JPH0681613U - セラミックフィルタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 圧力容器に収容するフィルタの本数を増加す
ることを可能とする。 【構成】 圧力容器１内に導入したダスト含有被処理ガ
スを管板５に装着したキャンドル型のセラミックス製の
フィルタ６を通過させて、ガス中のダストをフィルタ６
に捕捉させガスの脱塵処理を行うと共に、フィルタ６に
捕捉したダストを逆洗により払い落としてフィルタ６の
再生を行うセラミックフィルタにおいて、上記圧力容器
１内に、上記管板５をその高さ方向に所定の間隔を隔て
て複数設け、これら管板５間にダストを収容するホッパ
７を設けて管板５間を被処理ガスと処理ガスの２つのガ
ス室８，９に仕切り、管板５の下側の被処理ガス室８に
上記ダスト含有被処理ガスのガス導入口１０を設けると
共に、管板５の上側の処理ガス室９に処理ガスのガス排
出口１１を設け、かつ、上記ホッパ７の排出口にダスト
吐出管２２を接続すると共に、このダスト吐出管２２の
吐出口２２ａを下段の被処理ガスのガス室８に配置した
ことを特徴としている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、石炭ガス化システムなどの高圧プラント等に設置されるセラミック フィルタに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

石炭ガス化システムなどの高圧プラント等で用いられる脱塵装置としてはキャ ンドル型のセラミック製のフィルタを用いてガスの脱塵処理を行うセラミックフ ィルタがある。

【０００３】 このセラミックフィルタは、圧力容器の下方のガス導入口から被処理ガスを導 入しこれを管板に装着したキャンドル型のセラミック製のフィルタ（キャンドル フィルタ）を通過させて、ガス中のダストをフィルタ外壁面に捕捉させガスの脱 塵処理を行うものであり、脱塵処理されたガスは容器から排出されて他の系に導 かれる。そのキャンドルフィルタを再生する場合には、高圧の逆洗用の気体（例 えば窒素ガス）を被処理ガスとは逆方向にフィルタを通過するように噴射させる 。この逆洗によりフィルタに捕捉堆積しているダストが払い落とされフィルタの 再生が行われる。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、上述のセラミックフィルタでは、キャンドルフィルタを管板に吊り 下げ支持しているため、フィルタの熱膨張による伸びの面では有利であるが、構 造上フィルタの長さが例えば約 1.5ｍと限定され、それ以上長くできないのが現 状である。また、圧力容器の下部を、フィルタに捕捉堆積し払い落とされたダス トのホッパとする必要等から圧力容器の形状がある程度決まってしまい、圧力容 器に収容するフィルタの本数に限りがある。このため、これ以上フィルタの本数 を増やせず、セラミックフィルタを高圧プラントに適用した場合には圧力容器を 数多く配置する必要があり、プラントのレイアウト等が複雑になるなどの問題が 生じる。

【０００５】 そこで、本考案は、このような事情を考慮してなされたものであり、その目的 は、圧力容器に収容するフィルタの本数を増やすことができるセラミックフィル タを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

本考案は、上記目的を達成するために、圧力容器内に導入したダスト含有被処 理ガスを管板に装着したキャンドル型のセラミックス製のフィルタを通過させて 、ガス中のダストをフィルタに捕捉させガスの脱塵処理を行うと共に、フィルタ に捕捉したダストを逆洗により払い落としてフィルタの再生を行うセラミックフ ィルタにおいて、上記圧力容器内に、上記管板をその高さ方向に所定の間隔を隔 てて複数設け、これら管板間にダストを収容するホッパを設けて管板間を被処理 ガスと処理ガスの２つのガス室に仕切り、管板の下側の被処理ガス室に上記ダス ト含有被処理ガスのガス導入口を設けると共に、管板の上側の処理ガス室に処理 ガスのガス排出口を設け、かつ、上記ホッパの排出口にダスト吐出管を接続する と共に、このダスト吐出管の吐出口を下段の被処理ガスのガス室に配置したもの である。

【０００７】

【作用】

管板の下側の被処理ガス室に入ったダスト含有被処理ガスは、管板に装着した キャンドル型のセラミックス製のフィルタを通過してガス中のダストがフィルタ に捕捉されて脱塵処理されてから管板の上側の処理ガス室に入る。また、上段の フィルタから払い落とされたダストは、管板間を仕切るホッパからダスト吐出管 に流下し、そして下段の被処理ガスのガス室に落下するので、フィルタから払い 落とされたダストは全て圧力容器の下部に導かれる。従って、上段の管板のフィ ルタの再生の際のダストの処理を十分に行えるので、圧力容器内にフィルタを有 する管板を多段に設置することができ、フィルタの本数を増やすことが可能とな る。

