JPH0687290A - ボ−ルペンチップの製造方法 - Google Patents

ボ−ルペンチップの製造方法

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JPH0687290A
JPH0687290A JP4265345A JP26534592A JPH0687290A JP H0687290 A JPH0687290 A JP H0687290A JP 4265345 A JP4265345 A JP 4265345A JP 26534592 A JP26534592 A JP 26534592A JP H0687290 A JPH0687290 A JP H0687290A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 真鍮、洋泊、ステンレス等のボ−ルペンチッ
プ1にタンクステンカ−バイトの焼結体、アルミナ、ジ
ルコニア、炭化硅素などのボ−ル3を抱持させた後、ボ
−ルペンチップ1上に、無電解置換めっき法により金、
パラジウム等の金属層2を形成する。 【効果】 耐摩耗性に優れ、潤滑性が良いボ−ルペンチ
ップが製品ごとのバラツキが少なく製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】ボ−ルペンチップにボ−ルを抱持
せしめた後、少なくともボ−ル受け座に無電解めっき法
でめっき層を形成したボ−ルペンチップの製造方法に関
し、耐摩耗性に優れ、潤滑性の高いボ−ルペンチップの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ボ−ルペンチップを長時間使用す
ると、ボ−ルとボ−ル受け座との摩耗により、ボ−ル沈
みが生じるため、ボ−ルペンチップを耐摩耗性の高い材
料により作るか、ボ−ルペンチップのボ−ル受け座上に
耐摩耗性の高い皮膜を形成することが知られている。
【0003】しかし、これらのボ−ルペンチップは、耐
摩耗性の高い材料を用いたものにおいては、チップ切削
時等、表面に凹凸が生じ、耐摩耗層を形成したものにお
いては潤滑性が不十分のため、ボ−ルがスム−ズに回転
せず、書き味の悪いものとなってしまう。
【0004】そこで、耐摩耗性、潤滑性に優れた金属め
っき層をボ−ル受け座表面に形成したボ−ルペン体が実
開昭50−26939号に開示されている。上記金めっ
き層として具体的には、フッ化カ−ボン入りニッケルま
たはフッ化カ−ボン入り銅めっきが開示されているが、
フッ化カ−ボンは粒子が大きいため、ボ−ルペンチップ
表面には凹凸が生じ、潤滑性においても不十分であり、
粒子の剥離が生じ易く、耐摩耗性においても不十分とな
る。また、予め、合成樹脂よりなるボ−ルペンチップの
ボ−ル嵌装孔の開口部をボ−ル外径よりやや小さく形成
しておき、上記チップにボ−ルを合成樹脂の弾性を利用
して圧入、抱持し、上記チップ表面にスパッタリングに
より薄膜を形成したチップが実開昭58−21475号
公報に、イオンプレ−ティングにより薄膜を形成した
後、ボ−ルを嵌装するチップが特開昭61−16489
8号公報に開示されている。実開昭58−21475号
公報に開示されている考案は、ボ−ル嵌装時、特開昭6
1−164898号公報に開示されている発明は、ボ−
ル脱着時にチップ開口部が変形し、ボ−ル抱持にバラツ
キが生じる恐れがある。また、ボ−ルペンチップの加工
は、ボ−ル抱持までを一連の加工機で加工してしまうた
め、途中のボ−ルを抱持しないチップを取り外し、めっ
き処理後、再度加工機に投入し、ボ−ルを抱持させるこ
とは、工程が煩雑となるばかりか、チップ加工精度の低
下を招く等の問題を生じる。
【0005】これらの問題を解決するため、本発明者ら
は、昭和63年10月31日出願の特願昭63−275
504号(特開平2−121898号)にボ−ル嵌装孔
にボ−ルを嵌め、先端部をかしめた後、少なくともボ−
ルペンチップ先端部表面に無電解めっきを施す旨のボ−
ルペンチップ製造方法を提案し、また、昭和63年12
月27日出願の特願昭63−335391(特開平2−
175195号)に少なくともボ−ル受け座に無電解め
っきなどによる金拡散めっき層を形成をした旨のボ−ル
ペンチップを提案した。
【0006】無電解めっき法は、皮膜の密着が良好
で、ある程度複雑な形状の材料にも均一な厚いめっきが
できる、皮膜は光沢があり平滑である、金属面上だ
けでなく、非金属面上へもめっき可能である、二重に
めっきできる、電気設備が不要である等のことから利
用されているものである。一般的に無電解めっきという
場合、還元型無電解めっき法によるめっきを指す場合が
多いが、この還元型無電解めっき法により材料にめっき
層を形成する場合、めっき析出反応時に還元性水素が発
