JPH0662729B2 - Photocurable resin composition for resist / ink of flexible printed wiring board - Google Patents

Photocurable resin composition for resist / ink of flexible printed wiring board

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JPH0662729B2
JPH0662729B2 JP58167171A JP16717183A JPH0662729B2 JP H0662729 B2 JPH0662729 B2 JP H0662729B2 JP 58167171 A JP58167171 A JP 58167171A JP 16717183 A JP16717183 A JP 16717183A JP H0662729 B2 JPH0662729 B2 JP H0662729B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0076Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光硬化性樹脂組成物に関し、詳しくは光硬化性
のフレキシブルプリント配線板用レジスト・インキに適
した樹脂組成物に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocurable resin composition, and more particularly to a resin composition suitable for a photocurable resist ink for flexible printed wiring boards.

本発明の目的は、紫外線などの活性光線などにより硬化
し、優れた密着性、耐熱性、耐寒性、電気特性を有し、
且つフレキシブルに優れた光硬化性のフレキシブルプリ
ント配線板用レジスト・インキ組成物を提供することに
ある。
The object of the present invention is to cure by actinic rays such as ultraviolet rays, and has excellent adhesion, heat resistance, cold resistance, and electrical characteristics,
Another object of the present invention is to provide a photocurable resist / ink composition for a flexible printed wiring board which is excellent in flexibility.

近年、省資源、無公害、安全性などの社会的要請に伴
い、いわゆる無溶剤型樹脂である光硬化性樹脂の開発が
活発に進められてきた。しかし、硬化物が可撓性、密着
性、電気特性などの諸特性をバランスよく満足するもの
はない。一般的にいえば、可撓性に優れるものは電気特
性、耐熱性などのいずれかの性能に劣り、逆にこれらの
後者の諸特性に優れるものは可撓性に劣る傾向があり、
これらの諸性能を同時に満足するものは見出されていな
いのが現状である。
In recent years, the development of photocurable resins, which are so-called solventless resins, has been actively promoted in response to social demands such as resource saving, pollution-free and safety. However, none of the cured products satisfy various properties such as flexibility, adhesion, and electrical properties in a well-balanced manner. Generally speaking, those having excellent flexibility tend to be inferior in any performance such as electrical characteristics and heat resistance, and conversely those having these latter various characteristics tend to be inferior in flexibility,
At present, no one has been found that satisfies these various performances at the same time.

光硬化性のフレキシブルプリント配線板用レジスト・イ
ンキに必要とされる代表的性能としては、 (1)基板フィルムが可撓性であるため被覆されるレジス
ト・インキ自体も同様の可撓性が要求される。更に半田
付け等の高熱に接触される工程があるので、この高熱に
接触後も可撓性の低下があってはならない。従来のアル
キッド・メラミン系、エポキシ系などのレジスト・イン
キにはこの可撓性が不足している。
Typical performance required for photocurable resist inks for flexible printed wiring boards is: (1) Since the substrate film is flexible, the resist ink itself to be coated must have the same flexibility. To be done. Further, since there is a step of contacting with high heat such as soldering, flexibility should not be deteriorated even after contact with this high heat. Conventional alkyd / melamine-based and epoxy-based resist inks lack this flexibility.

(2)基板フィルムおよび銅箔への強固な密着性が要求さ
れる。
(2) Strong adhesion to the substrate film and copper foil is required.

(3)半田付け耐熱性と耐溶剤性が要求される。半田付け
時の耐熱性は上記の加熱硬化型のレジスト・インキでは
比較的優れているが、前述したように可撓性が不十分で
ある。
(3) Soldering heat resistance and solvent resistance are required. The heat resistance during soldering is relatively excellent in the above-mentioned heat-curable resist ink, but the flexibility is insufficient as described above.

(4)優れた電気性能が要求される。(4) Excellent electrical performance is required.

この様な性能を有する可撓性プリント配線板用レジスト
・インキとしてはこれまでに若干の提案がなされてき
た。例えば、アリールオキソアルキルアクリレートを主
成分として、これにエチレングリコールジアクリレー
ト、メチレンビスアクリルアミドなどの重合性不飽和結
合を有する不飽和単量体と光重合開始剤とを含有させた
光重合性組成物が提案されているが、この組成物から得
られる硬化物は比較的良好な電気特性や耐溶剤性を有し
ているものの、可撓性が非常に乏しいという重大な欠点
を持ち、また耐熱性や接着性も十分でない。
Some proposals have been made so far as resist inks for flexible printed wiring boards having such performances. For example, a photopolymerizable composition containing an aryloxoalkyl acrylate as a main component, and an unsaturated monomer having a polymerizable unsaturated bond such as ethylene glycol diacrylate and methylenebisacrylamide, and a photopolymerization initiator. However, although the cured product obtained from this composition has relatively good electrical properties and solvent resistance, it has a serious drawback of being extremely poor in flexibility and has a high heat resistance. And the adhesiveness is not enough.

また、特公昭50−4395号公報や特公昭53−10636号公報
にはスルホメチレンアクリレート、リン酸エチレンアク
リレートのような重合性不飽和結合を有するスルホン酸
エステルやリン酸エステルに重合性不飽和結合を2個以
上有する多官能性不飽和単量体もしくは、エポキシ化合
物を含有させた組成物が提案されているが、比較的良好
な可撓性を有する硬化物が得らられるものの耐熱性に著
しい欠陥を有している。
In addition, JP-B-50-4395 and JP-B-53-10636 disclose that a polymerizable unsaturated bond such as sulfomethylene acrylate or ethylene acrylate phosphate having a polymerizable unsaturated bond is added to a polymerizable unsaturated bond. Although a composition containing a polyfunctional unsaturated monomer having two or more epoxy groups or an epoxy compound has been proposed, a cured product having relatively good flexibility can be obtained, but the heat resistance is remarkable. It has a defect.

