JPH0669053B2 - Probing machine - Google Patents

Probing machine

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JPH0669053B2
JPH0669053B2 JP59068907A JP6890784A JPH0669053B2 JP H0669053 B2 JPH0669053 B2 JP H0669053B2 JP 59068907 A JP59068907 A JP 59068907A JP 6890784 A JP6890784 A JP 6890784A JP H0669053 B2 JPH0669053 B2 JP H0669053B2
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JP
Japan
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wafer
marking
suction
stylus
measurement
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兼俊 永田
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はウエハ上に格子状に配列された集積回路等の
半導体素子の電気的特性を測定検査するプロービングマ
シンのマーキング装置に係るものである。
The present invention relates to a marking device for a probing machine for measuring and inspecting electrical characteristics of semiconductor elements such as integrated circuits arranged in a lattice on a wafer.

周知のようにプローピングマシンにおいては、X−Yテ
ーブル上に設けられた吸着テーブルに第1図に示すよう
なウエハ1を定められた方向にセットして、ウエハ1上
に格子状に配列されている多数の素子2の電気的特性
を、素子の電極と同じ位置・配列の触針を有するプロー
ブカードと接続するテスタにより、一つずつ順に測定検
査し、不良素子にはインク等によりマーク3を付け、後
の工程でこのマークに従って不良素子を除去している。
このようなプロービングマシンにおいて、不良素子にマ
ークに付ける従来の方法は、プローブカードの各触針が
素子の各電極に接触し、プローブカードと接続するテス
タによりその電気的特性が測定・検査されると、その直
後にその位置において各触針の中央部からマーキングの
ペンが挿入されてマークが付されるというものであっ
た。
As is well known, in a propping machine, a wafer 1 as shown in FIG. 1 is set in a predetermined direction on a suction table provided on an XY table and arranged on the wafer 1 in a lattice pattern. The electrical characteristics of a large number of elements 2 are measured and inspected one by one by a tester connected to a probe card having a stylus at the same position and arrangement as the electrodes of the elements, and defective elements are marked with ink or the like. The defective element is removed according to this mark in a later step.
In such a probing machine, a conventional method of marking a defective element on a mark is such that each stylus of a probe card comes into contact with each electrode of the element and its electrical characteristics are measured and inspected by a tester connected to the probe card. Immediately after that, the marking pen was inserted from the center of each stylus at that position and a mark was attached.

ところが半導体素子の高集積化、高密度化が進むにつれ
て電極数が多くなり、例えば10mm角の素子内に電極を20
0以上も有するものが作られるようになってくると、上
記したようなマーキング方法は適用することが難しい。
すなわち多数の電極を有する素子の電気的特性を測定す
る場合には、その電極数と同配列の多数の触針を有する
プローブカードを使用して行なわなければならないが、
狭いスペースに多数の触針が密集して設けられているた
め、その中央部からマーキング用ペンを挿入することは
難しくなる。また、たとえその狭いスペースからマーキ
ング用ペンを挿入し得たとしても、マーキング用ペンが
各触針に接触して針触先端位置を狂わせるとか、あるい
は触針にインクが付着する等の面倒なトラブル発生は避
けられない。また、被検査素子として、フォトダイオー
ドアレイのように素子に光を当てた状態でのその特性検
査を行なう必要のある素子の場合には、マーキング用ペ
ンが光が遮えぎるため、素子に光が当たらず測定ができ
ないという欠点があった。
However, as the integration and density of semiconductor devices have increased, the number of electrodes has increased.
When products having 0 or more are produced, it is difficult to apply the marking method as described above.
That is, when measuring the electrical characteristics of an element having a large number of electrodes, it is necessary to use a probe card having a large number of stylus in the same arrangement as the number of electrodes,
Since many stylus are densely provided in a narrow space, it becomes difficult to insert the marking pen from the central portion. Even if the marking pen can be inserted from the narrow space, the marking pen may come into contact with each stylus and displace the tip position of the stylus, or ink may adhere to the stylus. Occurrence is unavoidable. In the case of an element to be inspected, such as a photodiode array, whose characteristics need to be inspected while the element is exposed to light, the marking pen blocks the light so that the element is exposed to light. There was a drawback that it could not be measured because it was not hit.

