printed circuit boards.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 1/05 H05K 1/05 // C08F 299/02 C08F 299/02 (72)発明者 神尾 邦政 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株 式会社内 (56)参考文献 特開 平2−24324(JP,A) 特開 昭63−275562(JP,A) 特開 昭62−181335(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 73/00 - 73/26 C08L 79/00 - 79/08 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H05K 1/05 H05K 1/05 // C08F 299/02 C08F 299/02 (72) Inventor Kunimasa Kamio 6 Kitahara, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Sumitomo Chemical Co., Ltd. (56) References JP-A-2-24324 (JP, A) JP-A-63-275562 (JP, A) JP-A-62-181335 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl 7, DB name) C08G 73/00 -. 73/26 C08L 79/00 - 79/08

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式(1): 【化1】 (式中、Pは、それぞれ独立に、炭素数1〜10のアル
キル基、アルキロキシ基またはアルキルチオ基、炭素数
6〜10のアリール基、アリーロキシ基またはアリール
チオ基、炭素数5〜10のシクロアルキル基、ハロゲン
原子、ニトロ基、水酸基あるいはメルカプト基を表し、
jは0以上4以下の整数値を示す。jが2以上4以下の
場合、Pは同一環内で同じであってもよいし異なってい
てもよい。Qはそれぞれ独立に、炭素数1〜10のアル
キル基、アルキロキシ基またはアルキルチオ基、炭素数
6〜10のアリール基、アリーロキシ基またはアリール
チオ基、ハロゲン原子、水酸基あるいはメルカプト基を
表し、kは0以上3以下の整数値を示す。kが2以上3
以下の場合、Qは同一環内で同じであってもよいし異な
っていてもよい。Xは一般式(2): 【化2】 (式中、Qおよびkは前記と同様のものを示し、nは平
均繰り返し単位数であり、0.5以上20以下の数値を
示す。)で表される構造を主たる構造として有する。)
で表されるポリマレイミド化合物(A)及び該ポリマレ
イミド化合物と反応して三次元架橋を生ずる反応成分
(B)とからなる熱硬化性樹脂組成物。
1. A compound represented by the general formula (1): (Wherein P is independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group or an alkylthio group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group or an arylthio group, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms) , Represents a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group or a mercapto group,
j represents an integer value of 0 or more and 4 or less. When j is 2 or more and 4 or less, P may be the same or different in the same ring. Q independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group or an alkylthio group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group or an arylthio group, a halogen atom, a hydroxyl group or a mercapto group; Indicates an integer value of 3 or less. k is 2 or more and 3
In the following cases, Q may be the same or different in the same ring. X is a general formula (2): (Wherein, Q and k are the same as described above, n is the average number of repeating units, and is a numerical value of 0.5 or more and 20 or less). )
A thermosetting resin composition comprising: a polymaleimide compound (A) represented by the formula: and a reaction component (B) that reacts with the polymaleimide compound to form three-dimensional crosslinking.
【請求項2】前記反応成分(B)がトリアリルシアヌレ
ートである請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。
2. The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein said reaction component (B) is triallyl cyanurate.
【請求項3】前記反応成分(B)が芳香族ジアミンであ
る請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。
3. The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein said reaction component (B) is an aromatic diamine.
【請求項4】請求項1、2または3記載の熱硬化性樹脂
組成物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸、乾燥して得
られるプリプレグと銅箔とを重ね合わせ加熱積層成形し
てなる銅張り積層板。
4. A prepreg obtained by dissolving the thermosetting resin composition according to claim 1, 2 or 3 in an organic solvent, impregnating a substrate, and drying, and laminating and heat laminating. Copper clad laminate.
JP4049360A 1991-12-27 1992-03-06 Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same Expired - Lifetime JP3033327B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4049360A JP3033327B2 (en) 1992-03-06 1992-03-06 Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same
PCT/JP1992/001030 WO1993012933A1 (en) 1991-12-27 1992-08-12 Polyamino-oligomer and polymaleimide compound
EP9292917861A EP0577836A4 (en) 1991-12-27 1992-08-12 Polyamino-oligomer and polymaleimide compound
US08/066,099 US5399715A (en) 1991-12-27 1992-08-12 Polyamino oligomers and polymaleimide compounds

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4049360A JP3033327B2 (en) 1992-03-06 1992-03-06 Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05247202A JPH05247202A (en) 1993-09-24
JP3033327B2 true JP3033327B2 (en) 2000-04-17

