JPH06787B2 - 新規7―アミノセファロスポラン酸誘導体 - Google Patents

新規7―アミノセファロスポラン酸誘導体

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JPH06787B2
JPH06787B2 JP60024184A JP2418485A JPH06787B2 JP H06787 B2 JPH06787 B2 JP H06787B2 JP 60024184 A JP60024184 A JP 60024184A JP 2418485 A JP2418485 A JP 2418485A JP H06787 B2 JPH06787 B2 JP H06787B2
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聖至 柴原
俊三 深津
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフッ素含有ピリドチオン類を有する新規7−ア
ミノセファロスポリン誘導体に関するものである。
〔従来の技術〕 セファロスポリン類はその有効性、安全性の高さで広く
ヒトを含む哺乳動物用の抗生物質として用いられ、その
誘導体の研究も巾広く行われている。その概要は「セフ
ァロスポリン・アンド・ペニシリウム」エドウィン・H
・フリン著、アカデミック・プレス社 1972年発行、
「ストラクチャー・アクティビティー・リレイションシ
ップス・アモング・ザ・セミシンセテック・アンチビオ
ニテックス」X.D.パールマン著 1977年発行1〜60
頁などに記載の如く、セファロスポリンの7位のアシル
基あるいは3位の置換基を種々変化させることによって
セファロスポリン系化合物の抗菌力、薬動力学的性状を
高める研究が行われている。
それらセファロスポリン系化合物のセファロスポリンの
3位にピリジン四級塩を硫黄を介して結合した化合物と
しては特開昭58−90590号公報、特開昭55−89289号公報
により開示され、そして試験管内で抗菌力を有すること
も知られている。
〔発明の目的〕
従来公知のセファロスポリン系化合物のセファロスポリ
ンの3位にピリジン四級塩を硫黄を介して結合した化合
物は生体内での抗菌力が未だ充分ではなく、本発明者ら
は先に、これらのセファロスポリン化合物の類縁化合物
の抗菌力の向上、薬動力学的性状の改善を目的として、
セファロスポリンの3位に1−フルオロエチルピリジニ
ウムイルチオメチル基を有する新規なセファロスポリン
化合物を発明し、特願昭59−254517号として出願した。
これらのセファロスポリン化合物はβ−ラクタメース生
産菌を含む種々の病原菌に有効である。
しかし、これらの3位にフッ素含有ピリドチオン類を有
するセファロスポリン化合物の合成においては、小規模
スケールで製造する場合は数多くの方法が考えられる
が、工業的な大規模スケールでこれらの化合物を製造す
る場合に最も合成に適した方法について研究を重ねた結
果、新規化合物である3位にフルオロエチルピリジニウ
ムイルチオメチルを有する7−アミノセファロスポラン
酸化合物を経る方法が最適であることを見い出した。
〔発明の構成〕
本発明は一般式 式中、n1は0又は1であり、n2は0又は1あるいは2
であり、n2が0の場合はn3は3であり、n2が1の場
合はn3は2であり、n2が2の場合はn3は1である。
Aはカルボン酸の保護基であり、X は塩素、ヨウ素又
は臭素のいずれかである陰イオンあるいは酢酸イオンを
示す を有する新規7−アミノセファロスポラン酸誘導体であ
る。
本発明は上記一般式(I)を有する7−アミノセファロ
スポラン酸誘導体の塩類も包含する。即ち一般式(I)
を有する化合物はその7位に遊離のアミノ基を有し、こ
の部位での酸との付加塩が存在する。酸としては塩酸,
臭化水素酸,硫酸,硝酸,りん酸などの無機酸、酢酸,
ベンセンスルホン酸,トリエンスルホン酸などの有機酸
が含まれる。
一般式(I)の化合物のカルボン酸の保護基としては一
般のセファロスポリンに用いられる保護基であれば適用
できる。好ましくはP−ニトロベンジル基、ジフェニル
メチル基、トリフェニルメチル基、t−ブチル基、トリ
メチルシリル基、トリクロルエチル基等である。
本発明の化合物は次の化合物が例示される。
ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリフル
オロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−
7−アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイ
オダイド ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2−ジフルオロエ
チル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−ア
ミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイオダイ
ジフェニルメチル3−〔{1−(2−フルオロエチル)
ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−アミノ−
3−セフェム−4−カルボキシレートアイオダイド ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トルフル
オロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−
7−アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイ
オダイド1−オキサイド 本発明の一般式(I)を有するセファロスポリン誘導体
は例えば次の方法で製造することができる。
そのフローシートを示せば次の通りである。
