JPH0673116A - Production of block copolymer of propylene - Google Patents
Production of block copolymer of propyleneInfo
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- JPH0673116A JPH0673116A JP15843091A JP15843091A JPH0673116A JP H0673116 A JPH0673116 A JP H0673116A JP 15843091 A JP15843091 A JP 15843091A JP 15843091 A JP15843091 A JP 15843091A JP H0673116 A JPH0673116 A JP H0673116A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はプロピレンブロック共重
合体の製造方法に関し、詳しくは、耐衝撃性と剛性のバ
ランスに優れたプロピレンブロック共重合体を製造する
方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a propylene block copolymer, and more particularly to a method for producing a propylene block copolymer having an excellent balance of impact resistance and rigidity.
【0002】[0002]
【従来の技術】さまざまな種類の高立体規則性触媒を用
いて製造される高結晶性ポリプロピレンは、剛性や耐熱
性に優れていることから、近年需要が急増している。し
かしながら、これらの性質も、使用目的によっては未だ
不十分であり、剛性を改良する方法が種々提案されてい
るが、それらの多くはポリプロピレンに核剤等を添加す
るなどの後処理を施す方法である。従って、プロセス面
のコスト高である上、添加剤によっては成形品の外観を
損うものもある。添加剤による処理なしで、重合方法に
より剛性を改良する方法も提案されているが、いずれも
剛性は不十分である。2. Description of the Related Art Demand for highly crystalline polypropylene produced by using various types of highly stereoregular catalysts has been rapidly increasing in recent years because of its excellent rigidity and heat resistance. However, these properties are still insufficient depending on the purpose of use, and various methods for improving the rigidity have been proposed, but most of them are the methods of performing post-treatment such as adding a nucleating agent to polypropylene. is there. Therefore, the process cost is high, and the appearance of the molded product may be impaired depending on the additive. A method of improving rigidity by a polymerization method without treatment with an additive has been proposed, but the rigidity is insufficient in both cases.
【0003】さらに、ポリプロピレンは本来、耐衝撃強
度が低いという欠点を有するため、エチレンなど他のオ
レフィンと共重合することによって耐衝撃性を改良する
方法が広く行われている。この方法により耐衝撃性は向
上するが、それに伴って剛性が低下する。そこでプロピ
レンの他のオレフィンの重合比を変えながら段階的に重
合する方法、すなわち多段重合を行うことにより、共重
合体の剛性と耐衝撃性の物性パランスを改良する方法が
種々提案されている。しかし、これらの方法によって
も、十分にすぐれた物性バランスは得られない。Further, since polypropylene originally has a drawback of low impact strength, a method of improving impact resistance by copolymerization with other olefins such as ethylene is widely used. Although this method improves impact resistance, it also decreases rigidity. Therefore, various methods have been proposed in which stepwise polymerization is performed while changing the polymerization ratio of other olefins of propylene, that is, a method of improving the rigidity and impact resistance physical property balance of the copolymer by performing multistage polymerization. However, even with these methods, a sufficiently excellent physical property balance cannot be obtained.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、より効果的
に、耐衝撃性と剛性のバランスに優れたプロピレンブロ
ック共重合体を製造する方法を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to more effectively provide a method for producing a propylene block copolymer having an excellent balance of impact resistance and rigidity.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、特定の有機硅素化合物を必須成分とする
重合触媒を用いて共重合することにより、本発明の目的
を達成し得ることを見出し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the inventors of the present invention achieved the object of the present invention by copolymerizing with a polymerization catalyst containing a specific organic silicon compound as an essential component. The inventors have found that they can obtain it and have completed the present invention.
【0006】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、 (A)金属酸化物,マグネシウム,チタン,ハロゲン及
び電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、 (B)有機金属化合物及び (C)一般式SUMMARY OF THE INVENTION That is, the gist of the present invention is (A) a solid catalyst component containing a metal oxide, magnesium, titanium, a halogen and an electron donating compound as essential components, (B) an organometallic compound and (C). General formula
【化2】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環
式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若しく
は脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル基若しく
はエチル基であり、xは1若しくは2、yは0若しくは
1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4 はR1 と
同意義である。〕の有機珪素化合物とからなる重合触媒
の存在下、(1)プロピレンを重合して高結晶性ポリプ
ロピレンを製造する工程(a)及び(2)プロピレンと
エチレンを共重合する工程(b)からなるプロピレンの
ブロック共重合体の製造方法にある。[Chemical 2] [However, R 1 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, R 2 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or R 4 O and R 3 are It is a methyl group or an ethyl group, x is 1 or 2, y is 0 or 1, z is 2 or 3, x + y + z = 4, and R 4 has the same meaning as R 1 . ] In the presence of a polymerization catalyst comprising an organosilicon compound, (1) comprises a step (a) of polymerizing propylene to produce a highly crystalline polypropylene and (2) a step (b) of copolymerizing propylene and ethylene. A method for producing a propylene block copolymer.
【0007】固体触媒成分 本発明で用いられる触媒(以下本発明の触媒という)の
一成分である固体触媒成分(以下、成分Aという)は、
金属酸化物,マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子
供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は通
常金属酸化物、マグネシウム化合物、チタン化合物及び
電子供与性化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有し
ない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞれ
接触することにより調製される。 Solid Catalyst Component A solid catalyst component (hereinafter referred to as component A) which is one component of the catalyst used in the present invention (hereinafter referred to as catalyst of the present invention) is
Metal oxides, magnesium, titanium, halogens and electron donating compounds are essential components, and such components are usually metal oxides, magnesium compounds, titanium compounds and electron donating compounds, and each of the above compounds has halogen. In the case of the compound which does not exist, it is prepared by bringing the halogen-containing compounds into contact with each other.
【0008】(1)金属酸化物 本発明で用いられる金属酸化物は、元素の周期表第II族
〜第IV族の元素の群から選ばれる元素の酸化物であり、
それらを例示すると、B2 O3 、MgO、Al 2 O3 、
SiO2 、CaO、TiO2 、ZnO、ZrO2 、Sn
O2 、BaO、ThO2 等が挙げられる。これらの中で
もB2 O3 、MgO、Al2 O3 、SiO2 、Ti
O2 、ZrO2 が望ましく、特にSiO2 が望ましい。
更に、これら金属酸化物を含む複合酸化物、例えばSi
O2 −MgO、SiO2 −Al2 O3、SiO2 −Ti
O2 、SiO2 −V2 O5 、SiO2 −Cr2 O3 、S
iO2−TiO2 −MgO等も使用し得る。これら金属
酸化物の形状は通常粉末状のものが用いられる。粉末の
大きさ及び形状等の形体は、得られるオレフィン重合体
の形体に影響を及ぼすことが多いので、適宜調節するこ
とが望ましい。金属酸化物は、使用に当って被毒物質を
除去する目的等から、可能な限り高温で焼成し、更に大
気と直接接触しないように取扱うのが望ましい。(1) Metal Oxide The metal oxide used in the present invention is a group II element of the periodic table of elements.
~ Is an oxide of an element selected from the group of Group IV elements,
For example, B2O3, MgO, Al 2O3,
SiO2, CaO, TiO2, ZnO, ZrO2, Sn
O2, BaO, ThO2Etc. Among these
Also B2O3, MgO, Al2O3, SiO2, Ti
O2, ZrO2Is desirable, especially SiO2Is desirable.
Furthermore, complex oxides containing these metal oxides, such as Si
O2-MgO, SiO2-Al2O3, SiO2-Ti
O2, SiO2-V2OFive, SiO2-Cr2O3, S
iO2-TiO2-MgO etc. can also be used. These metals
The oxide is usually in powder form. Powder
The shape and size of the resulting olefin polymer
Since it often affects the shape of the
And is desirable. Metal oxides are used to remove poisonous substances.
For the purpose of removal, etc., bake at the highest temperature possible, and
It is desirable to handle it so that it does not come into direct contact with the air.
【0009】(2)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式MgR1 R2 で表わされ
る。式において、R1及びR2 は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。(2) Magnesium Compound The magnesium compound is represented by the general formula MgR 1 R 2 . In the formula, R 1 and R 2 are the same or different hydrocarbon groups, OR groups (R is a hydrocarbon group), and halogen atoms.
More specifically, the hydrocarbon group of R 1 and R 2 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and the OR group is R having 1 to 10 carbon atoms. Twelve alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, and aralkyl groups have chlorine as a halogen atom,
Examples include bromine, iodine and fluorine.
【0010】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :プ
ロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オク
チル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。MgMe2 ,MgEt2 , Mgi−P
r2 , MgBu2 ,MgHe2 ,MgOct2 ,MgE
tBu,MgPh2 ,MgcyHe2 ,Mg(OMe)
2 ,Mg(OEt)2 ,Mg(OBu)2 ,Mg(OH
e)2 ,Mg(OOct)2 ,Mg(OPh)2 ,Mg
(OcyHe)2 , EtMgCl,BuMgCl,He
MgCl,i−BuMgCl,t−BuMgCl,Ph
MgCl,PhCH2 MgCl,EtMgBr,BuM
gBr,PhMgBr,BuMgI,EtMgCl,B
uOMgCl,HeOMgCl,PhOMgCl,Et
OMgBr,BuOMgBr,EtOMgI,MgCl
2 ,MgBr2 ,MgI2 。Specific examples of these compounds are shown below, and in the chemical formulas, Me: methyl, Et: ethyl, Pr: propyl, Bu: butyl, He: hexyl, Oct: octyl, Ph: phenyl, cyHe: cyclohexyl, respectively. Show. MgMe 2 , MgEt 2 , Mgi-P
r 2 , MgBu 2 , MgHe 2 , MgOct 2 , MgE
tBu, MgPh 2 , MgcyHe 2 , Mg (OMe)
2 , Mg (OEt) 2 , Mg (OBu) 2 , Mg (OH
e) 2 , Mg (OOct) 2 , Mg (OPh) 2 , Mg
(OcyHe) 2 , EtMgCl, BuMgCl, He
MgCl, i-BuMgCl, t-BuMgCl, Ph
MgCl, PhCH 2 MgCl, EtMgBr, BuM
gBr, PhMgBr, BuMgI, EtMgCl, B
uOMgCl, HeOMgCl, PhOMgCl, Et
OMgBr, BuOMgBr, EtOMgI, MgCl
2 , MgBr 2 , MgI 2 .
