JPH0686992B2 - 光学装置の冷却機 - Google Patents
光学装置の冷却機Info
- Publication number
- JPH0686992B2 JPH0686992B2 JP4194785A JP19478592A JPH0686992B2 JP H0686992 B2 JPH0686992 B2 JP H0686992B2 JP 4194785 A JP4194785 A JP 4194785A JP 19478592 A JP19478592 A JP 19478592A JP H0686992 B2 JPH0686992 B2 JP H0686992B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refrigerant
- channels
- flow
- optical device
- macro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F3/00—Plate-like or laminated elements; Assemblies of plate-like or laminated elements
- F28F3/12—Elements constructed in the shape of a hollow panel, e.g. with channels
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28D—HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
- F28D9/00—Heat-exchange apparatus having stationary plate-like or laminated conduit assemblies for both heat-exchange media, the media being in contact with different sides of a conduit wall
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
- G02B7/1815—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation with cooling or heating systems
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F2260/00—Heat exchangers or heat exchange elements having special size, e.g. microstructures
- F28F2260/02—Heat exchangers or heat exchange elements having special size, e.g. microstructures having microchannels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光学装置の冷却機に
関し、特に、光学装置の内部を冷媒流を制御する光学装
置の冷却機に関する。
関し、特に、光学装置の内部を冷媒流を制御する光学装
置の冷却機に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学装置としては、光レ−ザ−、或いは
Ｘ線用モノクロメ−タ−のように、高エネルギ−放射線
と組み合わせて使用するように構成されたものが知られ
ている。これらの光学装置は、高エネルギ−放射線の吸
収により与えられる熱変形による悪影響を軽減するため
の冷却が必要とされている。極端な熱変形は、結果とし
て光学装置の熱による歪み、即ち装置の材料自体の拡張
による歪みを引き起こし、或いは、温度差による光学装
置材料の不均一な拡張に起因して曲げられている。 こ
れらの問題を軽減するために、光学装置を冷却するため
のいくつかの冷却装置が開発されている。光学装置の冷
却に適した方法には、内部冷却を使用する方法がある。
光学装置は、所望の冷却を得るために、光学装置近くに
冷媒を分配できるよう冷却マニホ−ルドに搭載されてい
る。冷却能率を高めるために、一定して乱れる冷媒流が
望まれている。
Ｘ線用モノクロメ−タ−のように、高エネルギ−放射線
と組み合わせて使用するように構成されたものが知られ
ている。これらの光学装置は、高エネルギ−放射線の吸
収により与えられる熱変形による悪影響を軽減するため
の冷却が必要とされている。極端な熱変形は、結果とし
て光学装置の熱による歪み、即ち装置の材料自体の拡張
による歪みを引き起こし、或いは、温度差による光学装
置材料の不均一な拡張に起因して曲げられている。 こ
れらの問題を軽減するために、光学装置を冷却するため
のいくつかの冷却装置が開発されている。光学装置の冷
却に適した方法には、内部冷却を使用する方法がある。
光学装置は、所望の冷却を得るために、光学装置近くに
冷媒を分配できるよう冷却マニホ−ルドに搭載されてい
る。冷却能率を高めるために、一定して乱れる冷媒流が
望まれている。
【０００３】一般的に光学装置は、所望の放射線を受け
取るためにさらされた表面をもつ光学表面板を有してい
る。最高の実例として、表面板材料の冷却される表面
は、さらされた表面板表面の 0.1mmから 1.0mmの厚さ内
に設置されている。それゆえに、 0.1mmから 1.0mmの範
囲を越える表面板の必要以上の厚さは、不必要とされ、
構造上の機械的強度を得るという目的のためだけに必要
とされている。最も能率的な冷却を可能にするために、
有効領域は冷媒のすぐ近くにあるべきである。それゆえ
に、表面板は可能な限り薄く形成されることが望まし
い。
取るためにさらされた表面をもつ光学表面板を有してい
る。最高の実例として、表面板材料の冷却される表面
は、さらされた表面板表面の 0.1mmから 1.0mmの厚さ内
に設置されている。それゆえに、 0.1mmから 1.0mmの範
囲を越える表面板の必要以上の厚さは、不必要とされ、
構造上の機械的強度を得るという目的のためだけに必要
とされている。最も能率的な冷却を可能にするために、
