JPH0681124A - 表面被覆材 - Google Patents
表面被覆材Info
- Publication number
- JPH0681124A JPH0681124A JP23497092A JP23497092A JPH0681124A JP H0681124 A JPH0681124 A JP H0681124A JP 23497092 A JP23497092 A JP 23497092A JP 23497092 A JP23497092 A JP 23497092A JP H0681124 A JPH0681124 A JP H0681124A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating material
- surface coating
- sliding surface
- tib2
- si3n4
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 摺動面を有する物品の摺動面の耐摩耗性を向
上させることを目的とする。 【構成】 成分組成が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜５０重
量％Ｘであり、かつ、前記Ｘが、 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ から選ばれる１種または２種以上の化合物であることを
特徴とする。
上させることを目的とする。 【構成】 成分組成が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜５０重
量％Ｘであり、かつ、前記Ｘが、 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ から選ばれる１種または２種以上の化合物であることを
特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、摺動部材の摺動面を覆
って設けられる表面被覆材に係わり、特に、感熱記録用
のサーマルヘッド、オーディオ用記録ヘッド、磁気ディ
スク、光磁気ディスク、磁気カード、あるいは、磁気記
録テープ等の摺動面に形成される表面被覆材に関するも
のである。
って設けられる表面被覆材に係わり、特に、感熱記録用
のサーマルヘッド、オーディオ用記録ヘッド、磁気ディ
スク、光磁気ディスク、磁気カード、あるいは、磁気記
録テープ等の摺動面に形成される表面被覆材に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、感熱記録用のサーマルヘッド、オ
ーディオ用記録ヘッド、磁気ディスク、光磁気ディス
ク、磁気カード、あるいは、磁気記録テープ等の摺動面
においては、その摩耗により記録情報あるいは読み取り
情報が不明瞭となることがあるために、その摺動面を耐
摩耗性の被覆材によって被覆することが行われており、
この表面被覆材として、例えば、ＳｉＯ2が挙げられ
る。
ーディオ用記録ヘッド、磁気ディスク、光磁気ディス
ク、磁気カード、あるいは、磁気記録テープ等の摺動面
においては、その摩耗により記録情報あるいは読み取り
情報が不明瞭となることがあるために、その摺動面を耐
摩耗性の被覆材によって被覆することが行われており、
この表面被覆材として、例えば、ＳｉＯ2が挙げられ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、印刷
速度の高速化や、記録媒体への添加物の増加により、前
述した摺動面の摩耗が多くなる傾向にあることから、前
記表面被覆材の耐摩耗性を一層向上させることが要望さ
れている。
速度の高速化や、記録媒体への添加物の増加により、前
述した摺動面の摩耗が多くなる傾向にあることから、前
記表面被覆材の耐摩耗性を一層向上させることが要望さ
れている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような従
来の要望に対処すべくなされたもので、特に、成分組成
が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜５０重量％Ｘであり、か
つ、前記Ｘが、以下に示す酸化物、窒化物、炭化物、ホ
ウ化物の内１種または２種以上の化合物であることを特
徴とする。 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ そして、これらの被覆材は、スパッタリングによって摺
動面へ膜状に被覆されることにより、好適に用いられ
る。
来の要望に対処すべくなされたもので、特に、成分組成
が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜５０重量％Ｘであり、か
つ、前記Ｘが、以下に示す酸化物、窒化物、炭化物、ホ
ウ化物の内１種または２種以上の化合物であることを特
徴とする。 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ そして、これらの被覆材は、スパッタリングによって摺
動面へ膜状に被覆されることにより、好適に用いられ
る。
【０００５】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。ま