式中Rはアミノ基の保護基を示し、A,n1,n2
3,Xは先の定義と同一である。
本発明の上記製造の反応剤の化合物である式 式中、n2は0又は1あるいは2であり、n3は1〜3で
あり、n2が0の場合はn3は3、n2は1の場合はn3
2、n2が2の場合はn3は1である。) を有するフッ素原子を含有するピリドチオン類は文献未
載の新規化合物であり、本発明者らによる始めて製造さ
れた化合物である。
本一般式(II)に含まれる化合物としては次のものが例
示される。
1−(2−フルオロエチル)−4−ピリドチオン 1−(2,2−ジフルオロエチル)−4−ピリドチオン 1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−4−ピリド
チオン この一般式(II)を有するフッ素原子を含有するピリド
チオン化合物は例えば「ジャーナル・オブ・ケミカル・
ソサイティー」ロンドン,3610(1958)に準じて以下の様
にして合成される。
式中n2,n3は先の定義と同一である。
この合成法は4〔−〕H−ピラン−4−オン(V)を塩
基性溶媒中、あるいは有機塩基の存在下、不活性溶媒中
でフルオロエチルアミン塩酸塩(VI)と加熱反応せしめ
ることにより1−(2−フロオロエチル)−4−ピリド
ン(VII)を得る。反応に用いる塩基性溶媒としてはピ
リジン,コリジン,ルチジン等が好適で、不活性溶媒と
してはクロロホルム,塩化メチレン,テトラヒドロフラ
ン,ジオキサン等が好適である。又有機塩基を用いる場
合はトリエチルアミン等の通常のアミンが用いられる。
反応温度は20℃〜150℃の範囲で行い、好ましくは50℃
〜100℃で進行する。
かくして得られた1−(2−フルオロエチル)−4−ピ
リドン(VII)を有機塩基の存在下に硫化りん化合物と
処理すると1−(2−フルオロエチル)−4−ピリドチ
オン(II)が得られる。この反応に用いる有機塩基とて
はピリジン,コリジン,ルチジン等が好適であり、場合
によっては不活性溶媒で希釈してもよい。硫化りん化合
物として好適な物は上記反応式で示した五硫化りんの他
にローソン(LAWESSON)試薬 などが用いられる。このカルボニル基をチオカルボニル
基に変換する反応は反応温度が20℃〜150℃の範囲内で
進行し、好ましくは20℃〜80℃で行われる。
以上の如くして得られた1−(2−フルオロエチル)−
4−ピリドチオン(II)を前記式(III)で示されるセ
ファロスポリン化合物と反応させることによってセファ
ロスポリンの3′位に導入する。この方法はフッ素を含
有しない公知のピリドチオン類の反応例えば特開昭58−
90590号公報に記載の方法に準じて製造される。
式(III)で示されるセファロスポリン化合物と式(I
I)で示される1−(2−フルオロエチル)−4−ピリ
ドチオンとを不活性溶媒中反応させることにより7−ア
ミノ基が保護されたセファロスポリンの3′位に1−
(2−フルオロエチル)−4−ピリドチオンが導入され
た化合物(IV)が得られる。この反応の溶媒はジメチル
ホルムアミド,アセトニトリル,ジオキサン,テトラヒ
ドロフラン,ジメトキシエタン等が好適で、反応温度は
10℃〜80℃の範囲で進行し、Xが塩素又は臭素の場合は
ヨウ化ソーダ(NaI)を添加すると反応時間を短縮す
ることが出来る。
なお、セファロスポリンのアミノ基の保護基は通常のセ
ファロスポリン化合物のアミノ基の保護に用いられる基
で、ホルミル基,アリルオキシカルボニル基などが好適
である。
かくして得られた化合物(IV)はセファロスポリンの7
位のアミノ基が保護されており、次の最終工程で、その
保護基を脱離することにより本発明の化合物(I)が得
られる。
次に本発明の化合物を製造する実施例を示す。
〔実施例〕
例1 A)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリ
フルオロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチ
ル〕−7−ホルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボ
キシレートアイオダイド ジフェニルメチル3−ブロモメチル−7−ホルミルアミ
ノ−3−セフェム−4−カルボキシレート60mg(0.12mmo
l)をDMF0.6mlに溶解し、1−(2,2,2−トリフ
ルオロエチル)−4−ピリドチオン48mg(0.25mmol)とヨ
ウ化ナトリウム46mg(0.3mmol)を加え、室温で30分間反
応させる。反応後DMFを減圧で留去し、イソプロピル
エーテルを加え沈澱とする。この沈澱をシリカゲルクロ
マトグラフィー〔クロロホルム・メタノール(5:
1)〕で精製すると80mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.58,3.88(2H,ABq J=17Hz), 4.35(2H,br,s),5.18(1H,d,J=5.5Hz), 5.37,5.57(2H,ABq,J=9Hz), 5.85(1H,d,J=5.5Hz),6.95(1H,s), 7.10〜7.45(10H,m), 7.82(2H,d,J=8.5Hz),8.18(1H,s), 8.62(2H,d,J=8.5Hz) B)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリ
フルオロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチ
ル〕−7−アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレー
トアイオダイド塩酸塩 ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリフル
オロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−