そこで他のマーキング方法として各素子の測定を行なう
と同時に、その素子の番地〔第1図の(x1、y1)、
(x2、y2)……(xn、yn)〕とその素子が不良素子であ
るか否かを記憶しておいて、ウエハ上の全部の素子の測
定を終えた後にそのウエハを別に設けられたマーキング
専用機によって、記憶に従ってマーキングする方法が考
えられるが、これにはウエハが測定記憶時と絶対に間違
いない順序、方向で、マーキング機に正しく送り込ま
れ、駆動されること、測定開始基準となる素子、例えば
(x1、y1)の位置が絶対に狂わないことが不可欠な条件
となる。別のマーキング方法としてメモリを用いた次の
ようなものがある。
Therefore, as another marking method, each element is measured and at the same time, the address of that element [(x 1 , y 1 in Fig. 1 ,
(X 2 , y 2 ) ... (xn, yn)] and whether or not the device is a defective device are stored, and after the measurement of all devices on the wafer is completed, the wafer is separately provided. There is a method of marking according to the memory by the dedicated marking machine.For this, the wafer is correctly fed and driven in the marking machine in the order and direction that is absolutely confident with the time when the measurement is stored. It is indispensable that the position of the element, for example, (x 1 , y 1 ) does not change. Another marking method using a memory is as follows.

吸着テーブルをX−Y方向に移動して吸着テーブル中
心と固定のプローブカード中心をオペレータが顕微鏡を
見ながら合わせる。合致した位置の吸着テーブルの中心
座標をプローピングマシンが記憶する。
The suction table is moved in the XY directions, and the operator aligns the center of the suction table with the center of the fixed probe card while looking at the microscope. The propping machine stores the center coordinates of the suction table at the matched position.

吸着テーブルにウエハを乗せ、吸着テーブルに載った
ウエハの直径寸法を吸着テーブルを動かしながら測定
し、ウエハ中心位置を吸着テーブルを移動してウエハ外
周の3点計測から求める。これにより吸着テーブル中心
とウエハ中心との距離も求まる。
The wafer is placed on the suction table, the diameter of the wafer placed on the suction table is measured while moving the suction table, and the center position of the wafer is determined by moving the suction table and measuring three points on the outer circumference of the wafer. As a result, the distance between the suction table center and the wafer center is also obtained.

プローブカードと半導体素子の位置を合わせる。プロ
ービングマシンはプローブカード中心と半導体素子中心
が一致したと仮定して、そこを基準に予め分かっている
半導体素子の大きさでウェハを区分して行く。
Align the position of the probe card and the semiconductor element. The probing machine assumes that the center of the probe card coincides with the center of the semiconductor device, and divides the wafer according to the size of the semiconductor device that is known in advance based on that position.

吸着テーブル中心の座標を読むことで、吸着テーブル中
心とプローブカード中心の距離が分り、吸着テーブル中
心とウエハ中心の距離が分かっているので区分が可能で
ある。また、ウエハの直径が分かっているので、ウエハ
周辺の半導体素子の形状もわかる。
By reading the coordinates of the center of the suction table, the distance between the center of the suction table and the center of the probe card is known, and the distance between the center of the suction table and the center of the wafer is known, so that classification is possible. Further, since the diameter of the wafer is known, the shape of the semiconductor element around the wafer can be known.

このようにして、マップ(ウエハ上のチップ配列)が完
成する。但し、オペレータの合わせ誤差や(上記)、
ウエハ寸法の計測誤差(上記)があり、必ずしも正確
なものではない。
In this way, the map (chip arrangement on the wafer) is completed. However, the operator alignment error (above),
There is a wafer size measurement error (above), which is not always accurate.

