JPH0683873B2 - Pellet dipping device - Google Patents

Pellet dipping device

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JPH0683873B2
JPH0683873B2 JP61115737A JP11573786A JPH0683873B2 JP H0683873 B2 JPH0683873 B2 JP H0683873B2 JP 61115737 A JP61115737 A JP 61115737A JP 11573786 A JP11573786 A JP 11573786A JP H0683873 B2 JPH0683873 B2 JP H0683873B2
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Japan
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billet
dipping
arm
heater
chain conveyor
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JP61115737A
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栄 岡山
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Fuji Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ビレット搬送システムのディッピング槽に
ビレットを浸漬させる装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for immersing a billet in a dipping tank of a billet transfer system.

[従来の技術] ビレットを鍛造加工する場合、一般の鍛造法では予め80
0℃程度に加熱した材料を使用するが、加工寸法に精度
が要求される場合には表面酸化を防ぐために300℃前後
の低い温度で加熱した材料を使用する温間鍛造が用いら
れる。この温間鍛造法においては、材料であるビレット
をビレットヒータで加熱する前に、加熱により酸化しな
ないようにディッピング液に浸すコーティング処理が施
され、またこのコーティング処理のためには前もってビ
レットを150〜200℃に予熱されるようになっている。
[Prior Art] When a billet is forged, it is usually 80
A material heated to about 0 ° C. is used, but when precision in processing dimensions is required, warm forging using a material heated at a low temperature of about 300 ° C. is used to prevent surface oxidation. In this warm forging method, before heating the billet, which is the material, with a billet heater, a coating treatment is performed in which the billet is immersed in a dipping liquid so as not to be oxidized by the heating. It is preheated to 150-200 ℃.

第6図はビレットを上述したような前処理を行ないビレ
ットヒータに送給するための装置を示している。
FIG. 6 shows an apparatus for feeding the billet to the billet heater by performing the pretreatment as described above.

50はビレット51を搬送するコンベアであり、搬送された
ビレット51はピンチローラ52を介して予熱ヒータ53に送
給される。予熱ヒータ53によって150〜200℃に予熱され
たビレット51は、ディッピング槽54に投入される。ディ
ッピング槽54に投入されたビレット51は一部がディッピ
ング槽54に浸漬されたチェーンコンベア55によってビレ
ットヒータ56の搬入口に送給されて搬入される。そして
ビレットヒータ56によって所定の温度に加熱されるよう
になっている。
Reference numeral 50 denotes a conveyer that conveys the billet 51, and the conveyed billet 51 is fed to the preheater heater 53 via the pinch roller 52. The billet 51 which has been preheated to 150 to 200 ° C. by the preheating heater 53 is put into the dipping tank 54. The billet 51 put into the dipping tank 54 is fed to the carry-in entrance of the billet heater 56 by the chain conveyor 55 partially immersed in the dipping tank 54 and carried in. The billet heater 56 heats the billet heater 56 to a predetermined temperature.

[発明が解決しようとする問題点] ところが、上述した従来の装置ではビレット51は予熱ヒ
ータ53からディッピング槽54に放出されるようになって
いるので、チェーンコンベア55上でのビレット51の姿勢
が不安定であり、又、チェーンコンベア55に設けられた
爪によってビレット51を押し上げるようにしているので
ビレット51の切断面の形状によってもビレット51の姿勢
が不安定になり安定して送給できないことがある。又、
チェーンコンベア55でもってディッピング槽54からビレ
ット51を引き上げるようにしているのでビレット51の浸
漬時間の調整が困難である。更に、チェーンコンベア55
の一部が常にディッピング槽54に浸っているのでチェー
ンコンベア55は耐食材料を用いる必要があり、保守が困
難であるとともに、チェーンコンベア55の動作により、
ディッピング液が槽54外に滴下するといった欠点があ
る。
[Problems to be Solved by the Invention] However, since the billet 51 is discharged from the preheating heater 53 to the dipping tank 54 in the above-described conventional apparatus, the attitude of the billet 51 on the chain conveyor 55 is Since the billet 51 is unstable and the billet 51 is pushed up by the claws provided on the chain conveyor 55, the posture of the billet 51 becomes unstable depending on the shape of the cutting surface of the billet 51 and the billet 51 cannot be stably fed. There is. or,
Since the billet 51 is pulled up from the dipping tank 54 by the chain conveyor 55, it is difficult to adjust the immersion time of the billet 51. Furthermore, the chain conveyor 55
Since a part of the is always immersed in the dipping tank 54, it is necessary to use a corrosion resistant material for the chain conveyor 55, maintenance is difficult, and due to the operation of the chain conveyor 55,
There is a drawback that the dipping liquid drops outside the bath 54.