7−ホルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートアイオダイド80mg(0,11mmol)をメタノール1mlに溶
解し、氷冷下でジオキサン・塩酸(6N)0.05ml(0.3mmol)
を加え、室温で30分間反応させる。反応後溶媒を減圧で
留去し、イソプロピルエーテルを加えて沈澱する。この
沈澱を減圧乾燥すると70mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm), 3.50〜3.85(2H,m), 4.50(2H,br,s),5.19(1H,d,J=5.5Hz), 5.36(1H,d,J=5.5Hz), 5.33,5.55(2H,ABq,J=9Hz), 6.96(1H,s),7.16〜7.47(10H,m), 7.87(2H,d,J=6.6Hz), 8.62(2H,d,J=6.6Hz) 例2 A)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2−ジフルオ
ロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7
−ホルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボキシレー
トアイオダイド ジフェニルメチル3−ブロモメチル−7−ホルミルアミ
ノ−3−セフェム−4−カルボキシレート100mg(0.21mm
ol)をDMF1mlに溶解し、1−(2,2−ジフルオロ
エチル)−4−ピリドチオン72mg(0.42mmol)とヨウ化ナ
トリウム79mg(0.53mmol)を加え、室温で30分間反応させ
る。反応後DMFを減圧で留去し、イソプロピルエーテ
ルを加え沈澱とする。この沈澱をシリカゲルクロマトグ
ラフィー〔クロロホルム・メタノール(5:1)〕で精
製すると110mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.50〜3.80(2H,m),4.32(2H,br,s), 5.16(1H,d,J=5Hz),5.20〜6.00(3H,m), 5.83(1H,d,J=5Hz),6.93(1H,s), 7.15〜7.50(10H,m),7.85(2H,d,J=8Hz), 8.15(1H,s),8.65(2H,d,J=8Hz) B)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2−シフルオ
ロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル}−7
−アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイオ
ダイド塩酸塩 ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2−ジフルオロエ
チル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−ホ
ルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートア
イオダイド110mg(0.16mmol)をメタノール1.1mlに溶解
し、氷冷下でジオキサン・塩酸(6N)0.08ml(0.47mmol)を
加え、室温で30分間反応させる。反応後溶媒を減圧で留
去し、イソプロピルエーテルを加え沈澱とする。この沈
澱を減圧乾燥すると78mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.45〜3.78(2H,m), 4.46(2H,br,s),5.17(1H,d,J=5Hz), 5.25〜6.00(3H,m),5.34(1H,d,J=5Hz), 6.93(1H,s),7.13〜7.52(10H,m), 7.90(2H,d,J=6Hz),8.64(2H,d,J=6Hz) 例3 Aジフエニルメチル3−〔{1−(2−フルオロエチ
ル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−ホル
ミルアミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイ
オダイド ジフェニルメチル3−ブロモメチル−7−ホルミルアミ
ノ−3−セフェム−4−カルボキシレート100mg(0.21mm
ol)をDMF1mlに溶解し、1−(2−フルオロエチ
ル)−4−ピリドチオン66mg(0.42mmol)とヨウ化ナトリ
ウム79mg(0.53mmol)を加え、室温で30分間反応させる。
反応後DMFを減圧で留去し、イソプロピルエーテルを
加え沈澱とする。この沈澱をシリカゲルクロマトグラフ
ィー〔クロロホルム・メタノール(5:1)〕で精製す
ると100mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.60〜3.90(2H,m),4.31(2H,br,s), 5.15(1H,d,J=5Hz),5.25〜6.00(4H,m), 5.81(1H,d,J=5Hz),6.92(1H,s), 7.10〜7.50(10H,m),7.88(2H,d,J=8Hz), 8.16(1H,s),8.67(2H,d,J=8Hz) B)ジレェニルメチル3−〔{1−(2−フルオロエチ
ル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−アミ
ノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイオダイド
塩酸塩 ジフェニルメチル3−〔{1−(2−フルオロエチル)
ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−7−ホルミル
アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレートアイオダ
イド100mg(0.14mmol)をメタノール1mlに溶解し、氷冷
下でジオキサン・塩酸(6N)0.07ml(0.42mmol)を加え、室
温で30分間反応させる。反応後溶媒を減圧で留去し、イ
ソプロピルエーテルを加え沈澱とする。この沈澱を減圧
乾燥すると68mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.55〜3.85(2H,m), 4.46(2H,br,s),5.17(1H,d,J=5Hz), 5.20〜5.90(4H,m),5.35(1H,d,J=5Hz), 6.93(1H,s),7.15〜7.53(10H,m), 7.92(2H,d,J=6Hz),8.67(2H,d,J=6Hz), 例4 A)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリ
フルオロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチ
ル〕−7−ホルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボ
キシレートアイオダイド1−オキサイド ジフェニルメチル3−ブロモメチル−7−ホルミルアミ
ノ−3−セフェム−4−カルボキシレート1−オキサイ
ド100mg(0.20mmol)をDMF1mlに溶解し、1−(2,
2,2−トリフルオロエチル)−4−ピリドチオン77mg
(0.40mmol)とヨウ化ナトリウム75mg(0.5mmol)を加え、
室温で30分間反応させる。反応後DMFを減圧で留去
し、イソプロピルエーテルを加え沈澱とする。この沈澱
をシリカゲルクロマトグラフィー〔クロロホルム・メタ
ノール(5:1)〕で精製すると90mgの標記化合物を得
た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.40〜3.90(2H,m),4.30(2H,br,s), 5.05(1H,d,J=5Hz),5.30〜5.60(2H,m), 6.00(1H,d,J=5Hz),6.93(1H,s), 7.12〜7.50(10H,m),7.80(2H,d,J=8Hz), 8.15(1H,s),8.60(2H,d,J=8Hz) B)ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリ
フルオロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチ
ル〕−7−アミノ−3−セフェム−4−カルボキシレー
トアイオダイド塩酸塩1−オキサイド ジフェニルメチル3−〔{1−(2,2,2−トリフル
オロエチル)ピリジニウム}−4−イルチオメチル〕−
7−ホルミルアミノ−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートアイオダイド1−オキサイド90mg(0.12mmol)をメタ
ノール0.9mlに溶解し、氷冷下でジオキサン・塩酸(6N)
0.06ml(0.36mmol)を加え、室温で30分間反応させる。反
応後溶媒を減圧で留去し、イソプロピルエーテルを加え
て沈澱とする。この沈澱を減圧乾燥すると70mgの標記化
合物を得た。 H−NMR(90MHz,CD3OD,δppm) 3.35〜3.75(2H,m), 4.45(2H,br,s),5.07(1H,d,J=5Hz), 5.27〜5.56(2H,m),5.70(1H,d,J=5Hz), 6.93(1H,s),7.15〜7.52(10H,m), 7.85(2H,d,J=6Hz),8.59(2H,d,J=6Hz) なお、上記実施例に用いるN−フルオロエチルピリドチ
オン化合物の製造例を示す。
製造例 A)1−(2−フルオロエチル)−4−ピリドン 4H−ピラン−4−オン500mg〔5.2mmol〕をピリジン5
mlに溶解し、2−フルオロエチルアミン塩酸塩1.54g〔1
5.5mmol〕を加え、70℃で4時間反応させる。溶媒を減
圧で留去し、これをシリカゲルクロマトグラフィー〔ク
ロロホルム・メタノール(10:1)〕で精製後650mg
の標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,D2O,δppm) 3.35(2H,t,J=5Hz),3.65(2H,t,J=5Hz), 7.29(2H,d,J=8Hz),8.48(2H,d,J=8Hz) B)1−(2−フルオロエチル)−4−ピリドチオン 1−(2−フルオロエチル)−4−ピリドン350mg〔2.5
mmol〕をピリジン3.5mlに溶解し、P25827mg〔3.75mm
ol〕を加え、55℃で3時間反応させる。反応後生成した
沈澱を除去し、ろ液を濃縮乾固させる。これをシリカゲ
ルクロマトグラフィー〔クロロホルム・メタノール(1
0:1)〕で精製後170mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,CDCl3,δppm) 3.97(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 4.25(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 4.43(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 4.95(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 7.09(2H,d,J=8Hz),7.38(2H,d,J=8Hz) 製造例2 A)1−(2,2−ジフルオロエチル)−4−ピリドン 4H−ピラン−4−オン500mg〔5.2mmol〕をピリジン5
mlに溶解し、2,2−ジフルオロエチルアミン塩酸塩2.
