JPH0689795A - Plasma gun and plasma generation device - Google Patents

Plasma gun and plasma generation device

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JPH0689795A
JPH0689795A JP4238275A JP23827592A JPH0689795A JP H0689795 A JPH0689795 A JP H0689795A JP 4238275 A JP4238275 A JP 4238275A JP 23827592 A JP23827592 A JP 23827592A JP H0689795 A JPH0689795 A JP H0689795A
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plasma
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plasma gun
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outlet
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義則 川崎
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忠秀 白川
Takashi Nakabayashi
貴 中林
一 ▲桑▼原
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Abstract

PURPOSE:To enhance the producing efficiency by forming a plasma source outlet, anode, and outgoing port with elliptical sections, and generating a large area plasma easily. CONSTITUTION:A pair of convergence coils 5, 6 installed between a vacuum vessel 2 and a plasma gun 3 and counter-electrode 4 are formed in a ring having elliptical section longitudinally and the plasma P passing through its inside is converged into, approx. a sheet form, and the surface area of the plasma P is increased. The plasma gun 3 is surrounded by a cylindrical magnetic shield 7, and the shield is provided so that the line of magnetic force is not deviated to the plasma gun side. The outgoing port of plasma P and an anode installed alongside the inside surface of a plasma chamber are formed elliptical. A large area is obtained by forming the plasma with an elliptical section, in this manner, to lead to enhancement of the producing efficiency in the field of a film forming process and chemical processes, and also provision of the magnetic shield precludes influence of the line of magnetic force on the plasma which leads to enhancement of the reliability.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプラズマCVD、プラズ
マ溶解、アーク放電によるイオンプレーティングなどに
使用するプラズマ銃及びプラズマ発生装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma gun and a plasma generator used for plasma CVD, plasma melting, ion plating by arc discharge and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プラズマ発生装置は、プラズマ銃
でプラズマを発生させたプラズマを直接処理母材に照射
したり、処理母材に蒸着する蒸着分子に衝突させてイオ
ン化させるなどの種々の用途に使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, plasma generators have various uses such as direct irradiation of plasma generated by a plasma gun onto a processing base material, collision with vaporized molecules deposited on the processing base material and ionization. Is used for.

【0003】このプラズマ発生装置は例えば、図7に示
すように、真空容器aの一側部にプラズマ銃bを備える
と共に、他側部にこのプラズマ銃bと対向するように対
向電極cを備え、また、このプラズマ銃bと対向電極c
間に一対の集束コイルdを備えた構成をしており、さら
に、この真空容器a内に蒸発材料が入れられたルツボe
と処理母材fを配置すると共に、電子銃gを備えること
でイオンプレーティング装置として使用されることにな
る。
For example, as shown in FIG. 7, this plasma generator is provided with a plasma gun b on one side of a vacuum container a and an opposite electrode c on the other side so as to face the plasma gun b. , The plasma gun b and the counter electrode c
A crucible e in which a pair of focusing coils d is provided between the crucible e and an evaporating material is placed in the vacuum container a.
By disposing the processing base material f and providing the electron gun g, it can be used as an ion plating device.

