JPH0689477B2 - Liquid leakage prevention device in continuous plating equipment - Google Patents

Liquid leakage prevention device in continuous plating equipment

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JPH0689477B2
JPH0689477B2 JP1002336A JP233689A JPH0689477B2 JP H0689477 B2 JPH0689477 B2 JP H0689477B2 JP 1002336 A JP1002336 A JP 1002336A JP 233689 A JP233689 A JP 233689A JP H0689477 B2 JPH0689477 B2 JP H0689477B2
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JP
Japan
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plating
strip
liquid leakage
leakage prevention
liquid
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JP1002336A
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Inventor
千秋 佐藤
Original Assignee
大正工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明連続めっき装置における液もれ防止装置を以下の
項目に従って詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The liquid leakage prevention apparatus in the continuous plating apparatus of the present invention will be described in detail according to the following items.

A.産業上の利用分野 B.発明の概要 C.従来技術[第8図乃至第10図] D.発明が解決しようとする課題[第8図乃至第10図] E.課題を解決するための手段 F.実施例[第1図乃至第7図] a.めっき部の概要[第1図、第2図] b.液もれ防止装置[第1図乃至第7図] c.作用[第1図乃至第7図] G.発明の効果 (A.産業上の利用分野) 本発明は新規な連続めっき装置における液もれ防止装置
に関する。詳しくは、走行される条体に連続的にめっき
を施す連続めっき装置における液処理槽の前後両端壁に
設けられる液もれ防止装置に関し、従来のものに比較し
て、条体やめっきに傷を付けることがなく、液もれが少
なく、更に、寿命が長いと共に保守も容易である新規な
連続めっき装置における液もれ防止装置を提供しようと
するものである。
A. Industrial fields of use B. Outline of the invention C. Prior art [Figs. 8 to 10] D. Problems to be solved by the invention [Figs. 8 to 10] E. To solve the problems Means F. Embodiment [Figs. 1 to 7] a. Outline of plating section [Figs. 1 and 2] b. Liquid leakage prevention device [Figs. 1 to 7] c. Action [ 1 to 7] G. Effect of the Invention (A. Field of Industrial Application) The present invention relates to a liquid leakage prevention device in a novel continuous plating apparatus. More specifically, regarding the liquid leakage prevention device installed on the front and rear end walls of the liquid treatment tank in a continuous plating device that continuously plating the running strip, compared to the conventional one, scratches on the strip and plating SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid leakage prevention device for a new continuous plating device which does not have to be attached, has little liquid leakage, and has a long life and is easy to maintain.

(B.発明の概要) 本発明連続めっき装置における液もれ防止装置は、液処
理槽の前後両端壁の内側に各々2本のシールロールを並
べて配設し、2本のシールロールは条体が挿通されるス
リットを臨む部分を間に挟む状態で配列されるととも
に、シールロールの軸に直交する方向に移動自在、か
つ、各シールロールの周面が離接自在になるようにする
ことによって、条体が上記2本のシールロールの間を走
行されると条体とシールロールとの間に生じる摩擦力に
よってシールロールが回転し、かつ、該回転による摩擦
力によってシールロールが条体に密着するようになり、
更に、液処理槽内に液体の圧力によって上記スリット側
へ押圧され、これらのことによって、液処理槽からの液
もれを防止し、しかも、シールロールは条体の走行に伴
なう摩擦力によれ条体の面で回転するため、条体やその
上に施されためっきを傷付けることなく、更に、シール
ロールはその周面が条体に対して摺接するものではない
ため、シールロールの周面の摩擦が殆ど無く、従って、
長寿命であり、その保守もきわめて容易となる。
(B. Outline of the Invention) The liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention has two seal rolls arranged side by side inside the front and rear end walls of the liquid treatment tank, and the two seal rolls are strips. By arranging them so that the part facing the slit through which they are inserted is sandwiched between them, and is movable in the direction orthogonal to the axis of the seal rolls, and the peripheral surface of each seal roll is separable. When the strip travels between the two seal rolls, the seal roll rotates due to the frictional force generated between the strip and the seal roll, and the frictional force caused by the rotation causes the seal roll to form the strip. To come into close contact,
In addition, the liquid pressure in the liquid treatment tank is pressed toward the slit side, which prevents liquid leakage from the liquid treatment tank, and the seal roll has a frictional force that accompanies the running of the strip. Since it rotates on the surface of the streak, it does not damage the streak and the plating applied on it, and since the seal roll does not have its peripheral surface in sliding contact with the streak, There is almost no friction on the peripheral surface, so
It has a long life and is extremely easy to maintain.

(C.従来技術)[第8図乃至第10図] 走行される条体に連続的にめっきを施す連続めっき装置
にあっては、条体がめっき槽、洗滌槽等多数の液処理槽
中を通過して行く過程においてめっきが為されて行く。
そして、各液処理槽はその中にめっき液、洗滌液等所要
の液が収納されていると共にそこを条体が通過して行く
ための出入口が設けられ、従って、該出入口における液
もれの防止が必要になる。
(C. Prior art) [Figs. 8 to 10] In a continuous plating apparatus for continuously plating traveling strips, strips are used in many liquid treatment tanks such as plating tanks and washing tanks. Plating is performed in the process of passing through.
Each of the liquid processing tanks contains therein a required liquid such as a plating liquid and a cleaning liquid, and an inlet / outlet for the strip to pass therethrough. Therefore, liquid leakage at the inlet / outlet is prevented. Prevention is needed.