測定ケーブルとマーキングテーブルとの間でウエハを移
送すると、異なるテーブルでマップを作成しなければな
らない。異なるテーブルでマップを作成すると、上記の
ととの工程で誤差が発生する。この誤差は、10分の
数ミリメートルのオーダーで発生する。従って、半導体
素子寸法が1mm程度以下と小さなものに於いては、テー
ブル間で発生するマップが異なるおそれがある(マップ
ずれ)。メモリを備えたプロービングマシンでは、測定
テーブル上で各素子の測定を行なうと同時に、その素子
の番地〔第1図の(x1、y1)、(x2、y2)……(xn、y
n)〕とその素子が不良素子であるか否かを記憶してお
いて、ウエハ上の全部の素子の測定を終えた後にそのウ
エハを別に設けられたマーキングテーブルによって、記
憶に従ってマーキングするが、マップずれが生じた場
合、不良素子にが正確にマーキングされない欠点があ
る。なお測定の際不良素子が発生したとき、触針を移動
させてマーキングする方式も考えられないことではない
が、非常に厳格に位置決めを要する触針を不良素子発生
の度に移動したとすると、ずれを生ずる危険があること
と、プローブカードの各触針と制御部とはそれぞれ触針
と同じ本数の多数のワイヤで接続されているため、これ
を移動させることは技術的に非常に難しいという欠点が
ある。
When the wafer is transferred between the measurement cable and the marking table, the maps have to be created in different tables. If a map is created in a different table, an error will occur in the process different from the above. This error occurs on the order of a few tenths of a millimeter. Therefore, when the semiconductor element size is as small as about 1 mm or less, the maps generated between the tables may differ (map shift). In a probing machine equipped with a memory, each element is measured on the measurement table, and at the same time, the address of the element [(x 1 , y 1 ), (x 2 , y 2 ) in Fig. 1 (xn, y
n)] and whether or not the element is a defective element, and after the measurement of all the elements on the wafer is completed, the wafer is marked according to the memory by a separately provided marking table. When the map shift occurs, there is a drawback that the defective element cannot be accurately marked. It should be noted that when a defective element occurs during measurement, a method of marking by moving the stylus is not inconceivable, but if the stylus that requires very strict positioning is moved each time a defective element occurs, It is technically very difficult to move because there is a risk of misalignment and that each probe of the probe card and the control unit are connected by as many wires as there are probes. There are drawbacks.

本発明はこれらの点を改善したもので、簡単な機構によ
り確実にマーキングする装置を提供するものである。以
下、本発明の一実施例について説明する。
The present invention improves on these points and provides a device for reliably marking with a simple mechanism. An embodiment of the present invention will be described below.

第2図は本発明のマーキング装置を備えたプロービング
マシンの平面図で、カセット4に多数枚収容されている
測定前のウエハは、1枚ずつ搬送ベルト5に導かれて図
の矢印に沿って搬送されて、プリアライメント装置6に
供給される。プリアライメント装置6においては、カセ
ット4から任意な方向をもって供給されてきたウエハ1
を、図の一点鎖線で示すように一定方向に揃えた状態で
位置決めする。このプリアライメント装置6の機構につ
いては、本願出願人に係る特公昭56−34092号公報「ウ
エハの位置決め装置」に詳細に記載されているので、こ
こではその構造の説明は省略する。
FIG. 2 is a plan view of a probing machine equipped with the marking device of the present invention. A large number of pre-measurement wafers stored in the cassette 4 are guided one by one to the conveyor belt 5 along the arrow in the figure. It is conveyed and supplied to the pre-alignment apparatus 6. In the pre-alignment apparatus 6, the wafer 1 supplied from the cassette 4 in any direction
Are aligned in a certain direction as shown by the chain line in the figure. The mechanism of the pre-alignment device 6 is described in detail in Japanese Patent Publication No. 56-34092 “Wafer Positioning Device” of the applicant of the present application, and therefore the description of the structure is omitted here.