そこで、予熱ヒータ53を出てきたビレット51を、チャッ
クにより把持し、該チャックを支持するアームの回動に
より、把持したビレット51をディッピング槽54に浸漬
し、後段のビレットヒータ56にビレット51を安定送給す
るような搬送システムとし、更に、予熱ヒータ53での処
理サイクルの変化に対応できるように、該搬送システム
により複数個のビレット51を同時に搬送できる装置が発
明され得るが、この場合に問題となるのは、予熱ヒータ
53を出てきたビレット51の端面は相互に密着状態となっ
ているので、この状態のままでディッピング槽54に浸漬
しても、端面がコーティングされないといった不具合が
生じた。
Therefore, the billet 51 coming out of the preheating heater 53 is gripped by a chuck, and the gripped billet 51 is immersed in the dipping tank 54 by the rotation of the arm supporting the chuck, and the billet 51 is placed in the billet heater 56 in the subsequent stage. An apparatus capable of stably feeding a plurality of billets 51 at the same time can be invented by the transportation system so as to cope with a change in the processing cycle of the preheating heater 53, but in this case, The problem is the preheater
Since the end faces of the billet 51 coming out of the 53 are in close contact with each other, even if the billet 51 is immersed in the dipping tank 54 in this state, the end face is not coated.

[問題点を解決するための手段] この発明のビレット浸漬装置は、予熱されたビレットを
チャックにて把持してビレットヒータへ搬送する過程
で、ビレットを表面処理用のディッピング槽に浸漬させ
るためのビレット浸漬装置であって、互いに密着状態に
して予熱された複数個のビレットをそれぞれ受ける複数
個のビレット載置手段と、ビレットをディッピング槽内
のディッピング液に浸漬するためにビレット載置手段を
下降させる下降手段と、複数個のビレット載置手段が下
降した時、各ビレット載置手段を互いに離隔させる分離
手段とを備える。
[Means for Solving Problems] The billet dipping device of the present invention is for dipping a billet in a dipping tank for surface treatment in the process of gripping a preheated billet with a chuck and transporting it to a billet heater. A billet dipping device, wherein a plurality of billet placing means for respectively receiving a plurality of preheated billets in close contact with each other and descending billet placing means for dipping the billet in a dipping liquid in a dipping tank And a separating means for separating the billet mounting means from each other when the plurality of billet mounting means descends.

[作用] 上記の構成により、ビレット載置手段が下降するときあ
るいは下降後に、分離手段により、各ビレット載置手段
が所定の間隔を隔てるように分離される。これにより、
ビレット載置手段上の各切断端面を接した状態にして並
べられていたビレット相互が分離して各端面が分離され
るため、ビレットの全面がコーティングされるようにな
る。
[Operation] With the above configuration, when the billet placing means descends, or after the billet placing means descends, the separating means separates the billet placing means so as to be separated by a predetermined distance. This allows
Since the billets arranged so that the cut end faces on the billet placing means are in contact with each other are separated from each other to separate the end faces, the entire billet is coated.

[実施例] 第1図はこの発明の1実施例であるビレットの浸漬装置
を適用したビレット搬送装置を示している。
[Embodiment] FIG. 1 shows a billet conveying device to which a billet dipping device according to an embodiment of the present invention is applied.

1はパーツフィーダであり、このパーツフィーダにより
ビレット2はビレット2の円柱方向に整列されかつビレ
ット2の切断端面が相互に密着した状態にして送り出さ
れる。3は、パーツフィーダ1から送給されるビレット
2を搬送するチェーンコンベアであり、4及び5は、前
記チェーンコンベア3と直線状に設けられた下部スラッ
トコンベア及び上部スラットコンベアであり、両コンベ
ア4と5とは送給されるビレット2を挟んで互いに対向
するようにして設けられる。
Reference numeral 1 denotes a parts feeder, which causes the billet 2 to be aligned in the column direction of the billet 2 and the cut end surfaces of the billet 2 to be in contact with each other and delivered. 3 is a chain conveyor that conveys the billet 2 fed from the parts feeder 1, 4 and 5 are lower slat conveyors and upper slat conveyors that are linearly provided with the chain conveyor 3, and both conveyors 4 And 5 are provided so as to face each other with the billet 2 being fed therebetween.

6は前記チェーンコンベア3と下部スラットコンベア4
とを所定の速度で駆動させる駆動モータであり、7は、
上記スラットコンベア5を下方向に圧力を加えてビレッ
ト2を下方向に押し付けるために設けられた押さえシリ
ンダであり、ビレット2を下部スラットコンベア4に押
し付けることにより、下部スラットコンベア4の移動に
伴なってビレット2が押し出されるようになっている。
8は、下部スラットコンベア4および上部スラットコン
ベア5によって一定の速度で押し出されたビレット2を
予熱する予熱ヒータである。
6 is the chain conveyor 3 and the lower slat conveyor 4
Is a drive motor for driving and at a predetermined speed, and 7 is
A pressing cylinder provided for pressing the slat conveyor 5 downward to press the billet 2 downward. By pressing the billet 2 against the lower slat conveyor 4, the lower slat conveyor 4 moves. The billet 2 is pushed out.
Reference numeral 8 denotes a preheat heater for preheating the billet 2 extruded at a constant speed by the lower slat conveyor 4 and the upper slat conveyor 5.