有効領域は冷媒のすぐ近くにあるべきである。それゆえ
に、表面板は可能な限り薄く形成されることが望まし
い。
【０００４】薄い表面板を有することは望ましいが、一
方ではこの望ましい特徴は新たな問題を発生する。薄い
表面板は、その構造が弱く、それゆえ圧力により或いは
冷媒の独特な流れにより悪影響が及ぼされる。冷媒の高
い圧力は、高い空間的な振動（水圧による微振動）を引
き起こし、表面板にそり、或いは曲げを生じる。冷媒流
の乱れは、表面板に振動を発生する。表面板表面の変位
或いは移動は、結果的に表面板の形或いはデ−タを歪ま
せる。
方ではこの望ましい特徴は新たな問題を発生する。薄い
表面板は、その構造が弱く、それゆえ圧力により或いは
冷媒の独特な流れにより悪影響が及ぼされる。冷媒の高
い圧力は、高い空間的な振動（水圧による微振動）を引
き起こし、表面板にそり、或いは曲げを生じる。冷媒流
の乱れは、表面板に振動を発生する。表面板表面の変位
或いは移動は、結果的に表面板の形或いはデ−タを歪ま
せる。
【０００５】非常に小さな冷却用チャンネルを提供する
ことは、従来の技術においては習慣的になりつつある。
この冷却用チャンネルには、通常マイクロチャンネルが
適用され、このマイクロチャンネルは表面板によって覆
われている冷媒マニホ−ルドの表面に沿っている。この
表面板は、本質的には冷却チャンネルの１つの壁にとし
て形成されている。この構造は、冷媒が表面板の材料に
直接触れるという有益な結果を生じる半面、冷媒流の乱
れによる冷媒圧力及び振動が表面板に与えられる問題が
ある。
ことは、従来の技術においては習慣的になりつつある。
この冷却用チャンネルには、通常マイクロチャンネルが
適用され、このマイクロチャンネルは表面板によって覆
われている冷媒マニホ−ルドの表面に沿っている。この
表面板は、本質的には冷却チャンネルの１つの壁にとし
て形成されている。この構造は、冷媒が表面板の材料に
直接触れるという有益な結果を生じる半面、冷媒流の乱
れによる冷媒圧力及び振動が表面板に与えられる問題が
ある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置のほとんど
は、各冷却チャンネルへの冷媒流の制御に多少注意を払
うか、或いは各冷却チャンネルがそれ自身に注入口、排
出口、及び冷媒流の制御手段を有し、冷媒流の微小操作
を行うか、のいずれかの制御が行われている。初期の制
御方法は、結果として単純な形状を生じたが、結果的
に、光学装置に受け入れられない熱歪みを引き起こすや
や不均一な冷却が行われている。一方、最近の制御方法
は、非常に複雑であり、各マイクロチャンネルの冷媒流
の制御が必要とされ、結果的にコストが非常に高くな
る。
は、各冷却チャンネルへの冷媒流の制御に多少注意を払
うか、或いは各冷却チャンネルがそれ自身に注入口、排
出口、及び冷媒流の制御手段を有し、冷媒流の微小操作
を行うか、のいずれかの制御が行われている。初期の制
御方法は、結果として単純な形状を生じたが、結果的
に、光学装置に受け入れられない熱歪みを引き起こすや
や不均一な冷却が行われている。一方、最近の制御方法
は、非常に複雑であり、各マイクロチャンネルの冷媒流
の制御が必要とされ、結果的にコストが非常に高くな
る。
【０００７】この発明の目的は、内部的に冷却される光
学装置を通過する一定した冷媒流を提供することのでき
る冷却機を提供するにある。
学装置を通過する一定した冷媒流を提供することのでき
る冷却機を提供するにある。
【０００８】さらに、この発明の目的は、冷媒流を制御
するための、光学装置の外方に設けられたクリア開口を
有する冷却機を提供するにある。
するための、光学装置の外方に設けられたクリア開口を
有する冷却機を提供するにある。
【０００９】この発明の主要な目的は、光学装置の内部
熱交換器により供給される冷却を経済的にコントロ−ル
することのできる冷却機を供給するにある。
熱交換器により供給される冷却を経済的にコントロ−ル
することのできる冷却機を供給するにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明は、内部冷却さ
れる光学装置に適した独特のマニホ−ルド構造を採用す
ることにより、冷媒流がまったく或いはほとんど制御さ
れていない従来技術の装置の問題点を解消するものであ
り、このマニホ−ルド構造は、効率のよい冷却、温度制
御、及び一定な冷媒流を提供するものである。つまり、
この発明によれば、マニホ−ルドは、複数のマイクロチ
ャンネルのそれぞれが１つのマクロチャンネルにまとめ
られるように形成されている。これら複数のマクロチャ
ンネルは、物理的に互いに分割され、各マクロチャンネ
ルは、供給ヘッダ側の注入口及び復帰ヘッダ側の排出口
をそれぞれ有している。マクロチャンネルの排出口に
は、オリフィスに向かって先細になる出口用高圧空間が
設けられ、このオリフィスのサイズは、全てのマクロチ
ャンネルにおいて供給ヘッダから復帰ヘッダへかけて同
様な圧力降下が与えられるように制御されている。供給
ヘッダ上方の各マクロチャンネル同士の物理的分割には
リブ構造物が使用されている。複数のリブは、その上に
表面板が載置されているマニホ−ルド表面へ延び、複数
のマクロチャンネル領域で、冷却された表面板を支持す
るという追加の機能を有している。
れる光学装置に適した独特のマニホ−ルド構造を採用す
ることにより、冷媒流がまったく或いはほとんど制御さ
れていない従来技術の装置の問題点を解消するものであ
り、このマニホ−ルド構造は、効率のよい冷却、温度制
御、及び一定な冷媒流を提供するものである。つまり、
この発明によれば、マニホ−ルドは、複数のマイクロチ
ャンネルのそれぞれが１つのマクロチャンネルにまとめ
られるように形成されている。これら複数のマクロチャ
ンネルは、物理的に互いに分割され、各マクロチャンネ
ルは、供給ヘッダ側の注入口及び復帰ヘッダ側の排出口
をそれぞれ有している。マクロチャンネルの排出口に
は、オリフィスに向かって先細になる出口用高圧空間が
設けられ、このオリフィスのサイズは、全てのマクロチ
ャンネルにおいて供給ヘッダから復帰ヘッダへかけて同
様な圧力降下が与えられるように制御されている。供給
ヘッダ上方の各マクロチャンネル同士の物理的分割には
リブ構造物が使用されている。複数のリブは、その上に
表面板が載置されているマニホ−ルド表面へ延び、複数
