JPH0665472U - Racking structure for plating - Google Patents
Racking structure for platingInfo
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- JPH0665472U JPH0665472U JP525893U JP525893U JPH0665472U JP H0665472 U JPH0665472 U JP H0665472U JP 525893 U JP525893 U JP 525893U JP 525893 U JP525893 U JP 525893U JP H0665472 U JPH0665472 U JP H0665472U
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラックへのプリント配線板の取り付け位置に
関係なく均一なメッキ厚を得ることのできるメッキ用ラ
ッキング構造を提供すること。
【構成】 被メッキ板2を搭載するラック4と、このラ
ック4にメッキ用電流を供給する電流供給部7とを有す
るメッキ用ラッキング構造において、ラック4を円形と
し、被メッキ板2をラック4の円周方向に沿ってラック
4の中心からの対応位置が複数の被メッキ板4間で等し
くなるよう配列し、中心位置に電流供給部7を配置し
た。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a racking structure for plating that can obtain a uniform plating thickness regardless of the mounting position of a printed wiring board on a rack. In a racking structure for plating having a rack 4 on which a plate 2 to be plated is mounted and a current supply section 7 for supplying a current for plating to the rack 4, the rack 4 is circular and the plate 2 to be plated 2 is a rack 4. The corresponding positions from the center of the rack 4 are arranged along the circumferential direction of the above so as to be equal among the plurality of plated plates 4, and the current supply unit 7 is arranged at the central position.
Description
【0001】[0001]
本考案はメッキ用ラッキング構造用に係り、特にプリント配線板の電解メッキ 工程に用いられるメッキ用ラッキング構造に関する。 The present invention relates to a plating racking structure, and more particularly to a plating racking structure used in an electrolytic plating process of a printed wiring board.
【0002】[0002]
従来のプリント配線板のメッキ工程で使用されるラッキング構造は図2に示す ものが知られている。方形状のメッキ用ラックにはプリント配線板を取り付ける ための複数の開口部が設けられ、この開口部にラック1に取り付けられている固 定用爪3を用いてプリント配線板2を張り付ける構造となっている。このように して複数のプリント配線板2はラック1に取り付けられた状態でメッキ層に挿入 され、ラック1に負の電圧が添加されることによりプリント配線板2の表面に電 解メッキが行われる。 The racking structure used in the conventional plating process of a printed wiring board is shown in FIG. The rectangular plating rack is provided with a plurality of openings for mounting the printed wiring board, and the printed wiring board 2 is attached to the openings using the fixing claws 3 mounted on the rack 1. Has become. In this way, the plurality of printed wiring boards 2 are inserted into the plating layer while being attached to the rack 1, and a negative voltage is applied to the rack 1 to perform electrolytic plating on the surface of the printed wiring board 2. Be seen.
【0003】[0003]
しかし、上述した従来のラッキング構造では、電解メッキが行われている間は メッキ層内でのプリント配線板2の位置は変化しない。従ってメッキ用ラック1 に対向して設けられた正の電圧の印加された電極からの距離がプリント配線板2 毎に異なることになる。また電解メッキ液を循環させた時にプリント配線板2の 取り付けられた位置によりメッキ液の循環に差が生ずる。従って同一のラック内 でのプリント配線板2のメッキ厚に差が生じ、メッキ厚の均一化を図ることが困 難であるという問題点を有していた。 However, in the above-mentioned conventional racking structure, the position of the printed wiring board 2 in the plating layer does not change during the electrolytic plating. Therefore, the distance from the electrode, which is provided facing the plating rack 1 and to which the positive voltage is applied, differs for each printed wiring board 2. Further, when the electrolytic plating solution is circulated, the circulation of the plating solution varies depending on the position where the printed wiring board 2 is attached. Therefore, there is a problem that a difference occurs in the plating thickness of the printed wiring board 2 in the same rack, and it is difficult to make the plating thickness uniform.
【0004】 本考案は上述した問題点を解消するためになされたもので、ラックへのプリン ト配線板の取り付け位置に関係なく均一なメッキ厚を得ることのできるメッキ用 ラッキング構造を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a racking structure for plating that can obtain a uniform plating thickness regardless of the mounting position of the printed wiring board on the rack. With the goal.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】 本考案は被メッキ板を搭載するラックと、このラックにメッキ用電流を供給す る電流供給部とを有するメッキ用ラッキング構造において、前記ラックを円形と し、前記被メッキ板を前記ラックの円周方向に沿って前記ラックの中心からの対 応位置が複数の前記被メッキ板間で等しくなるよう配列し、前記中心位置に前記 電流供給部を配置したものである。According to the present invention, in a plating racking structure having a rack on which a plate to be plated is mounted and a current supply unit for supplying a plating current to the rack, the rack is circular, The plated plates are arranged along the circumferential direction of the rack so that the corresponding positions from the center of the rack are equal among the plated plates, and the current supply unit is arranged at the central position. Is.
【0006】[0006]
本考案ではメッキ用ラックを円形として、その円周方向に沿って被メッキ板を 配置する。そしてこのラックをメッキ層に浸した後、中心位置の回りに回転させ る。従って正電圧供給電極に対して各被メッキ板の相対位置は実質的に均一とな る。また、メッキ液の循環に対しても各被メッキ板は相対的に同一の条件で循環 液を受けることになる。これにより均一のメッキ厚が得られる。 In the present invention, the plating rack is circular, and the plates to be plated are arranged along the circumferential direction. Then, after immersing this rack in the plating layer, it is rotated around the center position. Therefore, the relative position of each plate to be plated with respect to the positive voltage supply electrode is substantially uniform. Further, even when the plating liquid is circulated, each plate to be plated receives the circulation liquid under the relatively same condition. As a result, a uniform plating thickness can be obtained.