ず、平均粒径１μｍのＳｉ3Ｎ4粉末と、添加化合物Ｘと
してのホウ化物である、平均粒径１μｍのＴｉＢ2粉末
とを、表１に実施例１ないし実施例４に示す成分比とな
るように計量し、これらの各実施例の粉末をボールミル
によって３０ｍｉｎ〜１ｈｒ混合し、これらの混合粉末
をＣＩＰ（冷間成形法）によって１０００ｋｇ／ｃｍ2
の圧力で圧粉成型したのちに、窒素雰囲気中において１
６００℃で３時間焼成し、ついで、ロータリー研磨機に
より研磨を行って、それぞれ直径４インチで厚さ６ｍｍ
のターゲット素材を形成する。
ず、平均粒径１μｍのＳｉ3Ｎ4粉末と、添加化合物Ｘと
してのホウ化物である、平均粒径１μｍのＴｉＢ2粉末
とを、表１に実施例１ないし実施例４に示す成分比とな
るように計量し、これらの各実施例の粉末をボールミル
によって３０ｍｉｎ〜１ｈｒ混合し、これらの混合粉末
をＣＩＰ（冷間成形法）によって１０００ｋｇ／ｃｍ2
の圧力で圧粉成型したのちに、窒素雰囲気中において１
６００℃で３時間焼成し、ついで、ロータリー研磨機に
より研磨を行って、それぞれ直径４インチで厚さ６ｍｍ
のターゲット素材を形成する。
【０００６】ここで、前記添加物Ｘは、前述のＴｉＢ2
の１種に代えて、酸化物であるＡｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｚｒ
Ｏ2、また、窒化物であるＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、Ａｌ
Ｎ、ＺｒＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ2Ｎ、炭化物であるＴｉＣ、
ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、ＮｂＣ、ＷＣ、さら
に、ホウ化物であるＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2
Ｂ5、ＺｒＢ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、Ｍ
ｏＢ、ＶＢ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂから選ばれる１
種または２種以上の混合物を用いることができ、全体と
して１重量％〜５０重量％の範囲内で添加することによ
り、同一の特性が得られるものである。そこで、本実施
例においては、前述のように、ホウ化物の代表例である
ＴｉＢ2の１種を添加した場合を例にとって説明する。
の１種に代えて、酸化物であるＡｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｚｒ
Ｏ2、また、窒化物であるＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、Ａｌ
Ｎ、ＺｒＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ2Ｎ、炭化物であるＴｉＣ、
ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、ＮｂＣ、ＷＣ、さら
に、ホウ化物であるＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2
Ｂ5、ＺｒＢ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、Ｍ
ｏＢ、ＶＢ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂから選ばれる１
種または２種以上の混合物を用いることができ、全体と
して１重量％〜５０重量％の範囲内で添加することによ
り、同一の特性が得られるものである。そこで、本実施
例においては、前述のように、ホウ化物の代表例である
ＴｉＢ2の１種を添加した場合を例にとって説明する。
【０００７】そして、前述のようにして得られた各ター
ゲット素材を銅製のバッキングプレートにハンダ付けす
ることによりターゲットとする。
ゲット素材を銅製のバッキングプレートにハンダ付けす
ることによりターゲットとする。
【０００８】このようにして形成した各成分組成を有す
る実施例１〜実施例４の表面被覆材ターゲットを、スパ
ッタリング装置内に設置して、以下の条件の下に基板
（Ｓｉウェハー）に、スパッタリングにより厚さ３００
０Åの被膜を形成した。 到達真空度；２×１０-5Ｔｏｒｒ Ａｒガス流量；３０ｃｃＭ 供給電力；３００Ｗ
る実施例１〜実施例４の表面被覆材ターゲットを、スパ
ッタリング装置内に設置して、以下の条件の下に基板
（Ｓｉウェハー）に、スパッタリングにより厚さ３００
０Åの被膜を形成した。 到達真空度；２×１０-5Ｔｏｒｒ Ａｒガス流量；３０ｃｃＭ 供給電力；３００Ｗ
【０００９】また、比較のために表１に示すように、前
記ＴｉＢ2含有量の下限を下回った成分比を有するター
ゲットを比較例１とし、また、前記ＴｉＢ2含有量の上
限を越えた成分比を有するターゲットを比較例２とし、
さらに、従来のＳｉＯ2からなるターゲットを比較例３
として形成した。
記ＴｉＢ2含有量の下限を下回った成分比を有するター
ゲットを比較例１とし、また、前記ＴｉＢ2含有量の上
限を越えた成分比を有するターゲットを比較例２とし、