のマクロチャンネル領域で、冷却された表面板を支持す
るという追加の機能を有している。
【００１１】供給ヘッダ及び復帰ヘッダは、互いに対向
した２つの供給注入口及び互いに対向した２つの復帰排
出口を有するように、装置の相対向する側に分けて設け
られている。２対の注入口及び排出口は、互いに90度の
角度で配置されている。このような配置は、光学装置に
及ぼされ、供給時及び排出時に光学装置に作用する力を
均一化する。各マクロチャンネルの出口側の高圧空間
は、光学装置の高圧出口付近の流れの乱れによる悪影響
を減少させるように、光学装置の有効開口領域の外側に
配置されている。
した２つの供給注入口及び互いに対向した２つの復帰排
出口を有するように、装置の相対向する側に分けて設け
られている。２対の注入口及び排出口は、互いに90度の
角度で配置されている。このような配置は、光学装置に
及ぼされ、供給時及び排出時に光学装置に作用する力を
均一化する。各マクロチャンネルの出口側の高圧空間
は、光学装置の高圧出口付近の流れの乱れによる悪影響
を減少させるように、光学装置の有効開口領域の外側に
配置されている。
【００１２】本発明の独特な利用によって、各マクロチ
ャンネルは、供給ヘッダからの同量の冷媒を除去するよ
うに制御され、それによって、流れ制御を容易にし、流
れが引き起こす乱れを小さくする。もし望まれるなら
ば、与えられる熱がより小さい領域へ、少ない冷媒流を
供給するために、マクロチャンネルは所望の形状に形成
され、クリア開口の領域内における表面板の一定な歪み
を供給する加熱及び冷却速度が適合される。
ャンネルは、供給ヘッダからの同量の冷媒を除去するよ
うに制御され、それによって、流れ制御を容易にし、流
れが引き起こす乱れを小さくする。もし望まれるなら
ば、与えられる熱がより小さい領域へ、少ない冷媒流を
供給するために、マクロチャンネルは所望の形状に形成
され、クリア開口の領域内における表面板の一定な歪み
を供給する加熱及び冷却速度が適合される。
【００１３】
【作用】内部的に冷却される光学装置は、相反する側に
設置された２つの冷媒注入口と、相反する側に設置され
た２つの冷媒排出口とを有するマニホ−ルドと、このマ
ニホールド上に平行になるように載置される表面板とを
有している。２対の冷媒注入口及び冷媒排出口は、互い
に直角に配置されている。２つの冷媒注入口から注入さ
れる冷媒は、光学装置を横断するように延びる供給ヘッ
ダを通過され、この供給ヘッダから上方に延びる複数の
マクロチャンネルに供給される。各マクロチャンネル
は、複数のマイクロチャンネルに連結されており、この
マイクロチャンネルは、光学装置の表面板の表面と平行
に配置されているマニホ−ルド表面に沿って配置されて
いる。そして冷媒はこれらのマクロチャンネル及びマイ
クロチャンネルを通って流れる。尚、マイクロチャンネ
ルは、上記の表面板により密閉され流路が確保されると
ともに、冷媒を表面板に直接接触させるように構成され
ている。複数のマイクロチャンネルを通過された冷媒
は、高圧出口に供給される。高圧出口は、オリフィスに
向かって先細に形成されており、このオリフィスによっ
て冷媒の圧力が調節される。各マクロチャンネルの各の
オリフィスは、各マクロチャンネルが本質的に同じ圧力
降下をもつように、１つのマクロチャンネルに連結され
る複数のマイクロチャンネルの長さによって寸法づけら
れており、一定した冷媒流が各マクロチャンネル内に供
給される。このようにオリフィスを介して排出される冷
媒は、オリフィスの下方に設けられた復帰ヘッダを介し
て冷媒排出口へ導かれる。
設置された２つの冷媒注入口と、相反する側に設置され
た２つの冷媒排出口とを有するマニホ−ルドと、このマ
ニホールド上に平行になるように載置される表面板とを
有している。２対の冷媒注入口及び冷媒排出口は、互い
に直角に配置されている。２つの冷媒注入口から注入さ
れる冷媒は、光学装置を横断するように延びる供給ヘッ
ダを通過され、この供給ヘッダから上方に延びる複数の
マクロチャンネルに供給される。各マクロチャンネル
は、複数のマイクロチャンネルに連結されており、この
マイクロチャンネルは、光学装置の表面板の表面と平行
に配置されているマニホ−ルド表面に沿って配置されて
いる。そして冷媒はこれらのマクロチャンネル及びマイ
クロチャンネルを通って流れる。尚、マイクロチャンネ
ルは、上記の表面板により密閉され流路が確保されると
ともに、冷媒を表面板に直接接触させるように構成され
ている。複数のマイクロチャンネルを通過された冷媒
は、高圧出口に供給される。高圧出口は、オリフィスに
向かって先細に形成されており、このオリフィスによっ
て冷媒の圧力が調節される。各マクロチャンネルの各の
オリフィスは、各マクロチャンネルが本質的に同じ圧力
降下をもつように、１つのマクロチャンネルに連結され
る複数のマイクロチャンネルの長さによって寸法づけら
れており、一定した冷媒流が各マクロチャンネル内に供
給される。このようにオリフィスを介して排出される冷
媒は、オリフィスの下方に設けられた復帰ヘッダを介し
て冷媒排出口へ導かれる。
【００１４】
【実施例】図１には、光学的表面板12、冷媒マニホ−ル
ド14、及び基板16を備え、円柱形状で、且つ、内部が冷
却された光学装置10が示されている。表面板12の材料
は、その光学装置10が有する特定の機能によって初めに
決定される。この材料には、例えば単結晶シリコン、ゼ
ロデュア(ZERODUR) 、炭化ケイ素、或いは同種の材料が
含まれている。表面板12の厚さは、一般に0.1 mmから1.
0 mmの間に設定されるが、この厚さも光学装置10の機能
に従って適宜変更される。冷媒マニホ−ルド14を構成す
る材料は、幾つかの異なる種類より選ばれる。しかし、
冷媒マニホ−ルド14は、表面板12の熱膨張特性と略等し
い熱膨張特性を有している必要があるとともに、ガラス
のような絶縁体によって形成されることが望ましい。
ド14、及び基板16を備え、円柱形状で、且つ、内部が冷
却された光学装置10が示されている。表面板12の材料
は、その光学装置10が有する特定の機能によって初めに
決定される。この材料には、例えば単結晶シリコン、ゼ
ロデュア(ZERODUR) 、炭化ケイ素、或いは同種の材料が
含まれている。表面板12の厚さは、一般に0.1 mmから1.