9は例えば、フォトダイオード9a及びフォトセンサ9bで
構成されるセンサであり、予熱ヒータ8のビレット排出
面8aから更に長さLだけ進行した位置でビレット2を検
出できるように、上記フォトダイオード9aとフォトセン
サ9bがビレット2の走行経路の両側に設けられ、フォト
ダイオード9aからフォトセンサ9bに向かう光軸9cは、予
熱ヒータ8のビレット排出面8aから排出方向にLの長さ
隔たっていてかつ送給されてきたビレット2を横切るよ
うに設けられている。
Reference numeral 9 is, for example, a sensor composed of a photodiode 9a and a photosensor 9b, and the photodiode 9a and the photodiode 9a are provided so that the billet 2 can be detected at a position further advanced by a length L from the billet discharge surface 8a of the preheating heater 8. Photosensors 9b are provided on both sides of the traveling path of the billet 2, and an optical axis 9c extending from the photodiode 9a to the photosensor 9b is separated from the billet discharge surface 8a of the preheating heater 8 by a length L in the discharge direction and is fed. It is provided so as to cross the supplied billet 2.

10は、予熱ヒータ8の側方でビレット2の送給方向Eの
右側所定位置に設けられた旋回装置であり、この旋回装
置10に設けられた垂直方向の回動軸10aを90゜回動でき
るようになっている。11は、2本の等しい長さのアーム
11a,11bが水平方向にかつ互いに直交した向きに延びて
いるL字形のアームであり、このアーム11の屈曲部を支
点として前記回動軸10aの上端部に設けられる。このア
ーム11のうち、一方のアーム11aがビレット2の送給方
向Eと直交する位置にあるときには他方のアーム11b
は、ビレット2の送給方向Eと平行関係にある。このよ
うな位置にあるアーム11の状態をAとし、そしてアーム
11が上方向から見て時計方向(図中、矢印で示す方向)
に90゜回動した位置なったアーム11の状態をBとする。
Reference numeral 10 denotes a swivel device provided on the right side in the feeding direction E of the billet 2 on the side of the preheater heater 8. A swivel device 10 has a vertical swivel shaft 10a that swivels 90 °. You can do it. 11 is two arms of equal length
Reference numerals 11a and 11b are L-shaped arms extending horizontally and in directions orthogonal to each other, and are provided at the upper end of the rotary shaft 10a with the bent portion of the arm 11 as a fulcrum. When one arm 11a of the arms 11 is in a position orthogonal to the feeding direction E of the billet 2, the other arm 11b is
Is parallel to the feeding direction E of the billet 2. The state of the arm 11 in such a position is A, and the arm is
11 is clockwise when viewed from above (the direction indicated by the arrow in the figure)
The state of the arm 11 which has been rotated 90 ° is set to B.

アーム11aの端部には昇降シリンダ12によって昇降され
るチャック13が設けられ、アーム11bの端部には昇降シ
リンダ14によって昇降されるチャック15が設けられる。
それぞれのチャック13,15は、後述するように、3個の
ビレット2を同時に把持できるようになっている。
A chuck 13 that is moved up and down by an elevating cylinder 12 is provided at the end of the arm 11a, and a chuck 15 that is moved up and down by an elevating cylinder 14 is provided at the end of the arm 11b.
Each of the chucks 13 and 15 is capable of simultaneously gripping the three billets 2 as described later.

16は、内部にディッピング液が蓄えられたディッピング
槽であり、ビレット2の送給方向Eに対して前記旋回装
置10の前方に設けられる。このディッピング槽16には、
昇降シリンダ17、この昇降シリンダ17の作動により昇降
する載置台18aからなる浸漬装置18が設けられており、
載置台18aが下降した時(浸漬位置)に、この載置台18a
上に置いたビレット2がディッピング槽16内のディッピ
ング液に浸漬するようになっている。又、上昇した位置
(待機位置)の前記載置台18a上に置かれたビレット2
を検出するセンサ19が設けられていて、センサ19がビレ
ット2を検出すると、シリンダ17が一定時間作動され、
浸漬装置18が一定時間下降する。これにより、浸漬装置
18の載置台18aに置かれたビレット2がディッピング槽1
6内のディッピング液に上記一定時間浸されるようにな
っており、この浸漬時間は、アーム11の搬送サイクル時
間内であれば随意に調節可能である。
Reference numeral 16 is a dipping tank in which the dipping liquid is stored, and is provided in front of the turning device 10 with respect to the feeding direction E of the billet 2. In this dipping tank 16,
An elevating cylinder 17 and an immersion device 18 including a mounting table 18a that is moved up and down by the operation of the elevating cylinder 17 are provided.
When the mounting table 18a descends (immersion position), this mounting table 18a
The billet 2 placed on top is immersed in the dipping liquid in the dipping tank 16. Further, the billet 2 placed on the above-mentioned mounting table 18a in the raised position (standby position)
Is provided, and when the sensor 19 detects the billet 2, the cylinder 17 is operated for a certain period of time,
The dipping device 18 descends for a certain period of time. This allows the dipping device
The billet 2 placed on the placing table 18a of 18 is the dipping tank 1
It is soaked in the dipping liquid in 6 for the above-mentioned fixed time, and this immersion time can be arbitrarily adjusted within the transfer cycle time of the arm 11.

このような構成により、アーム11が上述したような状態
Aの位置にあるとき、チャック13を下降させることによ
って予熱ヒータ8から所定の位置まで排出された3個の
ビレット2を把持できるようになっていて、又、チャッ
ク15を下降させることにより、浸漬装置18の載置台18a
上の3個のビレット2′を把持できるようになってい
る。
With such a configuration, when the arm 11 is in the position of the state A as described above, by lowering the chuck 13, the three billets 2 discharged from the preheating heater 8 to a predetermined position can be gripped. In addition, by lowering the chuck 15, the mounting table 18a of the dipping device 18 can be
The upper three billets 2'can be gripped.