さらに、従来のＳｉＯ2からなるターゲットを比較例３
として形成した。
【００１０】そして、これらの各比較例１〜比較例３に
ついても、これらのターゲットにより、前記各実施例１
〜実施例４と同様にして基板上に被膜を形成した。
ついても、これらのターゲットにより、前記各実施例１
〜実施例４と同様にして基板上に被膜を形成した。
【００１１】
【表１】
【００１２】このようにして得られた各実施例ならびに
各比較例について、基板を速度１０μｍ／ｓｅｃにて移
動させつつ被膜の表面にダイヤモンド針を押しつけなが
ら振幅１０μｍで往復させ、前記ダイヤモンド針に加え
る荷重を徐々に増加させていき、前記被膜に破損した際
の前記荷重を測定したところ、表１に示す結果が得られ
た。
各比較例について、基板を速度１０μｍ／ｓｅｃにて移
動させつつ被膜の表面にダイヤモンド針を押しつけなが
ら振幅１０μｍで往復させ、前記ダイヤモンド針に加え
る荷重を徐々に増加させていき、前記被膜に破損した際
の前記荷重を測定したところ、表１に示す結果が得られ
た。
【００１３】この結果から明らかなように、本発明に係
わる各実施例の被膜は、比較例に比して、５倍から６倍
の耐摩耗性を有する。
わる各実施例の被膜は、比較例に比して、５倍から６倍
の耐摩耗性を有する。
【００１４】したがって、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％ＴｉＢ2
〜５０重量％ＴｉＢ2である表面被覆材であると、十分
な耐摩耗性を有する保護膜が得られ、感熱記録用のサー
マルヘッド、オーディオ用記録ヘッド、磁気ディスク、
光磁気ディスク、磁気カード、あるいは、磁気記録テー
プ等の摺動面の有効な保護が可能となる。
〜５０重量％ＴｉＢ2である表面被覆材であると、十分
な耐摩耗性を有する保護膜が得られ、感熱記録用のサー
マルヘッド、オーディオ用記録ヘッド、磁気ディスク、
光磁気ディスク、磁気カード、あるいは、磁気記録テー
プ等の摺動面の有効な保護が可能となる。
【００１５】ついで、炭化物の１種であるＶＣを添加し
た実施例について説明すれば、このＶＣの含有量が、表
２に実施例５〜実施例８で示す値となるターゲットを形
成し、前記実施例と同様にして基板上にスパッタリング
により厚さ３０００Åの被膜を形成した。
た実施例について説明すれば、このＶＣの含有量が、表
２に実施例５〜実施例８で示す値となるターゲットを形
成し、前記実施例と同様にして基板上にスパッタリング
により厚さ３０００Åの被膜を形成した。
【００１６】
【表２】
【００１７】また、比較のために表２に示すように、前
記ＶＣの含有量が下限を下回った成分比を有するターゲ
ットを比較例４とし、また、前記ＶＣの含有量が上限を
越えた成分比を有するターゲットを比較例５とし、さら
に、従来のＳｉＯ2からなるターゲットを比較例６とし
て形成し、これらの各比較例４〜比較例６についても、
これらのターゲットにより基板上に被膜を形成した。
記ＶＣの含有量が下限を下回った成分比を有するターゲ
ットを比較例４とし、また、前記ＶＣの含有量が上限を
越えた成分比を有するターゲットを比較例５とし、さら
に、従来のＳｉＯ2からなるターゲットを比較例６とし
て形成し、これらの各比較例４〜比較例６についても、
これらのターゲットにより基板上に被膜を形成した。
【００１８】そして、これらの各実施例および各比較例
について前記実施例と同様の破損試験を行いその結果を
表２に示した。
について前記実施例と同様の破損試験を行いその結果を
表２に示した。
【００１９】この結果から明らかなように、各実施例５
〜実施例８による被膜は、比較例に比して６倍〜９倍近
い耐摩耗性を有する。
〜実施例８による被膜は、比較例に比して６倍〜９倍近
い耐摩耗性を有する。
【００２０】ついで、窒化物の１種であるＴｉＮと酸化
物の１種であるＭｇＯとを添加した実施例について説明
すれば、これらの含有量が、表３に実施例９〜実施例１
２で示す値となるターゲットを形成し、前記実施例と同
様にして基板上にスパッタリングにより厚さ３０００Å
の被膜を形成した。
物の１種であるＭｇＯとを添加した実施例について説明
すれば、これらの含有量が、表３に実施例９〜実施例１
２で示す値となるターゲットを形成し、前記実施例と同
様にして基板上にスパッタリングにより厚さ３０００Å
の被膜を形成した。
【００２１】
【表３】
【００２２】また、比較のために表３に示すように、前
記ＴｉＮおよびＭｇＯの含有量が下限を下回った成分比
を有するターゲットを比較例７とし、また、前記ＴｉＮ
およびＭｇＯの含有量が上限を越えた成分比を有するタ
ーゲットを比較例８とし、さらに、従来のＳｉＯ2から
なるターゲットを比較例９として形成し、これらの各比
較例７〜比較例９についても、これらのターゲットによ
り基板上に被膜を同様に形成した。
記ＴｉＮおよびＭｇＯの含有量が下限を下回った成分比
を有するターゲットを比較例７とし、また、前記ＴｉＮ
およびＭｇＯの含有量が上限を越えた成分比を有するタ
ーゲットを比較例８とし、さらに、従来のＳｉＯ2から
なるターゲットを比較例９として形成し、これらの各比
較例７〜比較例９についても、これらのターゲットによ
り基板上に被膜を同様に形成した。
【００２３】そして、これらの各実施例および各比較例
について前記実施例と同様の破損試験を行いその結果を
表３に示した。
について前記実施例と同様の破損試験を行いその結果を