0 mmの間に設定されるが、この厚さも光学装置10の機能
に従って適宜変更される。冷媒マニホ−ルド14を構成す
る材料は、幾つかの異なる種類より選ばれる。しかし、
冷媒マニホ−ルド14は、表面板12の熱膨張特性と略等し
い熱膨張特性を有している必要があるとともに、ガラス
のような絶縁体によって形成されることが望ましい。
【００１５】冷媒マニホ−ルド14の材料として望ましい
特性は、表面板12と同一の熱膨脹特性を有し、表面板12
へ着脱可能であり、熱を確保するための低い熱伝導率を
有し、構造上の負担に対する十分な強度を有し、及び加
工可能であることである。使用される材料としては、例
えばゼロデュア、ガラス、炭化シリコン、及びシリコン
がある。
特性は、表面板12と同一の熱膨脹特性を有し、表面板12
へ着脱可能であり、熱を確保するための低い熱伝導率を
有し、構造上の負担に対する十分な強度を有し、及び加
工可能であることである。使用される材料としては、例
えばゼロデュア、ガラス、炭化シリコン、及びシリコン
がある。
【００１６】この発明の実施例は、ガラスセラミック材
料で構成されており、この材料は、スコットグラス社に
よりゼロデュアという商標名で供給される。ゼロデュア
は、とても固く、熱膨張特性が低く、熱伝導率が低く、
接着可能で、加工可能であることをを特徴としている。
料で構成されており、この材料は、スコットグラス社に
よりゼロデュアという商標名で供給される。ゼロデュア
は、とても固く、熱膨張特性が低く、熱伝導率が低く、
接着可能で、加工可能であることをを特徴としている。
【００１７】基板16も冷媒マニホ−ルド14と同じ材料で
形成されることが望ましいが、他の適当な材料で形成さ
れてもよい。表面板12、冷媒マニホ−ルド14、及び基板
16は、使用される材料に適した種々の結合方法によって
互いに張り付けられる。
形成されることが望ましいが、他の適当な材料で形成さ
れてもよい。表面板12、冷媒マニホ−ルド14、及び基板
16は、使用される材料に適した種々の結合方法によって
互いに張り付けられる。
【００１８】光学装置10は、数センチの直径（約36cmま
で）を有している。しかし、この発明は、上記寸法の光
学装置10に限定されることなく、より小さい或いは大き
い寸法の光学装置10、または、異なる形状の光学装置10
にも適用できる。
で）を有している。しかし、この発明は、上記寸法の光
学装置10に限定されることなく、より小さい或いは大き
い寸法の光学装置10、または、異なる形状の光学装置10
にも適用できる。
【００１９】冷媒マニホ−ルド14は、この冷媒マニホ−
ルド14の互いに対向する側面に設けられた２つの冷媒注
入口18と、この２つの冷媒注入口18とは直角になるよう
に互いに対向する側面に設けられた２つの冷媒排出口20
とを有している。光学装置10の互いに対向する側面に配
置された２対の冷媒注入口18及び冷媒排出口20を利用す
ることにより、注入口／排出口の冷媒の流れによって光
学装置10に及ぼされる構造的な力は、効果的に均一化さ
れる。
ルド14の互いに対向する側面に設けられた２つの冷媒注
入口18と、この２つの冷媒注入口18とは直角になるよう
に互いに対向する側面に設けられた２つの冷媒排出口20
とを有している。光学装置10の互いに対向する側面に配
置された２対の冷媒注入口18及び冷媒排出口20を利用す
ることにより、注入口／排出口の冷媒の流れによって光
学装置10に及ぼされる構造的な力は、効果的に均一化さ
れる。
【００２０】次に、図２、３、４を参照して冷媒マニホ
−ルド14について詳述する。
−ルド14について詳述する。
【００２１】一対の冷媒注入口18は、加圧された冷媒を
受け入れるように、冷媒マニホ−ルド14の互いに対向す
る側面に設けられている。各冷媒注入口18から内方へ向
かって供給ヘッダ22が延びており、これらの供給ヘッダ
22は１つの隔壁24によって分割されている。この隔壁24
は、２つの冷媒流の混合を妨げて、冷媒流の乱れを減少
させる。マクロチャンネル28へ冷媒流を供給するため
に、複数の枝管26が供給ヘッダ22から上方に延びてい
る。隣接しているマクロチャンネル28同士を互いに分割
するために、マクロチャンネルリブ30が設けられてい
る。１つのマクロチャンネルリブ30から他のマクロチャ
ンネルリブ30に向かって分割リブ32が延びており、これ
らの分割リブ32は各枝管26を２つに分割して枝管26から
供給される冷媒流を分割する機能を有する。このマクロ
チャンネルリブ30及び分割リブ32は、図３、４に示すよ
うに冷媒マニホ−ルド14の上面に向かって上方へ延びて
おり、薄い表面板12をマクロチャンネル28の開口領域に
支持しこの領域における表面板12の歪み、振動を防止す
るという第２の機能を有している。
受け入れるように、冷媒マニホ−ルド14の互いに対向す
る側面に設けられている。各冷媒注入口18から内方へ向
かって供給ヘッダ22が延びており、これらの供給ヘッダ
22は１つの隔壁24によって分割されている。この隔壁24
は、２つの冷媒流の混合を妨げて、冷媒流の乱れを減少
させる。マクロチャンネル28へ冷媒流を供給するため
に、複数の枝管26が供給ヘッダ22から上方に延びてい
る。隣接しているマクロチャンネル28同士を互いに分割
するために、マクロチャンネルリブ30が設けられてい
る。１つのマクロチャンネルリブ30から他のマクロチャ
ンネルリブ30に向かって分割リブ32が延びており、これ
らの分割リブ32は各枝管26を２つに分割して枝管26から
供給される冷媒流を分割する機能を有する。このマクロ
チャンネルリブ30及び分割リブ32は、図３、４に示すよ
うに冷媒マニホ−ルド14の上面に向かって上方へ延びて
おり、薄い表面板12をマクロチャンネル28の開口領域に
支持しこの領域における表面板12の歪み、振動を防止す
るという第２の機能を有している。
【００２２】冷媒マニホ−ルド14の上部の平らな表面に
は複数のマイクロチャンネル34が形成され、これらのマ
イクロチャンネル34は、マクロチャンネル28から外方へ
冷媒流を導くように、供給ヘッダ22と直角に相反する方
向へ延びている。それぞれのマクロチャンネル28は、マ
イクロチャンネル群、例えば５つのマイクロチャンネル
34から成るマイクロチャンネル群に接続されている。マ
イクロチャンネル34の正確な寸法は、本発明が適用され
る光学装置10の形態によって決められる。寸法の１例を
上げれば、マイクロチャンネル34は、幅80μｍ、深さ10
00μｍを有しており、それぞれの溝の間に80μｍの隙間
を有している。また、他の実施例は、マイクロチャンネ
ル34は、幅635[μｍ] 、深さ381[μｍ] を有し、635[μ
ｍ] の隙間を有している。マイクロチャンネル34は、冷
媒マニホ−ルド14の上面に張り付け、即ち接着された表
面板12によって閉じられ、流路が形成されている。これ
らの流路内において、冷媒は表面板12の材料に直接接触
している。
は複数のマイクロチャンネル34が形成され、これらのマ
イクロチャンネル34は、マクロチャンネル28から外方へ
冷媒流を導くように、供給ヘッダ22と直角に相反する方
向へ延びている。それぞれのマクロチャンネル28は、マ
イクロチャンネル群、例えば５つのマイクロチャンネル
34から成るマイクロチャンネル群に接続されている。マ
イクロチャンネル34の正確な寸法は、本発明が適用され
る光学装置10の形態によって決められる。寸法の１例を
上げれば、マイクロチャンネル34は、幅80μｍ、深さ10
00μｍを有しており、それぞれの溝の間に80μｍの隙間
