JPH0659094A - 放射性汚染物の除染方法及びその装置 - Google Patents

放射性汚染物の除染方法及びその装置

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JPH0659094A
JPH0659094A JP13724292A JP13724292A JPH0659094A JP H0659094 A JPH0659094 A JP H0659094A JP 13724292 A JP13724292 A JP 13724292A JP 13724292 A JP13724292 A JP 13724292A JP H0659094 A JPH0659094 A JP H0659094A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 放射性汚染物の除染方法及びその装置に係る
もので、除染効率を向上させるとともに、除染作業によ
る二次廃棄物の発生量を抑制する。 【構成】 放射性汚染物を除染処理槽に収容した状態
で、有機溶剤を注入して放射性汚染物と接触させ、放射
性汚染物に付着している放射性物質や塗膜等の軟化及び
剥離を促進し、表面を露出させた状態の放射性汚染物
に、脱錆剤を接触させ金属酸化物を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、放射性汚染物の除染方
法及びその装置に係り、特に、原子力発電関連プラント
で発生する低レベル等の放射性汚染物の除染処理技術に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】原子力発電関連プラントで発生した低レ
ベル放射性廃棄物は、廃棄物の表面に付着した汚染物質
を物理的または化学的に除染する方法、除染作業を実施
することなくドラム缶に詰めた状態で長期間保管する方
法等によって処理される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの処理
方法であると、いずれも種々の課題が残される。物理的
な除染方法、例えばグラインダ研磨やブラスト研磨によ
って表面に付着している汚染物質を除去する方法である
と、除染作業時の労力が多大なものとなり、研磨によっ
て剥離した汚染物質が作業機器等を汚染してしまう等の
難点がある。化学的除染方法であると、作業員の被曝低
減を図ることができるものの、化学的処理廃液等の二次
廃棄物を多量に発生してしまうことや、油脂類や塗装塗
膜が付着している場合にはその部分の除染が困難にな
る。低レベル放射性廃棄物を除染することなくドラム缶
に密封して保管する方法であると、簡単に実施できるも
のの、例えば原子力発電所内等の蓄積量が増加して保管
量に限界があり、かつ、保管場所における作業員の被曝
低減を図る上で好ましくない。
【0004】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
ので、金属表面や塗膜等の薄い部分の除染効率を向上さ
せ、放射性物質の拡散防止や二次廃棄物の増大防止を図
ることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、本発明にあっては、放射性汚染物の除染方法及びそ
の装置を提案している。放射性汚染物の除染方法は、放
射性汚染物にメチレンクロライドを主剤とする有機溶剤
を接触させ放射性汚染物の表面を軟化及び剥離させる有
機溶剤処理工程と、有機溶剤処理後に有機溶剤を回収す
る工程と、有機溶剤処理後の放射性汚染物にNTA系キ
レート剤を主剤とする脱錆剤を接触させ金属酸化物を除
去する脱錆剤処理工程と、脱錆剤処理後の脱錆剤を回収
する脱錆剤回収工程とを有するものである。放射性汚染
物の除染装置にあっては、放射性汚染物を収容する除染
処理槽が配されるとともに、該除染処理槽に、有機溶剤
を注入して放射性汚染物と反応させる溶剤注入手段と、
有機溶剤を回収する溶剤回収手段と、有機溶剤と反応後
の放射性汚染物に脱錆剤を反応させる脱錆剤注入手段
と、脱錆剤を回収する脱錆剤回収手段とが接続状態に配
される構成を採用している。
【0006】
【作用】放射性汚染物を除染処理槽に収容した状態で、
有機溶剤を注入して放射性汚染物と接触させると、有機
溶剤が放射性汚染物の表面に付着している放射性物質や
塗膜等と反応して、汚染物が金属組織から剥離した状態
となる。そして、汚染部分の剥離後に、有機溶剤及び剥
離物質を回収し、有機溶剤にあっては、再利用が図られ
る。有機溶剤と反応後の放射性汚染物は、除染処理槽に
脱錆剤を注入して汚染物の表面との反応を促進させ、し
かる後、脱錆剤及び金属酸化物を回収し、脱錆剤にあっ
ては再利用が図られ、金属酸化物にあっては、回収して
隔離保管される。
【0007】
【実施例】以下、本発明に係る放射性汚染物の除染方法
及びその装置の一実施例を除染工程に沿って説明する。
【0008】図1は、除染装置の一実施例を示すもの
で、符号Aは溶剤除染系、Bは脱錆除染系、1は除染処
理槽、2は溶剤注入手段、3は溶剤回収手段、4は脱錆
剤注入手段、5は溶剤回収手段である。
【0009】前記除染処理槽1には、蓋11を開閉する
ための蓋開閉手段12と、蓋11に取り付けられる処理
物旋回手段13とが配される。蓋開閉手段12は、除染
処理槽1の外側部に取り付けられるアクチュエータ12
aと、該アクチュエータ12aによって駆動させられる
ラックピニオン機構12bと、該ラックピニオン機構1
2bによって上下回動させられかつ蓋11に一体に取り
付けられる開閉アーム12cとを具備するものである。