本発明者等は、このような従来のフレキシブルプリント
配線板用レジスト・インキの欠陥を解決するための鋭意
研究を重ねた結果、光重合性エポキシアクリレート樹脂
と分子内にカルボキシル基を有する光重合性化合物を組
合わせることにより、前記した従来のフレキシブルプリ
ント配線板用レジスト・インキの欠陥が解決されること
を見出し本発明に到達した。すなわち、本発明は、分子
内に2個以上の末端アクリレート基または末端アクリレ
ート基を有する光重合性エポキシアクリレート樹脂(A)
および分子内に1個以上のカルボキシル基を有する光重
合性化合物(B)または該化合物(B)と他の光重合性化合物
(C)との混合物および光開始剤とからなることを特徴と
する光硬化型樹脂組成物である。
The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve such defects of conventional resists and inks for flexible printed wiring boards. As a result, the photopolymerizable epoxy acrylate resin and the photopolymerizable epoxy resin having a carboxyl group in the molecule have been developed. The inventors have found that the defect of the conventional resist / ink for flexible printed wiring board described above can be solved by combining the compounds, and have reached the present invention. That is, the present invention is a photopolymerizable epoxy acrylate resin (A) having two or more terminal acrylate groups or terminal acrylate groups in the molecule.
And a photopolymerizable compound (B) having one or more carboxyl groups in the molecule, or the compound (B) and another photopolymerizable compound
A photocurable resin composition comprising a mixture with (C) and a photoinitiator.

本発明組成物は従来得られなかった優れた可撓性と耐熱
性とを兼ね備えているばかりでなく、良好な電気絶縁特
性、接着性、耐水性などの諸性能を有している。また、
光硬化性樹脂組成物としては保存安定性にも優れている
という別の大きな長所をも有している。
The composition of the present invention not only has excellent flexibility and heat resistance, which have hitherto not been obtained, but also has various properties such as good electric insulation properties, adhesiveness, and water resistance. Also,
The photocurable resin composition also has another great advantage that it is excellent in storage stability.

本発明の分子内に2個以上の末端メタクリレート基また
は末端メタクリレート基(アクリロイルオキシ基および
/またはメタクリロイルオキシ基を総称する。以下同
様)を含有する光重合性エポキシアクリレート樹脂(A)
とは、分子中に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基
および/またはメタクリロイルオキシ基と水酸基が存在
する構造を有する。ポリエポキサイドとアクリル酸また
は/またはメタクリル酸との反応生成物またはグリシジ
ルアクリレートおよび/またはグリシジルメタクリレー
トと多塩基酸または多塩基酸無水物と水との混合物との
反応生成物等が挙げられる。
A photopolymerizable epoxy acrylate resin (A) containing two or more terminal methacrylate groups or terminal methacrylate groups (collectively referred to as acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups; hereinafter the same) in the molecule of the present invention.
Has a structure in which at least two acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups and hydroxyl groups are present in the molecule. Examples thereof include a reaction product of polyepoxide and acrylic acid or / and methacrylic acid or a reaction product of glycidyl acrylate and / or glycidyl methacrylate and a polybasic acid or a mixture of polybasic acid anhydride and water.

ポリエポキサイドとしては、多価アルコール、例えばビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ハロゲン化ビスフ
ェノールA、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール等のポリグリシジルエーテル、多価
カルボン酸、例えばダイマー酸、フタル酸、テトラヒド
ロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、コハク酸、マレイ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等のポリグリシ
ジルエステルがある。
Examples of the polyepoxide include polyhydric alcohols such as bisphenol A, bisphenol F, halogenated bisphenol A, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol,
1,6-hexanediol, trimethylolpropane, polyglycidyl ethers such as pentaerythritol, polyvalent carboxylic acids such as dimer acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, succinic acid, maleic acid, trimellitic acid, There are polyglycidyl esters such as pyromellitic acid.

ポリエポキサイドとアクリル酸又はメタクリル酸とを反
応させる方法としては、例えば60〜150℃で第3級アミ
ン又は第4級アンモニウム塩を触媒として反応させる方
法がある。
As a method of reacting polyepoxide with acrylic acid or methacrylic acid, for example, there is a method of reacting at 60 to 150 ° C. with a tertiary amine or quaternary ammonium salt as a catalyst.

また多塩基酸又はその酸無水物としては、フタル酸、テ
トラヒドロフラン酸、ヘキサヒドロフタル酸、コハク
酸、マレイン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸およ
びその酸無水物が挙げられる。
Examples of the polybasic acid or its acid anhydride include phthalic acid, tetrahydrofuran acid, hexahydrophthalic acid, succinic acid, maleic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid and its acid anhydride.

グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレート
と多塩基酸または多塩基酸無水物と水との混合物とを反
応させる方法としては、例えば、60〜150℃で第3級ア
ミン又は第4級アンモニウム塩を触媒として反応させる
方法がある。
As a method for reacting glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate with a polybasic acid or a mixture of polybasic acid anhydride and water, for example, a tertiary amine or a quaternary ammonium salt is reacted at 60 to 150 ° C. as a catalyst. There is a way.