第8図乃至第10図は従来の連続めっき装置における液も
れ防止装置の一例を示す。
8 to 10 show an example of a liquid leakage prevention device in a conventional continuous plating device.

aは連続めっき装置のめっき部であり、前後方向に長い
槽体b内の前後両端寄りの位置に隔壁c、c′が形成さ
れ、槽体bのうち該隔壁cとc′との間の部分dがめっ
き槽とされている。
Reference numeral a is a plating part of a continuous plating apparatus, in which partition walls c and c'are formed at positions near both front and rear ends in a tank body b which is long in the front-rear direction, and between the partition walls c and c'of the tank body b. The part d is a plating tank.

そして、隔壁c、c′には縦長のスリットe、e′が形
成され、また、槽体bの前後両端壁f、f′のうち上記
スリットe、e′に対応した箇所にも縦長のスリット
g、g′が形成されている。
Vertically elongated slits e and e'are formed in the partition walls c and c ', and vertically long slits are also formed in the front and rear end walls f and f'of the tank b corresponding to the slits e and e'. g and g'are formed.

尚、槽体bのうち前後両端壁f、f′と隔壁c、c′と
の間の部分h、h′は溢出部とされている。
In the tank body b, the portions h and h'between the front and rear end walls f and f'and the partition walls c and c'are overflow portions.

iは帯板状をした条体であり、前処理工程部を走行され
て来た後、上記めっき部aでめっきが施され次の処置工
程部へと走行されて行く。そして、条体iはめっき部a
では、前端壁fのスリットgから入り、前側隔壁cのス
リットeを経てめっき槽d内に達し、次いで、後側隔壁
c′のスリットe′、後端壁f′のスリットg′を経て
めっき部aから出て行く。そして、めっき槽d内では図
示しない噴射ノズルからめっき液が噴射されて絶えずめ
っき液が供給されていると共に、めっき槽dから溢出部
h、h′に出ためっき液は図示しないドレインを介して
回収され、再生された後再び噴射ノズルを介してめっき
槽d内に供給される。そして、条体iは図示しない電極
ロールを介してカソード化され、めっき槽d内に条体i
と対向配置された図示しないアノードとの間で電解作用
が起こり、これによって条体i上にめっきが為される。
Reference numeral i denotes a strip-shaped strip, which has been run through the pretreatment process section, is plated in the plating section a, and is run to the next treatment process section. The strip i is the plated part a.
Then, it enters from the slit g of the front end wall f, reaches the inside of the plating tank d through the slit e of the front partition wall c, and then the slit e ′ of the rear partition wall c ′ and the slit g ′ of the rear end wall f ′. Exit from part a. Then, in the plating tank d, the plating solution is sprayed from a spray nozzle (not shown) to constantly supply the plating solution, and the plating solution discharged from the plating tank d to the overflow portions h, h ′ is drained via a drain (not shown). After being recovered and regenerated, it is supplied again into the plating tank d through the injection nozzle. Then, the strip i is cathodized through an electrode roll (not shown), and is placed in the plating bath d.
And an anode (not shown) arranged opposite to each other cause an electrolytic action, whereby plating is performed on the strip i.

ところで、連続めっき装置においては様々の幅、厚さの
条体iが使用されるため、上記スリットe、e′、g、
g′はそのうちの最大サイズの条体iに適合する大きさ
に形成され、しかも、その縁が条体iに摺接して条体i
や条体i上に形成されためっきが傷付けられることを防
止するために、条体iに接触しないように稍大き目に形
成されている。そのために、めっき槽dのスリットe、
e′には何らかの液もれ防止策を構じないと、めっき槽
d内のめっき液が早急に溢出部h、h′へと流出してし
まい、めっき槽d内のめっき液の液面が低くなってしま
うという問題がある。
By the way, since the strips i having various widths and thicknesses are used in the continuous plating apparatus, the slits e, e ′, g,
g'is formed to have a size that fits the maximum size of the strip i, and its edge is slidably in contact with the strip i.
In order to prevent the plating formed on the strips i from being damaged, the strips are formed in a slightly large size so as not to come into contact with the strips i. Therefore, the slit e of the plating tank d,
If some measure for preventing liquid leakage is not applied to e ′, the plating solution in the plating tank d will immediately flow to the overflow parts h and h ′, and the liquid level of the plating solution in the plating tank d will be There is a problem of becoming low.

