JPH0685889B2 - 光フアイバ製造工程排ガスの排ガス処理装置 - Google Patents
光フアイバ製造工程排ガスの排ガス処理装置Info
- Publication number
- JPH0685889B2 JPH0685889B2 JP6491686A JP6491686A JPH0685889B2 JP H0685889 B2 JPH0685889 B2 JP H0685889B2 JP 6491686 A JP6491686 A JP 6491686A JP 6491686 A JP6491686 A JP 6491686A JP H0685889 B2 JPH0685889 B2 JP H0685889B2
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- exhaust gas
- optical fiber
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- fiber manufacturing
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ファイバ製造工程により排出される排ガスの
処理装置に関する。
処理装置に関する。
従来技術の問題点 近年、情報伝達の手段として、光ファイバケーブルによ
る通信が注目されており、その需要が年々増加している
ことは周知の通りである。しかしながら、かかる光ファ
イバの製造技術は先端技術でもあるため、その排ガス処
理などには様々な問題があり、現状は従来公知の排ガス
処理技術、装置をそのまま適用しており、まだ十分に確
立された技術となるにいたっていないのが現状である。
る通信が注目されており、その需要が年々増加している
ことは周知の通りである。しかしながら、かかる光ファ
イバの製造技術は先端技術でもあるため、その排ガス処
理などには様々な問題があり、現状は従来公知の排ガス
処理技術、装置をそのまま適用しており、まだ十分に確
立された技術となるにいたっていないのが現状である。
光ファイバ母材の製造に際しては、所謂CVD法、VAD法な
どがよく用いられているが、これらの方法における反応
は次式の通りである。
どがよく用いられているが、これらの方法における反応
は次式の通りである。
CVD法 SiCl4+O2→SiO2+2Cl2 GeCl4+O2→GeO2+2Cl2 VAD法 SiCl4+2H2O→SiO2+HCl GeCl4+2H2O→GeO2+HCl 従って、このような方法で光ファイバを製造する工程か
ら排出される排ガス中にはSiO2、GeO2などの固体微粒子
やHCl、Cl2などの塩素化合物などが含まれている。この
ため、従来はこれらのガスを処理するために、水又はア
ルカリ液で洗浄している。しかし、上記ガスを水洗した
だけではHCl、Cl2などの除去が不十分であり、アルカリ
液で洗浄した場合には、当該ガス中のSiO2とアルカリ成
分が反応し、次式のように洗浄廃棄液中で沈澱やろ過し
にくい固体が生成されてしまい、今度は当該廃液の処理
が困難となっている。
ら排出される排ガス中にはSiO2、GeO2などの固体微粒子
やHCl、Cl2などの塩素化合物などが含まれている。この
ため、従来はこれらのガスを処理するために、水又はア
ルカリ液で洗浄している。しかし、上記ガスを水洗した
だけではHCl、Cl2などの除去が不十分であり、アルカリ
液で洗浄した場合には、当該ガス中のSiO2とアルカリ成
分が反応し、次式のように洗浄廃棄液中で沈澱やろ過し
にくい固体が生成されてしまい、今度は当該廃液の処理
が困難となっている。
SiO2+2NaOH→Na2SiO3+H2O また、上記ガス中の固体微粒子は気相反応で生成された
微細な粒子であり、水洗やアルカリ洗浄を組み合わせた
だけで固体微粒子の除去が不十分である。特にこれらが
排風機やダクトへのスケーリングの原因となり、長期的
な安定運転を困難なものとしている。
微細な粒子であり、水洗やアルカリ洗浄を組み合わせた
だけで固体微粒子の除去が不十分である。特にこれらが
排風機やダクトへのスケーリングの原因となり、長期的
な安定運転を困難なものとしている。
さらに、水洗やアルカリ洗浄するためのスクラバーから
は大量の廃水が排出され、これらの処理も問題となって
いる。
は大量の廃水が排出され、これらの処理も問題となって