本発明に用いる光重合性エポキシアクリレート樹脂とし
ては、前記エポキシアクリレート樹脂の分子中に存在す
る水酸基をポリイソシアネート化合物と反応させたウレ
タン変性エポキシアクリレート樹脂であってもよい。
The photopolymerizable epoxy acrylate resin used in the present invention may be a urethane-modified epoxy acrylate resin obtained by reacting a hydroxyl group present in the molecule of the epoxy acrylate resin with a polyisocyanate compound.

本発明の光硬化性樹脂組成物の必須成分である分子内に
1個以上のカルボキシル基を有する光重合性化合物(B)
としては、例えば、(i)アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、フマル酸などの不飽和カルボン
酸系化合物類、(ii)次の一般式(I)で表わされる化合物
がある。
Photopolymerizable compound (B) having one or more carboxyl groups in the molecule, which is an essential component of the photocurable resin composition of the present invention
Examples thereof include (i) unsaturated carboxylic acid compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid and fumaric acid, and (ii) compounds represented by the following general formula (I).

(式中、Rは水素又はメチル基を示し、RおよびR
は各々脂肪族、芳香族、脂環族の残基を示し、Aはエ
ステル結合を表わし、mおよびnは各々1〜3の正の整
数を示す。) 一般式(I)において、Rは炭素原子数2〜10である2
〜4価の炭化水素基またはヒドロキシル基含有炭化水素
基であることが好ましく、Rは炭素原子数2〜10であ
る2〜4価の脂肪族多塩基酸残基、炭素原子数6〜15で
ある2〜4価の芳香族多塩基酸残基又は炭素原子数6〜
10である2〜4価の脂環族多塩基酸残基であることが好
ましい。
(In the formula, R 1 represents hydrogen or a methyl group, and R 2 and R 2
3 represents an aliphatic, aromatic or alicyclic residue, A represents an ester bond, and m and n each represent a positive integer of 1 to 3. ) In the general formula (I), R 2 has 2 to 10 carbon atoms 2
To a tetravalent hydrocarbon group or a hydroxyl group-containing hydrocarbon group, R 3 is a divalent to tetravalent aliphatic polybasic acid residue having 2 to 10 carbon atoms, and 6 to 15 carbon atoms. A divalent to tetravalent aromatic polybasic acid residue or 6 to 6 carbon atoms
It is preferably a divalent to tetravalent alicyclic polybasic acid residue of 10.

一般式(I)で表わされる化合物としては、次のような化
合物がある。
The compounds represented by the general formula (I) include the following compounds.

m=1、n=1の化合物として、例えばコハク酸モノ
(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル(アクリロ
イルオキシエチルエステルおよびメタクリロイルオキシ
エステルを示す。以下同様に略記する。)、フタル酸モ
ノ(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、マレイ
ン酸モノ(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、
テトラハイドロフタル酸モノ(メタ)アクリロイルオキ
シエチルエステル、ヘキサハイドロフタル酸モノ(メ
タ)アクリロイルオキシエチルエステル、エンド−ビシ
クロ(2,2,1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸モノ
(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、テトラハ
イドロフタル酸モノ−2−(メタ)アクリロイルオキシ
−1−(フェノキシメチル)エチルエステル、フタル酸
モノ−2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキ
シプロピルエステル、コハク酸モノ−2−ヒドロキシ−
3−メタクロイルオキシプロピルエステルなどがある。
Examples of the compound in which m = 1 and n = 1 include succinic acid mono (meth) acryloyloxyethyl ester (acryloyloxyethyl ester and methacryloyloxy ester are shown. The same applies hereinafter), phthalic acid mono (meth) acryloyloxy. Ethyl ester, maleic acid mono (meth) acryloyloxyethyl ester,
Tetrahydrophthalic acid mono (meth) acryloyloxyethyl ester, hexahydrophthalic acid mono (meth) acryloyloxyethyl ester, endo-bicyclo (2,2,1) -5-heptene-2,3-dicarboxylic acid mono (meth ) Acryloyloxyethyl ester, tetrahydrophthalic acid mono-2- (meth) acryloyloxy-1- (phenoxymethyl) ethyl ester, phthalic acid mono-2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl ester, succinic acid mono -2-hydroxy-
3-methacryloyloxypropyl ester and the like.

m=1、n=2の化合物として、例えばトリメリット酸
モノ−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル
など。m=1、n=3の化合物として、例えばピロメリ
ット酸モノ−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエ
ステルなど。
Examples of the compound having m = 1 and n = 2 include trimellitic acid mono-2- (meth) acryloyloxyethyl ester. Examples of the compound having m = 1 and n = 3 include pyromellitic acid mono-2- (meth) acryloyloxyethyl ester.

m=2、n=1の化合物として、例えばフタル酸モノ
〔2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシイソプロピ
ル〕エステル、メチルテトラヒドロフタル酸モノ−〔2,
3−ビス(メタ)アクリロイルオキシイソプロピル〕、
テトラハイドロフタル酸モノ−〔2,3−ビス(メタ)ア
クリロイルオキシイソプロピル〕エステル、コハク酸モ
ノ−〔2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシイソプロ
ピル〕エステルなどがある。m=2、n=2の化合物と
して、例えばトリメリット酸モノ−〔4,5−ビス(メ
タ)アクリロイルオキシネオペンチル〕エステル、トリ
メリット酸モノー〔3,4−ビス(メタ)アクリロイルオ
キシイソブチル〕エステルなどがある。
Examples of compounds having m = 2 and n = 1 include phthalic acid mono [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl] ester and methyltetrahydrophthalic acid mono- [2,
3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl],
Examples include tetrahydrophthalic acid mono- [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl] ester and succinic acid mono- [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl] ester. Examples of compounds having m = 2 and n = 2 include trimellitic acid mono- [4,5-bis (meth) acryloyloxyneopentyl] ester and trimellitic acid mono- [3,4-bis (meth) acryloyloxyisobutyl]. There are esters, etc.