そこで、従来は図示のような液もれ防止装置jを採用し
ていた。
Therefore, conventionally, a liquid leakage prevention device j as shown in the figure has been adopted.

kは隔壁c、c′の外側面に形成された挿込部であり、
扁平で縦長の箱状に形成され、上端lが開口し、下端の
両端部m、mが閉塞され、更に、隔壁c、c′のスリッ
トe、e′に対応した箇所にスリットnが形成されてい
る。
k is an insertion portion formed on the outer surface of the partition walls c, c ′,
It is formed in a flat and vertically long box shape, the upper end 1 is opened, both ends m, m of the lower end are closed, and further, a slit n is formed at a position corresponding to the slits e, e ′ of the partition walls c, c ′. ing.

oはスポンジ板であり、上記挿込部k内にぴったりと収
納される大きさの板状をしており、かつ、一端近くから
他端にかけて延びるスリットpが形成されている。
Reference numeral o denotes a sponge plate, which has a plate shape of a size that can be exactly accommodated in the insertion portion k, and has a slit p extending from near one end to the other end.

qはスポンジホルダーであり、上記挿込部k内に稍余裕
を有した状態で挿し込み得る外形を有しており、かつ、
上端に開口した扁平の収納空間rを有しており、更に、
その前後両面壁に上記スリットe、e′及びnと対応し
たスリットs、sが形成されている。
q is a sponge holder, has an outer shape that can be inserted into the insertion portion k with a margin, and
It has a flat storage space r that opens at the top, and
Slits s, s corresponding to the slits e, e'and n are formed on both front and rear walls thereof.

そして、上記スポンジ板oがスポンジホルダーqの収納
空間r内に収納される。このとき、スポンジ板oは稍圧
縮された状態となる。そして、スポンジ板oを保持した
スポンジホルダーqが上記挿込部k内に挿し込まれる。
Then, the sponge plate o is stored in the storage space r of the sponge holder q. At this time, the sponge plate o is in a slightly compressed state. Then, the sponge holder q holding the sponge plate o is inserted into the insertion portion k.

そして、上記条体iは上記各スリットe、e′、n、
p、s、sを挿通される。そして、スポンジ板oはスポ
ンジホルダーqの収納空間r内に稍圧縮された状態で収
納されているため、そのスリットpで条体iに軽く圧接
された状態となり、これによって、めっき槽dからの液
もれが防止される。
Then, the strip i has the slits e, e ′, n,
p, s, s are inserted. Since the sponge plate o is accommodated in the accommodating space r of the sponge holder q in a slightly compressed state, it is in a state of being lightly pressed against the strip i by the slit p thereof. Liquid leakage is prevented.

(D.発明が解決しようとする課題)[第8図乃至第10
図] ところで、上記した連続めっき装置における液もれ防止
装置jにあっては、種々の問題がある。
(D. Problems to be Solved by the Invention) [Figs. 8 to 10]
[Fig.] By the way, there are various problems in the liquid leakage prevention device j in the above-mentioned continuous plating device.

先ず、長時間使用していると、条体iの面やエッジのバ
リ等によってスポンジ板oの条体iに接触する面が汚れ
たり、むしられたりし、そして、スポンジ板oの条体接
触面にスラジ等の異物が付着すると条体iの表面やそこ
に施されためっき面に傷が付き、特に、半田、錫等の軟
らかい金属のめっきの場合には短時間の使用でめっき面
に傷が出来るようになってしまう。従って、スポンジ板
oを頻繁に、通常は毎日、新品と交換する必要があり、
そのための手間及び材料費等、保守に要する費用が莫大
である。
First, when used for a long time, the surface of the sponge plate o and the surface of the sponge plate o that comes into contact with the strip i are soiled or scratched due to burr on the edges, and the sponge plate o contacts the strips. If foreign matter such as sludge adheres to the surface, the surface of the strip i or the plated surface applied to it will be scratched. Especially, in the case of plating soft metal such as solder or tin, it can be applied to the plated surface for a short time. You will be able to get scratches. Therefore, it is necessary to replace the sponge plate o with a new one frequently, usually every day.
The cost required for maintenance such as labor and material cost for that is enormous.

また、液処理槽の高さが高くなり液面位が高くなる程、
スポンジ板oにかかる面圧力の均等化が困難になり液も
れが生じ易くなる。
In addition, as the height of the liquid processing tank increases and the liquid level increases,
It becomes difficult to equalize the surface pressure applied to the sponge plate o, and liquid leakage easily occurs.

更に、条体iの継ぎ目、ダミー部と条体iとの継ぎ目が
スポンジ板oを通過するときに、スポンジ板oの位置が
ずれしまって液が多量に流出してしまうことがあり、か
つ、かかる状態が自然に元に戻らないという問題があ
る。
Further, when the joint of the strip i and the joint of the dummy part and the strip i pass through the sponge plate o, the position of the sponge plate o may be displaced and a large amount of liquid may flow out, and There is a problem that such a state does not return to the original.

また、スポンジが浴温が50℃を超えるとその弾性が低下
して防水効果が極端に低下するため、耐熱性に優れたス
ポンジを使用しなければならず、コスト高の原因とな
る。
Further, when the bath temperature of the sponge exceeds 50 ° C., its elasticity is lowered and the waterproof effect is extremely lowered, so that a sponge excellent in heat resistance must be used, which causes a cost increase.