【０００８】

【実施例】

以下、本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。

【０００９】 図１において、１は竪型の円筒体状の圧力容器を示し、この圧力容器１は上部 が閉塞されていると共に下方がダストのホッパとして形成されている。圧力容器 の下部（ダスト排出口２）にはロータリフィーダ３を有するダスト排出管４が接 続されている。

【００１０】 圧力容器１内には、その高さ方向に所定の間隔を隔てて管板５が複数図示例で は３段に配設されている。管板５にはキャンドル型のセラミック製のフィルタ（ キャンドルフィルタ）６が多数装着されている。キャンドルフィルタ６は、例え ばφ約50〜60mmで長さ約 1.5ｍの一端が閉塞された円筒体状に形成されると共に 、その他端が径方向外方に折り返されたようにフランジ（図示せず）が形成され 、このフランジによって管板５に吊り下げ支持される。

【００１１】 管板５間には、灰等のダストのホッパ７が設けられ、このホッパ７は小型の小 ホッパ７ａを多数並べた構造に形成されて、キャンドルフィルタ６より下方でか つ下の管板５から所定の高さ（キャンドルフィルタ６の脱着が容易に行える十分 な高さ）に配置される。具体的には、約 1.5ｍのキャンドルフィルタ６を管板５ に装着した場合には、ホッパ７と下側の管板５との間に約 1.6ｍ以上の空間が形 成されるように、ホッパ７及び管板５が配設され、これにより、管板５に装着し たキャンドルフィルタ６の１，２本が損壊しても、管板５から上にフィルタ６を 引き上げられると共に、フィルタ６を立てて管板５に挿入できるため、フィルタ ６の交換を簡単に行える。

【００１２】 管板５間は、ホッパ７により２つのガス室８，９が形成され、管板５の下側の ガス室が被処理ガス室（ダーティガスチャンバ）８、上側のガス室が処理ガス室 （クリーンガスチャンバ）９となるように圧力容器１の側部には、３つのガス導 入口１０とガス排出口１１が設けられている。具体的には、石炭ガス化ガスなど の灰等のダストを含有する被処理ガス（ダスト含有被処理ガス）のガス導入口１ ０は、圧力容器１の側部であって、キャンドルフィルタ６より下方で、かつ下に ホッパ７が配設されている場合にはホッパ７の上方に配設され、このガス導入口 １０には、できるだけ均等にダスト含有被処理ガスが配分されるように流量調節 弁１２を有する被処理ガス管１３が接続されている。

【００１３】 ガス排出口１１は、管板５の適宜上方でホッパ７より下方の圧力容器１の側部 に設けられ、このガス排出口１１には開閉弁１４を有するガス排出管１５が接続 されており、ガス導入口１０から被処理ガス室８に入ったダスト含有被処理ガス はキャンドルフィルタ６を通過して、ガス中のダストがフィルタ外壁面に捕捉さ れてガスの脱塵処理が行われてから処理ガス室９に入り、そして排出口１１から ガス排出管１５に導入するようになっている。また、被処理ガス室８及び処理ガ ス室９を区画形成する壁等には、作業員が入れると共にキャンドルフィルタ６の 出し入れが可能なマンホールが設けられ、これにより点検作業やフィルタ６の交 換などを行える。

【００１４】 各キャンドルフィルタ６には、高圧の逆洗用の気体（例えば窒素ガス）を被処 理ガスとは逆方向にフィルタ６を通過するように噴射させる逆洗ノズル１８が配 設されている。これら逆洗ノズル１８にはそれぞれ開閉弁１９を有する逆洗ガス 供給管２０が接続され、これら逆洗ガス供給管２０は高圧（例えば被処理ガスの 約倍の圧力）の逆洗用の気体（例えば窒素ガス）を供給する逆洗ガス供給装置２ １に接続されている。逆洗ガス供給管２０の開閉弁１９は、管板５毎に（上段、 中段、下段の管板５毎に）、被処理ガス室８と処理ガス室９との圧力差が所定値 より高くなったり所定時間を経過したりすると所定時間開となるように開閉調節 される。例えば、20分間隔で約 0.2秒の逆洗が管板５毎に行われるように開閉調 節され、開状態のとき、これと相関する上記ガス排出管１５の開閉弁１４が閉じ られるように構成されている。すなわち、逆洗は管板５毎にガス排出管１５の開 閉弁１４が閉じられた状態で行われるようになっている。

【００１５】 また、上記小ホッパ７ａの排出口には、ホッパ７ａに落下したダストを下方に 導くダスト吐出管２２が接続され、このダスト吐出管２２はそのホッパ７ａの下 側の管板５を貫通して、その吐出口２２ａが下段の被処理ガス室８のガス導入口 １０より下側に配置されており、上２段のキャンドルフィルタ６から払い落とさ れたダストがダスト吐出管２２を介して圧力容器１の下方に溜るようになってい る。そのダスト吐出管２２及び上記ホッパ７は、管板５に取り付けられていると 共に、熱膨張による移動を吸収する熱吸収構造を介してガス排出口１１の内部に 取り付けられて、熱膨張を吸収することができる構造になっている。