m=3、n=2の化合物として、例えばトリメリット酸
モノー〔3,4,5−トリス(メタ)アクリロイルオキシネ
オペンチル〕エステルなどがある。
Examples of the compound having m = 3 and n = 2 include trimellitic acid mono- [3,4,5-tris (meth) acryloyloxyneopentyl] ester.

m=3、n=3の化合物として、例えばピロメリット酸
モノー〔3,4,5−トリス−(メタ)アクリロイルオキシ
ペンチル〕エステルなどがある。
Examples of the compound having m = 3 and n = 3 include mono- [3,4,5-tris- (meth) acryloyloxypentyl] pyromellitic acid ester.

光重合性化合物(B)としては、前述の化合物の中で、特
に(ii)のものが好ましい。これらの分子内にカルボキシ
ル基を有する光重合性化合物(B)は単独にまたは2種以
上併用して、または後記する他の光重合性化合物(C)の
1種または2種以上と併用して使用される。
Of the above-mentioned compounds, the photopolymerizable compound (B) is preferably the compound (ii). These photopolymerizable compounds (B) having a carboxyl group in the molecule are used alone or in combination of two or more, or in combination with one or more kinds of other photopolymerizable compounds (C) described below. used.

本発明で使用する光重合性化合物(B+C)中に占める
分子内に1個以上のカルボキシル基を含有する光重合性
化合物(B)の配合量は10〜100重量%である。
The amount of the photopolymerizable compound (B) having one or more carboxyl groups in the molecule in the photopolymerizable compound (B + C) used in the present invention is 10 to 100% by weight.

本発明で使用する他の光重合性化合物(C)とは、前記光
重合性化合物(B)を除く、分子内に1個以上の光重合性
二重結合を有する光重合可能な化合物である。
The other photopolymerizable compound (C) used in the present invention is a photopolymerizable compound having one or more photopolymerizable double bonds in the molecule, excluding the photopolymerizable compound (B). .

このような分子内に1個の光重合性二重結合を有する光
重合可能な化合物としては、例えば、(i)スチレン、α
−メチルスチレン、クロロスチレンなどのスチレン系化
合物類、(ii)メチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−およびi−プロピル(メタ)ア
クリレート、n−,sec−およびt−ブチル(メタ)ア
クリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メ
タ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート
類、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエ
チル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)ア
クリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレ
ート類、フェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの
アリロキシアルキル(メタ)アクリレート類、ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレート類、ハロゲン置換アルキル(メ
タ)アクリレート類、あるいはポリエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレートなどのポリオキシアルキレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート類のテトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレートなどの複素環含有(メ
タ)アクリレート類、(iii)ビスフェノールAのエチレ
ンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物などのビス
フェノールAのアルキレンオキシド付加物のモノ(メ
タ)アクリレート類、水素化ビスフェノールAのエチレ
ンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物などの水素
化ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物のモノ
(メタ)アクリレート類、(iv)ジイソシアネート化合物
と2個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応
させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さ
らにアルコール性水酸基含有(メタ)アクリレート類を
反応させて得られる分子内の1個の(メタ)アクリロイ
ルオキシ基を有するウレタン変性モノ(メタ)アクリレ
ート類、(v)分子内に1個以上のエポキシ基を有する化
合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得ら
れるエポキシモノ(メタ)アクリレート類、および(vi)
カルボン酸成分としてアクリル酸またはメタクリル酸お
よび多価カルボン酸とアルコール成分として2価以上の
多価アルコールとを反応させて得られるオリゴエステル
モノ(メタ)アクリレート類などがある。
Examples of the photopolymerizable compound having one photopolymerizable double bond in the molecule include (i) styrene and α
-Styrene compounds such as methylstyrene and chlorostyrene, (ii) methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- and i-propyl (meth) acrylate, n-, sec- and t-butyl (meth ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates such as stearyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate, Allyloxyalkyl (meth) acrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate, Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate , Halogen-substituted alkyl (meth) acrylates, or polyoxyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, etc. heterocycles such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate Containing (meth) acrylates, (iii) mono (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A, hydrogen such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A (I) diisocyanate compound and two or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds, which are alkylene oxide adducts of modified bisphenol A Urethane-modified mono (meth) acrylates having one (meth) acryloyloxy group in the molecule obtained by further reacting the terminal isocyanate group-containing compound obtained by the reaction with an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate , (V) Epoxy mono (meth) acrylates obtained by reacting a compound having one or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid, and (vi)
Examples include oligoester mono (meth) acrylates obtained by reacting acrylic acid or methacrylic acid and a polyvalent carboxylic acid as a carboxylic acid component with a divalent or higher polyvalent alcohol as an alcohol component.