【0011】上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Xn M(OR) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式に
おいて、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜2
0個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム、珪
素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、m
はMの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる方法
が挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のX
及びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et) 、プロピル、(Pr)、i−プロピル(i−P
r) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−Bu) 、ヘキ
シル(He) 、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、3−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。The above-mentioned magnesium compound can be prepared from metallic magnesium or other magnesium compounds when the component A is prepared. As an example thereof, a compound containing magnesium metal, a halogenated hydrocarbon and an alkoxy group represented by the general formula X n M (OR) mn [wherein X is a hydrogen atom, a halogen atom or a carbon number of 1 to 2]
0 hydrocarbon group, M is boron, carbon, aluminum, silicon or phosphorus atom, R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, m
Indicates the valence of M, m> n ≧ 0. ] The method of making it contact is mentioned. X in the general formula of the alkoxy group-containing compound
Examples of the hydrocarbon group for R and R include methyl (Me), ethyl (Et), propyl, (Pr), i-propyl (i-P).
r), butyl (Bu), i-butyl (i-Bu), hexyl (He), octyl (Oct) and other alkyl groups, cyclohexyl (cyHe), methylcyclohexyl and other cycloalkyl groups, allyl, propenyl, butenyl, etc. Alkenyl group, phenyl (Ph), tolyl, aryl group of xylyl group, phenethyl, aralkyl such as 3-phenylpropyl, and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is particularly desirable. Specific examples of the alkoxy group-containing compound will be given below.
【0012】Mが炭素の場合の化合物 式 C(OR)4 に含まれるC(OMe)4 ,C(OE
t)4 , C(OPr) 4 , C(OBu)4 , C(Oi−
Bu)4 ,C(OHe)4 , C(OOct)4:式 X
C(OR)3 に含まれるHC(OMe)3 , HC(OE
t)3 ,HC(OPr)3 , HC(OBu)3 ,HC
(OHe)3 , HC(OPh)3 ;MeC(OM
e)3 , MeC(OEt)3 ,EtC(OMe)3 ,E
tC(OEt)3,cyHeC(OEt)3 , PhC
(OMe)3 ,PhC(OEt)3 ,CH2ClC(O
Et)3 ,MeCHBrC(OEt)3 , MeCHCl
C(OEt) 3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(OE
t)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(OE
t)3 ;式 X2 C(OR)2 に含まれるMeCH(O
Me)2 , MeCH(OEt)2 , CH2 (OM
e)2 , CH2 (OEt)2 ,CH2 ClCH(OE
t)2 ,CHCl2 CH(OEt)2 ,CCl3 CH
(OEt)2 ,CH 2 BrCH(OEt)2 ,PhCH
(OEt)2 。Compounds where M is carbon C (OR)FourIncluded in C (OMe)Four, C (OE
t)Four, C (OPr) Four, C (OBu)Four, C (Oi-
Bu)Four, C (OHe)Four, C (OOct)Four: Formula X
C (OR)3HC (OMe) contained in3, HC (OE
t)3, HC (OPr)3,HC (OBu)3, HC
(OHe)3, HC (OPh)3MeC (OM
e)3, MeC (OEt)3, EtC (OMe)3 , E
tC (OEt)3, CyHeC (OEt)3, PhC
(OMe)3, PhC (OEt)3, CH2ClC (O
Et)3, MeCHBrC (OEt)3, MeCHCl
C (OEt) 3; ClC (OMe)3, ClC (OE
t)3, ClC (Oi-Bu)3, BrC (OE
t)3Formula X2C (OR)2Included in MeCH (O
Me)2, MeCH (OEt)2, CH2(OM
e)2, CH2(OEt)2, CH2ClCH (OE
t)2, CHCl2CH (OEt)2, CCl3CH
(OEt)2, CH 2BrCH (OEt)2, PhCH
(OEt)2.
【0013】Mが珪素の場合の化合物 式 Si(OR)4 に含まれるSi(OMe)4 ,Si
(OEt)4 ,Si(OBu)4 ,Si(Oi−Bu)
4 ,Si(OHe)4 ,Si(OOct)4 ,Si(O
Ph)4 :式 XSi(OR)3 に含まれるHSi(O
Et)3 ,HSi(OBu)3 ,HSi(OHe)3 ,
HSi(OPh)3 ;MeSi(OMe)3 ,MeSi
(OEt)3 ,MeSi(OBu)3 ,EtSi(OE
t)3 ,PhSi(OEt)3 ,EtSi(OP
h)3 ;ClSi(OMe)3 ,ClSi(OE
t)3 ,ClSi(OBu)3 ,ClSi(OP
h)3 ,BrSi(OEt)3 ;式 X2 Si(OR)
2 に含まれるMe2 Si(OMe)2 ,Me2Si(O
Et)2 ,Et2 Si(OEt)2 ;MeClSi(O
Et)2 ;CHCl2 SiH(OEt)2 ;CCl3 S
iH(OEt)2 ;MeBeSi(OEt)2 :X3 S
iORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 SiOE
t,Me3SiOBu,Me3 SiOPh,Et3 Si
OEt,Ph3 SiOEt。Compound when M is silicon Si (OMe) 4 , Si contained in the formula Si (OR) 4
(OEt) 4 , Si (OBu) 4 , Si (Oi-Bu)
4 , Si (OHe) 4 , Si (OOct) 4 , Si (O
Ph) 4 : HSi (O contained in the formula XSi (OR) 3
Et) 3 , HSi (OBu) 3 , HSi (OHe) 3 ,
HSi (OPh) 3 ; MeSi (OMe) 3 , MeSi
(OEt) 3 , MeSi (OBu) 3 , EtSi (OE
t) 3 , PhSi (OEt) 3 , EtSi (OP
h) 3 ; ClSi (OMe) 3 , ClSi (OE
t) 3 , ClSi (OBu) 3 , ClSi (OP
h) 3 , BrSi (OEt) 3 ; Formula X 2 Si (OR)
2 contained in Me 2 Si (OMe) 2 and Me 2 Si (O
Et) 2 , Et 2 Si (OEt) 2 ; MeClSi (O
Et) 2 ; CHCl 2 SiH (OEt) 2 ; CCl 3 S
iH (OEt) 2 ; MeBeSi (OEt) 2 : X 3 S
Me 3 SiOMe, Me 3 SiOE contained in iOR
t, Me 3 SiOBu, Me 3 SiOPh, Et 3 Si
OEt, Ph 3 SiOEt.
【0014】Mが硼素の場合の化合物 式 B(OR)3 に含まれるB(OEt)3 ,B(OB
u)3 , B(OHe)3 ,B(OPh)3 。Compound in which M is boron B (OEt) 3 , B (OB contained in the formula B (OR) 3
u) 3 , B (OHe) 3 , B (OPh) 3 .
【0015】Mがアルミニウムの場合の化合物 式 Al(OR)3 に含まれるAl(OMe)3 ,Al
(OEt)3 ,Al(OPr)3 ,Al(Oi−Pr)
3 ,Al(OBu)3 ,Al(Ot−Bu)3,Al
(OHe)3 ,Al(OPh)3 。Compound when M is Aluminum Al (OMe) 3 , Al contained in the formula Al (OR) 3
(OEt) 3 , Al (OPr) 3 , Al (Oi-Pr)
3 , Al (OBu) 3 , Al (Ot-Bu) 3 , Al
(OHe) 3 , Al (OPh) 3 .
【0016】Mが燐の場合の化合物 式 P(OR)3 に含まれるP(OMe)3 , P(OE
t)3 , P(OBu) 3 ,P(OHe)3 ,P(OP
h)3 。Compounds where M is phosphorus P (OR)3Included in P (OMe)3, P (OE
t)3, P (OBu) 3, P (OHe)3, P (OP
h)3.
【0017】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 MgR1 R
2 ・n(MR3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3 は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、mは金属Mの原子価
を、nは0.1〜10の数を示す。MR3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、AlMe3 , AlEt3 ,
Ali−Bu3 ,AlPh3 ,ZnMe2 ,ZnE
t2 ,ZnBu2 ,ZnPh2 ,CaEt2 ,CaPh
2 等が挙げられる。Further, as the magnesium compound, a complex with an organic compound of Group II or IIIa metal (M) of the periodic table can be used. The complex has the general formula MgR 1 R
It is represented by 2 · n (MR 3 m ). The metal is aluminum, zinc, calcium or the like, and R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. Further, m represents the valence of the metal M, and n represents the number of 0.1 to 10. Specific examples of the compound represented by MR 3 m include AlMe 3 , AlEt 3 ,
Ali-Bu 3, AlPh 3, ZnMe 2, ZnE
t 2 , ZnBu 2 , ZnPh 2 , CaEt 2 , CaPh
2 etc.
【0018】(3)チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。(3) Titanium Compound The titanium compound is a compound of divalent, trivalent and tetravalent titanium. Examples thereof include titanium tetrachloride, titanium tetrabromide, trichloroethoxytitanium, trichlorobutoxytitanium and dichlorotitanium. Examples thereof include rudiethoxy titanium, dichlorodibutoxy titanium, dichlorodiphenoxy titanium, chlorotriethoxy titanium, chlortributoxy titanium, tetrabutoxy titanium and titanium trichloride. Among these, tetravalent titanium halides such as titanium tetrachloride, trichloroethoxy titanium, dichlorodibutoxy titanium, and dichlorodiphenoxy titanium are preferable, and titanium tetrachloride is particularly preferable.
【0019】(4)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。(4) Electron-donating compound As the electron-donating compound, carboxylic acids, carboxylic acid anhydrides, carboxylic acid esters, carboxylic acid halides, alcohols, ethers, ketones, amines,
Examples thereof include amides, nitriles, aldehydes, alcoholates, phosphorus, arsenic and antimony compounds bonded to an organic group through carbon or oxygen, phosphoamides, thioethers, thioesters, carbonic acid esters and the like. Of these, carboxylic acids, carboxylic acid anhydrides, carboxylic acid esters, carboxylic acid halides, alcohols and ethers are preferably used.
【0020】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。Specific examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, caproic acid, pivalic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and other aliphatic monocarboxylic acids, malonic acid. , Succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid and other aliphatic dicarboxylic acids, tartaric acid and other aliphatic oxycarboxylic acids, cyclohexanemonocarboxylic acid, cyclohexenemonocarboxylic acid, cis-1,2- Cyclohexanedicarboxylic acid, cis-4-methylcyclohexene-1,
Alicyclic carboxylic acids such as 2-dicarboxylic acid, benzoic acid, toluic acid, anisic acid, aromatic monocarboxylic acids such as p-tertiary butyl benzoic acid, naphthoic acid and cinnamic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Terephthalic acid, naphthalic acid, trimellitic acid, hemimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid,
Examples thereof include aromatic polycarboxylic acids such as mellitic acid. As the carboxylic acid anhydride, acid anhydrides of the above carboxylic acids can be used.
【0021】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p
−第三級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。As the carboxylic acid ester, mono- or polyvalent esters of the above-mentioned carboxylic acids can be used, and specific examples thereof include butyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl isobutyrate, propyl pivalate, pivalic acid. Isobutyl, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, diethyl malonate, diisobutyl malonate, diethyl succinate, dibutyl succinate, diisobutyl succinate, diethyl glutarate, dibutyl glutarate, diisobutyl glutarate, Diisobutyl adipate, dibutyl sebacate, diisobutyl sebacate, diethyl maleate, dibutyl maleate, diisobutyl maleate,
Monomethyl fumarate, diethyl fumarate, diisobutyl fumarate, diethyl tartrate, dibutyl tartrate, diisobutyl tartrate, ethyl cyclohexanecarboxylate, methyl benzoate, ethyl benzoate, methyl p-toluate, p
-Ethyl tertiary butyl benzoate, ethyl p-anisate,
Ethyl α-naphthoate, isobutyl α-naphthoate, ethyl cinnamate, monomethyl phthalate, monobutyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, di2-ethylhexyl phthalate, phthalic acid Diallyl, diphenyl phthalate, diethyl isophthalate, diisobutyl isophthalate, diethyl terephthalate, dibutyl terephthalate, diethyl naphthalate, dibutyl naphthalate, triethyl trimellitate, tributyl trimellitate, tetramethyl pyromelliticate, tetraethyl pyromelliticate, tetrabutyl pyromelliticate. Etc.