(E.課題を解決するための手段) 本発明連続めっき装置における液もれ防止装置は、上記
した課題を解決するために、液処理槽の前後両端壁の内
側に各々2本のシールロールを並べて配設し、2本のシ
ールロールは条体が挿通されるスリットを臨む部分を間
に挟む状態で配列されるとともに、シールロールの軸に
直交する方向に移動自在、かつ、各シールロールの周面
が離接自在になるようにしたものである。
(E. Means for Solving the Problem) In order to solve the above-mentioned problems, the liquid leakage prevention device in the continuous plating device of the present invention has two seal rolls each inside the front and rear end walls of the liquid treatment tank. The two seal rolls are arranged side by side, and the two seal rolls are arranged so as to sandwich the portion facing the slit through which the strips are inserted, and are movable in the direction orthogonal to the axis of the seal rolls. It is designed so that the peripheral surface can be separated and contacted.

従って、本発明連続めっき装置における液もれ防止装置
にあっては、条体が上記2本のシールロールの間を走行
されると条体とシールロールとの間に生じる摩擦力によ
ってシールロールが回転し、かつ、該回転による摩擦力
によってシールロールが条体に密着するようになり、更
に、液処理槽内の液体の圧力によってシールロールがス
リット側へ、しかも、2つのシールロールが互いに密着
するように押圧され、これらによって、液処理槽からの
液もれを防止し、しかも、シールロールは条体の走行に
伴なう摩擦力により条体の面で回転するため、条体やそ
の上に施されためっきを傷付けることがなく、更に、シ
ールロールはその周面が条体に対して摺接するものでは
ないため、シールロールの周面の摩擦が殆ど無く、従っ
て、長寿命であり、その保守もきわめて容易となる。
Therefore, in the liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention, when the strip is run between the two seal rolls, the seal roll is formed by the frictional force generated between the strip and the seal roll. The seal roll rotates and comes into close contact with the strip due to the frictional force caused by the rotation, and further, the seal roll moves toward the slit side due to the pressure of the liquid in the liquid treatment tank, and the two seal rolls come into close contact with each other. To prevent liquid leakage from the liquid treatment tank, and because the seal roll rotates on the surface of the strip due to the frictional force accompanying the running of the strip, the strip and its There is no damage to the plating applied on the seal roll, and since the peripheral surface of the seal roll does not make sliding contact with the strip, there is almost no friction on the peripheral surface of the seal roll, and therefore the life is long. The maintenance also becomes extremely easy.

(F.実施例)[第1図乃至第7図] 以下に、本発明連続めっき装置における液もれ防止装置
の詳細を図示実施例に従って説明する。
(F. Embodiment) [FIGS. 1 to 7] The details of the liquid leakage prevention apparatus in the continuous plating apparatus of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments.

第1図乃至第7図は本発明連続めっき装置における液も
れ防止装置の実施の一例1を示すものである。
1 to 7 show an example 1 of implementation of the liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention.

尚、図示した実施例は本発明を連続めっき装置のめっき
部におけるめっき槽の液もれ防止装置に適用したもので
ある。
In the illustrated embodiment, the present invention is applied to a liquid leakage prevention device in a plating tank in a plating part of a continuous plating device.

(a.めっき部の概要)[第1図、第2図] 2は連続めっき装置におけるめっき部である。(A. Outline of plating section) [Figs. 1 and 2] 2 is a plating section in a continuous plating apparatus.

3は前後方向に長い槽体であり、その前後両端寄りの位
置に隔壁4、4′が形成され、槽体3が2つの隔壁4と
4′との間のめっき槽5と該めっき槽5の前後に連続し
た溢出部6、6′とに区分されている。
3 is a tank body which is long in the front-rear direction, and partition walls 4 and 4'are formed at positions near both front and rear ends thereof, and the tank body 3 has a plating tank 5 between the two partition walls 4 and 4'and the plating tank 5 Are divided into continuous overflow portions 6 and 6 '.

7、7′は隔壁4、4′の左右方向における中央で上下
方向に延びるように形成されたスリットである。そし
て、槽体3の前後両端壁の8、8′の左右方向における
中央部にも上記スリット7、7′に対応したスリット
9、9′が形成されている。
Numerals 7 and 7 ′ are slits formed so as to extend in the vertical direction at the center of the partition walls 4 and 4 ′ in the left-right direction. Further, slits 9 and 9'corresponding to the slits 7 and 7'are also formed in the center portions of the tank body 3 on both front and rear ends in the lateral direction of 8 and 8 '.

10は導電性を有する金属材料により帯状に形成された条
体であり、図示しない条体送行機構により、前端壁8の
スリット9を通って溢出部6に入り、次いで、スリット
7からめっき槽5内に入り、更に、スリット7′を通っ
てめっき槽5を出て後側の溢出部6′に入り、最後にス
リット9′を通ってめっき部2を出て行くように送行せ
しめられる。
Reference numeral 10 denotes a strip formed of a conductive metal material in a strip shape. The strip feeding mechanism (not shown) passes through the slit 9 of the front end wall 8 to enter the overflow portion 6, and then from the slit 7 to the plating tank 5 Then, it is sent so that it enters the inside, further exits the plating tank 5 through the slit 7 ', enters the overflow portion 6'on the rear side, and finally exits the plating portion 2 through the slit 9'.