また分子内に2個の光重合性二重結合を有する光重合可
能な化合物としては、例えば、(i)エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
トなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート
類、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレートなどのポリオキシア
ルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、ハロゲ
ン置換アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類
などの置換アルキレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト類、(ii)ビスフェノールAのエチレンオキシドおよび
プロピレンオキシド付加物などのビスフェノールAのア
ルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート類、
水素化ビスフェノールAのエチレンオキシドおよびプロ
ピレンオキシド付加物等の水素化ビスフェノールAのア
ルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート類、
(iii)ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコール
性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソ
シアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基
含有(メタ)アクリレート類を反応させて得られる分子
内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン変性ジ(メタ)アクリレート類、(iv)カルボン酸成
分としてアクリル酸またはメタクリル酸および多価カル
ボン酸とアルコール成分として2価以上の多価アルコー
ルとを反応させて得られるオリゴエステルジ(メタ)ア
クリレート類などがある。
Examples of the photopolymerizable compound having two photopolymerizable double bonds in the molecule include (i) ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and 1,4-butanediol. Alkylene glycol di (meth) acrylates such as di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate ) Polyoxyalkylene glycol di (meth) acrylates such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, halogen-substituted alkylene glycol Distearate (meth) acrylates substituted alkylene glycol di (meth) acrylates such as, (ii) di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A,
Di (meth) acrylates of hydrogenated bisphenol A alkylene oxide adducts such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A,
(iii) Two in the molecule obtained by further reacting a terminal isocyanate group-containing compound obtained by previously reacting a diisocyanate compound with two or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds with an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate Of urethane-modified di (meth) acrylates having a (meth) acryloyloxy group, (iv) acrylic acid or methacrylic acid as a carboxylic acid component and a polyvalent carboxylic acid, and a divalent or higher polyhydric alcohol as an alcohol component There are oligoester di (meth) acrylates obtained as a result.

分子内に3個以上の光重合性二重結合を有する光重合可
能な化合物としては、例えば、(i)トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン
トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレートなどの3価以上の脂肪族多価ア
ルコールのポリ(メタ)アクリレート類、3価以上のハ
ロゲン置換脂肪族多価アルコールのポリ(メタ)アクリ
レート類、(ii)ジイソシアネート化合物と3個以上のア
ルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる
末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール
性水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られ
る分子内に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を
有するウレタン変性ポリ(メタ)アクリレート類などが
ある。
Examples of the photopolymerizable compound having three or more photopolymerizable double bonds in the molecule include (i) trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( Poly (meth) acrylates of trivalent or higher valent aliphatic polyhydric alcohol such as (meth) acrylate, poly (meth) acrylates of trivalent or higher valent halogen-substituted aliphatic polyhydric alcohol, (ii) diisocyanate compound and 3 or more Having at least 3 (meth) acryloyloxy groups in the molecule obtained by further reacting the terminal isocyanate group-containing compound obtained by previously reacting the alcoholic hydroxyl group-containing compound of (1) with the alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate Examples include urethane-modified poly (meth) acrylates.

本発明で使用するエポキシアクリレート樹脂(A)と分子
内にカルボキシル基を有する光重合性化合物(B)または
(B)と他の光重合性化合物(C)との混合物の配合比は
(A)/(B+C)は、10/90<(A)/(B+C)<
90/10(重量比)である。エポキシアクリレート樹脂
(A)が10重量%以下の場合はフレキシブルプリント配線
板用レジストインキに要求される前記諸性能の中で半田
付け耐熱性、耐溶剤性および電気特性において十分な性
能が得られず、又、エポキシアクリレート樹脂(A)が90
重量%以上の場合は銅箔への密着性が低下し十分な半田
付け耐熱性が得られない。
Epoxy acrylate resin used in the present invention (A) and a photopolymerizable compound having a carboxyl group in the molecule (B) or
The compounding ratio of the mixture of (B) and the other photopolymerizable compound (C) is (A) / (B + C): 10/90 <(A) / (B + C) <
90/10 (weight ratio). Epoxy acrylate resin
When (A) is 10% by weight or less, sufficient performance in soldering heat resistance, solvent resistance and electrical characteristics cannot be obtained among the various performances required for resist ink for flexible printed wiring boards, and, Epoxy acrylate resin (A) is 90
If the content is more than 10% by weight, the adhesion to the copper foil is reduced and sufficient soldering heat resistance cannot be obtained.

本発明で使用する光開始剤とは、光重合性化合物の光重
合反応を促進する化合物であり、例えば、ベンジルジメ
チルケタールなどのケタール類、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−i−プ
ロピルエーテル、ベンゾイン、α−メチルベンゾインな
どのベンゾイン類、9,10−アントラキノン、1−クロル
アントラキノン、2−クロルアントラキノン、2−エチ
ルアントラキノンなどのアントラキノン類、ベンゾフェ
ノン、P−クロルベンゾフェノン、P−ジメチルアミノ
ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピオフェノン、1−(4−イソプロ
ピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノンなどのプロピオフェノン類、ジベンゾスペロン
などのスペロン類、ジフェニルジスルフィド、テトラメ
チルチウラムジスルフィド、チオキサントンなどの含イ
オウ化合物、メチレンブルー、エオシン、フルオレセイ
ンなどの色素類などがあげられ、これらの光開始剤は単
独にまたは2種以上併用して使用される。
The photoinitiator used in the present invention is a compound that accelerates the photopolymerization reaction of a photopolymerizable compound, and examples thereof include ketals such as benzyl dimethyl ketal, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin-i-propyl ether. Benzoins such as benzoin and α-methylbenzoin, anthraquinones such as 9,10-anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone and 2-ethylanthraquinone, benzophenone, P-chlorobenzophenone and P-dimethylaminobenzophenone Benzophenones, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropiophenone and other propiophenones, dibenzosuperone and other sperones, Phenyl disulfide, tetramethylthiuram disulfide, sulfur-containing compounds such as thioxanthone, methylene blue, eosin, etc. dyes such as fluorescein and the like, these photoinitiators are used in combination alone or two or more.