を有している。また、他の実施例は、マイクロチャンネ
ル34は、幅635[μｍ] 、深さ381[μｍ] を有し、635[μ
ｍ] の隙間を有している。マイクロチャンネル34は、冷
媒マニホ−ルド14の上面に張り付け、即ち接着された表
面板12によって閉じられ、流路が形成されている。これ
らの流路内において、冷媒は表面板12の材料に直接接触
している。
【００２３】マイクロチャンネル34は、図５に示すよう
に、ピン状のフィン構造に取り替えることができる。冷
媒マニホ−ルド14はその中にマイクロチャンネル34を形
成する代りに、マクロチャンネル28を分割するマクロチ
ャンネルリブ30の間隔に対応する間隔を持って設けられ
た複数の直立壁44を有している。直立壁44は、表面板12
を支持しているとともに表面板12に接着される。直立壁
44間には、円柱状のピン状構造物46が形成され、これら
のピン状構造物46は、表面板12へ向って上方へ延出し、
行列状に配列されている。ピン状構造物46の間には、マ
クロチャンネル28から導かれた冷媒が流れる流路が形成
されている。
に、ピン状のフィン構造に取り替えることができる。冷
媒マニホ−ルド14はその中にマイクロチャンネル34を形
成する代りに、マクロチャンネル28を分割するマクロチ
ャンネルリブ30の間隔に対応する間隔を持って設けられ
た複数の直立壁44を有している。直立壁44は、表面板12
を支持しているとともに表面板12に接着される。直立壁
44間には、円柱状のピン状構造物46が形成され、これら
のピン状構造物46は、表面板12へ向って上方へ延出し、
行列状に配列されている。ピン状構造物46の間には、マ
クロチャンネル28から導かれた冷媒が流れる流路が形成
されている。
【００２４】各マクロチャンネル28に組み合わされた複
数のマイクロチャンネル34は、冷媒マニホ−ルド14の上
部表面を横切って延び、各マクロチャンネル28に組み合
わされた高圧空間36に接続されている。各高圧空間36
は、オリフィス38に向って下方に先細になる下部を有し
ている。このオリフィス38は、組み合わされるマクロチ
ャンネル28を通る冷媒流を制御するように寸法付けられ
ている。図２に示すように、小径のオリフィス（第１の
オリフィス）38は、円形の横断面を有し、一方、大径の
オリフィス（第２のオリフィス）38は、楕円形の横断面
を有している。高圧空間36の先細の部分は、図３、４、
に示すように楕円形の横断面を有している。オリフィス
38を設置する目的は、各マクロチャンネル28における圧
力降下を均一にすることである。特に、各オリフィス38
の寸法は、各マクロチャンネル28に形成されるマイクロ
チャンネル34の長さによって決定される。理想的には、
マイクロチャンネル34及びこれに組み合わされたオリフ
ィス38を通過する際における冷媒の圧力降下は、全ての
マクロチャンネル28について一定でなければならない。
従って、冷媒注入口18近くに設置されたより短いマイク
ロチャンネル34は、非常に小径なオリフィス38に連結さ
れ、短いマイクロチャンネル34における圧力降下が低減
される。この圧力降下は、冷媒排出口20近くに設置され
たより長いマイクロチャンネル34で生じる大きな圧力降
下に比較して充分小さい。
数のマイクロチャンネル34は、冷媒マニホ−ルド14の上
部表面を横切って延び、各マクロチャンネル28に組み合
わされた高圧空間36に接続されている。各高圧空間36
は、オリフィス38に向って下方に先細になる下部を有し
ている。このオリフィス38は、組み合わされるマクロチ
ャンネル28を通る冷媒流を制御するように寸法付けられ
ている。図２に示すように、小径のオリフィス（第１の
オリフィス）38は、円形の横断面を有し、一方、大径の
オリフィス（第２のオリフィス）38は、楕円形の横断面
を有している。高圧空間36の先細の部分は、図３、４、
に示すように楕円形の横断面を有している。オリフィス
38を設置する目的は、各マクロチャンネル28における圧
力降下を均一にすることである。特に、各オリフィス38
の寸法は、各マクロチャンネル28に形成されるマイクロ
チャンネル34の長さによって決定される。理想的には、
マイクロチャンネル34及びこれに組み合わされたオリフ
ィス38を通過する際における冷媒の圧力降下は、全ての
マクロチャンネル28について一定でなければならない。
従って、冷媒注入口18近くに設置されたより短いマイク
ロチャンネル34は、非常に小径なオリフィス38に連結さ
れ、短いマイクロチャンネル34における圧力降下が低減
される。この圧力降下は、冷媒排出口20近くに設置され
たより長いマイクロチャンネル34で生じる大きな圧力降
下に比較して充分小さい。
【００２５】一般に、光学装置10は、装置の有効表面領
域、即ち表面板12を規定するクリア開口40を有してい
る。この発明においては、流れが引き起こす表面板12の
歪みを制限するように、クリア開口40の外側及び下方に
オリフィス38が配置されている。高圧空間36及びオリフ
ィス38の位置において、冷媒流の乱れが生じ易く、薄い
表面板12の僅かな振動及び移動が引き起こされる。これ
らの高圧空間36及びオリフィス38をクリア開口40の外側
に設置することにより、このような振動の発生が減少さ
れる。
域、即ち表面板12を規定するクリア開口40を有してい
る。この発明においては、流れが引き起こす表面板12の
歪みを制限するように、クリア開口40の外側及び下方に
オリフィス38が配置されている。高圧空間36及びオリフ
ィス38の位置において、冷媒流の乱れが生じ易く、薄い
表面板12の僅かな振動及び移動が引き起こされる。これ
らの高圧空間36及びオリフィス38をクリア開口40の外側
に設置することにより、このような振動の発生が減少さ
れる。
【００２６】オリフィス38は、冷媒排出口20に結合され
た復帰ヘッダ42に接続されている。
た復帰ヘッダ42に接続されている。
【００２７】この発明に従って構成された光学装置10の
一例において、冷媒は、 49.64×103 [pa](7.2[psi])よ
り僅かに大きな圧力で供給され、マイクロチャンネル34
における圧力降下は、 23.44×103 [pa](3.4[psi])から
46.19×103 [pa](6.7[psi])まで変化され、また、組み
合わされたオリフィス38内の圧力降下は、 22.41×103
[pa](3.25[psi]) から 6.8[pa](0.001[psi])まで変化さ
れ、それにより、マクロチャンネル28間の圧力降下の差
は約340[pa](0.05[psi])とした。従って、チャンネルを
通過する冷媒の流れは非常に均一となり、光学装置10の
全領域にわたって均一な冷却が得られる。また、冷媒流
の乱れが減少され、それにより、光学装置10への悪影響
が減少され、歪みが減少される。マクロチャンネル28を
通過する均一な冷媒の流れを有することにより、流れが
引き起こす乱れ及び発生される冷媒の圧力による乱れを
減少させることができる。
一例において、冷媒は、 49.64×103 [pa](7.2[psi])よ
り僅かに大きな圧力で供給され、マイクロチャンネル34
における圧力降下は、 23.44×103 [pa](3.4[psi])から
46.19×103 [pa](6.7[psi])まで変化され、また、組み
合わされたオリフィス38内の圧力降下は、 22.41×103
[pa](3.25[psi]) から 6.8[pa](0.001[psi])まで変化さ
れ、それにより、マクロチャンネル28間の圧力降下の差
は約340[pa](0.05[psi])とした。従って、チャンネルを