20は、前記旋回装置10の側方で予熱ヒータ8と相対する
ようにして位置していて、前記ビレット送給方向Eと反
対の方向Fに送給できるように設けられたチェーンコン
ベアであり、かつ、前記アーム11が回動して状態Bの位
置になったとき、アーム11bのチャック15に把持されて
いたビレット2がチェーンコンベア20上に載置されるよ
うな位置にチェーンコンベア20が設けられる。又、アー
ム11aとアーム11bとは長さが等しくかつ直交しているの
で、アーム11が状態Bの位置になったときにはアーム11
aのチャック13は浸漬装置18上に位置するようになる。
アーム11は状態Bの位置において、チャック13,15の把
持部は共に把持していたビレット2を開放する動作を行
なう。
Reference numeral 20 denotes a chain conveyor which is positioned on the side of the swivel device 10 so as to face the preheater heater 8 and can be fed in a direction F opposite to the billet feeding direction E, Further, the chain conveyor 20 is provided at such a position that the billet 2 held by the chuck 15 of the arm 11b is placed on the chain conveyor 20 when the arm 11 is rotated to the position B. To be Further, since the arm 11a and the arm 11b have the same length and are orthogonal to each other, when the arm 11 is in the state B position, the arm 11
The chuck 13 of a comes to rest on the dipping device 18.
When the arm 11 is in the position of state B, the gripping portions of the chucks 13 and 15 perform an operation of releasing the billet 2 which is being gripped together.

21及び22は、前記チェーンコンベア20と直線状に設けら
れた下部スラットコンベア及び上部スラットコンベアで
あり、両コンベア21,22とは送給されるビレット2を挟
んで互いに対向するようにして設けられる。23は前記チ
ェーンコンベア20と下部スラットコンベア21とを所定の
速度で駆動させる駆動モータであり、24は、上部スラッ
トコンベア22を下方向に圧力を加えてビレット2を下方
向に押し付けるために設けられた押さえシリンダであ
り、ビレット2を下部スラットコンベア21に押し付ける
ことにより、下部スラットコンベア21の移動に伴なって
ビレット2が押し出されるようになっている。
Reference numerals 21 and 22 denote a lower slat conveyor and an upper slat conveyor, which are linearly provided with the chain conveyor 20. The conveyors 21 and 22 are provided so as to face each other with the billet 2 being fed therebetween. . Reference numeral 23 is a drive motor for driving the chain conveyor 20 and the lower slat conveyor 21 at a predetermined speed, and 24 is provided for pressing the upper slat conveyor 22 downward to press the billet 2 downward. The pressing cylinder is a pressing cylinder, and by pressing the billet 2 against the lower slat conveyor 21, the billet 2 is pushed out as the lower slat conveyor 21 moves.

25は、下部スラットコンベア21および上部スラットコン
ベア22によって一定の速度で押し出されたビレット2を
所定の鍛造温度に加熱するビレットヒータであり、26は
ビレットヒータ25によって加熱されたビレット2を所定
の場所に送るためのシューターである。
25 is a billet heater that heats the billet 2 extruded by the lower slat conveyor 21 and the upper slat conveyor 22 at a constant speed to a predetermined forging temperature, and 26 is a billet heater that is heated by the billet heater 25 at a predetermined location. A shooter to send to.

27は、ビレットヒータ25内におけるディッピング液の燃
焼により発生する煙を排出させるための排風機であり、
発生した煙は、ビレットヒータ25のビレット入口部に設
けたフード28及び排出パイプ29を介して排風機27により
戸外に排出される。
27 is an air blower for discharging the smoke generated by the combustion of the dipping liquid in the billet heater 25,
The generated smoke is exhausted to the outside by the air exhauster 27 through the hood 28 and the exhaust pipe 29 provided at the billet inlet of the billet heater 25.

第2図は、上記チャック13,15及びチャックの駆動部を
示すチャッキング装置の拡大図であり、第3図は第2図
における側面図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a chucking device showing the chucks 13 and 15 and a chuck driving unit, and FIG. 3 is a side view of FIG.

チャック部は、それぞれ複数の爪を備えた固定爪30及び
可動爪31からなり、チャッキング用シリンダ32による可
動爪31の開動作により、軸方向に密着整列したビレット
2を3個同時に把持できるようになっている。又、ビレ
ット2の把持のために開いた可動爪31が元の閉状態に復
帰するよう、板バネ33によるバネ圧が加えられており、
これにより、ビレット径の異なるビレットがあっても、
各々のビレット2に対して所定の把持力が加わるのでビ
レット2を確実に把持することができる。
The chuck part is composed of a fixed claw 30 and a movable claw 31, each of which has a plurality of claws. The chucking cylinder 32 opens the movable claw 31 so that three billets 2 closely aligned in the axial direction can be simultaneously gripped. It has become. Further, spring pressure is applied by the leaf spring 33 so that the movable claw 31 opened for gripping the billet 2 returns to the original closed state.
As a result, even if there are billets with different billet diameters,
Since a predetermined gripping force is applied to each billet 2, the billet 2 can be securely gripped.