本発明においてはこの光開始剤の配合量はエポキシ化合
物(A)と光重合性化合物(B+C)との総量に対して0.0
5〜20重量%であり、好ましくは0.5〜10重量%である。
In the present invention, the compounding amount of this photoinitiator is 0.0 with respect to the total amount of the epoxy compound (A) and the photopolymerizable compound (B + C).
It is 5 to 20% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight.

本発明の光硬化性樹脂組成物は以上の必須成分の他に必
要に応じて各種の他の成分を配合、添加することが可能
である。例えば、各種の無機充填剤、揺変剤、レベリン
グ剤、消泡剤、可塑剤、着色剤等である。本発明の光硬
化性樹脂組成物は常法に従い、例えば三本ロール等を用
いて製造され保存安定性の良好な組成物とすることがで
きる。
The photocurable resin composition of the present invention may contain various other components, if necessary, in addition to the above essential components. For example, various inorganic fillers, thixotropic agents, leveling agents, defoamers, plasticizers, coloring agents and the like. The photocurable resin composition of the present invention can be manufactured according to a conventional method, for example, by using a triple roll or the like to give a composition having good storage stability.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、例えば印刷、塗布など
の後、紫外線、電子線などの活性光線を照射して硬化さ
せる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケ
ミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハイラ
イドランプ、キセノンランプなどが使用される。
The photocurable resin composition of the present invention is cured by, for example, printing, coating, or the like, followed by irradiation with an actinic ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. As a light source used for ultraviolet ray irradiation, sun rays, chemical lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, metal high-ride lamps, xenon lamps and the like are used.

本発明組成物より得られる硬化物は、従来の加熱硬化性
樹脂組成物および光硬化性樹脂組成物では得ることので
きなかった優れた可撓性と耐熱性とを兼備しているばか
りでなく、良好な電気絶縁性、接着性、耐水性などの諸
性能を有するものである。
The cured product obtained from the composition of the present invention not only has excellent flexibility and heat resistance, which cannot be obtained by the conventional heat-curable resin composition and photocurable resin composition. It has various properties such as good electric insulation, adhesiveness and water resistance.

本発明の光硬化性樹脂組成物は上記した長所を生かし
て、可撓性プリント配線板のソルダーレジスト、オーバ
ーコート、アンダーコート、絶縁コート等の永久保護膜
として使用することができる。
The photocurable resin composition of the present invention can be used as a permanent protective film for a flexible printed wiring board such as a solder resist, an overcoat, an undercoat, and an insulating coat by taking advantage of the above advantages.

本発明をさらに具体的に説明するために以下に実施例を
あげるが、勿論、本発明はそれらの実施例によって何ら
限定されるものではない。
Examples will be given below to describe the present invention more specifically, but of course the present invention is not limited to these examples.

実施例中、部および%とあるのは各々重量部および重量
%を示す。
In the examples, parts and% mean parts by weight and% by weight, respectively.

実施例および比較例における性能評価は以下の方法に従
った。
Performance evaluations in Examples and Comparative Examples were according to the following methods.

〈接着性〉 硬化膜のゴバン目クロスカット・セロファンテープ剥離
試験(JIS K−5400)に従った。
<Adhesiveness> The cured film was subjected to cross-cut cellophane tape peeling test (JIS K-5400).

〈可撓性〉 180゜の外折り内折り試験によるクラック発生の有無を
判定した。
<Flexibility> The presence or absence of cracks was determined by a 180 ° outer folding and inner folding test.

〈半田耐熱性〉 260±5℃の半田浴に10秒または1分間浸漬後の外観変
化および接着性を評価した。
<Solder Heat Resistance> The appearance change and the adhesiveness after dipping in a solder bath at 260 ± 5 ° C. for 10 seconds or 1 minute were evaluated.

〈耐薬品性〉 15%過硫酸ソーダまたはイソプロパノール浸漬後の外観
変化および接着性を評価した。
<Chemical resistance> The appearance change and the adhesiveness after immersion in 15% sodium persulfate or isopropanol were evaluated.

〈電気特性〉 エッチング法により形成したくし形電極(JIS Z−319
7)を用い、硬化膜の各種試験による絶縁抵抗性(500V
−1分印加)の劣化を測定した。
<Electrical properties> Comb-shaped electrode (JIS Z-319
Insulation resistance (500V
-1 minute application) was measured.

合成例1 温度計、撹拌機還流式冷却管を備えた反応容器にビスフ
ェノールAのジグリシジルエーテル、エピコート828
(「油化シェルエポキシ社製」)380部、アクリル酸152
部およびハイドロキノン0.05部を仕込み、触媒としてト
リメチルベンジルアンモニウムクロリド1.19部を添加
し、120℃でエステル化を行ない、酸価測定により反応
率が95%以上になるまで反応させアクリレート化合物
(I)を得た。
Synthesis Example 1 Diglycidyl ether of bisphenol A and Epicoat 828 were placed in a reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer reflux condenser.
("Okaka Shell Epoxy") 380 parts, acrylic acid 152
Parts and hydroquinone (0.05 parts), trimethylbenzylammonium chloride (1.19 parts) was added as a catalyst, esterification was performed at 120 ° C, and the reaction was continued until the reaction rate reached 95% or more by acid value measurement.
Got (I).