【0004】そして、図示するように、ルツボe内の蒸
発材料に電子銃gからビームBを当てて蒸発させ、これ
を真空容器a内上部に配置された処理母材fに被膜させ
る際に、プラズマ銃bから出射される略円柱状のプラズ
マで蒸発粒子をイオン化させて、被膜を形成すべき処理
母材fへの到達を促進して良好な被膜が形成されるよう
にしたものである。また、この集束コイルdはプラズマ
銃bから出射されるプラズマの周囲に磁場を発生させて
プラズマ銃bから出射されるプラズマが拡散するのを防
止する働きを成している。また、プラズマ銃bは図5及
び図6に示すように、一端に出射口hが開口された円筒
状のプラズマチャンバーi内に、プラズマを発生する円
筒形のプラズマ源jと、一対のリング状の陽極k,lを
備えた構成をしており、プラズマ源jに導入されたガス
Gをアーク放電によってプラズマ化し、これを陽極k,
lの電界によって出射口h側へ引き出して出射するもの
である。
Then, as shown in the figure, when the beam B is applied from the electron gun g to the evaporation material in the crucible e to evaporate it and the processing base material f disposed in the upper part of the vacuum container a is coated with it, The substantially cylindrical plasma emitted from the plasma gun b ionizes the vaporized particles to accelerate their arrival at the processing base material f on which the coating film is to be formed, so that a favorable coating film is formed. The focusing coil d also has a function of generating a magnetic field around the plasma emitted from the plasma gun b to prevent the plasma emitted from the plasma gun b from diffusing. Further, as shown in FIGS. 5 and 6, the plasma gun b has a cylindrical plasma source j for generating plasma and a pair of ring-shaped plasma sources in a cylindrical plasma chamber i having an emission port h at one end. Of the gas k introduced into the plasma source j is turned into plasma by arc discharge, and this is converted into the anode k, l.
The electric field of l pulls out and emits to the side of the emission port h.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、成膜プロセ
ス、化学プロセス分野においては生産効率を向上させる
ために、できるだけ大面積のプラズマが必要となってき
ているが、上述したような、従来のプラズマ発生装置の
場合では、プラズマ銃bから出射されるプラズマは円筒
形状をしてため、その面積は小さいものであった。その
ため、本発明者らは上記集束コイルdを楕円形状に形成
し、プラズマ銃bから出射された円筒形状のプラズマを
偏平状に集束することで、プラズマ面積を増大させたプ
ラズマ発生装置を先に提案している(特願平4−213
11号等)。
By the way, in the field of film forming process and chemical process, plasma having a large area as much as possible is required in order to improve the production efficiency. In the case of the generator, since the plasma emitted from the plasma gun b has a cylindrical shape, its area is small. Therefore, the inventors of the present invention first formed the focusing coil d into an elliptical shape and focused the cylindrical plasma emitted from the plasma gun b into a flat shape, so that the plasma generation device having an increased plasma area was first performed. Proposed (Japanese Patent Application No. 4-213)
No. 11, etc.).

【0006】しかしながら、この方法では、集束コイル
dによってのみプラズマを偏平させているため、その偏
平率には限度があり、さらに大きな面積、すなわちシー
ト状のプラズマを得ることは困難であった。また、さら
にプラズマを集束成形するために設けられた集束コイル
dの磁力線がプラズマ銃b内にも流れてしまい、プラズ
マ銃bで発生するプラズマに悪影響を及ぼしてしまうこ
とがあった。
However, in this method, the flatness of the plasma is limited only by the focusing coil d, so that the flatness is limited and it is difficult to obtain a larger area, that is, a sheet-shaped plasma. In addition, the magnetic force lines of the focusing coil d provided for further focusing the plasma may also flow into the plasma gun b, which may adversely affect the plasma generated in the plasma gun b.

【0007】そこで、本発明は上述した問題点を有効に
解決するために案出されたものであり、その目的は大面
積のプラズマを容易に得ることができると共に、集束コ
イルの磁力線によるプラズマへの悪影響を未然に防止す
ることができる新規なプラズマ銃及びプラズマ発生装置
を提供するものである。
Therefore, the present invention has been devised in order to effectively solve the above-mentioned problems, and the purpose thereof is to easily obtain a large-area plasma and to generate plasma by the magnetic field lines of the focusing coil. It is intended to provide a novel plasma gun and a plasma generator capable of preventing the adverse effects of the above.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第一の発明は出射口を備えたプラズマチャンバー内
に、プラズマ出口を備えたプラズマ源と、該プラズマ源
の下流側に設けられ、該プラズマ源で発生したプラズマ
を引き出すためのリング状の陽極とを備えたプラズマ銃
において、上記プラズマ出口と陽極及び出射口の断面形
状を、楕円形に形成するプラズマ銃であり、また、第二
の発明は、真空容器の一側部に、プラズマを放出するプ
ラズマ銃を設けると共に該プラズマ銃と対向する他側部
に対向電極を設け、これらプラズマ銃と対向電極間に、
集束の磁力線を形成するための集束コイルを備えたプラ
ズマ発生装置において、上記プラズマ銃の周囲に、これ
を囲繞するように磁性体からなる磁気シールドを設けた
プラズマ発生装置である。
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is to provide a plasma source having a plasma outlet in a plasma chamber having an outlet, and a plasma source provided downstream of the plasma source. A plasma gun having a ring-shaped anode for drawing out plasma generated in the plasma source, wherein the plasma outlet, the anode, and the outlet have a cross-sectional shape of an ellipse. In the invention of claim 1, a plasma gun for emitting plasma is provided on one side of the vacuum container and an opposite electrode is provided on the other side opposite to the plasma gun, and between the plasma gun and the opposite electrode,
A plasma generator provided with a focusing coil for forming magnetic lines of focus, wherein a magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma gun so as to surround the plasma gun.