第4図及び第5図は、上記浸漬装置18部の詳細を示す正
面図及び上面図である。
FIG. 4 and FIG. 5 are a front view and a top view showing the details of the immersion device 18 part.

浸漬装置18により昇降されるビレットの載置台18aは18a
1〜18a3の3個に分かれている。そして、各々の載置台1
8a1〜18a3は、浸漬装置18を構成するアームの水平部X
に摺動可能に嵌挿され、かつ、各載置台18a1〜18a3
は、前記アームの水平部Xと直交する水平方向にガイド
ピンP1,P2,P3が設けられる。そして、ディッピング槽16
の内側側壁には、前記ガイドピンP1,P2,P3の各先端部に
嵌合するガイドレールG1,G2,G3が設けられていて、ガイ
ドピンP2と嵌合する中央のガイドレールG2は垂直に設け
られるが、ガイドピンP1と嵌合するガイドレールG1は下
部で前記ガイドレールG2との間隔が広がるように斜方向
に設けられ、一方、ガイドピンP3と嵌合するガイドレー
ルG3は下部でガイドレールG2との間隔が広がるように斜
方向に設けられる。
The billet mounting table 18a that is moved up and down by the dipping device 18 is 18a.
It is divided into three , 1 to 18a 3 . And each mounting table 1
8a 1 to 18a 3 are horizontal portions X of the arms that constitute the dipping device 18.
The fitted slidably and each table 18a 1 ~18a 3, the guide pin P 1, P 2, P 3 are provided in a horizontal direction perpendicular to the horizontal portion X of the arm. And the dipping tank 16
The interior sidewall, said guide pins P 1, P 2, have guide rails G 1 to be fitted to each tip of the P 3, G 2, G 3 is provided, the guide pin P 2 and mating central the guide rail G 2 is but provided vertically, the guide pins P 1 and the guide rails G 1 to be fitted is provided in an oblique direction so as to expand the distance between the guide rails G 2 at the bottom, while the guide pin P The guide rail G 3 that fits with the 3 is provided in an oblique direction so that the space between the guide rail G 3 and the guide rail G 2 widens.

これにより、昇降シリンダ17が作動して浸漬装置18が上
昇したとき、第4図に示すように、各載置台18a1〜18a3
はディッピング液面上にて相互に密着した状態である
が、浸漬装置18が下降したとき、各載置台18a1〜18a3
ガイドレールG1,G2,G3に沿って下降するため、ディッピ
ング液面下においては、各載置台18a1〜18a3の相互はは
間隔を隔てるようにして分離する。
As a result, when the lifting cylinder 17 operates and the dipping device 18 rises, as shown in FIG. 4, each of the mounting tables 18a 1 to 18a 3
Is in a state of being in close contact with each other on the dipping liquid surface, but when the dipping device 18 descends, each of the mounting tables 18a 1 to 18a 3 descends along the guide rails G 1 , G 2 , and G 3 , Below the surface of the dipping liquid, the mounting tables 18a 1 to 18a 3 are separated from each other with a space therebetween.

次に、上述の構成による装置の動作を説明する。Next, the operation of the apparatus having the above configuration will be described.

アーム11aが予熱ヒータ8の排出口側に位置している状
態Aの位置になっているものとし、又、後述の動作と同
様な動作がすでに行なわれていて、浸漬装置18の載置台
18aにビレット2′が整列した状態で3個置かれている
ものとする。
It is assumed that the arm 11a is located at the position A in which the preheating heater 8 is located on the discharge port side, and that the same operation as that described later has already been performed, and the mounting table of the dipping device 18 is
It is assumed that three billets 2'are placed on 18a in an aligned state.

パーツフィーダ1から送給されたビレット2は、チェー
ンコンベア3を介して下部及び上部スラットコンベア4,
5によって一定の速度で予熱ヒータ8方向に押し出され
る。予熱ヒータ8によって150〜200℃に予熱されて排出
されたビレット2の切断前面が予熱ヒータ8の排出面8a
から更にLの長さ隔たった位置までくると、センサ9に
よってビレット2が検出される。これにより、アーム11
aのシリンダ12が作動してチャック13は下降してビレッ
ト2を3個同時に把持する。
The billet 2 fed from the parts feeder 1 passes through the chain conveyor 3 to the lower and upper slat conveyors 4,
It is pushed out toward the preheater heater 8 at a constant speed by the 5. The cutting front surface of the billet 2 which has been preheated to 150 to 200 ° C. by the preheat heater 8 and is discharged is the discharge surface 8a of the preheat heater 8.
The sensor 9 detects the billet 2 when it reaches a position further separated by L from. This allows the arm 11
The cylinder 12 of a operates and the chuck 13 descends to grip three billets 2 at the same time.

一方、アーム11bのシリリンダ14が作動してチャック15
が下降して前回の動作でディッピング液に所定時間浸さ
れ載置台18aに置かれたビレット2′を3個把持する。
On the other hand, the siririnda 14 of the arm 11b is activated and the chuck 15
Descends and grips three billets 2'which have been immersed in the dipping liquid for a predetermined time in the previous operation and placed on the mounting table 18a.