いる。
発明が解決せんとする問題点 従って、本発明が解決せんとする問題点は、前述の従来
の光ファイバ製造工程からの排ガスの処理技術における
種々の問題点であり、本発明は光ファイバ製造工程より
排出される排ガスを効果的かつ経済的に処理する排ガス
処理装置を提供することを目的とする。
の光ファイバ製造工程からの排ガスの処理技術における
種々の問題点であり、本発明は光ファイバ製造工程より
排出される排ガスを効果的かつ経済的に処理する排ガス
処理装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明に従えば、光ファイバ製造工程より排出される排
ガスを処理する装置において、(i)該排ガス中に微粒
状水滴を同伴せしめる手段、(ii)この微粒状水滴を同
伴した排ガス中の固体微粒子を荷電捕集する導電性の樹
脂製集塵極と該集塵極を適時水洗する洗浄スプレーとを
有する構造の電気集塵機、そして(iii)前記排ガス中
の塩素化合物を除去する吸収塔をこの順に配して成る光
ファイバ製造工程の排ガス処理装置が提供される。
ガスを処理する装置において、(i)該排ガス中に微粒
状水滴を同伴せしめる手段、(ii)この微粒状水滴を同
伴した排ガス中の固体微粒子を荷電捕集する導電性の樹
脂製集塵極と該集塵極を適時水洗する洗浄スプレーとを
有する構造の電気集塵機、そして(iii)前記排ガス中
の塩素化合物を除去する吸収塔をこの順に配して成る光
ファイバ製造工程の排ガス処理装置が提供される。
発明の構成及びその作用効果の説明 以下、本発明を更に詳しく説明する。
各種集塵機の内で、最も大きな集塵効率を示すのは電気
集塵機であるが、排ガス中に塩素化合物を含むような場
合には電気集塵機の耐食性の問題が発生するため、電気
集塵機の前段にアルカリ洗浄によるスクラバーを設置し
て腐蝕性のガスを除去した後、電気集塵機を設置するの
が通常とされていた。しかし、前述のように光ファイバ
製造工程からの排ガスの場合では、前段でアルカリ洗浄
をすると洗浄廃液中に沈澱やろ過しにくい固体を生成
し、廃液処理が極めて困難であるという問題が発生し、
更に水洗やアルカリ洗浄の場合には、多量の廃水が発生
するという問題もあった。従って、従来電気集塵機を光
ファイバ製造工程排ガスに適用することは事実上実施さ
れていなかった。
集塵機であるが、排ガス中に塩素化合物を含むような場
合には電気集塵機の耐食性の問題が発生するため、電気
集塵機の前段にアルカリ洗浄によるスクラバーを設置し
て腐蝕性のガスを除去した後、電気集塵機を設置するの
が通常とされていた。しかし、前述のように光ファイバ
製造工程からの排ガスの場合では、前段でアルカリ洗浄
をすると洗浄廃液中に沈澱やろ過しにくい固体を生成
し、廃液処理が極めて困難であるという問題が発生し、
更に水洗やアルカリ洗浄の場合には、多量の廃水が発生
するという問題もあった。従って、従来電気集塵機を光
ファイバ製造工程排ガスに適用することは事実上実施さ
れていなかった。
そこで、本発明者等は耐食性の電気集塵機を用いた小型
実験機でテストを重ねた結果、次のことを確認した。
実験機でテストを重ねた結果、次のことを確認した。
光ファイバ製造工程からの排ガス中には腐食性のHC
l、Cl2などの塩素化合物が含まれているが、導電性樹脂
の集塵極を使用することにより耐食性については問題な
く運転が可能になり、且つ充分な除去性能を得ることが
できる。
l、Cl2などの塩素化合物が含まれているが、導電性樹脂
の集塵極を使用することにより耐食性については問題な
く運転が可能になり、且つ充分な除去性能を得ることが
できる。
集塵極の電位を逃がし易くするため、導電性樹脂の
集塵極は表面を湿潤状態に保つ方が良く、また導電性樹
脂の集塵極表面を湿潤状態に保つためには、電気集塵機
の前段に排ガス中に微粒状の水滴を同伴せしめる手段、
例えば噴霧装置を設置し、排ガス中に噴霧水を同伴させ
ると良い。
集塵極は表面を湿潤状態に保つ方が良く、また導電性樹
脂の集塵極表面を湿潤状態に保つためには、電気集塵機
の前段に排ガス中に微粒状の水滴を同伴せしめる手段、
例えば噴霧装置を設置し、排ガス中に噴霧水を同伴させ
ると良い。
集塵極に荷電捕集された固体微粒子は適時洗浄スプ
レーすることにより、容易に流下除去できる。
レーすることにより、容易に流下除去できる。
電気集塵機で排ガス中の固体微粒子を捕集し、次い