11はめっき槽5の底部の左右方向における中央部に前後
方向に延びるように形成され前後方向に長い箱を伏せた
如き形状をしためっき液供給部であり、該めっき液供給
部11の上面から供給パイプ12、12、・・・が前後方向に
多数2列に並んで立設されている。そして、各供給パイ
プ12、12、・・・は左右に並んだ2本で一対を為し、互
いに対向した面に多数の噴射孔13、13、・・・が形成さ
れており、条体10は対を為す供給パイプ12、12、・・・
の間を走行される。
Reference numeral 11 denotes a plating solution supply part formed in a central part of the bottom part of the plating tank 5 in the left-right direction so as to extend in the front-rear direction, and has a shape like a long box lying in the front-rear direction. A large number of supply pipes 12, 12, ... Are arranged upright in two rows in the front-rear direction. The supply pipes 12, 12, ... Are paired with the two pipes arranged side by side, and a large number of injection holes 13, 13 ,. Supply pipes 12, 12, ...
Is run between.

14はめっき液供給部11の中央部から下方へ突出されたイ
ンレットであり、バルブ15を介してポンプ16に連結され
ている。
Reference numeral 14 is an inlet projecting downward from the center of the plating solution supply unit 11, and is connected to a pump 16 via a valve 15.

17はめっき液再生貯溜槽であり、そのアウトレット18は
バルブ19を介してポンプ16に連結されている。
Reference numeral 17 is a plating solution regeneration storage tank, and its outlet 18 is connected to a pump 16 via a valve 19.

しかして、めっき液再生貯溜槽17内のめっき液はアウト
レット18、バルブ19、ポンプ16、バルブ15、インレット
14を経てめっき液供給部11に供給され、そこから供給パ
イプ12、12、・・・を通ってその噴射孔13、13、・・・
から条体10へ向けて噴射される。
Then, the plating solution in the plating solution reclaiming storage tank 17 is the outlet 18, valve 19, pump 16, valve 15, inlet.
It is supplied to the plating solution supply unit 11 via 14 and from there, through the supply pipes 12, 12, ..., The injection holes 13, 13 ,.
It is jetted from the striation 10 to.

20、20′は溢出部6、6′の底部に設けられたドレイン
パイプであり、めっき槽5から溢出部6、6′の溢出し
ためっき液はそのドレインパイプ20、20′を介してめっ
き液貯溜再生槽17に戻され、ここで再生されて再びめっ
き槽5へ供給される。
Reference numerals 20 and 20 'denote drain pipes provided at the bottoms of the overflow portions 6 and 6', and the plating solution overflowed from the plating tank 5 to the overflow portions 6 and 6'through the drain pipes 20 and 20 '. It is returned to the storage regeneration tank 17, regenerated here, and supplied again to the plating tank 5.

21、21はめっき槽5内の左右方向における中央からそれ
ぞれ左右に寄った位置に配置されたアノードバーであ
り、これらアノードバー21、21にはアノード22、22、・
・・を保持したアノードケース23、23、・・・が支持さ
れている。そして、アノードバー21、21、が図示しない
給電手段と接続されて、アノード22、22、・・・が所定
の電位にされる。
Reference numerals 21 and 21 denote anode bars arranged at positions left and right from the center in the horizontal direction in the plating tank 5, and the anode bars 21 and 21 have anodes 22, 22 ,.
The anode cases 23, 23, ... Then, the anode bars 21, 21 are connected to a power feeding means (not shown), and the anodes 22, 22, ... Are set to a predetermined potential.

24、24は給電ロールであり、送行する条体10と接触して
回転しており、この給電ロール24、24を介して条体10が
アノード22、22、・・・の電位より低い電位に、例え
ば、接地レベルにされる。
24 and 24 are power supply rolls, which are in contact with the traveling strip 10 and are rotating, and the strip 10 is brought to a potential lower than the potentials of the anodes 22, 22, ... Via the feed rolls 24 and 24. , For example, to ground level.

しかして、めっき槽5内に条体10が完全に浸るまでめっ
き液が入れられ、更に、供給パイプ12、12・・・の噴射
孔13、13、・・・からめっき液が絶えず供給され、か
つ、新たに供給された量に相当する量のめっき液が溢出
部6、6′へ溢出されてめっき液貯溜再生槽17へ戻され
る。そして、条体10にはこのめっき槽5を通過する間に
めっきが施される。
Then, the plating solution is poured into the plating tank 5 until the strip 10 is completely immersed, and further, the plating solution is continuously supplied from the injection holes 13, 13, ... Of the supply pipes 12, 12. At the same time, an amount of the plating solution newly supplied is overflowed to the overflow portions 6 and 6'and returned to the plating solution reservoir regeneration tank 17. Then, the strip 10 is plated while passing through the plating tank 5.

(b.液もれ防止装置)[第1図乃至第7図] 25、25′は液もれ防止装置である。(B. Liquid leakage prevention device) [Figs. 1 to 7] 25 and 25 'are liquid leakage prevention devices.