次に、シリンダ12,14及びチャック13,15の状態を保持し
たままで旋回装置10の動作により、アーム11が図上時計
方向に90゜回動してアーム11aがディッピング槽16上に
あり、アーム11bがチェーンコンベア20上に位置するB
の状態になる。この状態では、チャック13で把持された
ビレット2は浸漬装置18上に位置するとともに、チャッ
ク15により把持されたビレット2′はチェーンコンベア
20上に位置するようになる。
Next, with the cylinders 12 and 14 and chucks 13 and 15 being held, by the operation of the revolving device 10, the arm 11 is rotated 90 ° clockwise in the drawing and the arm 11a is on the dipping tank 16. Arm 11b is located on chain conveyor 20 B
It becomes the state of. In this state, the billet 2 gripped by the chuck 13 is located on the dipping device 18, and the billet 2 ′ gripped by the chuck 15 is the chain conveyor.
Will be located above 20.

そして、アーム11aのシリンダ12が作動してチャック13
が下降して所定の位置で開放され、把持していたビレッ
ト2を3個整列状態のまま浸漬装置18の載置台18aの各
々の載置台18a1〜18a3に置いた後はシリンダ12が作動し
て前記チャック13は上昇する。このとき、アーム11bの
シリンダ14が作動してチャック15が下降するとともに開
放され、把持していたビレット2′を3個整列状態のま
まチェーンコンベア20上に置く。
Then, the cylinder 12 of the arm 11a operates and the chuck 13
Is lowered and released at a predetermined position, and the cylinders 12 are operated after the three billets 2 that have been gripped are placed on the respective mounting bases 18a 1 to 18a 3 of the mounting bases 18a of the dipping device 18 in an aligned state. Then, the chuck 13 rises. At this time, the cylinder 14 of the arm 11b is operated and the chuck 15 is lowered and released, and the three billets 2'which are gripped are placed on the chain conveyor 20 in an aligned state.

そしてシリンダ14の作動によりチャック15は上昇する。
その後は再び旋回装置10が作動してアーム11は今度は逆
方向に90゜回動し、状態Aに戻って待機状態となる一
方、この逆方向の旋回の間に、昇降シリンダ17の作動に
より、浸漬装置18が所定時間下降する。このとき、既述
したように、浸漬装置18の下降に伴ない、ビレットの各
載置台18a1〜18a3はそれぞれ間隔を隔てて分離するため
に、載置台18a1〜18a3の各ビレット2′も分離して密着
していたビレット2′の各端面が離れ、ビレット2′の
全表面がディッピング液によりコーティングされる。そ
の後、所定時間のコーティング処理が終われば、再び浸
漬装置18は上昇するが、このときも各載置台18a1〜18a3
はガイドレールG1,G2,G3に沿って上昇するため、各載置
台上のビレット2′の各端面が相互に密着した元の状態
になる。
Then, the operation of the cylinder 14 raises the chuck 15.
After that, the revolving device 10 operates again, and the arm 11 turns 90 ° in the opposite direction this time, and returns to the state A to be in the standby state. The dipping device 18 descends for a predetermined time. At this time, as described above, In conjunction to the lowering of the immersion device 18, for separating at a respective each table 18a 1 ~18a 3 billet intervals, each billet of the mounting table 18a 1 ~18a 3 2 The end faces of the billet 2'which have also been separated and adhered to each other are separated, and the entire surface of the billet 2'is coated with the dipping liquid. Thereafter, After completion coating process for a predetermined time, but dipping device 18 is raised again, table 18a 1 ~18a 3 mounting also the this time
Rises along the guide rails G 1 , G 2 and G 3 , so that the respective end faces of the billet 2 ′ on each mounting table are in the original state in which they are in close contact with each other.

その後、続けて予熱ヒータ8から排出されてくるビレッ
ト2がセンサ9によって検出されると、アーム11aによ
りビレット2を順次ディッピング液に所定時間浸し、ア
ーム11bにより、ディッピング液に浸されたビレット2
をチェーンコンベア20上に順次搬送する。チェーンコン
ベア20上に置かれたビレット2は下部及び上部スラット
コンベア21,22によって所定の速度でビレットヒータ25
に送供される。このビレットヒータ25で所定の温度に加
熱されたビレット2はシューター26を介して図示しない
温間鍛造機の方に送給される。
Then, when the billet 2 discharged from the preheater 8 is detected by the sensor 9, the billet 2 is sequentially dipped in the dipping solution by the arm 11a for a predetermined time, and the billet 2 dipped in the dipping solution by the arm 11b.
Are sequentially conveyed on the chain conveyor 20. The billet 2 placed on the chain conveyor 20 is moved to the billet heater 25 at a predetermined speed by the lower and upper slat conveyors 21 and 22.
Be sent to. The billet 2 heated to a predetermined temperature by the billet heater 25 is fed via a shooter 26 to a warm forging machine (not shown).