【0022】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイ
ル酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。As the carboxylic acid halide, acid halides of the above carboxylic acids can be used.
Specific examples thereof include acetic acid chloride, acetic acid bromide, acetic acid iodide, propionic acid chloride, butyric acid chloride,
Butyric acid bromide, butyric acid iodide, pivalic acid chloride, pivalic acid bromide, acrylic acid chloride, acrylic acid bromide, acrylic acid iodide, methacrylic acid chloride, methacrylic acid bromide, methacrylic acid iodide, crotonic acid chloride, malonic acid chloride, malonic acid bromide, Succinic acid chloride, succinic acid bromide,
Glutaric acid chloride, glutaric acid bromide, adipic acid chloride, adipic acid bromide, sebacic acid chloride,
Sebacic acid bromide, maleic acid chloride, maleic acid bromide, fumaric acid chloride, fumaric acid bromide, tartaric acid chloride, tartaric acid bromide, cyclohexanecarboxylic acid chloride, cyclohexanecarboxylic acid bromide, 1-
Cyclohexenecarboxylic acid chloride, cis-4-methylcyclohexenecarboxylic acid chloride, cis-4-methylcyclohexenecarboxylic acid bromide, benzoyl chloride,
Benzoyl bromide, p-toluic acid chloride, p-toluic acid bromide, p-anisic acid chloride, p-anisic acid bromide, α-naphthoic acid chloride, cinnamic acid chloride,
Examples thereof include cinnamic acid bromide, phthalic acid dichloride, phthalic acid dibromide, isophthalic acid dichloride, isophthalic acid dibromide, terephthalic acid dichloride, and naphthalic acid dichloride. Also, a monoalkyl halide of a dicarboxylic acid such as adipic acid monomethyl chloride, maleic acid monoethyl chloride, maleic acid monomethyl chloride, phthalic acid butyl chloride may be used.
【0023】アルコール類は、一般式 ROHで表わさ
れる。式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノール、
n−オクチルフェノール等である。Alcohols are represented by the general formula ROH. In the formula, R is alkyl having 1 to 12 carbons, alkenyl, cycloalkyl, aryl or aralkyl. Specific examples thereof include methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, pentanol, hexanol, octanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, allyl alcohol, phenol, cresol, xylenol, ethylphenol, isopropylphenol, p-tertiarybutylphenol,
Examples include n-octylphenol.
【0024】エーテル類は、一般式ROR1 で表わされ
る。式においてR,R1 は炭素数1〜12個のアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キルであり、RとR1 は同じでも異ってもよい。その具
体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイ
ソアミルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテル、
ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリ
ルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチル
フェニルエーテル等である。The ethers are represented by the general formula ROR 1 . In the formula, R and R 1 are alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl and aralkyl having 1 to 12 carbon atoms, and R and R 1 may be the same or different. Specific examples thereof include diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diisobutyl ether, diisoamyl ether, di-2-ethylhexyl ether,
Examples include diallyl ether, ethyl allyl ether, butyl allyl ether, diphenyl ether, anisole and ethyl phenyl ether.
【0025】成分Aの調製法としては、金属酸化物
(成分1)、マグネシウム化合物(成分2)、チタン化
合物(成分3)及び電子供与性化合物(成分4)をその
順序に接触させる。成分1と成分3を接触させた後、
成分4と成分3をその順序に接触させる。成分1,成
分2を接触させた後、成分3と成分4を同時に用いて接
触させる、成分2と成分3を接触させた後、成分4と
成分1をその順序に接触させる、成分2と成分4を接
触させた後、成分3と成分1をその順序に接触させる、
成分2,成分3及び成分4を同時に接触させた後、成
分1を接触させる等の方法が採用し得る。又、成分3を
用いて接触させる前にハロゲン含有化合物と接触させる
こともできる。The component A is prepared by contacting a metal oxide (component 1), a magnesium compound (component 2), a titanium compound (component 3) and an electron donating compound (component 4) in that order. After contacting component 1 and component 3,
Component 4 and component 3 are contacted in that order. Component 1 and component 2 are contacted, component 3 and component 4 are simultaneously used for contact, component 2 and component 3 are contacted, then component 4 and component 1 are contacted in that order, component 2 and component 4, then contacting component 3 and component 1 in that order,
A method may be employed in which the components 2, 3, and 4 are contacted at the same time, and then the component 1 is contacted. It is also possible to contact with the halogen-containing compound before contacting with component 3.
【0026】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIa族、IVa
族、Va族元素のハロゲン化物 (以下、金属ハライド
という。)等が挙げられる。As the halogen-containing compound, halogenated hydrocarbon, halogen-containing alcohol, silicon halide compound having hydrogen-silicon bond, Group IIa, IVa of the periodic table.
Examples thereof include halides of Group III and Group Va elements (hereinafter referred to as metal halides).
【0027】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2,
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。The halogenated hydrocarbon has 1 to 1 carbon atoms.
Twelve saturated or unsaturated aliphatic, cycloaliphatic and aromatic hydrocarbon mono- and polyhalogen substitutes. Specific examples of these compounds include, in aliphatic compounds, methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, methylene chloride, methylene bromide, methylene iodide, chloroform, bromoform, iodoform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, and tetrachloride. Carbon iodide, ethyl chloride, ethyl bromide, ethyl iodide, 1,2-
Dichloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,2-diiodoethane, methylchloroform, methylbromoform, methyliodoform, 1,1,2-trichloroethylene, 1,1,2-tribromoethylene, 1,1,2,
2-tetrachloroethylene, pentachloroethane, hexachloroethane, hexabromoethane, n-propyl chloride, 1,2-dichloropropane, hexachloropropylene, octachloropropane, decabromobutane,
Chlorinated paraffins are chlorocyclopropane, tetrachlorocyclopentane, hexachlorocyclopentadiene and hexachlorocyclohexane for alicyclic compounds, and chlorobenzene, bromobenzene, o- for aromatic compounds.
Examples thereof include dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, hexachlorobenzene, hexabromobenzene, benzotrichloride and p-chlorobenzotrichloride. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0028】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。それら化合
物を例示すると、2−クロルエタノール、1−クロル−
2−プロパノール、3−クロル−1−プロパノール、1
−クロル−2−メチル−2−プロパノール、4−クロル
−1−ブタノール、5−クロル−1−ペンタノール、6
−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−1,2−プ
ロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノール、4−
クロルベンズヒドロール、(m,o,p)−クロルベン
ジルアルコール、4−クロルカテコール、4−クロル−
(m,o)−クレゾール、6−クロル−(m,o)−ク
レゾール、4−クロル−3,5−ジメチルフェノール、
クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4−クロルフェ
ノール、4−クロル−1−ナフトール、(m,o,p)
−クロルフェノール、p−クロル−α−メチルベンジル
アルコール、2−クロル−4−フェニルフェノール、6
−クロルチモール、4−クロルレゾルシン、2−ブロム
エタノール、3−ブロム−1−プロパノール、1−ブル
ム−2−プロパノール、1−ブロム−2−ブタノール、
2−ブロム−p−クレゾール、1−ブロム−2−ナフト
ール、6−ブロム−2−ナフトール、(m,o,p)−
ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、(m,o,
p)−フロロフェノール、p−イオドフェノール:2,
2−ジクロルエタノール、2,3−ジクロル−1−プロ
パノール、1,3−ジクロル−2−プロパノール、3−
クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プロパノー
ル、2,3−ジブロム−1−プロパノール、1,3−ジ
ブロム−2−プロパノール、2,4−ジブロムフェノー
ル、2,4−ジブロム−1−ナフトール:2,2,2−
トリクロルエタノール、1,1,1−トリクロル−2−
プロパノール、β,β,β−トリクロル−tert−ブ
タノール、2,3,4−トリクロルフェノール、2,
4,5−トリクロルフェノール、2,4,6−トリクロ
ルフェノール、2,4,6−トリブロムフェノール、
2,3,5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン、
2,3,5−トリブロム−4−ヒドロキシトルエン、
2,2,2−トリフルオロエタノール、α,α,α−ト
リフルオロ−m−クレゾール、2,4,6−トリイオド
フェノール:2,3,4,6−テトラクロルフェノー
ル、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビスフ
ェノールA、テトラブロムビスフェノールA、2,2,
3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、2,3,
5,6−テトラフルオロフェノール、テトラフルオロレ
ゾルシン等が挙げられる。As the halogen-containing alcohol, any one or two or more hydrogen atoms other than hydroxyl groups in a mono- or polyhydric alcohol having one or two or more hydroxyl groups in one molecule are substituted with halogen atoms. Means a compound. Examples of the halogen atom include chlorine, bromine, iodine and fluorine atoms, and chlorine atom is preferable. Examples of these compounds include 2-chloroethanol and 1-chloro-
2-propanol, 3-chloro-1-propanol, 1
-Chloro-2-methyl-2-propanol, 4-chloro-1-butanol, 5-chloro-1-pentanol, 6
-Chlor-1-hexanol, 3-chloro-1,2-propanediol, 2-chlorocyclohexanol, 4-
Chlorbenzhydrol, (m, o, p) -chlorobenzyl alcohol, 4-chlorocatechol, 4-chloro-
(M, o) -cresol, 6-chloro- (m, o) -cresol, 4-chloro-3,5-dimethylphenol,
Chlorhydroquinone, 2-benzyl-4-chlorophenol, 4-chloro-1-naphthol, (m, o, p)
-Chlorophenol, p-chloro-α-methylbenzyl alcohol, 2-chloro-4-phenylphenol, 6
-Chlorthymol, 4-chlorresorcin, 2-bromoethanol, 3-bromo-1-propanol, 1-bromo-2-propanol, 1-bromo-2-butanol,
2-bromo-p-cresol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-naphthol, (m, o, p)-
Bromphenol, 4-bromoresorcin, (m, o,
p) -fluorophenol, p-iodophenol: 2,
2-dichloroethanol, 2,3-dichloro-1-propanol, 1,3-dichloro-2-propanol, 3-
Chlor-1- (α-chloromethyl) -1-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,4-dibromophenol, 2,4-dibromo-1- Naphthol: 2,2,2-
Trichloroethanol, 1,1,1-trichloro-2-
Propanol, β, β, β-trichloro-tert-butanol, 2,3,4-trichlorophenol, 2,
4,5-trichlorophenol, 2,4,6-trichlorophenol, 2,4,6-tribromophenol,
2,3,5-tribromo-2-hydroxytoluene,
2,3,5-tribromo-4-hydroxytoluene,
2,2,2-Trifluoroethanol, α, α, α-trifluoro-m-cresol, 2,4,6-triiodophenol: 2,3,4,6-tetrachlorophenol, tetrachlorohydroquinone, tetra Chlorbisphenol A, tetrabromobisphenol A, 2,2
3,3-tetrafluoro-1-propanol, 2,3
5,6-tetrafluorophenol, tetrafluororesorcin, etc. may be mentioned.