プリアライメント装置6において位置決めされたウエハ
1は、A−B間を移動可能なウエハ吸着装置7によって
A位置において吸着されてB位置へ移動される。B位置
にはウエハ吸着装置7の真下の位置に、X−Yテーブル
8上に上下動および回転可能に設けられた吸着テーブル
9が待機しており、ウエア吸着装置7から解放されたウ
エハ1を吸着テーブル9上に真空吸着するようになって
いる。なお図においては吸着テーブル9を明示するため
に、吸着テーブル9はウエハ吸着装置7の真下にはな
く、Y方向に移動した状態で示されている。
The wafer 1 positioned by the pre-alignment device 6 is sucked at the position A by the wafer suction device 7 which is movable between A and B and moved to the position B. At the position B, a suction table 9 vertically movably and rotatably provided on the XY table 8 stands by at a position directly below the wafer suction device 7, and the wafer 1 released from the wear suction device 7 is held. Vacuum suction is performed on the suction table 9. In the figure, in order to clearly show the suction table 9, the suction table 9 is not directly below the wafer suction device 7, but is shown in a state of being moved in the Y direction.

吸着テーブル9上に吸着固定されたウエハ1は、X−Y
テーブル8によってC位置にまで移動させ、この位置に
おいて光学的な方法による検出結果により、吸着テーブ
ル9をX・Y方向へ微小移動させたり、あるいは微回転
させてウエハ1の精密の位置決めが行なわれる。こうし
て位置決めされたウエハ1は、予め入力されているデー
タを基にX−Yテーブル8によって測定エリアであるD
位置にまで移動され、このD位置において図示しない顕
微鏡により素子の各電極と正確に針合わされたプローブ
カード10の多数の触針11が素子の各電極に接触し、例え
ば第1図の矢印で示すように(x1、y1)、(x2、y2)…
…(xn、yn)の順序で測定検査を行なう。その際、不良
素子がある場合には、制御部の記憶装置によりその素子
の番地例えば(xm、ym)が記憶される。全ての素子の測
定が完了すると、ウエハは吸着テーブル9に吸着固定さ
れた状態で、つまり測定されたときと位置・方向を変え
ることなく同じ状態でマーキング装置12の待機するE位
置に移動され、制御部からの指令によって先に記憶され
ている不良素子がマーキングペンの真下に来る位置で停
止し、吸着テーブル9が上昇するか、あるいはマーキン
グ装置12が下降して、その素子して、その素子表面にマ
ークを付ける。
The wafer 1 sucked and fixed on the suction table 9 is XY.
The table 8 is moved to the C position, and at this position, the suction table 9 is finely moved in the X and Y directions or slightly rotated according to the detection result by the optical method, so that the wafer 1 is precisely positioned. . The wafer 1 thus positioned is a measurement area D by the XY table 8 based on previously input data.
A large number of stylus 11 of the probe card 10 which has been moved to the position and precisely needled with each electrode of the element by the microscope (not shown) comes into contact with each electrode of the element at the D position, as shown by arrows in FIG. 1, for example. Like (x 1 , y 1 ), (x 2 , y 2 ) ...
Perform measurement inspection in the order of (xn, yn). At that time, if there is a defective element, the address of the element, for example, (xm, ym) is stored by the storage device of the control unit. When the measurement of all the elements is completed, the wafer is moved to the E position where the marking device 12 stands by in a state where the wafer is fixed to the suction table 9 by suction, that is, in the same state as when being measured without changing the position and direction. According to a command from the control unit, the defective element stored in advance stops at a position directly below the marking pen, and the suction table 9 rises or the marking device 12 descends, and the element becomes the element. Mark the surface.