73g〔15.6mmol〕を加え、70℃で4時間反応させる。溶
媒を減圧で留去し、これをシリカゲルクロマトグラフィ
ー〔クロロホルム・メタノール(10:1)〕で精製後
660mgの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,DMSO-d6,δppm) 5.43,5.63(2H,dd,J=5Hz,5Hz), 5.80(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 7.38(2H,d,J=8Hz),8.66(2H,d,J=8Hz) B)1−(2,2−ジフルオロエチル)−4−ピリドチ
オン 1−(2,2−ジフルオロエチル)−4−ピリドン660
mg〔4.1mol〕をピリジン6.6mlに溶解し、P2
51.37g〔6.2mmol〕を加え、55℃で3時間反応させる。
反応後生成した沈澱を除去し、ろ液を濃縮乾固させる。
これをシリカゲルクロマトグラフィー〔クロロホルム・
メタノール(20:1)〕で精製後400mgの標記化合物を
得た。 H−NMR(90MHz,CDCl3,δppm) 4.29(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 4.48(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 5.02(1H,dd,J=5Hz,5Hz), 7.06(2H,d,J=8Hz), 7.36(2H,d,J=8Hz) 製造例3 A)1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−4−ピ
リドン 4H−ピラン−4−オン1g〔10.4mmol 〕をピリジン
10mlに溶解し、2,2,2−トリフルオロエチルアミン
塩酸塩3.38g〔25mmol〕を加え、70℃で1時間反応させ
る。溶媒を減圧で留去し、これをシリカゲルクロマトグ
ラフィー〔クロロホルム・メタノール(10:1)〕で精
製後1.7gの標記化合物を得た。 H−NMR(90MHz,DMSO-d6,δppm) 5.50,5.70(2H,ABq,J=9Hz) 7.45(2H,d,J=8Hz),8.73(2H,d,J=8Hz) B)1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−4−ピ
リドチオン 1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−4−ピリド
ン1.7g〔9.6mmol〕をピリジン17mlに溶解し、P2
52.22g〔10mmol〕を加え、50℃で1時間反応させ
る。反応後生成した沈澱を除去し、ろ液を濃縮乾固させ
る。これをシリカゲルクロマトグラフィー〔クロロホル
ム・メタノール(20:1)〕で精製後890mgの標記化合
物を得た。 H−NMR(90MHz,CDCl3,δppm) 4.36,4.55(2H,ABq,J=8Hz), 7.03(2H,d,J=8Hz),7.33(2H,d,J=8Hz), 〔発明の効果〕 本発明の化合物(I)はその7位のアミノ基に所望のア
シル基を導入することによって毒性がきわめて少なく、
広範囲の抗菌スペクトルを有し、ヒトを含む動物に対し
すぐれた感染治療効果を奏する(6R,7R)−7−
〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(メトキシイミノ)アセトアミド〕−3−〔1−
(2,2,2−トリフルオロエチル)ピリジニウム−4
−イルチオメチル〕−セフ−3−エム−4−カルボキシ
レート,(6R,7R)−7−〔(Z)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド〕−3−〔1−(2−フルオロエチル)ビ
リジニウム−4−イル−チオメチル〕−セフ−3−エム
−4−カルボキシレートなどのセファロスポリン抗生物
質を工業的に得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 式中、n1は0又は1であり、n2は0又は1あるいは2
    であり、n2が0の場合はn3は3であり、n2が1の場
    合はn3は2であり、n2が2の場合はn3が1である。
    Aはカルボン酸の保護基であり、X は塩素,ヨウ素又
    は臭素のいずれかである陰イオンあるいは酢酸イオンを
    示す を有する新規7−アミノセファロスポラン酸誘導体。
JP60024184A 1985-02-09 1985-02-09 新規7―アミノセファロスポラン酸誘導体 Expired - Lifetime JPH06787B2 (ja)

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