【0009】[0009]

【作用】第一の発明は上述したように、プラズマ出口と
陽極及び出射口の断面形状が、楕円形に形成されている
ため、プラズマ出口から陽極によって引き出され、陽極
を通過して出射口から出射されるまで、プラズマは全て
短軸1に対して長軸2以上の断面楕円形の円錐状に形成
されることになる。また、第二の発明は上述したよう
に、プラズマ銃の周囲に、これを囲繞するように磁性体
からなる磁気シールドを設けたため、プラズマ銃はシー
ルドされて集束コイルから発生する磁力線が流れず、プ
ラズマ銃の作用に悪影響を及ぼすことがない。
As described above, according to the first aspect of the invention, since the plasma outlet, the anode and the emission port are formed in an elliptical cross-section, the plasma is extracted from the plasma outlet by the anode, passes through the anode and passes through the emission port. Until the plasma is emitted, all the plasma is formed into a conical shape having an elliptical cross section with a major axis 2 and a major axis 2 or more. Further, as described above, in the second invention, since the magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma gun so as to surround the plasma gun, the plasma gun is shielded and the magnetic field lines generated from the focusing coil do not flow, It does not adversely affect the action of the plasma gun.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て詳述する。
An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

【0011】図1は本発明に係るプラズマ発生装置1の
一実施例を示したものである。図示するように、このプ
ラズマ発生装置1は、真空容器2の一側部に、プラズマ
を放出するプラズマ銃3が設けられており、このプラズ
マ銃3と対向する他側部には、これと対向するように、
対向電極4が設けられている。また、このプラズマ銃3
と真空容器2の間および対向電極4と真空容器2との間
には一対の集束コイル5,6が設けられており、図示す
るような磁力線を発生し、プラズマ銃3から出射される
プラズマPを真空容器2を通過させて対向電極4に案内
している。また、この集束コイル5,6は図2に示すよ
うに、断面縦方向に楕円形をしたリング状に形成されて
おり、内部を通過するプラズマPを略シート状に集束
し、真空容器2内でのプラズマPの表面積を増大させて
いる。また、図示するように、プラズマ銃3の周囲には
これを囲繞するように、円筒状の磁性体からなる磁気シ
ールド7が設けられており、上記集束コイル5,6で発
生する磁力線がプラズマ銃3側に流れないようにシール
ドしている。
FIG. 1 shows an embodiment of a plasma generator 1 according to the present invention. As shown in the figure, the plasma generator 1 is provided with a plasma gun 3 for emitting plasma on one side of the vacuum container 2, and on the other side opposite to the plasma gun 3 facing the plasma gun 3. To do
A counter electrode 4 is provided. Also, this plasma gun 3
A pair of focusing coils 5 and 6 are provided between the vacuum chamber 2 and the vacuum chamber 2 and between the counter electrode 4 and the vacuum chamber 2 to generate a magnetic field line as shown in the drawing and to emit plasma P emitted from the plasma gun 3. Is guided through the vacuum container 2 to the counter electrode 4. Further, as shown in FIG. 2, the focusing coils 5 and 6 are formed in a ring shape having an elliptical shape in the longitudinal direction of the cross section, and focus the plasma P passing through the inside into a substantially sheet shape, and The surface area of the plasma P is increased. Further, as shown in the figure, a magnetic shield 7 made of a cylindrical magnetic material is provided around the plasma gun 3 so as to surround the plasma gun 3, and magnetic force lines generated by the focusing coils 5 and 6 are generated in the plasma gun. It is shielded so that it does not flow to the 3 side.

【0012】また、図3に示すように、このプラズマ銃
3は、一端にプラズマPの出射口8aが形成された筒状
のプラズマチャンバ8内に、プラズマPを発生する陰極
となるプラズマ源9と、プラズマチャンバ8内周面に沿
って設けられ、コイルが内臓されたリング状の二つの陽
極10,11とが収容されてる。また、図4に示すよう
に、これらプラズマ出口9a、陽極10,11、出射口
8はそれぞれ横軸Aに対して縦軸Bが1:2以上の楕円
形に形成されており、さらに、これらの断面積はプラズ
マ出口9a<陽極10<陽極11<出射口8といったよ
うに、下流側にいくに従って、その開口面積が順次、大
きくなるように形成されている。
As shown in FIG. 3, the plasma gun 3 has a plasma source 9 serving as a cathode for generating the plasma P in a cylindrical plasma chamber 8 having an exit 8a for the plasma P formed at one end. And two ring-shaped anodes 10 and 11 which are provided along the inner peripheral surface of the plasma chamber 8 and have a coil therein. Further, as shown in FIG. 4, each of the plasma outlet 9a, the anodes 10 and 11, and the outlet 8 is formed in an elliptical shape in which the vertical axis B is 1: 2 or more with respect to the horizontal axis A. The cross-sectional area of is such that the opening area of the plasma outlet 9a <anode 10 <anode 11 <exit opening 8 gradually increases toward the downstream side.