でこのガス中の塩素化合物を吸収塔でアルカリ洗浄によ
り除去した場合には、洗浄廃液中に沈澱やろ過しにくい
固体が生成しない。
でこのガス中の塩素化合物を吸収塔でアルカリ洗浄によ
り除去した場合には、洗浄廃液中に沈澱やろ過しにくい
固体が生成しない。
集塵極の洗浄スプレーのための洗浄スプレー水のpH
を4以下にコントロールして運転することにより、洗浄
廃液中に沈澱や濾過しにくい固体が生成するのを防止で
きる。
を4以下にコントロールして運転することにより、洗浄
廃液中に沈澱や濾過しにくい固体が生成するのを防止で
きる。
更に、洗浄スプレー水のpHを4以下で運転すること
により、電気集塵機で捕集された固体微粒子の沈降性が
極めて良好となり、従って系外へ廃棄する廃泥の水分含
量を著しく小さくすることが出来るため、系からの廃水
の排出量を減少させることができる。
により、電気集塵機で捕集された固体微粒子の沈降性が
極めて良好となり、従って系外へ廃棄する廃泥の水分含
量を著しく小さくすることが出来るため、系からの廃水
の排出量を減少させることができる。
かかる知見に基づいて、本発明者らは添付図に示すよう
な排ガス処理設備を開発し、長期運転で、前記した従来
の排ガス処理技術の問題点を改善し、光ファイバ製造工
程より排出される排ガスを効果的かつ経済的に処理する
ことに成功した。
な排ガス処理設備を開発し、長期運転で、前記した従来
の排ガス処理技術の問題点を改善し、光ファイバ製造工
程より排出される排ガスを効果的かつ経済的に処理する
ことに成功した。
以下、添付図を参照して本発明の好ましい実施態様につ
いて更に説明する。
いて更に説明する。
光ファイバ製造工程より排出された排ガス11を、散水部
12に導入する。この排ガス11はスプレーノズル13から散
布液14を噴霧された後、電気集塵機15に導かれる。電気
集塵機15では高電圧発生装置16により荷電された放電極
17で発生した負イオンが排ガス中の固体微粒子を帯電さ
せ、電気力により排ガス中の固体微粒子は、例えば林立
したパイプ状の集塵極18に捕集される。
12に導入する。この排ガス11はスプレーノズル13から散
布液14を噴霧された後、電気集塵機15に導かれる。電気
集塵機15では高電圧発生装置16により荷電された放電極
17で発生した負イオンが排ガス中の固体微粒子を帯電さ
せ、電気力により排ガス中の固体微粒子は、例えば林立
したパイプ状の集塵極18に捕集される。
本発明において使用する電気集塵機15は、前記した通
り、集塵極18として導電性の樹脂製集塵極、例えば、導
電性PVCパイプなどを使用して、耐蝕性を向上させてい
る。また、捕集された固体微粒子を除去するための装置
としては、適時水洗するための洗浄スプレー装置を有
し、例えば散水管より洗浄液を噴霧することにより容易
に流下除去できる。
り、集塵極18として導電性の樹脂製集塵極、例えば、導
電性PVCパイプなどを使用して、耐蝕性を向上させてい
る。また、捕集された固体微粒子を除去するための装置
としては、適時水洗するための洗浄スプレー装置を有
し、例えば散水管より洗浄液を噴霧することにより容易
に流下除去できる。
このようにして一次処理された排ガス19は、次の吸収塔
20で塔頂の散水管21から散布される吸収液22と、例えば
充填部23で気液接触させ、排ガス中の塩素化合物は液中
に移行する。このようにして処理された排ガスは清浄ガ
ス24として塔頂より、例えばエミリネータ25などを通し
て、排風機26に導かれ、スタック27より大気中へ放出さ
れる。
20で塔頂の散水管21から散布される吸収液22と、例えば
充填部23で気液接触させ、排ガス中の塩素化合物は液中
に移行する。このようにして処理された排ガスは清浄ガ
ス24として塔頂より、例えばエミリネータ25などを通し
て、排風機26に導かれ、スタック27より大気中へ放出さ
れる。
本発明において使用する吸収塔20は、排ガス中の塩素化
合物を洗浄除去するもので、充填塔、棚段塔、洗浄スプ
レー塔などが使用できる。
合物を洗浄除去するもので、充填塔、棚段塔、洗浄スプ
レー塔などが使用できる。
この吸収塔において散布される吸収液22は、アルカリ液
で、例えばpH10〜12程度に調整され、アルカリ液として
NaOHを使用した場合に、塩素化合物はNaClとして固定さ
れる。
で、例えばpH10〜12程度に調整され、アルカリ液として
NaOHを使用した場合に、塩素化合物はNaClとして固定さ