合成例2 合成例1と同じ反応容器にビスフェノールF型エポキシ
樹脂(ビスフェノールFとエピクロルヒドリンから合
成:平均分子量470)470部、アクリル酸152部およびハ
イドロキノン0.05部を仕込み、触媒としてトリメチルベ
ンジルアンモニウムクロリド1.19部を添加し、120℃で
エステル化を行ない、酸価測定により反応率が95%以上
になるまで反応させ、アクリレート化合物(II)を得た。
Synthesis Example 2 The same reaction vessel as in Synthesis Example 1 was charged with 470 parts of bisphenol F type epoxy resin (synthesized from bisphenol F and epichlorohydrin: average molecular weight 470), 152 parts of acrylic acid and 0.05 part of hydroquinone, and 1.19 parts of trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst. Was added, esterification was performed at 120 ° C., and the reaction was allowed to proceed until the reaction rate reached 95% or more by acid value measurement, to obtain an acrylate compound (II).

合成例3、4 合成例1と同じ方法を用い、ダイマー酸のジグリシジル
エステル、エピコート871(「油化シェルエポキシ社
製」)および多価アルコールのポリグリシジルエーテ
ル、アラルダイトCT508(「チバガイギー社製」)とア
クリル酸とを反応させ、それぞれアクリレート化合物(I
II)、アクリレート化合物(IV)を得た。
Synthetic Examples 3 and 4 Using the same method as in Synthetic Example 1, diglycidyl ester of dimer acid, Epikote 871 (“Yukaka Shell Epoxy”) and polyglycidyl ether of polyhydric alcohol, Araldite CT508 (“Ciba Geigy”). ) And acrylic acid to react with each other to form an acrylate compound (I
II) and an acrylate compound (IV) were obtained.

実施例1 合成例1により得たアクリレート化合物(I)100部、コハ
ク酸モノアクリロイルオキシエチルエステル50部、ベン
ジルジメチルケタール5部、微粉末シリカ(「日本アエ
ロジル社製」アエロジル300)1部、顔料としてフタロ
シアニングリーン0.8部およびシリコン系消泡剤0.5部を
三本ロールを用いてよく混練し光硬化性樹脂組成物(a)
とした。
Example 1 100 parts of acrylate compound (I) obtained in Synthesis Example 1, 50 parts of monoacryloyloxyethyl succinate, 5 parts of benzyl dimethyl ketal, 1 part of finely powdered silica (Aerosil 300 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), pigment As a photocurable resin composition (a), 0.8 parts of phthalocyanine green and 0.5 parts of a silicon-based defoaming agent are well kneaded using a three-roll mill.
And

予めエッチング法により回路形成されたフレキシブルプ
リント配線板(カプトン25μm/銅箔35μm、線巾500
μm、線間500μm上に通常のスクリーン印刷法により
上記光硬化性樹脂組成物(a)を、60μの厚みに塗布した
後15cmの距離で80W/cm水冷式超高圧水銀灯を20秒間照
射硬化させた。
Flexible printed wiring board (Kapton 25μm / copper foil 35μm, line width 500
The above photo-curable resin composition (a) is applied to a thickness of 60 μm and a space of 500 μm by a normal screen printing method, and then irradiated with an 80 W / cm water-cooled ultra-high pressure mercury lamp at a distance of 15 cm for 20 seconds to cure. It was

得られたフレキシブルプリント配線板上の硬化膜の性能
を測定し下記の結果を得た。
The performance of the obtained cured film on the flexible printed wiring board was measured and the following results were obtained.

〈接着性〉 全く剥離現象は認められなかった。<Adhesiveness> No peeling phenomenon was observed.

〈可撓性〉 クラックの発生は全く認められなかった。<Flexibility> No cracks were found at all.

〈半田耐熱性〉 ふくれ、剥がれなどの異常は全く認められなかった。<Solder heat resistance> No abnormalities such as blistering or peeling were observed.

〈耐薬品性〉 表1の如く全く異常は認められなかった。<Chemical resistance> No abnormalities were observed as shown in Table 1.

〈電気絶縁性〉 光硬化性樹脂組成物(a)を予めエッチング法により形成
したくし型電極(JIS Z−3197)上にスクリーン印刷
法により塗布(60μm)し、前記照射条件で硬化させ試
験片とした。この試験片を用いた各種試験後の絶縁抵抗
値(500V−1分印加)は表2の通り良好な結果を示し
た。
<Electrical Insulation> A photocurable resin composition (a) is applied (60 μm) by a screen printing method on a comb-shaped electrode (JIS Z-3197) which is previously formed by an etching method, and cured under the irradiation conditions to give a test piece. And Insulation resistance values (500 V-1 minute application) after various tests using this test piece showed good results as shown in Table 2.

比較例1 実施例1のコハク酸モノアクリロイルオキシエチルエス
テルをカルボキシル基を含有しない1,6ヘキサンジオー
ルジアクリレートに代替した以外は実施例1と同様にし
て光硬化性樹脂組成物を調製し、実施例1と同様の方法
で硬化膜を得た。
Comparative Example 1 A photocurable resin composition was prepared and carried out in the same manner as in Example 1 except that the succinic acid monoacryloyloxyethyl ester of Example 1 was replaced with 1,6 hexanediol diacrylate containing no carboxyl group. A cured film was obtained in the same manner as in Example 1.