生する。材料にめっき層が形成されるには材料がめっき
液と接触していることが必要であるが、前述した還元水
素の発生により材料とめっき液との接触が阻害されるこ
とがある。よって、ボ−ルペンチップのような形状の小
さいものや複雑な材料に対して十分なめっき層を形成で
きないこともあり、結果的にめっき層の形成状態にバラ
ツキが発生するという問題があり、更なる改良の余地が
残されていた。
【0007】
【問題を解決する為の手段】本発明は、ボ−ルペンチッ
プにボ−ルを抱持せしめた後、少なくともボ−ル受け座
に無電解めっき法でめっき層を形成したボ−ルペンチッ
プの製造方法において、前記めっき層を無電解置換めっ
き法により形成しためっき層としたことを特徴とするボ
−ルペンチップの製造方法を要旨とするものである。
【0008】以下、本発明を図面に基づき詳述する。図
1は本発明のボ−ルペンチップの一実施例を示す要部断
面図である。ボ−ルペンチップ1は真鍮、洋白などによ
りなるものである。該ボ−ルペンチップ1上には、無電
解置換めっき法により金属層2を形成するものであり、
金属層としては、金、パラジウムであり、その厚みは
0.01μm〜2μmが好ましい。ボ−ル3は、予めチ
ップに抱持されており、その材質は、従来一般に用いら
れてているもので良く、タングステンカ−バイトの焼結
体、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素などであればよ
い。めっき処理は、ボ−ルを抱持したボ−ルペンチップ
を一般公知の方法で浸漬脱脂、電解脱脂を行い、10%
程度の薄い塩酸などで活性化後、無電解置換めっき液に
浸漬し、処理すればよいものである。無電解置換めっき
は、ボ−ルペンチップ内部に入り込み、チップ材質の金
属と接触することにより、めっき液に含まれている金属
が析出し、めっき層を形成するため、チップ受け座とボ
−ルの隙間にも均一にめっき層が形成されるものであ
り、金などの潤滑性の高い金属層を形成することによ
り、書き味の向上、および潤滑性が高いため、受け座の
耐摩耗性が向上し、ボ−ルペンチップの耐久性が向上す
るものである。またチップに抱持されているボ−ルは、
耐薬品性が高く、めっき液による溶解が発生しないた
め、めっき液中の金属の析出は起こらないので、ボ−ル
ペンチップの小口の隙間を埋めることもないので、イン
キ吐出量にも影響せず、筆記時でのカスレなどの問題も
発生しない。
【0009】図2は、本発明の方法により作製したボ−
ルペンチップを繰出し式の油性ボ−ルペンカ−トリッジ
Aに使用した例を示す要部断面図である。カ−トリッジ
Aは、上述したボ−ルペンチップ1、軸4、尾栓5から
なる。このカ−トリッジA内にベンジルアルコ−ルやフ
ェニルセロソルブ、プロピレングリコ−ル等を溶剤とし
て使用した油性ボ−ルペンインキとポリブテンなどを基
材としたインキ逆流防止体組成物が充填される。ボ−ル
ペンチップ1には前述のように、その内外面に無電解置
換めっき法で形成しためっき層2が形成されている。
【0010】軸4は、銅65%、亜鉛35%の真鍮製
で、パイプ材に絞り加工を施すことにより形成される。
この軸4の内外表面にも金めっき層が形成されている。
その形成方法としては、種々の方法が可能であるが、本
例においては、無電解ニッケルめっき液(ブル−シュ−
マ−、日本カニゼン(株)製)を5倍に希釈した液温9
0℃の無電解めっき液に10分間浸漬することによりニ
ッケル−リン合金層2μmを形成し、に、金めっき液
(カラクラッド427、EEJA社製)30℃、0.1
A/dm2 次に2分処理し、金めっき層を0.1μm形
成したものをクロメ−ト処理液(ECR500、荏原ユ
−ジライト(株))を使用し、50℃、陰極で0.5A
/dm2 30秒処理して、クロメ−ト皮膜を形成(所
謂、クロメ−ト処理)し、収容するインキに対して耐腐
食性の高いものとしてある。また、快削真鍮製の尾栓5
にも光沢の電気ニッケルめっき層5μm形成し、同様に
して金めっき処理を施すことにより、ボ−ルペンリフィ
ル全体に金の皮膜を施すことができ、外観上美しいばか
りか、各部材を別にめっき処理することにより、各嵌合
部にもめっき層を形成し、耐腐食性、耐摩耗性、液漏れ
防止等を付与することもできる。
【0011】ここで、めっき処理後の製品により光沢を
付与したい場合、ニッケル−リン合金層を形成した後に
電気めっき法によって光沢ニッケルめっき層を5μm程
度形成してから金めっき層を形成することもできる。
【0012】また、上記めっき処理の際、ボ−ルペンチ
ップ1、軸4、尾栓5のうち2つを選択して結合してめ
っき処理を施したり、3部品それぞれを結合させてボ−
ルペンリフィルの形としてからめっき処理を施すなど適
宜できるが、インキに対する耐腐食性の観点からリフィ
ルの内面にめっき層を施すためには、めっき処理前に軸