れる。
集塵極18に捕集された固体微粒子は、電気集塵機15の上
部に設置された散水管28より間欠的に噴霧される洗浄液
29により、循環槽30へ洗い流される。固体微粒子は、循
環槽30で上澄液31とスラリー32に分離され、上澄液31は
散布液14、洗浄液29として循環使用する。なお、本発明
に従えば、この洗浄液29のpHを4以下、好ましくは0〜
4にすることが必要であり、このpHが4を超えると循環
槽30における洗浄液の沈降性が不良になる傾向にあり、
浮遊物質が発生する場合があるので好ましくない。ま
た、添付図の態様においては、散布液14を循環槽30より
供給しているが、散布液14のpHは0〜4である必要はな
く、別個の供給源から給液してもよい。
部に設置された散水管28より間欠的に噴霧される洗浄液
29により、循環槽30へ洗い流される。固体微粒子は、循
環槽30で上澄液31とスラリー32に分離され、上澄液31は
散布液14、洗浄液29として循環使用する。なお、本発明
に従えば、この洗浄液29のpHを4以下、好ましくは0〜
4にすることが必要であり、このpHが4を超えると循環
槽30における洗浄液の沈降性が不良になる傾向にあり、
浮遊物質が発生する場合があるので好ましくない。ま
た、添付図の態様においては、散布液14を循環槽30より
供給しているが、散布液14のpHは0〜4である必要はな
く、別個の供給源から給液してもよい。
液中に移行した塩素化合物は吸収塔20下部の循環槽33
で、pHメータ34により自動的に注入されるアルカリ液35
で中和される。吸収液22は塩濃度の許すまで循環使用さ
れ、その後に廃液36として排出される。なお、当該排ガ
ス中にCl2を含まないような場合は、散水部に代えて吸
収塔を電気集塵機の入口部に設置することも可能であ
り、その場合、散水部は不要である。
で、pHメータ34により自動的に注入されるアルカリ液35
で中和される。吸収液22は塩濃度の許すまで循環使用さ
れ、その後に廃液36として排出される。なお、当該排ガ
ス中にCl2を含まないような場合は、散水部に代えて吸
収塔を電気集塵機の入口部に設置することも可能であ
り、その場合、散水部は不要である。
実施例 以下、本発明の好ましい実施例を説明するが、本発明の
範囲をこれに限定するものではないことはいうまでもな
い。
範囲をこれに限定するものではないことはいうまでもな
い。
添付図のようなフローに従って、光ファイバ製造工程の
排ガスの処理を行った。
排ガスの処理を行った。
排ガスの流量は60m3/min、運転は24時間で、湿式電気集
塵機の荷電は20kV、20mA、吸収塔としては塔径1000mmφ
の充填塔を用いた。電気集塵機の循環洗浄液のpHは1
で、吸収塔の吸収液のpHは10〜12にコントロールして運
転した。
塵機の荷電は20kV、20mA、吸収塔としては塔径1000mmφ
の充填塔を用いた。電気集塵機の循環洗浄液のpHは1
で、吸収塔の吸収液のpHは10〜12にコントロールして運
転した。
各成分の測定結果は第1表に示した通りであった。
第1表の結果より明らかなように、排ガス中の固体微粒
子及び塩素化合物ともに、完全に除去された。なお、廃
液の排出量は2ケ月で僅か2m3であった。
子及び塩素化合物ともに、完全に除去された。なお、廃
液の排出量は2ケ月で僅か2m3であった。
発明の効果 以上説明したように、本発明に従えば光ファイバ製造工
程からの排ガスを処理するに当り、排ガス中の固体微粒
子と塩素化合物を効率よく処理し、かつ廃水の排出を削
減し、ランニングコストの安い効果的な排ガス処理が達
成される。
程からの排ガスを処理するに当り、排ガス中の固体微粒
子と塩素化合物を効率よく処理し、かつ廃水の排出を削
減し、ランニングコストの安い効果的な排ガス処理が達
成される。
添付図は本発明の好ましい態様を示す説明図である。 11……光ファイバ製造工程排ガス、12……散水部、 13……スプレーノズル、15……電気集塵機、17……放電
極、 18……集塵極、20……吸収塔、26……排風機、 27……スタック、30……電気集塵機循環槽、 33……吸収塔循環槽、36……廃液。