【0029】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、HSiCl3 ,H2SiCl2 ,H3 S
iCl,HCH3 SiCl2 , HC2 H5 SiCl2 ,
H(t−C4 H9 )SiCl2 ,HC6 H5 SiCl
2 , H(CH3 ) 2 SiCl,H(i−C3 H7 )2 S
iCl,H2 C2 H5 SiCl,H2 (n−C4 H9 )
SiCl、H2 (C6 H4 CH3 )SiCl、HSiC
l(C6 H5 )2 等が挙げられる。The silicon halide compound having a hydrogen-silicon bond includes HSiCl 3 , H 2 SiCl 2 , H 3 S.
iCl, HCH 3 SiCl 2 , HC 2 H 5 SiCl 2 ,
H (t-C 4 H 9 ) SiCl 2, HC 6 H 5 SiCl
2, H (CH 3) 2 SiCl, H (i-C 3 H 7) 2 S
iCl, H 2 C 2 H 5 SiCl, H 2 (n-C 4 H 9)
SiCl, H 2 (C 6 H 4 CH 3 ) SiCl, HSiC
1 (C 6 H 5 ) 2 and the like.
【0030】金属ハライドとしては、B,Al,Ga,
In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 ,BBr3 , BI3 ,AlCl3 ,AlBr
3 , GaCl3 ,GaBr3, InCl3 ,TlC
l3 ,SiCl4 ,SnCl4 ,SbCl5 ,SbF5
等が好適である。As the metal halide, B, Al, Ga,
In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, B
Examples thereof include chlorides, fluorides, bromides, and iodides of i, particularly BCl 3 , BBr 3 , BI 3 , AlCl 3 , and AlBr.
3 , GaCl 3 , GaBr 3 , InCl 3 , TlC
l 3 , SiCl 4 , SnCl 4 , SbCl 5 , SbF 5
Etc. are suitable.
【0031】成分1,成分2及び成分3及び成分4、更
に必要に応じて接触させることのできるハロゲン含有化
合物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、
混合攪拌するが、機械的に共粉砕することによりなされ
る。接触は40〜150℃の加熱下で行うことができ
る。Contact with component 1, component 2 and component 3 and component 4, and optionally with a halogen-containing compound, which may be contacted, is carried out in the presence or absence of an inert medium,
Mixing and stirring, but by mechanical co-milling. The contact can be performed under heating at 40 to 150 ° C.
【0032】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。As the inert medium, saturated aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, saturated alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene can be used. .
【0033】本発明における成分Aの調製法の具体例と
しては、特開昭58−162607号、同55−949
09号、同55−115405号、同57−10810
7号、同61−21109号、同61−174204
号、同61−174205号、同61−174206
号、同62−7706号公報等に開示されている方法等
が挙げられる。より詳細には、Specific examples of the method for preparing the component A in the present invention include JP-A-58-162607 and JP-A-55-949.
09, 55-115405, 57-10810.
No. 7, No. 61-21109, No. 61-174204
No. 61-174205, No. 61-174206
No. 62-7706 and the like. More specifically,
【0034】 金属酸化物とマグネシウムジアルコキ
シドとの反応生成物を、電子供与性化合物及び4価のハ
ロゲン化チタンと接触させる方法(特開昭58−162
607号公報)、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド
化合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物及び四塩化
チタンと接触させる方法(特開昭55−94909号公
報)、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合
物との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電
子供与性化合物及びハロゲン化珪素化合物と接触させる
方法(特開昭55−115405号、同57−1081
07号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボ
ン酸若しくはその誘導体及びチタン化合物を接触させる
方法(特開昭61−174204号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、水素−珪素結合を有する珪素化合物、電子供与性化
合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭61−
174205号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、ハロゲン元素若しくはハロゲン含有化合物、電子供
与性化合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭
61−174206号公報)、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウム及びハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物及びチタン化合物を
接触させる方法(特開昭61−21109号公報)、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウム及びヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に相当)を接触させることによって得られる固体
を、ハロゲン含有アルコールと接触させ、更に電子供与
性化合物及びチタン化合物と接触させる方法(特開昭6
2−7706号公報)である。これらの内でも〜の
方法が、特に,の方法が望ましい。A method of bringing a reaction product of a metal oxide and magnesium dialkoxide into contact with an electron-donating compound and a tetravalent titanium halide (Japanese Patent Laid-Open No. 58-162).
No. 607), a method of bringing a reaction product of an inorganic oxide and a magnesium hydrocarbyl halide compound into contact with a Lewis base compound and titanium tetrachloride (JP-A-55-94909), a porous carrier such as silica, and an alkyl. A method in which a reaction product with a magnesium compound is brought into contact with an electron donating compound and a silicon halide compound before being brought into contact with a titanium compound (JP-A-55-115405 and JP-A-57-1081).
No. 07), a method of contacting a metal oxide, an alkoxy group-containing magnesium compound, an aromatic polyvalent carboxylic acid having a carboxyl group at the ortho position or a derivative thereof, and a titanium compound (JP-A-61-174204), a metal. A method of bringing an oxide, an alkoxy group-containing magnesium compound, a silicon compound having a hydrogen-silicon bond, an electron-donating compound and a titanium compound into contact with each other (JP-A-61-161).
174205), a method of contacting a metal oxide, an alkoxy group-containing magnesium compound, a halogen element or a halogen-containing compound, an electron-donating compound and a titanium compound (JP-A-61-174206), metal oxide, dihydrocarbyl. Method of contacting an electron donating compound and a titanium compound with a reaction product obtained by contacting a magnesium-containing alcohol and a halogen-containing alcohol (JP-A-61-21109), metal oxide, hydrocarbyl magnesium and hydrocarbyloxy group-containing A method of bringing a solid obtained by bringing a compound (corresponding to the alkoxy group-containing compound) into contact with a halogen-containing alcohol, and further bringing it into contact with an electron-donating compound and a titanium compound (JP-A-6-61)
2-7706). Among these, the method (1) is preferable, and the method (2) is particularly preferable.
【0035】上記のようにして成分Aは調製されるが、
成分Aは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。Component A is prepared as described above,
Component A may be washed with the above-mentioned inert medium, if necessary, and further dried.
【0036】又、成分Aは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分A中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。Further, the component A may further contain an olefin polymer produced in the component A by contacting with an olefin in the presence of an organoaluminum compound. The organoaluminum compound is selected from the organometallic compounds described below, which are one component of the catalyst of the present invention.
【0037】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常100℃以下、望ましくは−10〜+
50℃の温度で行われる。成分A中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分A1g当り通常0.1〜10
0gである。As the olefin, α-olefins such as propylene, 1-butene, 1-hexene and 4-methyl-1-pentene can be used in addition to ethylene. The contact with the olefin is preferably carried out in the presence of the above-mentioned inert medium. Contact is usually 100 ° C or lower, preferably -10 to +
It is carried out at a temperature of 50 ° C. The amount of the olefin polymer contained in the component A is usually 0.1 to 10 per 1 g of the component A.
It is 0 g.
【0038】成分Aとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Aを調製させる際に用い
られる化合物およびSi−O−C結合もしくはSi−N
−C結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Aは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。For the contact between the component A and the olefin, an electron donating compound may be present together with the organoaluminum compound. The electron-donating compound is a compound used in preparing the component A and a Si—O—C bond or Si—N.
It is selected from organic silicon compounds having a -C bond. The component A contacted with the olefin can be washed with the above-mentioned inert medium, if necessary, and can be further dried.
【0039】有機金属化合物 有機金属化合物(以下成分Bという。)は、周期表第I
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Bとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Rn Al
X3-n (但し、Rはアルキル基又はアリール基、Xはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、nは1
≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし18
個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。 Organometallic Compounds Organometallic compounds (hereinafter referred to as component B) are represented by I in the periodic table.
Organic compounds of Group III to Group III metals. As component B, organic compounds of lithium, magnesium, calcium, zinc and aluminum can be used. Among these, organoaluminum compounds are particularly preferable. The organoaluminum compound that can be used is represented by the general formula R n Al
X 3-n (wherein R is an alkyl group or an aryl group, X is a halogen atom, an alkoxy group or a hydrogen atom, and n is 1
It is an arbitrary number within the range of ≦ n ≦ 3. ), For example, a trialkylaluminum, a dialkylaluminum monohalide, a monoalkylaluminum dihalide, an alkylaluminum sesquihalide, a dialkylaluminum monoalkoxide, a dialkylaluminum monohydride and the like having 1 to 18 carbon atoms.
Particularly preferred are alkylaluminum compounds, preferably C2 to C6 or mixtures or complex compounds thereof. Specifically, trimethyl aluminum, triethyl aluminum, tripropyl aluminum, triisobutyl aluminum, trialkyl aluminum such as trihexyl aluminum, dimethyl aluminum chloride, diethyl aluminum chloride, diethyl aluminum bromide, diethyl aluminum iodide,
Dialkyl aluminum monohalide such as diisobutyl aluminum chloride, methyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dichloride, methyl aluminum dibromide, ethyl aluminum dibromide, ethyl aluminum diiodide, monoalkyl aluminum dihalide such as isobutyl aluminum dichloride, ethyl aluminum sesquichloride, etc. Alkyl aluminum sesquihalide, dimethyl aluminum methoxide, diethyl aluminum ethoxide, diethyl aluminum phenoxide, dipropyl aluminum ethoxide, diisobutyl aluminum ethoxide, diisobutyl aluminum phenoxide and other dialkyl aluminum monoalkoxides, dimethyl aluminum hydride, diethyl ether Aluminum hydride, dipropyl aluminum hydride, dialkyl aluminum hydride such as diisobutyl aluminum hydride. Among these, trialkylaluminums, particularly triethylaluminum and triisobutylaluminum are preferable. Further, these trialkylaluminums are other organoaluminum compounds, for example, industrially readily available diethylaluminum chloride, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum sesquichloride, diethylaluminum ethoxide, diethylaluminum hydride or a mixture or complex compound thereof. Etc. can be used together.
【0040】又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上
のアルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物も使
用可能である。そのような化合物としては、例えばIt is also possible to use an organoaluminum compound in which two or more aluminum atoms are bound to each other through an oxygen atom or a nitrogen atom. Examples of such compounds include
【化3】 等を例示できる。[Chemical 3] Etc. can be illustrated.
【0041】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C
2 H5 )4 ,LiAl(C7 H15)4 等の化合物が挙げ
られる。Examples of organic compounds of metals other than aluminum metal include diethylmagnesium, ethylmagnesium chloride, diethylzinc and the like, and LiAl (C
Examples thereof include compounds such as 2 H 5 ) 4 and LiAl (C 7 H 15 ) 4 .