尚、液もれ防止装置25と25′とは同じ構造をしているの
で、その一方25についてのみ詳細に説明し、他方25′に
ついては、液もれ防止装置25の各部と同様の部分に液も
れ防止装置25における同様の部分に付した符号と同じ符
号に「′」を付加した符号を付して詳細な説明を省略す
る。
Since the liquid leakage prevention devices 25 and 25 'have the same structure, only one of them will be described in detail, and the other 25' will be described in the same parts as the respective parts of the liquid leakage prevention device 25. The same reference numerals as those of the liquid leakage prevention device 25, which are the same as those of the liquid leakage prevention apparatus 25, are denoted by reference numerals with “′” added, and detailed description thereof is omitted.

26、26はシールロールであり、隔壁4の内側のスリット
7を臨む場所に並べて配設されている。そして、シール
ロール26、26は芯部27、27と該芯部27、27に覆着された
ライニング28、28とから成っている。
Numerals 26 and 26 are seal rolls, which are arranged side by side in a position facing the slit 7 inside the partition wall 4. The seal rolls 26, 26 are composed of core portions 27, 27 and linings 28, 28 covered by the core portions 27, 27.

芯部27、27は比較的剛性があり、かつ、耐薬品性に優れ
た材料、例えば、硬質塩化ビニル製のパイプ等で円管状
に形成されている。尚、この芯部27、27は円管状で無
く、両端が閉塞された円筒状、あるいはまた、ソリッド
な円柱状に形成されても良い。
The core portions 27, 27 are formed into a circular tube shape with a material having relatively high rigidity and excellent chemical resistance, such as a pipe made of hard vinyl chloride. The core portions 27, 27 may be formed in a cylindrical shape with both ends closed, or in a solid columnar shape, instead of the cylindrical shape.

ライニング28、28は芯部27、27の上下両端部27a、27a及
び27b、27bを除いた部分に覆着されており、比較的摩擦
係数が高く、かつ、弾性を有すると共に耐薬品性に優れ
た材料、例えば、軟質塩化ビニルで形成され、チューブ
状を為していて芯部27、27に外嵌状に固定されている。
The linings 28, 28 are covered on the parts of the core parts 27, 27 excluding the upper and lower end parts 27a, 27a and 27b, 27b, and have a relatively high coefficient of friction, elasticity and excellent chemical resistance. It is formed of another material, for example, soft vinyl chloride, has a tubular shape, and is fixed to the core portions 27, 27 in an externally fitted shape.

また、ライニング28、28表面の摩擦係数を増すために、
その外周面に軸方向に延びる多数の溝29、29、・・・が
形成されている。尚、摩擦係数を増すためにライニング
28、28の外周面に形成する溝は軸方向に延びるものだけ
でなく、網目状、格子状等々種々のものが考えられる。
また、シールロール26、26の構造そのものも芯部27、27
とライニング28、28との二層構造でなければならないと
いうものではない。
Also, in order to increase the friction coefficient of the lining 28, 28 surface,
A large number of grooves 29, 29, extending in the axial direction are formed on the outer peripheral surface thereof. In addition, lining to increase the friction coefficient
The grooves formed on the outer peripheral surfaces of 28, 28 are not limited to those extending in the axial direction, and various shapes such as a mesh shape and a lattice shape can be considered.
In addition, the structure itself of the seal rolls 26, 26 is the core portion 27, 27.
It does not mean that the lining and the lining 28, 28 must be a two-layer structure.

30は隔壁4の内面に形成された下枠であり、スリット7
の下端より稍下方に位置している。そして、該下枠30の
上面には左右方向に長い受凹部31が形成されている。そ
して、この受凹部31の深さはシールロール26、26の芯部
27、27の下端部27b、27bの長さより僅かに小さくされて
いる。
Reference numeral 30 denotes a lower frame formed on the inner surface of the partition wall 4, and the slit 7
It is located a little below the bottom edge of. Further, a receiving recess 31 which is long in the left-right direction is formed on the upper surface of the lower frame 30. The depth of the receiving recess 31 is the core of the seal roll 26, 26.
It is made slightly smaller than the length of the lower end portions 27b, 27b of 27, 27.

32も隔壁4の内面に形成された上枠である。該上枠32は
スリット7の上端より稍上方に位置している。そして、
該上枠32には下枠30に形成された受凹部31と略同形状の
左右方向に長い受孔33が形成されている。
32 is also an upper frame formed on the inner surface of the partition wall 4. The upper frame 32 is located slightly above the upper end of the slit 7. And
The upper frame 32 is formed with a receiving hole 33 which is substantially the same shape as the receiving recess 31 formed in the lower frame 30 and which is long in the left-right direction.

34は上枠32の上面に着脱自在に取着される蓋板であり、
該蓋板34が上枠32に取着されることによって上枠32に形
成された受孔33の上面が閉塞されるようになっている。
34 is a lid plate detachably attached to the upper surface of the upper frame 32,
By attaching the cover plate 34 to the upper frame 32, the upper surface of the receiving hole 33 formed in the upper frame 32 is closed.