Family

ID=12828858

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4049360A Expired - Lifetime JP3033327B2 (en) 1991-12-27 1992-03-06 Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3033327B2 (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7011125B2 (en) 2003-11-18 2006-03-14 The Goodyear Tire & Rubber Company Tire with rubber sidewall containing internal electrically conductive rubber strip
CN112105654A (en) * 2018-08-06 2020-12-18 日本化药株式会社 Curable resin mixture, curable resin composition, and cured product thereof
KR102572049B1 (en) * 2019-04-26 2023-08-30 디아이씨 가부시끼가이샤 curable resin composition
JP7434886B2 (en) * 2019-12-25 2024-02-21 Dic株式会社 (Meth)acrylate resin composition, curable resin composition, cured product and article
JP7419801B2 (en) * 2019-12-25 2024-01-23 Dic株式会社 Acid group-containing acid group-containing (meth)acrylate resin, curable resin composition, insulating material, resin material for solder resist, and resist member
JP7452204B2 (en) * 2020-04-01 2024-03-19 味の素株式会社 resin composition
JP7375658B2 (en) * 2020-04-01 2023-11-08 味の素株式会社 resin composition
TW202138409A (en) * 2020-04-06 2021-10-16 日商Dic股份有限公司 Curable resin, curable resin composition, and cured product
JP7160151B1 (en) 2021-07-01 2022-10-25 Dic株式会社 Polymaleimide compounds, curable compositions, cured products, prepregs, circuit boards, build-up films, semiconductor sealing materials, and semiconductor devices.
JP2023152756A (en) 2022-03-31 2023-10-17 Dic株式会社 Curable composition, cured product, prepreg, circuit board, build-up film, semiconductor sealant and semiconductor device
JP2023152755A (en) 2022-03-31 2023-10-17 Dic株式会社 Curable composition, cured product, prepreg, circuit board, build-up film, semiconductor sealant and semiconductor device
JP2023152757A (en) 2022-03-31 2023-10-17 Dic株式会社 Curable composition, cured product, prepreg, circuit board, build-up film, semiconductor sealant and semiconductor device
JP2023152754A (en) 2022-03-31 2023-10-17 Dic株式会社 Curable composition, cured product, prepreg, circuit board, build-up film, semiconductor sealant and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05247202A (en) 1993-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3033327B2 (en) Thermosetting resin composition and copper-clad laminate using the same
US5399715A (en) Polyamino oligomers and polymaleimide compounds
JP4968044B2 (en) Method for producing polyimide compound, thermosetting resin composition, and prepreg and laminate using the same
JP6971222B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg and its cured product
JP5499544B2 (en) Thermosetting insulating resin composition, and prepreg, film with resin, laminated board, and multilayer printed wiring board using the same
KR20140133892A (en) Method for producing curing agent having acidic substituent and unsaturated maleimide group, thermosetting resin composition, prepreg, and laminate
US5041478A (en) Resin composition for printed circuit board
US5439986A (en) Thermo-curable resin composition, and a method for producing a copper-clad laminate using same
JPH01121356A (en) Thermosetting resin composition and prepreg and laminated board produced by using same
JPH07120858B2 (en) Multilayer printed circuit board and manufacturing method thereof
JP7152839B1 (en) Maleimide resin mixture, curable resin composition, prepreg and cured product thereof
JP7157277B1 (en) Curable resin composition, prepreg and cured product thereof
JPH05132540A (en) Curing agent for epoxy resin and curing of epoxy resin therewith
US5329047A (en) Aromatic allyl amine thermosetting resin composition
US5397419A (en) Thermosetting imide oligomer and manufacturing method of heat resistant laminated sheet using the same
JPS635423B2 (en)
EP0567993B1 (en) Thermosetting imide oligomer and manufacturing method of heat resistant laminated sheet using the same
JPH0693117A (en) Heat-resistant laminate material and production thereof
JP2880037B2 (en) Unsaturated dicarboxylic acid imide resin composition
JPH0535730B2 (en)
JPH05320337A (en) Production of imide resin
JPH0693118A (en) Heat-resistant laminate material and production thereof
JPH03265630A (en) Curing or flame-retarding polyaminobismaleimide resin composition
JP3404071B2 (en) Novel curable resin and its composition
JPH047378B2 (en)