この硬化膜について実施例1と同様にして各種の試験を
行なったところ、可撓性、電気絶縁性に関しては実施例
1と顕著な相違は見られなかったが、銅箔との接着性が
不良であり、耐薬品性試験では剥がれが生じた。さらに
半田耐熱性試験においては260℃×10秒でふくれ、剥が
れ、半田もぐりの異常が認められた。
Various tests were conducted on this cured film in the same manner as in Example 1. As a result, no remarkable difference in flexibility and electric insulation from Example 1 was observed, but the adhesiveness to the copper foil was poor. Therefore, peeling occurred in the chemical resistance test. Further, in the solder heat resistance test, swelling, peeling, and abnormalities in the solder mist were observed at 260 ° C for 10 seconds.

実施例2〜5 実施例1と同様にして表3に示した配合組成からなる4
種の光硬化性樹脂組成物(b,c,d,e)を調製した。な
お、各組成物には実施例1と同様に光開始剤としてベン
ジルジメチルケタール3部、微粉末シリカ(前出)1
部、フタロシアニングリーン0.5部およびシリコン系消
泡剤0.3部を添加した。
Examples 2 to 5 4 having the blending composition shown in Table 3 in the same manner as in Example 1
A variety of photocurable resin compositions (b, c, d, e) were prepared. In each composition, as in Example 1, 3 parts of benzyl dimethyl ketal as a photoinitiator and 1 part of finely powdered silica (described above) were used.
Parts, 0.5 parts of phthalocyanine green and 0.3 parts of a silicon-based antifoaming agent were added.

上記実施例2〜5の各光硬化性樹脂組成物を用いて実施
例1と同様の方法により硬化膜を得た。
A cured film was obtained in the same manner as in Example 1 using each of the photocurable resin compositions of Examples 2 to 5 above.

各硬化膜について実施例1と同様にして各種の試験を行
なったところ、いずれも表4に示す通り接着性、可撓
性、半田耐熱性、耐薬品性および電気絶縁性に関して良
好な結果を示した。
Various tests were performed on each cured film in the same manner as in Example 1. As shown in Table 4, good results were obtained with respect to adhesion, flexibility, solder heat resistance, chemical resistance, and electrical insulation. It was

実施例6〜9、比較例2〜3 実施例1と同様にして表5に示した配合組成からなる6
種の光硬化性樹脂組成物(f,g,h,i,j,k)を調製した。
なお各組成物には実施例1と同様に光開始剤としてベン
ジルジメチルケタール3部、微粉末シリカ(前出)1
部、フタロシアニングリーン0.5部およびシリコン系消
泡剤0.3部を添加した。
Examples 6 to 9 and Comparative Examples 2 to 3 In the same manner as in Example 1, the compounding composition shown in Table 5 was used 6
A variety of photocurable resin compositions (f, g, h, i, j, k) were prepared.
In each composition, as in Example 1, 3 parts of benzyl dimethyl ketal as a photoinitiator and 1 part of finely powdered silica (supra) were used.
Parts, 0.5 parts of phthalocyanine green and 0.3 parts of a silicon-based antifoaming agent were added.

上記実施例6〜9、比較例2〜3の各光硬化性樹脂組成
物を用いて実施例1と同様の方法により硬化膜を得た。
A cured film was obtained in the same manner as in Example 1 using the photocurable resin compositions of Examples 6 to 9 and Comparative Examples 2 to 3.

各硬化膜について実施例1と同様にして各種の試験を行
なったところ、実施例6〜9については接着性、可撓
性、半田耐熱性、耐薬品性および電気絶縁性に関して、
良好な結果を示した。しかし比較例2については半田付
け耐熱性、耐溶剤性および電気特性において十分な性能
が得られず、比較例3について銅箔に対して十分な密着
性が得られなかった。
Various tests were carried out on each cured film in the same manner as in Example 1, and in Examples 6 to 9, regarding the adhesiveness, flexibility, solder heat resistance, chemical resistance and electrical insulation,
It showed good results. However, in Comparative Example 2, sufficient performance in soldering heat resistance, solvent resistance and electrical characteristics was not obtained, and in Comparative Example 3, sufficient adhesion to the copper foil was not obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】分子内に2個以上の末端アクリレート基ま
たは末端メタクリレート基を有する光重合性エポキシア
クリレート樹脂(A)および分子内に1個以上のカルボキ
シル基を有する光重合性化合物(B)、または該化合物(B)
と他の光重合性化合物(C)との配合比(重量比)(A)/
(B+C)を10/90<(A)/(B+C)<90/10の範囲
にした混合物および光開始剤とからなることを特徴とす
るフレキシブルプリント配線板のレジスト・インキ用光
硬化性樹脂組成物。
1. A photopolymerizable epoxy acrylate resin (A) having two or more terminal acrylate groups or terminal methacrylate groups in the molecule and a photopolymerizable compound (B) having one or more carboxyl groups in the molecule. Or the compound (B)
Of other photopolymerizable compound (C) (weight ratio) (A) /
A photocurable resin composition for a resist / ink of a flexible printed wiring board, which comprises a mixture of (B + C) in the range of 10/90 <(A) / (B + C) <90/10 and a photoinitiator. object.
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