表３に示した。
【００２４】この結果から明らかなように、各実施例９
〜実施例１２による被膜においても、比較例に比して６
倍〜９倍近い耐摩耗性を有する。
〜実施例１２による被膜においても、比較例に比して６
倍〜９倍近い耐摩耗性を有する。
【００２５】なお、前記実施例においては、添加物Ｘと
してホウ化物の１種であるＴｉＢ2を１種添加した例、
炭化物の１種であるＶＣを１種添加した例、さらに、窒
化物の１種であるＴｉＮと酸化物の１種であるＭｇＯと
を添加した例について示したが、酸化物、窒化物、炭化
物、ホウ化物として挙げた前述の各化合物の１種または
２種以上の混合物を用いてもよいものである。
してホウ化物の１種であるＴｉＢ2を１種添加した例、
炭化物の１種であるＶＣを１種添加した例、さらに、窒
化物の１種であるＴｉＮと酸化物の１種であるＭｇＯと
を添加した例について示したが、酸化物、窒化物、炭化
物、ホウ化物として挙げた前述の各化合物の１種または
２種以上の混合物を用いてもよいものである。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係わる表
面被覆材は、摺動部材の摺動面を覆って設けられる表面
被覆材であって、成分組成が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜
５０重量％Ｘであり、かつ、前記Ｘが、 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ から選ばれる１種または２種以上の化合物であることを
特徴とするもので、つぎのような優れた効果を奏する。
面被覆材は、摺動部材の摺動面を覆って設けられる表面
被覆材であって、成分組成が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ〜
５０重量％Ｘであり、かつ、前記Ｘが、 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ から選ばれる１種または２種以上の化合物であることを
特徴とするもので、つぎのような優れた効果を奏する。
【００２７】感熱記録用のサーマルヘッド、オーディオ
用記録ヘッド、磁気ディスク、光磁気ディスク、磁気カ
ード、あるいは、磁気記録テープ等の摺動面に耐摩耗性
に優れた保護膜を形成することができ、これらの劣化や
摩耗をを抑制して、長期に亙る使用や繰り返し使用にお
いても、情報の安定した書き込みや読み取りを可能にす
ることができる。
用記録ヘッド、磁気ディスク、光磁気ディスク、磁気カ
ード、あるいは、磁気記録テープ等の摺動面に耐摩耗性
に優れた保護膜を形成することができ、これらの劣化や
摩耗をを抑制して、長期に亙る使用や繰り返し使用にお
いても、情報の安定した書き込みや読み取りを可能にす
ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 摺動部材の摺動面を覆って設けられる表
面被覆材であって、成分組成が、Ｓｉ3Ｎ4＋１重量％Ｘ
〜５０重量％Ｘであり、かつ、前記Ｘが、以下に示す酸
化物、窒化物、炭化物、ホウ化物の内１種または２種以
上の化合物であることを特徴とする表面被覆材。 酸化物；Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 窒化物；ＴｉＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、Ｎｂ
Ｎ、Ｃｒ2Ｎ 炭化物；ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、Ｍｏ2Ｃ、ＶＣ、Ｎ
ｂＣ、ＷＣ ホウ化物；ＴｉＢ2、ＣｒＢ、ＬａＢ6、Ｍｏ2Ｂ5、Ｚｒ
Ｂ2、ＣｒＢ2、ＨｆＢ、Ｗ2Ｂ5、ＮｂＢ2、ＭｏＢ、Ｖ
Ｂ2、ＴａＢ2、ＷＢ、Ｍｏ2Ｂ - 【請求項２】 前記表面被覆材がスパッタリングによっ
て摺動面に一体に形成されることを特徴とする請求項１
記載の表面被覆材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23497092A JPH0681124A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 表面被覆材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23497092A JPH0681124A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 表面被覆材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0681124A true JPH0681124A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=16979110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23497092A Pending JPH0681124A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 表面被覆材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0681124A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6404319B1 (en) | 1999-08-25 | 2002-06-11 | Murata Manufacturing, Co., Ltd. | Variable inductance element |