このように予熱ヒータ8で加熱されたビレット2をディ
ッピング槽16に搬送する装置及びディッピング槽16でデ
ィッピング液に浸されたビレット2を後段のチェーンコ
ンベア20に搬送する装置に上述したような直角の2方向
に延びたアーム11を用いて、ある状態Aのアーム位置で
は予熱ヒータ8で加熱されたビレット2と、ディッピン
グ槽16の浸漬装置18上のビレット2とをそれぞれチャッ
ク13,15で同時に把持するようにし、又、別の状態Bの
アーム位置ではチャック13,15に把持していたそれぞれ
のビレット2を浸漬装置18上と、チェーンコンベア20上
とに置くようにしたので、浸漬装置17の載置台17aとチ
ェーンコンベア20上におけるビレット2の筒方向の向き
はそれぞれ前記ビレット送給方向Eに対して90゜,180゜
のように定まった向きにして置かれるようになり、アー
ム11の動作でビレット2を確実な動作でもってディッピ
ング槽18とチェーンコンベア20とに搬送することができ
る。
As described above, the apparatus for transferring the billet 2 heated by the preheater 8 to the dipping tank 16 and the apparatus for transferring the billet 2 soaked in the dipping liquid in the dipping tank 16 to the chain conveyor 20 in the subsequent stage have a right angle as described above. Using the arm 11 extending in two directions, the billet 2 heated by the preheater 8 and the billet 2 on the dipping device 18 in the dipping tank 16 are simultaneously gripped by the chucks 13 and 15 at the arm position in a certain state A, respectively. In addition, the billets 2 held by the chucks 13 and 15 at the arm position in another state B are placed on the dipping device 18 and the chain conveyor 20, respectively. The cylinders of the billet 2 on the mounting table 17a and the chain conveyor 20 are placed in fixed directions such as 90 ° and 180 ° with respect to the billet feeding direction E, respectively. It is done, it is possible to convey to the dipping tank 18 and the chain conveyor 20 with the billet 2 in a reliable operation in the operation of the arm 11.

この時、チャック13,15により同時にビレット2を3個
づつ把持するようにしたので、ビレット2を搬送する旋
回装置10および浸漬装置18における動作が低速となり、
それ故、ビレット2の正確な把持動作及び浸漬動作が可
能となるだけでなく、予熱ヒータ8より次々と排出され
るビレット2の供給速度に容易に追従できる。
At this time, the chucks 13 and 15 are configured to simultaneously hold three billets 2 at a time, so that the operations of the swivel device 10 and the dipping device 18 for transporting the billets 2 become slow,
Therefore, not only the accurate gripping operation and the dipping operation of the billet 2 are possible, but also the supply speed of the billet 2 sequentially discharged from the preheating heater 8 can be easily followed.

更に、浸漬装置18におけるビレット載置台18aは、ディ
ッピング液に浸漬した状態ではそれぞれの載置台18a1
18a3は所定の間隔を隔てて分離するので、載置された各
ビレット2′相互も分離し、全表面がディッピング液に
よりコーティングされる。
Furthermore, the billet mounting table 18a in the dipping device 18 is mounted on each of the mounting tables 18a 1 to 18a in a state of being immersed in the dipping liquid.
Since 18a 3 is separated at a predetermined interval, the placed billets 2'are also separated from each other, and the entire surface is coated with the dipping liquid.

又、ビレットヒータ25のビレット搬入部に煙を強制的に
排出させる排風機27を設けたことにより、ビレットヒー
タ25の加熱コイルや耐火物に導電性の物質の付着が少な
くなり加熱コイルによる加熱のとともに、煙を戸外に排
出させるため作業場の環境を汚すことも少なくなる。
Further, by providing the air blower 27 for forcibly discharging smoke in the billet carry-in part of the billet heater 25, adhesion of the conductive substance to the heating coil and the refractory of the billet heater 25 is reduced and heating by the heating coil is reduced. At the same time, smoke is emitted to the outside, so that the environment of the workplace is less polluted.

更に、このシステムによれば、アーム11の旋回動作によ
り、ビレットヒータ25にビレット2を送給するためのチ
ェーンコンベア20上のビレット2の円柱方向は前記ビレ
ット送給方向Eと平行しているのでチェーンコンベア20
によるビレット2の送給方向Fは、予熱ヒータ8に対し
てビレット2を送給するチェーンコンベア3の送給方向
Eとは反対方向にすることができるので、全体の装置を
コの字形にコンパクトに構成することができ、設置スペ
ースを小さくすることができる。
Further, according to this system, since the arm 11 swings, the column direction of the billet 2 on the chain conveyor 20 for feeding the billet 2 to the billet heater 25 is parallel to the billet feeding direction E. Chain conveyor 20
Since the feeding direction F of the billet 2 by means of can be made the opposite direction to the feeding direction E of the chain conveyor 3 for feeding the billet 2 to the preheater 8, the whole apparatus can be made into a U-shape. The installation space can be reduced.

又、浸漬装置18を昇降させることによって、浸漬装置18
の載置台18a上のビレットのをディッピング液に浸すよ
うにしているので浸漬時間を正確に設定することができ
るようになるとともに、浸漬装置18は単なる上下運動を
するだけであるので、ディッピング槽16上で水切りを行
なうことができ、従来の装置のようにディッピング液が
ディッピング槽16外部に滴下する恐れもない。
Also, by raising and lowering the dipping device 18,
Since the billet on the mounting table 18a is soaked in the dipping liquid, the dipping time can be set accurately, and the dipping device 18 simply moves up and down. Draining can be performed above, and there is no fear that the dipping liquid will drip outside the dipping tank 16 as in the conventional device.