【0013】次に、本実施例の作用を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.

【0014】図3に示すように、プラズマ銃3のプラズ
マ源9に窒素、アルゴン、水素等のガスGを流し、所定
の電圧を印加すると、このガスGは電離してイオンと電
子となり、プラズマPを発生する。そして、このプラズ
マPは先ず陽極10によってプラズマ出口9aより引き
出され、さらに陽極11によって加速されてプラズマチ
ャンバ8の出射口8aより真空容器2側に出射される。
この時、上述したように、プラズマ出口9a、陽極1
0、陽極11、出射口8aが楕円形に形成されているた
め、出射口8aから出射されるプラズマPは、断面が横
軸Aに対して縦軸Bが1:2以上の楕円形をした円錘状
となって出射されることになる。
As shown in FIG. 3, when a gas G of nitrogen, argon, hydrogen or the like is passed through the plasma source 9 of the plasma gun 3 and a predetermined voltage is applied, the gas G is ionized to become ions and electrons, and plasma Generate P. Then, the plasma P is first drawn out from the plasma outlet 9a by the anode 10, further accelerated by the anode 11 and emitted from the emission port 8a of the plasma chamber 8 to the vacuum container 2 side.
At this time, as described above, the plasma outlet 9a, the anode 1
Since 0, the anode 11, and the emission port 8a are formed in an elliptical shape, the plasma P emitted from the emission port 8a has an elliptical cross section with a horizontal axis A and a vertical axis B of 1: 2 or more. The light is emitted in the shape of a cone.

【0015】次に、出射口8aより出射された断面楕円
状をした円錘状プラズマPは、一対の集束コイル5,6
によって図1に示すように発生している磁力線Mによっ
て拡散状態が集束され、図2に示すように断面略シート
状の帯状プラズマPに成形された後、その殆どが対向電
極4に到達することになる。また、プラズマ銃3側に流
れる磁力線Mは磁気シールド7を伝わって、その端部よ
り集束コイル5,6の内方側に流れ、プラズマPの集束
する働きをなすことになる。
Next, the conical plasma P having an elliptical cross section and emitted from the emission port 8a has a pair of focusing coils 5 and 6.
As shown in FIG. 2, the diffusion state is converged by the magnetic force lines M generated as shown in FIG. 1, and most of the diffused state reaches the counter electrode 4 after being formed into the band-shaped plasma P having a substantially sheet-shaped cross section. become. Further, the magnetic force lines M flowing to the plasma gun 3 side are transmitted through the magnetic shield 7, flow from the ends to the inside of the focusing coils 5 and 6, and serve to focus the plasma P.

【0016】このように、本発明のプラズマ銃は、これ
を構成するプラズマ出口、陽極、プラズマチャンバの出
射口がそれぞれ楕円形に形成されているため、断面楕円
形をしたプラズマPを出射することができる。従って、
プラズマ銃から出射されるプラズマPも予め断面楕円形
となっているため、集束コイルによる偏平率も小さくな
って容易にシート状のプラズマを得ることができる。ま
た、上述したように、プラズマ銃の周囲には、これを囲
繞するように磁気シールドが設けられているため、上記
集束コイルで発生する磁力線Mはプラズマ銃側に流れる
ことがなくなり、プラズマ銃で発生するプラズマへの悪
影響が未然に防止されることになる。
As described above, in the plasma gun of the present invention, since the plasma outlet, the anode, and the outlet of the plasma chamber constituting the plasma gun are each formed in an elliptical shape, the plasma P having an elliptical cross section can be emitted. You can Therefore,
Since the plasma P emitted from the plasma gun is also elliptical in cross section in advance, the flatness due to the focusing coil is reduced and a sheet-shaped plasma can be easily obtained. Further, as described above, since the magnetic shield is provided around the plasma gun so as to surround the plasma gun, the magnetic force lines M generated in the focusing coil do not flow to the plasma gun side, and The adverse effect on the generated plasma is prevented in advance.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、以下の如
き優れた効果を有する。
In summary, the present invention has the following excellent effects.