通過する冷媒の流れは非常に均一となり、光学装置10の
全領域にわたって均一な冷却が得られる。また、冷媒流
の乱れが減少され、それにより、光学装置10への悪影響
が減少され、歪みが減少される。マクロチャンネル28を
通過する均一な冷媒の流れを有することにより、流れが
引き起こす乱れ及び発生される冷媒の圧力による乱れを
減少させることができる。
【００２８】以上のように、この発明は、平らな表面板
12と平らな表面を有する冷媒マニホ−ルド14とに関連し
て説明したが、この発明は、これに限らず、他の表面形
状、例えば凹状の或いは凸状の表面形状を有する工学装
置にも同様に適用できる。
12と平らな表面を有する冷媒マニホ−ルド14とに関連し
て説明したが、この発明は、これに限らず、他の表面形
状、例えば凹状の或いは凸状の表面形状を有する工学装
置にも同様に適用できる。
【００２９】万一、光学的表面板12上の熱が均一でない
場合には、冷媒によって供給される冷却は、オリフィス
38の寸法を変えることによってある程度調整することが
できる。それによって、表面板12に生じた熱吸収に冷却
を適合させることができる。２対の冷媒注入口18及び冷
媒排出口20を独特の方法で使用することによって、冷媒
流によって発生される力は、均一化される。それによっ
て、このような力により引き起こされるあらゆる歪みが
減少される。
場合には、冷媒によって供給される冷却は、オリフィス
38の寸法を変えることによってある程度調整することが
できる。それによって、表面板12に生じた熱吸収に冷却
を適合させることができる。２対の冷媒注入口18及び冷
媒排出口20を独特の方法で使用することによって、冷媒
流によって発生される力は、均一化される。それによっ
て、このような力により引き起こされるあらゆる歪みが
減少される。
【００３０】以上のように、本発明によれば、より効率
の良い冷却を供給し、且つ、冷媒の流れの乱れを減少さ
せることにより、光学装置10のための改良された冷却機
を提供することができる。
の良い冷却を供給し、且つ、冷媒の流れの乱れを減少さ
せることにより、光学装置10のための改良された冷却機
を提供することができる。
【００３１】
【発明の効果】この発明によれば、内部的に冷却される
光学装置を通過する冷媒流を所望の状態に制御し、光学
装置の内部熱交換器により供給される冷却を経済的にコ
ントロ−ルすることのできる冷却機が提供される。
光学装置を通過する冷媒流を所望の状態に制御し、光学
装置の内部熱交換器により供給される冷却を経済的にコ
ントロ−ルすることのできる冷却機が提供される。
【図１】図１は、内部的に冷却される円柱形状の光学装
置を示す等角図。
置を示す等角図。
【図２】図２は、図１の光学装置に使用されるマニホ−
ルドを示す平面図。
ルドを示す平面図。
【図３】図３は、内部構造がより簡単に説明できるよう
に透明材料で組み立てられている、図２に示すマニホ−
ルドの等角図。
に透明材料で組み立てられている、図２に示すマニホ−
ルドの等角図。
【図４】図４は、図３のマニホ−ルドの一部分を示す拡
大部分等角図。
大部分等角図。
【図５】図５は、マニホ−ルドの他の実施例の一部分を
示す透視模型等角図。
示す透視模型等角図。
10…光学装置 12…表面版 14…マニホ−ルド 16…基
板 18…冷媒注入口 20…冷媒排出口 22…供給ヘッダ 24…隔壁 26…枝管
28…マクロチャンネル 30…マクロチャンネルリブ 32…分割リブ 34…マイク
ロチャンネル 36…高圧空間 38…オリフィス 40…ク
リア開口 42…復帰ヘッダ
板 18…冷媒注入口 20…冷媒排出口 22…供給ヘッダ 24…隔壁 26…枝管
28…マクロチャンネル 30…マクロチャンネルリブ 32…分割リブ 34…マイク
ロチャンネル 36…高圧空間 38…オリフィス 40…ク
リア開口 42…復帰ヘッダ
Claims (10)
- 【請求項１】 表面を有する装置の冷却機において、 前記装置の表面と並列状態に寸法付け及び形成されてい
るとともに前記装置の表面へ密着された表面を有する本
体と、 前記本体の表面に形成されているとともに、前記装置に
よって閉じられて第１及び第２の端部を夫々有する複数
のチャンネルを形成した複数の溝と、 前記各チャンネルの第１の端部へ冷媒流を供給する手段
と、 前記チャンネルの第２の端部に配置され、前記複数のチ
ャンネルの１つから冷媒を受け取るように接続された複
数の高圧空間と、 前記各高圧空間内に形成され、前記冷媒の流れを前記高
圧空間から外方へ向けるオリフィスと、を備え、前記各
オリフィスは、前記高圧空間に連結された前記チャンネ
ルを通過する冷媒の流れを制御するように寸法づけら
れ、異なる複数のチャンネルによって提供される冷却の
割合を制御することを特徴とする冷却機。 - 【請求項２】 前記冷媒は、加圧された状態で供給され
るとともに、前記チャンネル内を通過する際に圧力降下
を生じ、前記圧力降下は前記各チャンネル間で相違し、
前記オリフィスは、１つのチャンネル内における圧力降
下と、連結されるオリフィスを通過する際の圧力降下と
の合計が全てのチャンネルにおいて略等くなるような圧
力降下を生じさせるように寸法づけられている請求項１
に記載の冷却機。 - 【請求項３】 前記高圧空間は先細の通路に連通し、こ
の先細の通路は冷媒流の乱れを防止するように楕円形の
横断面を有し、且つ、円滑な連続した表面を有している
請求項１に記載の冷却機。 - 【請求項４】 前記複数のオリフィスに接続され前記複
数のオリフィスから冷媒流を受け取る復帰ヘッダを備え
た請求項１に記載の冷却通路。 - 【請求項５】 前記複数のチャンネルの第１の端部へ冷
媒流を供給する手段は、 前記冷媒を受け取る供給ヘッダと、 前記供給ヘッダより延びる複数の枝管と、 それぞれ１つの枝管に連結され、この枝管から冷媒流を
受け取る複数のマクロチャンネルと、を備え、各マクロ
チャンネルは、前記複数のチャンネルの１つを供給して
いる請求項１に記載の冷却機。 - 【請求項６】 前記供給ヘッダは前記本体を横切って延
びているとともに、その両端に設けられた注入口と、中
間部に設けられそれぞれの端部から注入された冷媒流を
分割する隔壁と、を有している請求項５に記載の冷却
機。 - 【請求項７】 前記チャンネルの第１の端部に冷媒流を
供給する手段は、前記本体を横切って延びているととも
に前記ボディ−を２つに分割し、前記複数の溝は、冷媒
流を供給する前記手段から相反する第１の及び第２の方
向へ延びている請求項１に記載の冷却機。 - 【請求項８】 前記複数のチャンネルの第１の端部へ冷
媒流を供給する手段は、 前記冷媒を受け取る供給ヘッダと、 前記供給ヘッダへ接続された複数の枝管と、 それぞれ１つの枝管に連結されこの枝管から冷媒流を受
け取るとともに、前記チャンネルの内の２つと供給する
複数のマクロチャンネルと、を備え、前記マクロチャン
ネルは、第１の隔壁により互いに分割されているととも
に、前記複数のマクロチャンネルを２つの部分に分割し
た第２の隔壁を有し、前記第２の隔壁は、前記第１及び
第２の方向に延びる複数のチャンネルへ冷媒流を分割す
るように前記複数の枝管を２分割し、前記第１の隔壁
は、前記装置を支持するように前記本体の表面に延びて
いる請求項７に記載の冷却機。 - 【請求項９】 前記装置は、光学的開口領域を有する平
らな板を備えた光学装置であり、前記複数のチャンネル
の第２の端部及び複数の高圧空間は、前記高圧空間内の
冷媒流の乱れが前記開口領域を振動させて光学装置に悪
影響を及ぼすことがないように前記開口領域から外れた