【００１６】 さて、灰等のダストを含有する被処理ガス（ダスト含有被処理ガス）が流量調 節弁１２により３つに均等に配分されて各ガス導入口１０から各被処理ガス室８ に入ると、ダスト含有被処理ガスは、管板５に装着されているキャンドルフィル タ６を通過して、ガス中のダストがフィルタ外壁面に捕捉されてガスの脱塵処理 が行われてから処理ガス室９に入る。脱塵処理後のガスは、処理ガス室９からガ ス排出口１１を介してガス排出管１５に流入し、他の系に導かれる。

【００１７】 この運転中、被処理ガス室８と処理ガス室９との圧力差が所定値より高くなっ たり所定時間を経過したりすると、上中下の管板５毎に連通する逆洗ガス供給管 ２０の開閉弁１９が所定時間開かれる。このように開閉弁１９が開かれると、逆 洗ガス供給装置２１から高圧の窒素ガスが逆洗ガス供給管２０を介して逆洗ノズ ル１８からフィルタ６内に噴射され、フィルタ６を被処理ガスとは逆方向に通過 する。これにより、フィルタ６に捕捉堆積しているダストが払い落とされ、フィ ルタ６の再生が行われる。この逆洗の際、逆洗が行われるフィルタ６の管板５と 相関するガス排出管１５の開閉弁１４が閉じられるため、逆洗ノズル１８からの 高圧の窒素ガスはほとんどフィルタ６を通過するので、フィルタ６に捕捉堆積し ているダストをより確実に払い落とすことができ、フィルタ６の再生を十分に行 える。

【００１８】 キャンドルフィルタ６から払い落とされたダストは、落下して圧力容器１の下 方に溜る。上段、中段のフィルタ６から払い落とされたダストは、まず管板５間 を仕切るホッパ７に落下し、そしてダスト吐出管２２を流下して吐出口２２ａか ら下段の被処理ガス室８に落下する。この際、ダスト吐出管２２の吐出口２２ａ がガス導入口１０より下側に配置されているため、そのガス導入口１０から入っ てくるガスによりダストが舞い上がることがなくなり、再度フィルタ６に捕捉さ れることがほとんどなくなる。これにより、上段、中段のフィルタ６からのダス トも圧力容器１の下方に溜り、そして圧力容器１の下部からロータリフィーダ３ を介してダスト排出管４に導かれる。

【００１９】 従って、管板５を多段に配置すると共にこれら管板５間にポッパ７を設け、か つこのポッパ７にダスト吐出管２２を接続することにより、上段及び中段の管板 ５のフィルタ６の再生の際のダストを圧力容器の下方に導いてその処理を行える ので、圧力容器１内にフィルタ６を有する管板５を多段に設置することができ、 フィルタ６の本数を増やせる。このように、多段にキャンドルフィルタ６を設置 して容積効率を高くすることができるので、本発明のセラミックフィルタを高圧 プラントに適用した場合には圧力容器１の数を減らせ、プラントのレイアウトの コンパクト化が図れる。

【００２０】 尚、本実施例では管板（キャンドルフィルタ）を３段に設置した場合について 説明したが、２段、又は４段以上に管板（キャンドルフィルタ）を設置するよう にしてもよく、また、被処理ガスの流量や圧力容器の高さに応じて管板の段数を 決めるようにしてもよい。

【００２１】

【考案の効果】

以上要するに本考案によれば、圧力容器に収容するフィルタの本数を増やすこ とができるという優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示す構成図である。

【符号の説明】

１ 圧力容器 ５ 管板 ６ キャンドルフィルタ ７ ホッパ ８ 被処理ガス室 ９ 処理ガス室 １０ ガス導入口 １１ ガス排出口 ２２ ダスト吐出管 ２２ａ 吐出口

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 圧力容器内に導入したダスト含有被処理
   ガスを管板に装着したキャンドル型のセラミックス製の
   フィルタを通過させて、ガス中のダストをフィルタに捕
   捉させガスの脱塵処理を行うと共に、フィルタに捕捉し
   たダストを逆洗により払い落としてフィルタの再生を行
   うセラミックフィルタにおいて、上記圧力容器内に、上
   記管板をその高さ方向に所定の間隔を隔てて複数設け、
   これら管板間にダストを収容するホッパを設けて管板間
   を被処理ガスと処理ガスの２つのガス室に仕切り、管板
   の下側の被処理ガス室に上記ダスト含有被処理ガスのガ
   ス導入口を設けると共に、管板の上側の処理ガス室に処
   理ガスのガス排出口を設け、かつ、上記ホッパの排出口
   にダスト吐出管を接続すると共に、該ダスト吐出管の吐
   出口を下段の被処理ガスのガス室に配置したことを特徴
   とするセラミックフィルタ。