しかして、2本のシールロール26、26は左右に並んだ状
態で、その下端部27b、27bが下枠30の受凹部31内に稍余
裕を有した状態で受け入れられ、また、上端部27a、27a
が上枠32の受孔33内に同じく余裕を有した状態で受け入
れられ、それから、蓋板34が上枠32に取着されることに
よって、2本のシールロール26、26は下枠30と上枠32に
回転自在にかつこれらからの脱落を防止された状態で、
更に、互いに離接自在な状態で支持される。
Therefore, the two seal rolls 26, 26 are arranged side by side, and the lower end portions 27b, 27b thereof are received in the receiving recess 31 of the lower frame 30 with a margin, and the upper end portion 27a. , 27a
Is received in the receiving hole 33 of the upper frame 32 with a margin, and then the cover plate 34 is attached to the upper frame 32, whereby the two seal rolls 26, 26 are separated from the lower frame 30. In a state where it can be freely rotated on the upper frame 32 and is prevented from falling off from these,
Further, they are supported so that they can be separated from and contacted with each other.

そして、条体10は上記のように支持されたシールロール
26と26との間を送行される。
The strip 10 is a seal roll supported as described above.
Routed between 26 and 26.

(C.作用)[第1図乃至第7図] しかして、条体10が送行されると、その送行に伴なって
2つのシールロール26、26が回転せしめられ、そして、
シールロール26、26はその上下両端部27a、27a及び27
b、27bと下枠30及び上枠32との間の回転に伴う摩擦によ
って条体10の両面に密着しながら回転するようになる。
また、めっき槽5内に収容されためっき液35の圧力はシ
ールロール26、26をスリット7の方へ向けて押圧するよ
うに働き、これらによって、2本のシールロール26、26
により液止め効果が発揮される。しかも、めっき槽5内
の液面位が高くなって液の圧力が増せば、それだけシー
ルロール26、26はスリット7側へ押し付けられるので液
面位が高くなることによって液止め効果が低下するとい
うことがなく、スリット7からは少しづつの液の溢出が
為されるに止まる。
(C. Action) [FIG. 1 to FIG. 7] However, when the strip 10 is fed, the two seal rolls 26, 26 are rotated along with the feeding, and
The seal rolls 26, 26 have upper and lower end portions 27a, 27a and 27.
The friction between the b and 27b and the lower frame 30 and the upper frame 32 causes them to rotate while closely contacting with both surfaces of the strip 10.
Further, the pressure of the plating solution 35 contained in the plating tank 5 works to press the seal rolls 26, 26 toward the slits 7, whereby the two seal rolls 26, 26 are pressed.
The liquid stopping effect is exhibited by. Moreover, if the liquid level in the plating tank 5 rises and the pressure of the liquid increases, the seal rolls 26, 26 are pushed toward the slit 7 side accordingly, and the liquid level becomes high, so that the liquid stopping effect decreases. No more, the liquid gradually overflows from the slit 7 and stops.

また、シールロール26、26は条体10の送行に伴なって回
転するので、シールロール26、26が条件10の表面を強く
擦るということが無く、従って、条体10の表面やそこに
施されためっきを傷付けるようなことも殆ど無く、しか
も、条体20とシールロール26、26との間の擦れが無いこ
とはシールロール26、26の摩耗や汚れも殆ど起こらず、
同じシールロール26、26を長時間に亘って使用すること
ができ、メンテナンスの省力化及び省資材化を図ること
ができ、ライニングコストを著しく低減することが可能
となる。
Further, since the seal rolls 26, 26 rotate with the feeding of the strip 10, the seal rolls 26, 26 do not rub the surface of the condition 10 strongly, and therefore, the surface of the strip 10 or the surface thereof is not rubbed. Almost no damage to the plated plating, moreover, the fact that there is no rubbing between the strip 20 and the seal rolls 26, 26 hardly causes wear or dirt of the seal rolls 26, 26,
The same seal rolls 26, 26 can be used for a long time, labor saving in maintenance and material saving can be achieved, and lining cost can be remarkably reduced.

(G.発明の効果) 以上に記載したところから明かなように、本発明連続め
っき装置における液もれ防止装置は、走行される条体に
連続的にめっきを施す連続めっき装置における液処理槽
の前後両端壁に条体が挿通される縦長のスリットを形成
し、液処理槽の前後両端壁の内側に各々2本のシールロ
ールを並べて配設し、該2本のシールロールは上記スリ
ットを臨む部分を間に挟む状態で配列されるとともに、
シールロールの軸に直交する方向に移動自在、かつ、各
シールロールの周面が離接自在になるようにされたこと
を特徴とする。
(G. Effects of the Invention) As is clear from the above description, the liquid leakage prevention device in the continuous plating device of the present invention is a liquid treatment tank in a continuous plating device for continuously plating a running strip. Longitudinal slits through which the strips are inserted are formed on both front and rear end walls of the liquid treatment tank, and two seal rolls are arranged side by side inside the front and rear end walls of the liquid treatment tank. It is arranged with the part facing it in between,
It is characterized in that it is movable in a direction orthogonal to the axis of the seal rolls, and the peripheral surface of each seal roll can be separated from and brought into contact with the seal roll.