【0042】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環式
炭化水素基であるが、望ましくはアルキル基、アルケニ
ル基等の脂肪族炭化水素基であり、特に望ましくはアル
キル基である。なお、アルキル基にあっては、分岐した
アルキル基の場合に、好結果を示すことが多い。R2 は
炭素数1〜10個の脂肪族若しくは脂環式炭化水素基又
はR4 Oである。該炭化水素基としては、望ましくはシ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジ
エニル基等の脂環式炭化水素基である。R4 OのR4 は
R1 と同意義である。R3はメチル基若しくはエチル基
である。xは1若しくは2、yは0若しくは1、zは2
若しくは3であり、x+y+z=4である。 Organosilicon Compound The organosilicon compound which is one component of the catalyst of the present invention (hereinafter referred to as component C) is represented by the above general formula. In the formula, R 1 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group such as an alkyl group or an alkenyl group, and particularly preferably an alkyl group. is there. Incidentally, in the case of an alkyl group, a branched alkyl group often gives good results. R 2 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or R 4 O. The hydrocarbon group is preferably an alicyclic hydrocarbon group such as a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group and a cycloalkadienyl group. R 4 O of R 4 is as defined the R 1. R 3 is a methyl group or an ethyl group. x is 1 or 2, y is 0 or 1, z is 2
Alternatively, it is 3, and x + y + z = 4.
【0043】以下、成分Cの具体例を列挙する。なお、
以下において、Me=メチル、Et=エチル、Pr=プ
ロピル、Bu=ブチル、Amy=アミル、Hex=ヘキ
シル、Oct=オクチル、Dec=デシル、CyPe=
シクロペンチル、CyHe=シクロヘキシル、CyPy
=シクロペンテニル、CyPt=シクロペンタジエニ
ル、CyHy=シクロヘキセニル基をそれぞれ示す。な
お、以下の具体例は、前記一般式において、R3 がメチ
ル基の場合についてのみであり、エチル基の場合は省略
した。それら具体例のR3 のメチル基をエチル基に代え
た化合物も、具体例として挙げることができる。Specific examples of the component C will be listed below. In addition,
In the following, Me = methyl, Et = ethyl, Pr = propyl, Bu = butyl, Amy = amyl, Hex = hexyl, Oct = octyl, Dec = decyl, CyPe =
Cyclopentyl, CyHe = cyclohexyl, CyPy
= Cyclopentenyl, CyPt = cyclopentadienyl, and CyHy = cyclohexenyl group, respectively. The following specific examples are only for the case where R 3 is a methyl group in the above general formula, and are omitted when R 3 is an ethyl group. The compounds in which the methyl group of R 3 in these specific examples is replaced with an ethyl group can also be mentioned as a specific example.
【0044】○(R1 O)2 Si(OR3 )2 の化合物 (n−PrO)2 Si(OMe)2 , (i−PrO)2
Si(OMe)2 ,(t−BuO)2 Si(OM
e)2 ,(s−BuO)2 Si(OMe)2 ,(n−B
uO)2 Si(OMe)2 ,(i−BuO)2 Si(O
Me)2 ,(t−AmyO)2 Si(OMe)2 ,(n
−AmyO)2 Si(OMe)2 ,(n−HexO)2
Si(OMe)2 ,(n−OctO)2 Si(OMe)
2 ,(n−DecO)2 Si(OMe)2 ,(CyPe
O)2 Si(OMe)2 ,(CyHeO)2 Si(OM
e)2 ,(CyPyO)2 Si(OMe)2 ,(CyP
tO)2Si(OMe)2 ,(CyHyO)2 Si(O
Me)2 。 ○(R1 O)(R4 O)Si(OR3 )2 の化合物 (i−PrO)(n─BuO)Si(OMe)2 ,(n
−PrO)(t─BuO)Si(OMe)2 ,(t−B
uO)(n─BuO)Si(OMe)2 ,(s−Bu
O)(i─BuO)Si2 (OMe)2 ,(t−Amy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(n−Amy
O)(i−PrO)Si(OMe)2 ,(n−BuO)
(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(s−BuO)
(s−AmyO)Si(OMe)2 ,(i−BuO)
(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(t−AmyO)
(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(t−AmyO)
(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)
(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(i
−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(n−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(i−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyPeO)(s−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyPeO)(t−BuO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyPeO)(n−OctO)Si
(OMe)2 ,(CyHeO)(n−PrO)Si(O
Me)2 ,(CyHeO)(i−PrO)Si(OM
e)2 ,(CyHeO)(n−BuO)Si(OMe)
2 ,(CyHeO)(i−BuO)Si(OMe)2 ,
(CyHeO)(s−BuO)Si(OMe)2,(C
yHeO)(t−BuO)Si(OMe)2 ,(CyH
eO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyHe
O)(n−OctO)Si(OMe)2 ,(CyPy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)
(i−PrO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n
−BuO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(i−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(s−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(t−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n−AmyO)S
i(OMe)2 ,(CyPyO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyPyO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyPyO)(n−OctO)Si
(OMe)2 ,(CyPtO)(n−PrO)Si(O
Me)2 ,(CyPtO)(i−PrO)Si(OM
e)2 ,(CyPtO)(n−BuO)Si(OMe)
2 ,(CyPyO)(i−BuO)Si(OMe)2 ,
(CyPtO)(s−BuO)Si(OMe)2,(C
yPtO)(t−BuO)Si(OMe)2 ,(CyP
tO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyPt
O)(n−OctO)Si(OMe)2 ,(CyHy
O)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)
(i−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(n
−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(i−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(s−Bu
O)Si(OMe)2 ,(CyHyO)(r−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyHyO)(n−AmyO)S
i(OMe)2 ,(CyHyO)(t−AmyO)Si
(OMe)2 ,(CyHyO)(n−HexO)Si
(OMe)2 ,(CyHyO)(n−Oct)Si(O
Me)2 。Compound of (R 1 O) 2 Si (OR 3 ) 2 (n-PrO) 2 Si (OMe) 2 , (i-PrO) 2
Si (OMe) 2 , (t-BuO) 2 Si (OM
e) 2 , (s-BuO) 2 Si (OMe) 2 , (n-B)
uO) 2 Si (OMe) 2 , (i-BuO) 2 Si (O
Me) 2 , (t-AmyO) 2 Si (OMe) 2 , (n
-AmyO) 2 Si (OMe) 2 , (n-HexO) 2
Si (OMe) 2 , (n-OctO) 2 Si (OMe)
2 , (n-DecO) 2 Si (OMe) 2 , (CyPe
O) 2 Si (OMe) 2 , (CyHeO) 2 Si (OM
e) 2 , (CyPyO) 2 Si (OMe) 2 , (CyP
tO) 2 Si (OMe) 2 , (CyHyO) 2 Si (O
Me) 2 . Compound of (R 1 O) (R 4 O) Si (OR 3 ) 2 (i-PrO) (n-BuO) Si (OMe) 2 , (n
-PrO) (t-BuO) Si (OMe) 2 , (t-B
uO) (n-BuO) Si (OMe) 2 , (s-Bu
O) (i-BuO) Si 2 (OMe) 2 , (t-Amy
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (n-Amy)
O) (i-PrO) Si (OMe) 2 , (n-BuO)
(T-AmyO) Si (OMe) 2 , (s-BuO)
(S-AmyO) Si (OMe) 2 , (i-BuO)
(N-AmyO) Si (OMe) 2 , (t-AmyO)
(N-AmyO) Si (OMe) 2 , (t-AmyO)
(N-HexO) Si (OMe) 2 , (CyPeO)
(N-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (i
-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (n-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (i-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyPeO) (s-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyPeO) (t-BuO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyPeO) (n-OctO) Si
(OMe) 2 , (CyHeO) (n-PrO) Si (O
Me) 2 , (CyHeO) (i-PrO) Si (OM
e) 2 , (CyHeO) (n-BuO) Si (OMe)
2 , (CyHeO) (i-BuO) Si (OMe) 2 ,
(CyHeO) (s-BuO) Si (OMe) 2 , (C
yHeO) (t-BuO) Si (OMe) 2 , (CyH
eO) (n-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyHe
O) (t-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyHe
O) (n-HexO) Si (OMe) 2 , (CyHe
O) (n-OctO) Si (OMe) 2 , (CyPy)
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPyO)
(I-PrO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (n
-BuO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (i-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (s-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyPyO) (t-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyPyO) (n-AmyO) S
i (OMe) 2 , (CyPyO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyPyO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyPyO) (n-OctO) Si
(OMe) 2 , (CyPtO) (n-PrO) Si (O
Me) 2 , (CyPtO) (i-PrO) Si (OM
e) 2 , (CyPtO) (n-BuO) Si (OMe)
2 , (CyPyO) (i-BuO) Si (OMe) 2 ,
(CyPtO) (s-BuO) Si (OMe) 2 , (C
yPtO) (t-BuO) Si (OMe) 2 , (CyP
tO) (n-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (t-AmyO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (n-HexO) Si (OMe) 2 , (CyPt)
O) (n-OctO) Si (OMe) 2 , (CyHy
O) (n-PrO) Si (OMe) 2 , (CyHyO)
(I-PrO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (n
-BuO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (i-B
uO) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (s-Bu
O) Si (OMe) 2 , (CyHyO) (r-BuO)
Si (OMe) 2 , (CyHyO) (n-AmyO) S
i (OMe) 2 , (CyHyO) (t-AmyO) Si
(OMe) 2 , (CyHyO) (n-HexO) Si
(OMe) 2 , (CyHyO) (n-Oct) Si (O
Me) 2 .