【0018】プラズマ銃から出射されるプラズマを予
め断面楕円形にすることにより、大面積のプラズマを容
易に得ることができるため、成膜プロセス、化学プロセ
ス分野等における生産効率の向上に寄与することができ
る。
By making the plasma emitted from the plasma gun have an elliptical cross section in advance, a large area plasma can be easily obtained, which contributes to the improvement of the production efficiency in the field of film forming process, chemical process and the like. You can

【0019】プラズマ銃の周囲に磁気シールドを設け
ることにより、集束コイルの磁力線によるプラズマへの
悪影響を未然に防止することができるため、装置の信頼
性が大巾に向上する。
By providing a magnetic shield around the plasma gun, it is possible to prevent adverse effects on the plasma due to the magnetic lines of force of the focusing coil, so that the reliability of the apparatus is greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のプラズマ発生装置の一実施例を示す概
略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of a plasma generator of the present invention.

【図2】図1中、A−A矢視図である。FIG. 2 is a view on arrow AA in FIG.

【図3】本発明のプラズマ銃の一実施例を示す側断面図
である。
FIG. 3 is a side sectional view showing an embodiment of the plasma gun of the present invention.

【図4】図3中、A−A矢視図である。FIG. 4 is a view on arrow AA in FIG.

【図5】従来のプラズマ銃の一実施例を示す側断面図で
ある。
FIG. 5 is a side sectional view showing an example of a conventional plasma gun.

【図6】図5中、A−A矢視図である。FIG. 6 is a view on arrow AA in FIG.

【図7】従来のプラズマ発生装置を用いたイオンプレー
ティング装置の一実施例を示す概略図である。
FIG. 7 is a schematic view showing an embodiment of an ion plating apparatus using a conventional plasma generator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラズマ発生装置 2 真空容器 3 プラズマ銃 4 対向電極 5,6 集束コイル 7 磁気シールド 8 プラズマチャンバー 8a 出射口 9 プラズマ源 9a プラズマ出口 10,11 陽極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma generator 2 Vacuum container 3 Plasma gun 4 Counter electrode 5,6 Focusing coil 7 Magnetic shield 8 Plasma chamber 8a Outlet port 9 Plasma source 9a Plasma outlet 10, 11 Anode

フロントページの続き (72)発明者 中林 貴 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 ▲桑▼原 一 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内Front page continuation (72) Inventor Takashi Nakabayashi 3-15-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji Technical Center (72) Inventor ▲ Kuwa ▼ hara Hajime Toyosu, Koto-ku, Tokyo 1-15 Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji Technical Center

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 出射口を備えたプラズマチャンバー内
に、プラズマ出口を備えたプラズマ源と、該プラズマ源
の下流側に設けられ、該プラズマ源で発生したプラズマ
を引き出すためのリング状の陽極とを備えたプラズマ銃
において、上記プラズマ出口と陽極及び出射口の断面形
状を、楕円形に形成することを特徴とするプラズマ銃。
1. A plasma source provided with a plasma outlet in a plasma chamber provided with an outlet, and a ring-shaped anode provided downstream of the plasma source for extracting plasma generated in the plasma source. A plasma gun including: a plasma gun, wherein the plasma outlet, the anode, and the outlet have a cross-sectional shape of an ellipse.
【請求項2】 真空容器の一側部に、プラズマを放出す
るプラズマ銃を設けると共に該プラズマ銃と対向する他
側部に対向電極を設け、これらプラズマ銃と対向電極間
に、集束の磁力線を形成するための集束コイルを備えた
プラズマ発生装置において、上記プラズマ銃の周囲に、
これを囲繞するように磁性体からなる磁気シールドを設
けたことを特徴とするプラズマ発生装置。
2. A plasma gun for emitting plasma is provided on one side of the vacuum container, and an opposite electrode is provided on the other side opposite to the plasma gun, and a magnetic force line for focusing is provided between the plasma gun and the opposite electrode. In a plasma generator provided with a focusing coil for forming, around the plasma gun,
A plasma generator characterized in that a magnetic shield made of a magnetic material is provided so as to surround this.
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JP2019061778A (en) * 2017-09-25 2019-04-18 株式会社Ihi Plasma actuator

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6443872B1 (en) 2000-10-12 2002-09-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for protecting automatic clutch from overheating
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