位置に設けられている請求項１に記載の冷却機。 - 【請求項１０】 前記高圧空間は、前記冷媒を受け取る
広い第１の端部と前記オリフィスが形成した第２の端部
とを有する先細な通路に接続されている請求項１に記載
の冷却機。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US722649 | 1991-06-28 | ||
| US07/722,649 US5209291A (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Cooling apparatus for optical devices |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215481A JPH05215481A (ja) | 1993-08-24 |
| JPH0686992B2 true JPH0686992B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=24902764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4194785A Expired - Lifetime JPH0686992B2 (ja) | 1991-06-28 | 1992-06-29 | 光学装置の冷却機 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5209291A (ja) |
| EP (1) | EP0520670A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0686992B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL116156A0 (en) | 1994-12-05 | 1996-01-31 | Hughes Aircraft Co | Cooled gas distribution system for a plasma |
| TW461063B (en) * | 2000-08-17 | 2001-10-21 | Macronix Int Co Ltd | Cooling device for hot plate |
| EP1227353B1 (de) * | 2001-01-16 | 2005-05-04 | Curamik Electronics GmbH | Spiegel für Laseranwendungen sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6945266B2 (en) | 2001-10-19 | 2005-09-20 | Metallic Power, Inc. | Manifold for fuel cell system |
| US6679280B1 (en) * | 2001-10-19 | 2004-01-20 | Metallic Power, Inc. | Manifold for fuel cell system |
| US6792017B2 (en) | 2002-09-26 | 2004-09-14 | The Regents Of The University Of California | High energy laser beam dump |
| US7264363B2 (en) * | 2002-12-23 | 2007-09-04 | Bae Systems Plc | Deformable-mirror cooling |
| JP4532835B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置 |
| US6822251B1 (en) * | 2003-11-10 | 2004-11-23 | University Of Central Florida Research Foundation | Monolithic silicon EUV collector |
| JP2005175187A (ja) * | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Canon Inc | 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス |
| US8341965B2 (en) * | 2004-06-24 | 2013-01-01 | Raytheon Company | Method and system for cooling |
| EP2610003A1 (en) * | 2004-11-03 | 2013-07-03 | Velocys Inc. | Fischer-Tropsch process with partial boiling in mini and micro-channels |
| KR100676203B1 (ko) * | 2005-06-21 | 2007-01-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 설비용 정전 척의 냉각 장치 |
| US7913928B2 (en) | 2005-11-04 | 2011-03-29 | Alliant Techsystems Inc. | Adaptive structures, systems incorporating same and related methods |
| US7766075B2 (en) * | 2005-12-09 | 2010-08-03 | The Boeing Company | Microchannel heat exchanger |
| US20100010688A1 (en) * | 2008-07-08 | 2010-01-14 | Hunter Robert R | Energy monitoring and management |
| DE102010034476B4 (de) | 2010-08-11 | 2020-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element |
| DE102018118275A1 (de) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Valeo Siemens Eautomotive Germany Gmbh | Rotoranordnung für eine elektrische Maschine, elektrische Maschine für ein Fahrzeug und Fahrzeug |
| DE102021201715A1 (de) * | 2021-02-24 | 2022-08-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Reflexion von Strahlung und optische Anordnung |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3645608A (en) * | 1970-05-05 | 1972-02-29 | United Aircraft Corp | Cooling means for reflecting device |