【0045】○(R1 O)R2 Si(OR3 )2 の化合
物 (i−PrO)MeSi(OMe)2 ,(i−PrO)
n−PrSi(OMe)2 ,(n−PrO)t−Amy
Si(OMe)2 ,(i−PrO)n−HexSi(O
Me)2 ,(n−BuO)MeSi(OMe)2 ,(t
−BuO)MeSi(OMe)2 ,(s−BuO)Et
Si(OMe)2 ,(i−BuO)i−PrSi(OM
e)2 ,(t−BuO)t−BuSi(OMe)2 ,
(n−BuO)s−BuSi(OMe)2 ,(t−Bu
O)n−AmySi(OMe)2 ,(n−AmyO)i
−PrSi(OMe)2 ,(t−AmyO)t−BuS
i(OMe)2 ,(t−AmyO)t−AmySi(O
Me)2 ,(t−AmyO)MeSi(OMe)2 ,
(n−AmyO)EtSi(OMe)2 ,(n−Hex
O)MeSi(OMe)2 ,(n−HexO)EtSi
(OMe)2 ,(n−HexO)i−PrSi(OM
e)2 ,(n−HexO)t−BuSi(OMe) 2 ,
(n−HexO)n−HexSi(OMe)2 ,(n−
HexO)n−OctSi(OMe)2 ,(n−Oct
O)MeSi(OMe)2 ,(n−OctO)n−Oc
tSi(OMe)2 ,(i−PrO)CyPeSi(O
Me)2 ,(n−PrO)CyPeSi(OMe)2 ,
(n−BuO)CyPeSi(OMe)2 ,(i−Bu
O)CyPeSi(OMe)2 ,(s−BuO)CyP
eSi(OMe)2 ,(t−BuO)CyPeSi(O
Me)2 ,(n−AmyO)CyPeSi(OM
e)2 ,(t−AmyO)CyPeSi(OMe)2 ,
(n−HexO)CyPeSi(OMe)2 ,(n−O
ct)CyPeSi(OMe) 2 ,(i−PrO)Cy
HeSi(OMe)2 ,(n−PrO)CyHeSi
(OMe)2 ,(n−BuO)CyHeSi(OMe)
2 ,(i−BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(s−
BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(t−BuO)C
yHeSi(OMe)2 ,(n−AmyO)CyHeS
i(OMe)2 ,(t−AmyO)CyHeSi(OM
e)2 ,(n−HexO)CyHeSi(OMe)2 ,
(n−Oct)CyHeSi(OMe)2 ,(n−Pr
O)CyPySi(OMe)2 ,(i−PrO)CyP
ySi(OMe)2 ,(n−BuO)CyPySi(O
Me)2 ,(i−BuO)CyPySi(OMe)2 ,
(s−BuO)CyPySi(OMe)2 ,(t−Bu
O)CyPySi(OMe)2,(n−AmyO)Cy
PySi(OMe)2 ,(t−AmyO)CyPySi
(OMe)2 ,(n−HexO)CyPySi(OM
e)2 ,(n−Oct)CyPySi(OMe)2 ,
(n−PrO)CyPtSi(OMe)2 ,(i−Pr
O)CyPtSi(OMe)2 ,(n−BuO)CyP
tSi(OMe)2 ,(i−BuO)CyPtSi(O
Me)2 ,(s−BuO)CyPtSi(OMe)2 ,
(t−BuO)CyPtSi(OMe)2 ,(n−Am
yO)CyPtSi(OMe)2 ,(t−AmyO)C
yPtSi(OMe)2 ,(n−HexO)CyPtS
i(OMe)2 ,(n−Oct)CyPtSi(OM
e)2 ,(n−PrO)CyHySi(OMe)2 ,
(i−PrO)CyHySi(OMe)2 ,(n−Bu
O)CyHySi(OMe)2 ,(i−PrO)CyH
ySi(OMe)2 ,(s−BuO)CyHySi(O
Me)2 ,(t−BuO)CyHySi(OMe)2 ,
(n−AmyO)CyHySi(OMe)2 ,(t−A
myO)CyHySi(OMe)2 ,(n−HexO)
CyHySi(OMe) 2 ,(n−OctO)CyHy
Si(OMe)2 ,(CyPeO)MeSi(OMe)
2 ,(CyPeO)EtSi(OMe)2 ,(CyPe
O)n−PrSi(OMe)2 ,(CyPeO)i−P
rSi(OMe)2 ,(CyPeO)n−BuSi(O
Me)2 ,(CyPeO)i−BuSi(OMe)2 ,
(CyPeO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPe
O)t−BuSi(OMe)2 ,(CyPeO)n−A
mySi(OMe)2 ,(CyPeO)t−AmySi
(OMe)2 ,(CyPeO)n−HexSi(OM
e)2 ,(CyPeO)n−OctSi(OMe)2 ,
(CyHeO)MeSi(OMe)2 ,(CyHeO)
EtSi(OMe)2 ,(CyHeO)n−PrSi
(OMe)2 ,(CyHeO)i−PrSi(OMe)
2 ,(CyHeO)n−BuSi(OMe)2 ,(Cy
HeO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyHeO)s
−BuSi(OMe)2 ,(CyHeO)t−BuSi
(OMe)2 ,(CyHeO)n−AmySi(OM
e)2 ,(CyHeO)t−AmySi(OMe)2 ,
(CyHeO)n−HexSi(OMe)2 ,(CyH
eO)n−OctSi(OMe)2 ,(CyPyO)M
eSi(OMe)2 ,(CyPyO)EtSi(OM
e)2 ,(CyPyO)n−PrSi(OMe)2 ,
(CyPyO)i−PrSi(OMe)2 ,(CyPy
O)n−BuSi(OMe)2 ,(CyPyO)i−B
uSi(OMe)2 ,(CyPyO)s−BuSi(O
Me)2 ,(CyPyO)t−BuSi(OMe)2 ,
(CyPyO)n−AmySi(OMe)2 ,(CyP
yO)t−AmySi(OMe)2 ,(CyPyO)n
−HexSi(OMe) 2 ,(CyPyO)n−Oct
Si(OMe)2 ,(CyPtO)MeSi(OMe)
2 ,(CyPtO)EtSi(OMe)2 ,(CyPt
O)n−PrSi(OMe)2 ,(CyPtO)i−P
rSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−BuSi(O
Me)2 ,(CyPtO)i−BuSi(OMe)2 ,
(CyPtO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPt
O)t−BuSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−A
mySi(OMe)2 ,(CyPtO)t−AmySi
(OMe)2 ,(CyPtO)n−HexSi(OM
e)2 ,(CyPtO)n−OctSi(OMe)2 ,
(CyHyO)MeSi(OMe)2 ,(CyHyO)
EtSi(OMe)2 ,(CyHyO)n−PrSi
(OMe)2 ,(CyHyO)i−PrSi(OMe)
2 ,(CyHyO)n−BuSi(OMe)2 ,(Cy
HyO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyHyO)s
−BuSi(OMe)2 ,(CyHyO)t−BuSi
(OMe)2 ,(CyHyO)n−AmySi(OM
e)2 ,(CyHyO)t−AmySi(OMe)2 ,
(CyHyO)n−HexSi(OMe)2 ,(CyH
yO)n−OctSi(OMe)2 ,(CyPeO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPeO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyPeO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPeO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PeO)CyHySi(OMe)2 ,(CyHeO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyHeO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyHeO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyHeO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
HeO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPyO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPyO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyPyO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPyO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PyO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPtO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPtO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyPtO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyPtO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
PtO)CyHySi(OMe)2 ,(CyHyO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyHyO)CyHeSi
(OMe)2 ,(CyHyO)CyPySi(OMe)
2 ,(CyHyO)CyPtSi(OMe)2 ,(Cy
HyO)CyHySi(OMe)2 。○ (R1O) R2Si (OR3)2Compound of
Thing (i-PrO) MeSi (OMe)2, (I-PrO)
n-PrSi (OMe)2, (N-PrO) t-Amy
Si (OMe)2, (I-PrO) n-HexSi (O
Me)2, (N-BuO) MeSi (OMe)2, (T
-BuO) MeSi (OMe)2, (S-BuO) Et
Si (OMe)2, (I-BuO) i-PrSi (OM
e)2, (T-BuO) t-BuSi (OMe)2,
(N-BuO) s-BuSi (OMe)2, (T-Bu
O) n-AmySi (OMe)2, (N-AmyO) i
-PrSi (OMe)2, (T-AmyO) t-BuS
i (OMe)2, (T-AmyO) t-AmySi (O
Me)2, (T-AmyO) MeSi (OMe)2,
(N-AmyO) EtSi (OMe)2, (N-Hex
O) MeSi (OMe)2, (N-HexO) EtSi
(OMe)2, (N-HexO) i-PrSi (OM
e)2, (N-HexO) t-BuSi (OMe) 2,
(N-HexO) n-HexSi (OMe)2, (N-
HexO) n-OctSi (OMe)2, (N-oct
O) MeSi (OMe)2, (N-OctO) n-Oc
tSi (OMe)2, (I-PrO) CyPeSi (O
Me)2, (N-PrO) CyPeSi (OMe)2,
(N-BuO) CyPeSi (OMe)2, (I-Bu
O) CyPeSi (OMe)2, (S-BuO) CyP
eSi (OMe)2, (T-BuO) CyPeSi (O
Me)2, (N-AmyO) CyPeSi (OM
e)2, (T-AmyO) CyPeSi (OMe)2,
(N-HexO) CyPeSi (OMe)2, (N-O
ct) CyPeSi (OMe) 2, (I-PrO) Cy
HeSi (OMe)2, (N-PrO) CyHeSi
(OMe)2, (N-BuO) CyHeSi (OMe)
2, (I-BuO) CyHeSi (OMe)2, (S-
BuO) CyHeSi (OMe)2, (T-BuO) C
yHeSi (OMe)2, (N-AmyO) CyHeS
i (OMe)2, (T-AmyO) CyHeSi (OM
e)2, (N-HexO) CyHeSi (OMe)2,
(N-Oct) CyHeSi (OMe)2, (N-Pr
O) CyPySi (OMe)2, (I-PrO) CyP
ySi (OMe)2, (N-BuO) CyPySi (O
Me)2, (I-BuO) CyPySi (OMe)2,
(S-BuO) CyPySi (OMe)2, (T-Bu
O) CyPySi (OMe)2, (N-AmyO) Cy
PySi (OMe)2, (T-AmyO) CyPySi
(OMe)2, (N-HexO) CyPySi (OM
e)2, (N-Oct) CyPySi (OMe)2,
(N-PrO) CyPtSi (OMe)2, (I-Pr
O) CyPtSi (OMe)2, (N-BuO) CyP
tSi (OMe)2, (I-BuO) CyPtSi (O
Me)2, (S-BuO) CyPtSi (OMe)2,
(T-BuO) CyPtSi (OMe)2, (N-Am
yO) CyPtSi (OMe)2, (T-AmyO) C
yPtSi (OMe)2, (N-HexO) CyPtS
i (OMe)2, (N-Oct) CyPtSi (OM
e)2, (N-PrO) CyHySi (OMe)2,
(I-PrO) CyHySi (OMe)2, (N-Bu
O) CyHySi (OMe)2, (I-PrO) CyH
ySi (OMe)2, (S-BuO) CyHySi (O
Me)2, (T-BuO) CyHySi (OMe)2,
(N-AmyO) CyHySi (OMe)2, (T-A
myO) CyHySi (OMe)2, (N-HexO)
CyHySi (OMe) 2, (N-OctO) CyHy
Si (OMe)2, (CyPeO) MeSi (OMe)
2, (CyPeO) EtSi (OMe)2, (CyPe
O) n-PrSi (OMe)2, (CyPeO) i-P
rSi (OMe)2, (CyPeO) n-BuSi (O
Me)2, (CyPeO) i-BuSi (OMe)2,
(CyPeO) s-BuSi (OMe)2, (CyPe
O) t-BuSi (OMe)2, (CyPeO) n-A
mySi (OMe)2, (CyPeO) t-AmySi
(OMe)2, (CyPeO) n-HexSi (OM
e)2, (CyPeO) n-OctSi (OMe)2,
(CyHeO) MeSi (OMe)2, (CyHeO)
EtSi (OMe)2, (CyHeO) n-PrSi
(OMe)2, (CyHeO) i-PrSi (OMe)
2, (CyHeO) n-BuSi (OMe)2, (Cy
HeO) i-BuSi (OMe)2, (CyHeO) s
-BuSi (OMe)2, (CyHeO) t-BuSi
(OMe)2, (CyHeO) n-AmySi (OM
e)2, (CyHeO) t-AmySi (OMe)2,
(CyHeO) n-HexSi (OMe)2, (CyH
eO) n-OctSi (OMe)2, (CyPyO) M
eSi (OMe)2, (CyPyO) EtSi (OM
e)2, (CyPyO) n-PrSi (OMe)2,
(CyPyO) i-PrSi (OMe)2, (CyPy
O) n-BuSi (OMe)2, (CyPyO) i-B
uSi (OMe)2, (CyPyO) s-BuSi (O