4と結合させておくのはボ−ルペンチップ1、尾栓5の
どちらかのみにするか、どちらも結合させておかないこ
とが好ましい。
【0013】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明を更に詳述す
る。
【0014】(実施例1)洋白よりなるボ−ルペンチッ
プにタングステンカ−バイトの焼結体により形成された
ボ−ルを抱持した。これを浸漬脱脂液E66(日本Ma
ndT社製)の20g/l、50℃に5分間浸漬、その
後電解脱脂液E33(日本MandT社製)の40g/
l、55℃に浸漬し、陰極として、8Vの電圧を印加
し、5分間電解脱脂を行った。その後酸性フッ化アンモ
ニウムの100g/lの液に浸漬し活性化処理を行っ
た。無電解置換めっき液として、金めっき液(アトメッ
クス、日本エンゲルハルド社製)の90℃に20分間浸
漬することにより金めっき層を1.0μm全体に形成し
たボ−ルペンチップを得た。
【0015】(実施例2)実施例1で用いたボ−ルペン
チップを用い、ボ−ルはアルミナを使用した。前処理は
実施例1と同じ処理を実施し、無電解置換めっき液は塩
化パラジウム5.0g/l、35%塩酸7ml/l、温
度20℃に10分間浸漬することにより、ボ−ルペンチ
ップ全体にPdめっき層を0.3μm形成したボ−ルペ
ンチップを得た。
【0016】(比較例1)実施例1で用いたボ−ルペン
チップとボ−ルをそのまま使用した。
【0017】(比較例2)真鍮よりなるボ−ルペンチッ
プのボ−ル嵌装孔にアルミナ製のボ−ルを嵌め、チップ
先端をかしめ、この後、液温90℃のNiCl2・6H2
O 30g/l、NaH2PO2・H2O 10g/l、
Na3657・2H2O 12.6g/l、エにaC2
32 5g/lよりなる無電解めっき液に30分間浸
漬し、熱処理を施し、チップ表面に膜厚4.0μmのニ
ッケル−リン合金めっき層を形成したボ−ルペンチップ
を得た。
【0018】(比較例3)真鍮よりなるボ−ルペンチッ
プを、無電解ニッケルめっき液(ブル−シュ−マ−、日
本ガ−ゼン(株)製)を5倍に希釈した液温90℃の無
電解めっき液に6分間浸漬することにより、ニッケル−
リン合金層を3μm形成した。次に、液温90℃の無電
解金めっき液(アレナックス、日本エンゲルベルト
(株)製)に200分間浸漬し、金めっき層を3.0μ
m形成した。次にボ−ル嵌装孔にアルミナ製のボ−ルを
嵌め、先端をかしめ、窒素雰囲気中にて、400℃、3
時間熱処理し、金を拡散させることにより、金拡散めっ
き層を形成したボ−ルペンチップを得た。
【0019】得られたボ−ルペンチップ各100個に軸
を取付け、油性インキを充填した後、尾栓を取付け、ボ
−ルペンリフィルとし、書き味を感覚で捉え、官能試験
を実施した結果、実施例1、2及び比較例3、4につい
てはザラツキが無く、良好な書き味であったが、比較例
1の無処理のボ−ルペンチップは、滑らかさが無かっ
た。また、これらのサンプルについてボ−ル沈み試験を
実施した結果と、各実施例、比較例を100個づつ作製
し試験した結果の不良率を表1に示す。
【0020】
【表1】 *1 ボ−リ沈み試験:上質紙JIS P−3201を
用い、筆圧荷重200g、筆記角度70゜にて800m
筆記し、投影法により、筆記前のボ−ルペンチップ先端
からボ−ルの突出部までの長さと筆記した後の長さの差
を各サンプル100個づつ測定し、その平均値を算出し
た。 *2 不良率:各製品100個中、前記ボ−ル沈みが
0.05mm以上のものを不良とした。
【0021】以上の結果の様に、本発明のボ−ルペンチ
ップは、ボ−ルペンチップにボ−ルを抱持せしめた後、
少なくともボ−ル受け座に無電解めっき法でめっき層を
形成したボ−ルペンチップの製造方法において、前記め
っき層を無電解置換めっき法により形成しためっき層と
したので、耐摩耗性に優れ、潤滑性が良い製品が不良と
なる製品ごとのバラツキが少なく製造できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例を示す要部断面図。
【図2】実施例を示す要部断面図。
【符号の説明】
A ボ−ルペンカ−トリッジ 1 ボ−ルペンチップ 2 金属層 3 ボ−ル 4 軸 5 尾栓

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ボ−ルペンチップにボ−ルを抱持せしめ
    た後、少なくともボ−ル受け座に無電解めっき法でめっ
    き層を形成したボ−ルペンチップの製造方法において、
    前記めっき層を無電解置換めっき法により形成しためっ
    き層としたことを特徴とするボ−ルペンチップの製造方
    法。
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