| US3708223A (en) * | 1971-04-02 | 1973-01-02 | North American Rockwell | Cooled mirrors |
| US3884558A (en) * | 1972-07-03 | 1975-05-20 | Rockwell International Corp | Stabilized thermally compensated mirror |
| US3781094A (en) * | 1972-09-15 | 1973-12-25 | Us Air Force | Liquid cooled mirror structure |
| US3923383A (en) * | 1974-06-12 | 1975-12-02 | Caterpillar Tractor Co | Fluid-cooled laser mirror |
| US3986768A (en) * | 1974-11-04 | 1976-10-19 | Caterpillar Tractor Co. | Center cooled laser mirror |
| US4006972A (en) * | 1975-05-12 | 1977-02-08 | United Technologies Corporation | Laser mirror coolant pressure balance means |
| US4003641A (en) * | 1975-07-25 | 1977-01-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Low distortion high energy laser mirror |
| US4110013A (en) * | 1977-04-13 | 1978-08-29 | United Technologies Corporation | Lightweight cooled laser mirror |
| US4175834A (en) * | 1978-04-24 | 1979-11-27 | United Technologies Corporation | Laser mirror with coolant fluid transfer manifold |
| US4253739A (en) * | 1979-06-25 | 1981-03-03 | United Technologies Corporation | Thermally compensated mirror |
| US4895436A (en) * | 1988-08-19 | 1990-01-23 | The Perkin-Elmer Corporation | Mirror assembly |
| US5073831A (en) * | 1989-05-03 | 1991-12-17 | Martin Marietta Corporation | Cooled transmissive mirrors, beam splitters, windows, and refractive elements for high-power applications |
| US4934803A (en) * | 1989-10-12 | 1990-06-19 | Litton Systems, Inc. | Differential pressure deformable mirror |
-
1991
- 1991-06-28 US US07/722,649 patent/US5209291A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-16 EP EP92305517A patent/EP0520670A1/en not_active Ceased
- 1992-06-29 JP JP4194785A patent/JPH0686992B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5209291A (en) | 1993-05-11 |
| JPH05215481A (ja) | 1993-08-24 |
| EP0520670A1 (en) | 1992-12-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0686992B2 (ja) | 光学装置の冷却機 | |
| US7513063B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
| US5365400A (en) | Heat sinks and semiconductor cooling device using the heat sinks | |
| US4896719A (en) | Isothermal panel and plenum | |
| US8210248B2 (en) | Method and systems for compact, micro-channel, laminar heat exchanging | |
| US5239443A (en) | Blind hole cold plate cooling system | |
| US5679064A (en) | Polishing apparatus including detachable cloth cartridge | |
| US4443059A (en) | High energy laser mirror | |
| RU2294813C2 (ru) | Устройство для охлаждения материала путем создания плоской струи | |
| JP5568080B2 (ja) | シート材料を安定化させるための加熱装置、システムおよび方法 | |
| EP2291859A1 (en) | Cooling system, in particular for electronic structural units | |
| GB2179761A (en) | Cooled deformable mirror | |
| EP3625824B1 (en) | Heat sink and method for producing same | |
| JP2013542582A (ja) | Ｅｕｖリソグラフィ用のｅｕｖコレクタのｅｕｖコレクタミラーシェル | |
| JPS59182964A (ja) | プラズマによつて励起される原子又は分子の付加反応によつて基体を被覆する装置 | |
| JPH06289195A (ja) | 低表面ディストーション・モノクロメータ | |
| JP2005123339A (ja) | プラズマｃｖｄ装置とプラズマｃｖｄ装置用電極 | |
| US4895436A (en) | Mirror assembly | |
| JP2002168579A (ja) | 薄型ループ状ヒートパイプおよびこれを用いた温度制御機器 | |
| US3932029A (en) | Optical reflector for lasers | |
| JP2023077655A (ja) | 下地部材セット、仕切支持部材及び冷暖房システム | |
| JP2000346550A (ja) | パネル状試料用加熱装置 | |
| JPH05343331A (ja) | Ｃｖｄ装置 | |
| KR101688561B1 (ko) | 빔 반사체 | |
| JPH0730027A (ja) | 基板の冷却装置 |