更には、浸漬装置18自体は単純な構成なのでディッピン
グ液に対する耐食性を有する材料により構成するのは困
難ではなく、その上、この浸漬装置18はビレット2を浸
漬するとき以外はディッピング液外に位置しているの
で、浸漬装置18に対する腐食を軽減することができる。
Further, since the dipping device 18 itself has a simple structure, it is not difficult to construct the dipping liquid from a material having corrosion resistance to the dipping liquid, and the dipping device 18 is located outside the dipping liquid except when the billet 2 is dipped. Therefore, the corrosion of the dipping device 18 can be reduced.

そして、予熱ヒータ8及びビレットヒータ25にビレット
を送り出す装置に従来のようなピンチローラではなく、
キャタピラ状のスラットコンベアを用いることによりビ
レット2の表面を損傷させる恐れもない。
Then, instead of using a pinch roller as in the past, a device for sending the billet to the preheat heater 8 and the billet heater 25,
There is no risk of damaging the surface of the billet 2 by using the caterpillar-shaped slat conveyor.

[発明の効果] この発明によれば、ビレットを浸漬するためのビレット
載置台をディッピング液下においては載置台相互が分離
するようにしたので、ビレットの全表面がディッピング
液に浸るようになり、むらのない全面コーティングが可
能となる。
[Advantage of the Invention] According to the present invention, the billet mounting table for dipping the billet is separated from each other under the dipping solution, so that the entire surface of the billet is immersed in the dipping solution. It enables even coating on the entire surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明のビレットのチャッキング装置を適用
したビレットの搬送装置の1実施例を示す斜視図、第2
図及び第3図は、第1図におけるチャッキング装置の正
面図及び側面図、第4図及び第5図は、第1図における
浸漬装置の側断面図及び上面図、第6図は、従来のビレ
ット搬送装置の正面図である。 1……パーツフィーダ、2……ビレット、3,20……チェ
ーンコンベア、4,21……下部スラットコンベア、5,22…
…上部スラットコンベア、6,23……駆動モータ、7,24…
…押さえシリンダ、8……予熱ヒータ、9,19……セン
サ、10……旋回装置、10a……回動軸、11……アーム、1
2,14,18……昇降シリンダ、13,15……チャック、16……
ディッピング槽、17……昇降シリンダ、18……浸漬装
置、18a1〜18a3……載置台、P1,P2,P3……ガイドピン、
G1,G2,G3……ガイドレール、25……ビレットヒータ、26
……シューター、27……排風機、28……フード、29……
排出パイプ。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a billet conveying device to which a billet chucking device of the present invention is applied, and FIG.
FIGS. 3 and 4 are front and side views of the chucking device in FIG. 1, FIGS. 4 and 5 are side sectional views and top views of the dipping device in FIG. 1, and FIG. It is a front view of the billet conveying device. 1 ... Parts feeder, 2 ... Billet, 3,20 ... Chain conveyor, 4,21 ... Lower slat conveyor, 5,22 ...
… Upper slat conveyor, 6,23 …… Drive motor, 7,24…
... Pressing cylinder, 8 ... Preheater, 9,19 ... Sensor, 10 ... Swivel device, 10a ... Rotating shaft, 11 ... Arm, 1
2,14,18 …… Lifting cylinder, 13,15 …… Chuck, 16 ……
Dipping bath, 17 ...... lifting cylinder, 18 ...... immersion apparatus, 18a 1 ~18a 3 ...... table, P 1, P 2, P 3 ...... guide pins,
G 1 , G 2 , G 3 …… Guide rail, 25 …… Billet heater, 26
…… Shooter, 27 …… Blower, 28 …… Hood, 29 ……
Discharge pipe.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】予熱されたビレット(2)をチャック(1
3,15)にて把持してビレットヒータ(25)へ搬送する過
程で、ビレット(2)を表面処理用のディッピング槽
(16)に浸漬させるためのビレット浸漬装置(18)であ
って、互いに密着状態にして予熱された複数個のビレッ
ト(2)をそれぞれ受ける複数個のビレット載置手段
(18a)と、ビレット(2)をディッピング槽(16)内
のディッピング液に浸漬するためにビレット載置手段
(18a)を下降させる下降手段(17)と、複数個のビレ
ット載置手段(18a)が下降した時、各ビレット載置手
段(18a)を互いに離隔させる分離手段(G1,G2,G3,P1,P
2,P3)とを備えたことを特徴とするビレットの浸漬装
置。
1. A chuck (1) for a preheated billet (2).
Billet immersing device (18) for immersing the billet (2) in a dipping tank (16) for surface treatment in the process of gripping the billet (3, 15) and transporting it to the billet heater (25). A plurality of billet mounting means (18a) for respectively receiving a plurality of preheated billets (2) in a close contact state, and a billet mounting means for immersing the billet (2) in the dipping liquid in the dipping tank (16). When the lowering means (17) for lowering the placing means (18a) and the plurality of billet placing means (18a) are lowered, the separating means (G 1 , G 2 ) for separating the billet placing means (18a) from each other. , G 3 , P 1 , P
2 , P 3 ), and a billet dipping device.
JP61115737A 1986-05-19 1986-05-19 Pellet dipping device Expired - Lifetime JPH0683873B2 (en)

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