マーキング装置12は例えば第3図に示すように、プロー
ビングマシンの基台等に固定されたアーム13の一端にイ
ンク壷14が取り付けられ、その先端にマーキング用ペン
15が保持されているものが使用される。第3図の16に示
す装置はマークセンサ、つまり前記マーキング装置12に
よって不良素子に確実にマークが付された否かを検出す
る検出器で、例えば照射した光の反射光の有無を検出す
ることによってマークが付されたか否かを検出すること
ができる。マークセンサは16に示すようにマーキングペ
ン15に近接して1本設け、マークが付された直後にその
有無を検出するようにしてもよいし、また17、18に示す
ようにマーキングペン14の前後に1個分あるいは複数個
分適宜離して2本設け、マークが付された素子がその下
に送られてきたときに、マークを有無を検出するように
してもよい。この場合マークセンサを前後に2本設けた
理由、は第1図の矢印で示すようにウエハが左から右へ
送られる場合と右から左へ送られる場合があるからであ
る。マークセンサによってもし不良素子にマークが付さ
れていないことが検出された場合には、インク壷14にイ
ンクがなくなったとか、あるいばマーキングペン14と素
子との接触が充分でないとか等の何等かのトラブルが発
生したことが想定されるから、装置の稼動を停止させて
そのトラブルを解除してやることにより、後工程におい
て不良素巣が良品に混入することを事前に防止すること
ができる。
As shown in FIG. 3, for example, the marking device 12 has an ink fountain 14 attached to one end of an arm 13 fixed to a base of a probing machine, and a marking pen at the tip thereof.
The one that holds 15 is used. A device shown at 16 in FIG. 3 is a mark sensor, that is, a detector for detecting whether or not a defective element is surely marked by the marking device 12, for example, for detecting the presence or absence of reflected light of irradiated light. It is possible to detect whether or not the mark is added by. One mark sensor may be provided in the vicinity of the marking pen 15 as shown by 16, and the presence or absence of the mark may be detected immediately after the mark is attached. Two pieces may be provided one by one or a plurality of pieces apart from each other at the front and the rear, and the presence or absence of the mark may be detected when the marked element is sent under the element. In this case, the reason why two mark sensors are provided before and after is that the wafer may be sent from left to right or from right to left as shown by the arrow in FIG. If it is detected by the mark sensor that the defective element is not marked, there is no ink in the ink fountain 14, or, for example, the contact between the marking pen 14 and the element is insufficient. Since it is assumed that such a trouble has occurred, by stopping the operation of the apparatus and canceling the trouble, it is possible to prevent in advance a defective nest from being mixed in a good product in a subsequent process.

こうして全部の不良素子にマークを付されたウエハ1
は、吸着テーブル9に吸着固定された状態でF位置まで
稼動される。F位置にはF−G間を移動可能なウエハ吸
着装置19が待機しており、測定検査を終えたウエハ1を
吸着しG位置まで搬送し、解放する。解放されたウエハ
1は搬送ベルト20によって図の矢印に沿って搬送されウ
エハ収納カセット21に収容されて測定を完了する。
Thus, the wafer 1 in which all defective elements are marked
Is operated to the F position while being fixed to the suction table 9 by suction. At the F position, a wafer suction device 19 that can move between F and G is on standby, and the wafer 1 for which measurement and inspection has been completed is sucked, conveyed to the G position, and released. The released wafer 1 is carried by the carrying belt 20 along the arrow in the figure and is housed in the wafer housing cassette 21 to complete the measurement.