従って、本発明連続めっき装置における液もれ防止装置
にあっては、条体が上記2本のシールロールの間を走行
されると条体とシールロールとの間に生じる摩擦力によ
ってシールロールが回転し、かつ、該回転による摩擦力
によってシールロールが条体に密着するようになり、更
に、液処理槽内の液体の圧力によって2本のシールロー
ルがスリット側へ、しかも、互いに密着する方向へ押圧
され、これらによって、液処理槽からの液もれを防止
し、しかも、シールロールは条体の走行に伴なう摩擦力
により条体の面で回転するため、条体やその上に施され
ためっきを傷付けることがなく、更に、シールロールは
その周面が条体に対して摺接するものではないため、シ
ールロールの周面の摩耗が殆ど無く、従って、長寿命で
あり、その保守もきわめて容易となる。
Therefore, in the liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention, when the strip is run between the two seal rolls, the seal roll is formed by the frictional force generated between the strip and the seal roll. A direction in which the seal rolls rotate and come into close contact with the strip due to the frictional force due to the rotation, and further, the two seal rolls come into close contact with the slit side due to the pressure of the liquid in the liquid processing tank It is pressed against and the liquid is prevented from leaking from the liquid treatment tank. Moreover, since the seal roll rotates on the surface of the strip due to the frictional force accompanying the traveling of the strip, It does not damage the applied plating, and since the peripheral surface of the seal roll is not in sliding contact with the strip, there is almost no wear on the peripheral surface of the seal roll, and therefore the life is long. Maintenance It becomes easy Te order.

尚、上記実施例では、本発明を連続めっき装置のめっき
部に適用したものを示したが、本発明はその他にも水洗
部等水や各種処理液を使った処理を行なう部分に適用す
ることが可能なことは言うまでもない。
In addition, in the above-mentioned embodiment, the present invention is shown to be applied to the plating part of the continuous plating apparatus, but the present invention may be applied to other parts such as a rinsing part where treatment with water or various treatment liquids is performed. It goes without saying that is possible.

更に、上記した実施例は、本発明連続めっき装置におけ
る液もれの防止装置の具体例の一を示したものに過ぎ
ず、本発明の技術的範囲が実施例に示したものに限定さ
れることを意味するものではなく、特許請求の範囲の記
載内容を逸脱しない限り種々の変更が可能である。
Furthermore, the above-mentioned embodiment is merely one of the specific examples of the liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention, and the technical scope of the present invention is limited to that shown in the embodiment. However, this does not mean that various modifications can be made without departing from the scope of the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図乃至第7図は本発明連続めっき装置における液も
れ防止装置の実施の一例を示すもので、第1図はめっき
部の概略平面図、第2図はめっき部の概略拡大縦断面
図、第3図は液もれ防止装置の斜視図、第4図は液もれ
防止装置の拡大平面図、第5図は第4図のV−V線に沿
う断面図、第6図は液もれ防止装置の拡大正面図、第7
図はシールロールの一部切欠拡大斜視図、第8図乃至第
10図は従来の連続めっき装置における液もれ防止装置の
一例を示すもので、第8図はめっき部の概略平面図、第
9図は液もれ防止装置の拡大斜視図、第10図はスポンジ
板の拡大斜視図である。 符号の説明 1(25、25)…連続めっき装置における液もれ防止装
置、 4、4′…液処理槽の前後両端壁、 5…液処理槽、 7、7′…スリット、10…条体、 26、26′…シールロール
1 to 7 show an example of the implementation of the liquid leakage prevention device in the continuous plating apparatus of the present invention. FIG. 1 is a schematic plan view of the plating part, and FIG. 2 is a schematic enlarged vertical cross section of the plating part. 3 and 4 are perspective views of the liquid leakage prevention device, FIG. 4 is an enlarged plan view of the liquid leakage prevention device, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4, and FIG. 7 is an enlarged front view of the liquid leakage prevention device.
The figure shows a partially cutaway enlarged perspective view of the seal roll, FIGS.
FIG. 10 shows an example of a liquid leakage prevention device in a conventional continuous plating apparatus. FIG. 8 is a schematic plan view of a plating part, FIG. 9 is an enlarged perspective view of the liquid leakage prevention device, and FIG. It is an expansion perspective view of a sponge board. Explanation of symbols 1 (25, 25) ... Liquid leakage prevention device in continuous plating equipment, 4, 4 '... Both front and rear walls of liquid treatment tank, 5 ... Liquid treatment tank, 7, 7' ... Slit, 10 ... Strip , 26, 26 '... Seal roll

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】走行される条体に連続的にめっきを施す連
続めっき装置における液処理槽の前後両端壁に条体が挿
通される縦長のスリットを形成し、 液処理槽の前後両端壁の内側に各々2本のシールロール
を並べて配設し、 該2本のシールロールは上記スリットを臨む部分を間に
挟む状態で配列されるとともに、シールロールの軸に直
交する方向に移動自在、かつ、各シールロールの周面が
離接自在になるようにされた ことを特徴とする連続めっき装置における液もれ防止装
1. Longitudinal slits through which a strip is inserted are formed on both front and rear end walls of a liquid treatment tank in a continuous plating apparatus for continuously plating a traveling strip. Inside, two seal rolls are arranged side by side, and the two seal rolls are arranged with the portion facing the slit sandwiched therebetween, and are movable in a direction orthogonal to the axis of the seal roll. The liquid leakage prevention device in the continuous plating device is characterized in that the peripheral surface of each seal roll is freely contactable and detachable.
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