【0007】[0007]
図1は本考案の一実施例に係るメッキ用ラッキング構造を示したもので図1 ( a)はその平面図を、図1 (b)は回転機構を示す斜視図である。本考案ではメ ッキ用ラックを回転式ラック4として構成する。 FIG. 1 shows a racking structure for plating according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view thereof, and FIG. 1 (b) is a perspective view showing a rotating mechanism. In the present invention, the rack for the microphone is constructed as the rotary rack 4.
【0008】 回転式ラック4は円形であって円周方向に沿ってプリント配線板2を搭載する ための開口部が設けられ、この開口部に固定用爪3を用いてプリント配線板2を 固定する。従って、中心位置7からの各プリント配線板2の相対位置はそれぞれ 等しくなるように配列される。そしてこの中心位置7に図1 (b)に示すような ラック固定バー6を挿入して回転可能に取りつける。The rotary rack 4 has a circular shape and is provided with an opening along the circumferential direction for mounting the printed wiring board 2, and the printed wiring board 2 is fixed to the opening by using fixing claws 3. To do. Therefore, the relative positions of the printed wiring boards 2 from the center position 7 are arranged so as to be equal to each other. Then, a rack fixing bar 6 as shown in FIG. 1 (b) is inserted into the center position 7 and rotatably attached.
【0009】 ラック固定バー6は図示しないメッキ用電源の陰極に接続されるため回転式ラ ック4にはその中心位置7からメッキ用電圧が供給されることになる。このよう に、回転式ラック4にメッキを施すプリント配線板2を装着した状態でメッキ漕 内に挿入しラック4の周囲に設けたベルト5によりラック4をメッキ漕内で中心 位置7を中心にして回転させる。この際ベルトはメッキ工程中にメッキが付着さ れないような被導電性の材料で作製しておく必要がある。ラック4の回転速度は プリント配線板2へのメッキ厚が均一となるよう所定の速度をあらかじめ実験等 により定めておく必要がある。Since the rack fixing bar 6 is connected to a cathode of a plating power source (not shown), the plating voltage is supplied to the rotary rack 4 from its center position 7. In this way, the rotating rack 4 is inserted into the plating bath with the printed wiring board 2 to be plated attached, and the belt 5 provided around the rack 4 moves the rack 4 around the center position 7 in the plating bath. To rotate. At this time, the belt needs to be made of a conductive material so that the plating does not adhere during the plating process. The rotation speed of the rack 4 must be determined in advance by experiments or the like so that the plating thickness on the printed wiring board 2 will be uniform.
【0010】[0010]
以上実施例に基づいて詳細に説明したように、本考案では電解メッキ工程のラ ッキング構造を、円形の回転式ラックを使用してその周辺部に中心からの位置が 各被メッキ板間で等しくなるように配列し、中心位置から電流供給がなされるよ うな構造としているため、ラックに対向して設けられるメッキ用電極からの位置 によるメッキ厚の差を少なくすることが可能となる。 As described in detail based on the above embodiments, in the present invention, the racking structure of the electroplating process uses a circular rotary rack, and the positions from the center to the periphery of the rack are the same between the plated plates. Since the arrangement is made so that the electric current is supplied from the central position, it is possible to reduce the difference in the plating thickness depending on the position from the plating electrode provided facing the rack.
【0011】 さらにメッキ工程中はラックは360度回転することによりメッキ漕内のメッ キ液の循環性に依存される度合いが少なくなる。このため同一ラック内でのプリ ント配線板等の被メッキ板のメッキ厚を均一化することができる。さらにメッキ 厚のコントロールも容易であるため製造歩止まりの向上にも寄与することができ る。Further, during the plating process, the rack rotates 360 degrees, so that the degree of dependence on the circulation of the plating solution in the plating tank is reduced. For this reason, it is possible to make the plating thickness of the plated board such as the printed wiring board uniform in the same rack. Furthermore, it is easy to control the plating thickness, which can contribute to the improvement of manufacturing yield.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本考案の一実施例に係るメッキ用ラッキング構
造を示す平面図及び斜視図。FIG. 1 is a plan view and a perspective view showing a plating racking structure according to an embodiment of the present invention.
【図2】従来のメッキ用ラッキング構造の一例を示す斜
視図。FIG. 2 is a perspective view showing an example of a conventional plating racking structure.
2 プリント配線板 3 固定用爪 4 回転式ラック 5 ベルト 6 ラック固定バー 2 Printed wiring board 3 Fixing claw 4 Rotating rack 5 Belt 6 Rack fixing bar
Claims (1)
ックにメッキ用電流を供給する電流供給部とを有するメ
ッキ用ラッキング構造において、 前記ラックを円形とし、前記被メッキ板を前記ラックの
円周方向に沿って前記ラックの中心からの対応位置が複
数の前記被メッキ板間で等しくなるよう配列し、前記中
心位置に前記電流供給部を配置した事を特徴とするメッ
キ用ラッキング構造。1. A racking structure for plating having a rack on which a plate to be plated is mounted and a current supply unit for supplying a current for plating to the rack, wherein the rack is circular and the plate to be plated is a circle of the rack. A racking structure for plating, characterized in that corresponding positions from the center of the rack are arranged along the circumferential direction to be equal among the plurality of plates to be plated, and the current supply unit is arranged at the center position.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP525893U JPH0665472U (en) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | Racking structure for plating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP525893U JPH0665472U (en) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | Racking structure for plating |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0665472U true JPH0665472U (en) | 1994-09-16 |
Family
ID=11606209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP525893U Pending JPH0665472U (en) | 1993-02-18 | 1993-02-18 | Racking structure for plating |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0665472U (en) |
-
1993
- 1993-02-18 JP JP525893U patent/JPH0665472U/en active Pending
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