Me)2, (CyPyO) t-BuSi (OMe)2,
(CyPyO) n-AmySi (OMe)2, (CyP
yO) t-AmySi (OMe)2, (CyPyO) n
-HexSi (OMe) 2, (CyPyO) n-Oct
Si (OMe)2, (CyPtO) MeSi (OMe)
2, (CyPtO) EtSi (OMe)2, (CyPt
O) n-PrSi (OMe)2, (CyPtO) i-P
rSi (OMe)2, (CyPtO) n-BuSi (O
Me)2, (CyPtO) i-BuSi (OMe)2,
(CyPtO) s-BuSi (OMe)2, (CyPt
O) t-BuSi (OMe)2, (CyPtO) n-A
mySi (OMe)2, (CyPtO) t-AmySi
(OMe)2, (CyPtO) n-HexSi (OM
e)2, (CyPtO) n-OctSi (OMe)2,
(CyHyO) MeSi (OMe)2, (CyHyO)
EtSi (OMe)2, (CyHyO) n-PrSi
(OMe)2, (CyHyO) i-PrSi (OMe)
2, (CyHyO) n-BuSi (OMe)2, (Cy
HyO) i-BuSi (OMe)2, (CyHyO) s
-BuSi (OMe)2, (CyHyO) t-BuSi
(OMe)2, (CyHyO) n-AmySi (OM
e)2, (CyHyO) t-AmySi (OMe)2,
(CyHyO) n-HexSi (OMe)2, (CyH
yO) n-OctSi (OMe)2, (CyPeO) C
yPeSi (OMe)2, (CyPeO) CyHeSi
(OMe)2, (CyPeO) CyPySi (OMe)
2, (CyPeO) CyPtSi (OMe)2, (Cy
PeO) CyHySi (OMe)2, (CyHeO) C
yPeSi (OMe)2, (CyHeO) CyHeSi
(OMe)2, (CyHeO) CyPySi (OMe)
2, (CyHeO) CyPtSi (OMe)2, (Cy
HeO) CyHySi (OMe)2, (CyPyO) C
yPeSi (OMe)2, (CyPyO) CyHeSi
(OMe)2, (CyPyO) CyPySi (OMe)
2, (CyPyO) CyPtSi (OMe)2, (Cy
PyO) CyHySi (OMe)2, (CyPtO) C
yPeSi (OMe)2, (CyPtO) CyHeSi
(OMe)2, (CyPtO) CyPySi (OMe)
2, (CyPtO) CyPtSi (OMe)2, (Cy
PtO) CyHySi (OMe)2, (CyHyO) C
yPeSi (OMe)2, (CyHyO) CyHeSi
(OMe)2, (CyHyO) CyPySi (OMe)
2, (CyHyO) CyPtSi (OMe)2, (Cy
HyO) CyHySi (OMe)2.
【0046】○(R1 O)Si(OR3 )3 の化合物 (i−PrO)Si(OMe)3 ,(n−BuO)Si
(OMe)3 ,(s−BuO)Si(OMe)3 ,(i
−BuO)Si(OMe)3 ,(t−BuO)Si(O
Me)3 ,(t−AmyO)Si(OMe)3 ,(n−
AmyO)Si(OMe)3 ,(n−HexO)Si
(OMe)3 ,(n−OctO)Si(OMe)3 ,
(n−DecO)Si(OMe)3 ,(CyPeO)S
i(OMe) 3 ,(CyHeO)Si(OMe)3 ,
(CyPyO)Si(OMe)3 ,(CyPtO)Si
(OMe)3 ,(CyHyO)Si(OMe)3 。○ (R1O) Si (OR3)3Compound (i-PrO) Si (OMe)3, (N-BuO) Si
(OMe)3, (S-BuO) Si (OMe)3, (I
-BuO) Si (OMe)3, (T-BuO) Si (O
Me)3, (T-AmyO) Si (OMe)3, (N-
AmyO) Si (OMe)3, (N-HexO) Si
(OMe)3, (N-OctO) Si (OMe)3,
(N-DecO) Si (OMe)3, (CyPeO) S
i (OMe) 3, (CyHeO) Si (OMe)3,
(CyPyO) Si (OMe)3, (CyPtO) Si
(OMe)3, (CyHyO) Si (OMe)3.
【0047】本発明の触媒は、成分A,成分B及び成分
Cからなるが、それらの構成割合は、成分Bが成分A中
のチタン1グラム原子当り1〜2,000グラムモル、
望ましくは20〜500グラムモル、成分Cが成分B1
モルに対して0.001〜10モル、望ましくは0.0
1〜1.0モルとなるように用いられる。The catalyst of the present invention comprises component A, component B and component C, the composition ratio of which is such that component B is 1 to 2,000 gram mol per gram atom of titanium in component A,
Desirably 20 to 500 gram mol, component C is component B1
0.001 to 10 mol, preferably 0.0
It is used so as to be 1 to 1.0 mol.
【0048】プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法の製造
方法は、プロピレンを重合して高結晶性ポリプロピレン
とする工程(工程a)と、プロピレンとエチレンを共重
合する工程(工程b)とからなる。 Method for Producing Propylene-Ethylene Block Copolymer The method for producing a propylene-ethylene block copolymer comprises a step of polymerizing propylene to obtain highly crystalline polypropylene (step a), and a step of producing propylene and ethylene. And a copolymerization step (step b).
【0049】(1)工程a 工程aは、前記重合触媒の存在下、プロピレンを重合す
ることからなる。重合反応は、気相、液相のいずれでも
よく、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソ
ブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー
中で行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜+
150℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。重
合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。又得られる重合
体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量調
節剤を存在せしめることにより行われる。工程aでは、
そこで得られるポリプロピレンが該ブロック共重合体の
50〜98重量%、特に70重量%〜95重量%となる
ようにするのが望ましい。(1) Step a Step a consists of polymerizing propylene in the presence of the above-mentioned polymerization catalyst. The polymerization reaction may be either a gas phase or a liquid phase, and when the polymerization is carried out in a liquid phase, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, hexane,
It can be carried out in an inert hydrocarbon such as heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and in a liquid monomer. The polymerization temperature is usually -80 ° C to +
It is in the range of 150 ° C, preferably 40 to 120 ° C. The polymerization pressure may be, for example, 1 to 60 atmospheres. The molecular weight of the resulting polymer can be controlled by the presence of hydrogen or other known molecular weight regulator. In step a,
It is desirable that the polypropylene obtained there accounts for 50 to 98% by weight, particularly 70 to 95% by weight of the block copolymer.
【0050】(2)工程b プロピレンとエチレンの共重合は、前記の重合触媒の存
在下で行なわれる。共重合は、そこで得られる共重合体
中のエチレン含有量が30〜95重量%、望ましくは4
0〜80重量%となるように、プロピレンとエチレンを
接触して反応することによりなされる。共重合反応は、
工程aで行なわれる重合条件の範囲の中から適宜選択す
るすることができ、又水素等の分子量調節剤の使用も工
程aの場合と同じである。工程bで得られる共重合体の
量は、通常該ブロック共重合体の50〜2重量%である
が、望ましくは30〜5重量%である。(2) Step b Copolymerization of propylene and ethylene is carried out in the presence of the above-mentioned polymerization catalyst. In the copolymerization, the ethylene content in the resulting copolymer is 30 to 95% by weight, preferably 4
It is made by contacting and reacting propylene and ethylene so that the content of propylene is 0 to 80% by weight. The copolymerization reaction is
It can be appropriately selected from the range of the polymerization conditions carried out in step a, and the use of a molecular weight modifier such as hydrogen is the same as in step a. The amount of the copolymer obtained in the step b is usually 50 to 2% by weight of the block copolymer, and preferably 30 to 5% by weight.
【0051】本発明の方法は、工程aと工程bとからな
るが、工程aと工程bは、その順序に、又は逆に行う直
列方式の他、工程aと工程bを並列に行い、それぞれで
得られるポリマーを合体する方法が採用することができ
るが、これらの中でも、特に工程aと工程bをその順序
に行う方法が、装置上有利であり望ましい。The method of the present invention comprises steps a and b. Steps a and b are performed in the order or in reverse, or in addition to the series method, steps a and b are performed in parallel. A method of combining the polymers obtained in (1) can be adopted, and among these, the method of performing step a and step b in that order is advantageous and desirable in terms of the apparatus.
【0052】[0052]
【実施例】本発明を実施例及び比較例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、BHT(2,6−ジターシャリーブチル−4
−メチルフェノール)を0.18重量%、DSTDP
(ジステリアルチオジプロピオネート)を0.08重量
%、IRGANOX1010〔テトラキス−{メチレン
−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロ−シンナメート)メタン}〕を0.04重量%、カ
ルシウムステアレートを0.06重量%それぞれ添加
し、溶融混練によりペレットとした後、射出成形形によ
り試験片を作成して行った。曲げ弾性率:JIS K
7203−1982に:デュポン衝撃強度:JIS K
7211−1976にそれぞれ準拠。又、ポリマーの
MFRはASTM D−1238に従って測定した。EXAMPLES The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The percentages (%) in the examples are by weight unless otherwise specified. Polymer physical properties were measured by adding BHT (2,6-ditertiarybutyl-4) to the polymer powder.
-Methylphenol) 0.18% by weight, DSTDP
(Dissterial thiodipropionate) 0.08% by weight, IRGANOX 1010 [tetrakis- {methylene- (3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxyhydro-cinnamate) methane}] 0.04% by weight, calcium stearate After adding 0.06% by weight of each of them to form pellets by melt-kneading, a test piece was prepared by injection molding. Flexural modulus: JIS K
7203-1982: DuPont Impact Strength: JIS K
Compliant with 7211-1976, respectively. The MFR of the polymer was measured according to ASTM D-1238.