以上説明したように本発明に係るプロービングマシンに
よれば、同一の吸着テーブルが触針による測定検査位置
と、マーキング位置に稼動し、マーキングを行うので、
テーブル間のウエハの合わせ誤差等は問題がなくなり、
吸着テーブルの送り誤差のみがマーキングペン位置ずれ
の原因となる。従って精度の良いマーキング動作が可能
となる。さらに、本発明は通常のプロービングマシンが
本来具備するウエハのX・Y方向の駆動機構等をそのま
ま利用し、わずかな機構部品の追加により従来困難視さ
れてきたミスのないマーキングと、その確認機能の付加
を可能とするもので、信頼性、経済性において極めて大
きい実用上の効果をもたらすものである。
As described above, according to the probing machine of the present invention, the same suction table operates at the measurement inspection position by the stylus and the marking position to perform marking,
There is no problem with wafer alignment error between tables,
Only the feeding error of the suction table causes the displacement of the marking pen position. Therefore, a highly accurate marking operation is possible. Furthermore, the present invention utilizes the wafer's X / Y direction drive mechanism and the like that a normal probing machine originally possesses, and by adding a few mechanical parts, it is possible to make a marking without error and its confirmation function. It is possible to add, and it brings about an extremely great practical effect in reliability and economical efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はウエハの平面図、第2図は本発明の平面図、第
3図は第2図のIII−III線矢視図。 1:ウエハ、2:半導体素子 3:不良素子マーク、8:X−Yテーブル 9:吸着テーブル、10:プローブカード 11:触針、12:マーキング装置 16、17、18:マークセンサ
1 is a plan view of a wafer, FIG. 2 is a plan view of the present invention, and FIG. 3 is a view taken along the line III-III in FIG. 1: Wafer, 2: Semiconductor element 3: Defective element mark, 8: XY table 9: Suction table, 10: Probe card 11: Stylus, 12: Marking device 16, 17, 18: Mark sensor

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ウエハ上に格子状に配列された半導体素子
の電気的特性を半導体素子の各電極と接触する触針を介
して順次測定するプロービングマシンにおいて、 検査されるウエハが複数枚収容された供給カセットと、 供給カセットから搬送手段を介して任意の方向で送られ
たウエハを一定の方向に整列するプリアライメント装置
と、 ウエハをその上で吸着固定しながらX−Y方向に移動す
る吸着テーブルと、 前記吸着テーブル上のウエハを位置決めする位置決め手
段と、 測定検査位置で前記吸着テーブル上のウエハ上の半導体
素子の電極に接触し測定検査を行なう触針と、 予めウエハ上の半導体素子の位置を記憶すると共に、触
針による測定検査により判明した半導体素子の不良素子
の位置を記憶するメモリ手段と、 マーキング位置に設けられ、測定完了後のウエハにメモ
リ手段で記憶した不良素子にマーキングするマーキング
ペンと、 ウエハ上の不良素子のマーキングの有無を検出する検出
機構と、 搬送手段を介して送られたマーキング後のウエハを複数
枚収納する排出カセットと、 から成り、 前記吸着テーブルはプリアライメント装置から搬送手段
を介して送られたウエハを吸着固定して測定検査位置に
移動して測定検査を行なわせ、測定検査後、ウエハをそ
のままの状態で吸着固定しながらマーキング位置に移動
してマーキングを行なわせることを特徴とするプロービ
ングマシン。
1. A probing machine for sequentially measuring the electrical characteristics of semiconductor elements arranged in a grid on a wafer through stylus in contact with each electrode of the semiconductor element, and a plurality of wafers to be inspected are accommodated. A supply cassette, a pre-alignment device for aligning a wafer sent from the supply cassette in an arbitrary direction through a transfer means in a fixed direction, and a suction device for moving the wafer in the XY directions while suction-fixing the wafer thereon. A table; a positioning means for positioning the wafer on the suction table; a stylus for contacting the electrodes of the semiconductor elements on the wafer on the suction table for measurement inspection at the measurement inspection position; A memory means for storing the position and the position of the defective element of the semiconductor element found by the measurement inspection with the stylus, and the marking position. The marking pen that marks the defective elements stored in the memory means on the wafer after the measurement is completed, the detection mechanism that detects the presence or absence of marking of the defective elements on the wafer, and the marking pen A discharge cassette for storing a plurality of wafers, and the suction table suction-fixes the wafer sent from the pre-alignment device through the transfer means and moves it to the measurement inspection position to perform the measurement inspection. After that, the probing machine is characterized in that the wafer is sucked and fixed as it is and moved to the marking position to perform the marking.
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