極、 18……集塵極、20……吸収塔、26……排風機、 27……スタック、30……電気集塵機循環槽、 33……吸収塔循環槽、36……廃液。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮▲崎▼ 健 千葉県市原市八幡海岸通6 古河電気工業 株式会社千葉電線製造所内 (72)発明者 司城 武洋 東京都豊島区東池袋3丁目20番15号 協和 化工株式会社内 (56)参考文献 特開 昭54−39369(JP,A) 実開 昭51−87782(JP,U) 実開 昭52−125776(JP,U)
Claims (2)
- 【請求項1】光ファイバ製造工程より排出される排ガス
を処理する装置において、(i)該排ガス中に微粒状水
滴を同伴せしめる手段、(ii)この微粒状水滴を同伴し
た排ガス中の固体微粒子を荷電捕集する導電性の樹脂製
集塵極と該集塵極を適時水洗する洗浄スプレーとを有す
る構造の電気集塵機、そして(iii)前記排ガス中の塩
素化合物を除去する吸収塔をこの順に配して成ることを
特徴とする光ファイバ製造工程の排ガス処理装置。 - 【請求項2】前記集塵極の洗浄スプレー水のpHが4以下
である特許請求の範囲第1項記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6491686A JPH0685889B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 光フアイバ製造工程排ガスの排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6491686A JPH0685889B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 光フアイバ製造工程排ガスの排ガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62221456A JPS62221456A (ja) | 1987-09-29 |
JPH0685889B2 true JPH0685889B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=13271847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6491686A Expired - Lifetime JPH0685889B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 光フアイバ製造工程排ガスの排ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0685889B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004305799A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 排気ガスの処理方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104707438A (zh) * | 2015-03-30 | 2015-06-17 | 四川科伦天然药业有限公司 | 一种用于饮片包装车间的空气粉尘处理设备 |
CN108672087B (zh) * | 2018-06-25 | 2024-02-02 | 江苏斯德雷特光纤科技有限公司 | 一种预制棒延伸工艺中静电除尘装置 |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP6491686A patent/JPH0685889B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004305799A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 排気ガスの処理方法 |
JP4506093B2 (ja) * | 2003-04-02 | 2010-07-21 | 住友電気工業株式会社 | 排気ガスの処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62221456A (ja) | 1987-09-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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