【0053】実施例1 成分Aの調製 滴下ロート及び攪拌機を取付けた200mlのフラスコを
窒素ガスで置換した。このフラスコに、酸化ケイ素(D
AVISON社製、商品名G−952)を窒素気流中に
おいて200℃で2時間、更に700℃で5時間焼成し
たものを5g及びn−ヘプタンを40ml入れた。更にn
−ブチルエチルマグネシウム(以下、BEMという。)
の20%n−ヘプタン溶液(テキサスアルキルズ社製、
商品名MAGALA BEM)20mlを加え、90℃で
1時間攪拌した。上記懸濁液を0℃に冷却した後、これ
にテトラエトキシシラン11.2gを20mlのn−ヘプ
タンに溶解した溶液を滴下ロートから30分掛けて滴下
した。滴下終了後、2時間掛けて50℃に昇温し、50
℃で1時間攪拌を続けた。反応終了後、デカンテーショ
ンにより上澄液を除去し、生成した固体を60mlのn−
ヘプタンにより室温で洗浄し、更にデカンテーションに
より上澄液を除去した。このn−ヘプタンによる洗浄処
理を更に4回行った。上記の固体に、50mlのn−ヘプ
タンを加えて懸濁液とし、これに2,2,2−トリクロ
ルエタノール8.0gを10mlのn−ヘプタンに溶解し
た溶液を、滴下ロートから25℃において15分間掛け
て滴下した。滴下終了後25℃で30分間攪拌を続け
た。反応終了後、室温において、60mlのn−ヘプタン
にて2回、60mlのトルエンにて3回それぞれ洗浄を行
った。得られた固体(固体成分I)を分析したところ、
SiO2 36.6%、マグネシウム5.1%、塩素3
8.5%を含んでいた。上記で得られた固体成分Iに、
n−ヘプタン10ml及び四塩化チタン40mlを加え、9
0℃迄昇温し、n−ヘプタン5mlに溶解したフタル酸ジ
n−ブチル0.6gを5分間掛けて添加した。その後、
115℃に昇温し、2時間反応させた。90℃に降温し
た後、デカンテーションにより上澄液を除き、n−ヘプ
タン70mlで2回洗浄を行った。更に、n−ヘプタン1
5mlと四塩化チタン40mlを加え、115℃で2時間反
応させた。反応終了後、得られた固体物質を60mlのn
−ヘキサンにて室温で8回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて1時間乾燥を行い、8.3gの触媒成分(成
分A)を得た。この成分Aには、3.1%のチタンの他
酸化ケイ素、塩素及びフタル酸ジn−ブチルが含まれて
いた。 Example 1 Preparation of Component A A 200 ml flask equipped with a dropping funnel and a stirrer was replaced with nitrogen gas. In this flask, silicon oxide (D
AVISON, trade name G-952) was fired in a nitrogen stream at 200 ° C. for 2 hours and further at 700 ° C. for 5 hours, and then 5 g and 40 ml of n-heptane were added. Furthermore n
-Butylethylmagnesium (hereinafter referred to as BEM)
20% n-heptane solution (manufactured by Texas Alkyls,
20 ml of trade name MAGALA BEM) was added and stirred at 90 ° C. for 1 hour. After cooling the above suspension to 0 ° C., a solution of 11.2 g of tetraethoxysilane dissolved in 20 ml of n-heptane was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes. After completion of the dropping, the temperature was raised to 50 ° C. over 2 hours, and then 50
Stirring was continued for 1 hour at ° C. After the reaction was completed, the supernatant was removed by decantation, and the resulting solid was mixed with 60 ml of n-
It was washed with heptane at room temperature, and the supernatant was removed by decantation. This washing treatment with n-heptane was further performed 4 times. To the above solid, 50 ml of n-heptane was added to make a suspension, and a solution of 8.0 g of 2,2,2-trichloroethanol in 10 ml of n-heptane was added to the suspension at a temperature of 25 ° C. from a dropping funnel at 15 ° C. It took a minute and was dropped. After completion of dropping, stirring was continued at 25 ° C. for 30 minutes. After completion of the reaction, the mixture was washed twice with 60 ml of n-heptane and three times with 60 ml of toluene at room temperature. When the obtained solid (solid component I) was analyzed,
SiO 2 36.6%, magnesium 5.1%, chlorine 3
It contained 8.5%. In the solid component I obtained above,
Add 10 ml of n-heptane and 40 ml of titanium tetrachloride, add 9
The temperature was raised to 0 ° C., and 0.6 g of di-n-butyl phthalate dissolved in 5 ml of n-heptane was added over 5 minutes. afterwards,
The temperature was raised to 115 ° C. and the reaction was performed for 2 hours. After the temperature was lowered to 90 ° C., the supernatant was removed by decantation, and the mixture was washed twice with 70 ml of n-heptane. Furthermore, n-heptane 1
5 ml and 40 ml of titanium tetrachloride were added and reacted at 115 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, the solid substance obtained was mixed with 60 ml of n
-Washing was carried out 8 times with hexane at room temperature. Then, it was dried at room temperature under reduced pressure for 1 hour to obtain 8.3 g of a catalyst component (component A). This component A contained 3.1% of titanium, silicon oxide, chlorine and di-n-butyl phthalate.
【0054】重合 窒素置換をして充分に乾燥された5リットルのオートク
レーブに、上記で得られた成分A39.5mg、n−ヘプ
タン1リットル中に0.6モルのトリエチルアルミニウ
ムを含む溶液4ml、及びn−ヘプタン1リットル中に
0.08モルのジ−t−ブトキシジメトキシシランを含
む溶液3mlを混合し、5分間保持したものを入れた。次
いで水素を7.1リットル及び液体プロピレン3リット
ルを圧入した後、オートクレーブ内部温度を70℃に昇
温し、第1段重合を行った。1時間後、未反応プロピレ
ンおよび水素をパージして、器内圧力を0.2kg/c
m2 ・Gとした。第1段目のポリマーを少量採取した
後、系内に水素を導入した。引き続いてプロピレンとエ
チレンのモル比が1.5の混合ガスを供給して、プロピ
レン−エチレン共重合を行った。器内圧力を6kg/c
m2 ・Gに保ち、75℃で2時間共重合を行った。重合
終了後、未反応ガスをパージし、ポリマーを取り出し乾
燥した。未反応ガス中には0.7モル%の水素が含まれ
ていた。得られたポリマーのMFRは11.3g/10
分であった。分析の結果、共重合によって得られたポリ
マーの生成量は22重量%であり、エチレン含有量は5
2重量%であった。また、1段目終了後にサンプリング
したポリマーのMFRは30.8g/10分であった。
最終ポリマーの物性を測定したところ、曲げ弾性率は
8.59×10 3 kg/cm2 、デュポン衝撃強度は7
9.9kg・cmであった。[0054]polymerization 5 liters of oak fully dried with nitrogen substitution
Into a reeve, 39.5 mg of the component A obtained above, n-hep
0.6 mol of triethylaluminium in 1 liter of tan
In 4 ml of a solution containing rum and 1 liter of n-heptane
Contains 0.08 mol of di-t-butoxydimethoxysilane.
3 ml of the solution was mixed and held for 5 minutes. Next
Then, 7.1 liters of hydrogen and 3 liters of liquid propylene
After press-fitting the autoclave, raise the internal temperature of the autoclave to 70 ℃.
It was heated and the first stage polymerization was carried out. 1 hour later, unreacted polypropylene
Purge hydrogen and hydrogen to reduce the internal pressure to 0.2 kg / c
m2・ G. A small amount of the first-stage polymer was collected
After that, hydrogen was introduced into the system. Then propylene and
A mixed gas with a mole ratio of ethylene of 1.5 was supplied to the propylene gas.
Len-ethylene copolymerization was performed. Internal pressure is 6 kg / c
m2・ K was maintained at G and copolymerization was carried out at 75 ° C. for 2 hours. polymerization
After completion, purge unreacted gas, take out the polymer and dry.
Dried The unreacted gas contains 0.7 mol% hydrogen.
Was there. MFR of the obtained polymer was 11.3 g / 10.
It was a minute. As a result of the analysis, the poly
The mer production is 22% by weight and the ethylene content is 5
It was 2% by weight. Also, sampling after the first stage
The polymer had an MFR of 30.8 g / 10 minutes.
When the physical properties of the final polymer were measured, the flexural modulus was
8.59 x 10 3kg / cm2, DuPont impact strength is 7
It was 9.9 kg · cm.
【0055】実施例2〜4、比較例1〜2 実施例1において、重合触媒の一成分として用いたジ−
t−ブトキシジメトキシシランのかわりに、表1に示す
有機硅素化合物を用いて、さらに表1に示すようなMF
Rになるように水素量を調節した以外は実施例1と同様
にしてプロピレンの共重合を行った。得られた最終ポリ
マーの物性も表1に示した。これより本発明のものが、
弾性率と衝撃強度にバランスよく優れていることがわか
る。 Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 The di-amine used as one component of the polymerization catalyst in Example 1.
Instead of t-butoxydimethoxysilane, the organic silicon compounds shown in Table 1 were used, and the MF as shown in Table 1 was used.
Copolymerization of propylene was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of hydrogen was adjusted to be R. The physical properties of the final polymer obtained are also shown in Table 1. From this, the present invention is
It can be seen that the elastic modulus and impact strength are well balanced.
【表1】 [Table 1]
【0056】[0056]
【発明の効果】本発明の方法により、耐衝撃性と剛性の
バランスに優れたプロピレンのブロック共重合体を製造
することができる。According to the method of the present invention, it is possible to produce a propylene block copolymer having an excellent balance of impact resistance and rigidity.
【図1】図1は、本発明の方法を示すフローチャート図
である。FIG. 1 is a flow chart diagram illustrating the method of the present invention.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植木 聰 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 斉藤 博夫 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 滝 敬之 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Satoshi Ueki 1-3-3 Nishitsurugaoka, Oi-cho, Iruma-gun, Saitama Prefecture Tonen Corporation Research Institute (72) Hiroo Saito, Nishitsurugaoka, Nishii-ga, Irima-gun, Saitama Prefecture 3-3-1 Tonen Research Institute (72) Inventor Noriyuki Taki 1-3-1 Nishitsurugaoka, Oi-cho, Iruma-gun, Saitama Tonen Research Institute
Claims (1)
ン,ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
体触媒成分、 (B)有機金属化合物及び (C)一般式 【化1】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環
式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若しく
は脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル基若しく
はエチル基であり、xは1若しくは2、yは0若しくは
1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4 はR1 と
同意義である。〕の有機珪素化合物とからなる重合触媒
の存在下、 (1)プロピレンを重合して高結晶性ポリプロピレンを
製造する工程(a)及び(2)プロピレンとエチレンを
共重合する工程(b)からなるプロピレンのブロック共
重合体の製造方法。1. A solid catalyst component comprising (A) a metal oxide, magnesium, titanium, a halogen and an electron donating compound as essential components, (B) an organometallic compound and (C) a general formula: [However, R 1 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, R 2 is an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or R 4 O and R 3 are It is a methyl group or an ethyl group, x is 1 or 2, y is 0 or 1, z is 2 or 3, x + y + z = 4, and R 4 has the same meaning as R 1 . ] In the presence of a polymerization catalyst consisting of the organosilicon compound, (1) comprises a step (a) of polymerizing propylene to produce a highly crystalline polypropylene and (2) a step (b) of copolymerizing propylene and ethylene. A method for producing a block copolymer of propylene.
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JPH0673116A true JPH0673116A (en) | 1994-03-15 |
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- 1991-06-28 JP JP3158430A patent/JP2978284B2/en not_active Expired - Lifetime
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