| CN101886242A (zh) * | 2010-07-27 | 2010-11-17 | 上海工具厂有限公司 | 硼化钛/氮化硅纳米多层涂层及其制备方法 |
| AT16480U1 (de) * | 2018-04-20 | 2019-10-15 | Plansee Composite Mat Gmbh | Target und Verfahren zur Herstellung eines Targets |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP23497092A patent/JPH0681124A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6404319B1 (en) | 1999-08-25 | 2002-06-11 | Murata Manufacturing, Co., Ltd. | Variable inductance element |
| CN101886242A (zh) * | 2010-07-27 | 2010-11-17 | 上海工具厂有限公司 | 硼化钛/氮化硅纳米多层涂层及其制备方法 |
| AT16480U1 (de) * | 2018-04-20 | 2019-10-15 | Plansee Composite Mat Gmbh | Target und Verfahren zur Herstellung eines Targets |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0113660B1 (en) | Nitride based cutting tool | |
| US4650774A (en) | Magnetic head slider material | |
| JPS6323643B2 (ja) | ||
| JPH0622053B2 (ja) | 基板材料 | |
| US4859638A (en) | Magnetic head sliders, materials therefor, and the process for the production thereof | |
| US4902651A (en) | Material for magnetic head substrate member | |
| JPH0681124A (ja) | 表面被覆材 | |
| JPH0681125A (ja) | 表面被覆材 | |
| JP3039908B2 (ja) | 低浮上性を有する磁気ヘッド用基板材料 | |
| US5530467A (en) | Sputtering target, film resistor and thermal printer head | |
| US5595947A (en) | Substrate materials for magnetic head | |
| JPH0681126A (ja) | 表面被覆材 | |
| JP7538663B2 (ja) | スパッタリングターゲット、その製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2568494B2 (ja) | 切削工具用表面被覆β′サイアロン基セラミックスの製造法 | |
| JPH05254938A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JPH05246763A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JP3314089B2 (ja) | 被覆超硬合金 | |
| JPH0681123A (ja) | 表面被覆材 | |
| JPH07111221A (ja) | 磁性スパッタターゲットとそれを用いて形成した磁性薄膜、および薄膜磁気ヘッド | |
| JPS6066361A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2640133B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド用基板 | |
| JPH0543311A (ja) | セラミツクス材料及び薄膜磁気ヘツド用セラミツクス基板 | |
| JPS6037189B2 (ja) | 被覆超硬合金部材 | |
| EP0471080B1 (en) | Sputtering target, film resistor formed with the use thereof, and thermal printer head and associated methods of production | |
| JPS6323641B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001205 |