処理物旋回手段13は、蓋11の上に取り付けられる回
転駆動源13a及び減速機13bと、蓋11の下方に減
速機13bに接続状態にかつ水平旋回可能に取り付けら
れて被処理物(放射性汚染物)を収容したバスケット状
容器を吊持するための旋回アーム13cとを具備するも
のである。なお、図1にあっては、溶剤除染系Aと脱錆
剤除染系Bとに、それぞれ同型の除染処理槽1が配され
ているが、1個で兼用してもよい。
【0010】「被処理物の装填」蓋開閉手段12の作動
によって蓋11を開け、前述したように被処理物を収容
したバスケット状容器を旋回アーム13cに取り付け、
蓋11を閉じて被処理物を密閉する。
【0011】「有機溶剤処理工程」被処理物を除染処理
槽1に収納した状態で、溶剤除染系Aの作動によって、
有機溶剤処理工程における「有機溶剤浸漬」及び「有機
溶剤スプレー洗浄」の各処理が実施される。
【0012】「有機溶剤浸漬」溶剤注入手段2における
移送ポンプ2aの作動によって、図2に太線及び実線の
矢印で示すように、溶剤槽14に貯留されているメチレ
ンクロライドを主剤とする有機溶剤を、配管2b、配管
2c、配管2dを経由して除染処理槽1に送り込んで充
満状態とし、収納されている被処理物に接触させる。有
機溶剤に被処理物を浸漬させた状態とするとともに、処
理物旋回手段13の作動によって、有機溶剤と被処理物
との接触を促進させると、被処理物の表面の塗膜等が軟
化及び剥離した状態となる。そして、溶剤回収手段3に
おける移送ポンプ3aの作動によって、図2に太線及び
破線の矢印で示すように、除染処理槽1の有機溶剤を、
配管3b、配管3cを介して溶剤槽14に回収し、その
途中でスラッジコレクター3dによるスラッジ成分の捕
捉と、フィルター3eによる異物の除去とを行なう。
【0013】「有機溶剤スプレー洗浄」被処理物の浸漬
処理後、除染処理槽1の有機溶剤を回収することにより
被処理物を露出させた状態で、溶剤注入手段2における
高圧ポンプ2eの作動によって、図3に太線及び実線の
矢印で示すように、溶剤槽14に貯留されている有機溶
剤を、配管2f、配管2gを経由して、除染処理槽1に
送り込み、その側部に配される噴射ノズル2h・2i・
2jからスプレー状等に被処理物に噴出する。有機溶剤
を被処理物に噴射することによって、被処理物の表面に
軟化状態で残されている塗膜等を剥離させる。剥離した
異物等は、溶剤回収手段3における移送ポンプ3aの作
動によって、除染処理槽1の下部に溜まった有機溶剤と
ともに、図3に太線及び破線の矢印で示すように、配管
2d・3f・3cを介して溶剤槽14に回収し、その途
中でスラッジコレクター3dによる剥離物やスラッジ等
の捕捉と、フィルター3eによる細粒の異物の除去とが
行なわれる。
【0014】「脱錆剤処理工程」有機溶剤処理後、除染
処理槽1が複数設置されている場合には、図1の鎖線の
矢印で示すように、被処理物を溶剤除染系Aから脱錆除
染系Bに移し替えて、あるいは除染処理槽1が1個であ
る場合には、被処理物を収納したまま、脱錆除染系Bの
作動による「脱錆剤洗浄」及び「脱錆剤精製」が実施さ
れる。
【0015】「脱錆剤洗浄」脱錆剤注入手段4における
移送ポンプ4aの作動によって、図4に太線及び実線の
矢印で示すように、脱錆剤槽16に貯留されているNT
A系キレート剤(ニトリロ三酢酸・ナトリウム塩水溶
液)を主剤とする脱錆剤を、配管4bを経由して除染処
理槽1へ送り込んで充満状態とし、望ましくは超音波洗
浄を付加することにより、被処理物の表面に発生してい
る錆等の鉄イオン、金属酸化物を脱錆、除去する。この
場合にあっても、処理物旋回手段13の作動によって、
除錆剤を被処理物との接触による反応を促進させる。
【0016】また、脱錆剤回収手段5における移送ポン
プ5a・5bの作動によって、図4に太線及び破線の矢
印で示すように、除染処理槽1の上部からオーバーフロ
ーすることによって配管5cから流下する脱錆剤あるい
は除染処理槽1の下部から排出される脱錆剤を、配管5
d・5e・5fを経由して脱錆剤槽16に回収し、その
途中で濾過槽5gによる異物の捕捉と、マイクロフィル
ター5hやその他のフィルター5iによる錆、微粒子等
の除去とを行なって有機溶剤を再生する。
【0017】「リンス処理」有機溶剤処理時に、放射性
物質が挿通した配管等にあっては、精製有機溶剤(前述
のメチレンクロライド)による洗浄が行なわれる。つま
り、高圧ポンプ2eの作動によって、図5に太線及び実
線の矢印で示すように、精製溶剤槽15に貯留されてい
る精製有機溶剤を、配管2k・2f・2gを経由して除
染処理槽1に送り込み、各噴射ノズル2h・2i・2j
からスプレー状に噴出させて、除染処理槽1の内壁を洗
浄する。また、溶剤回収手段3における移送ポンプ3a
の作動によって、図5に太線及び破線の矢印で示すよう
に、洗浄後の溶剤を配管2d、配管3f、スラッジコレ
クター3d、配管3c、フィルター3eを経由して溶剤
槽14に回収する。
【0018】「気化有機溶剤の回収」リンス処理後にお
いて、有機溶剤が挿通した配管等にあっては、内部に残
留している気化状態の有機溶剤及び液体状の有機溶剤の
回収が実施される。溶剤回収手段3における移送ポンプ
3gの作動によって、図6に太線及び矢印で示すよう
に、配管3h・3i・3j・3kを経由してスラッジコ
レクター3d、溶剤槽14、精製溶剤槽15の空間やこ
れらに接続状態の配管等の内部を減圧雰囲気として、有
機溶剤の気化ガスの吸引を行ない、管路の窪部等に残留
溶剤がある場合には、これを気化してその吸引を行なっ
て、これらガス状の溶剤を配管3mの途中の予冷器3n
に送り込んで温度を低下させ、これを気液分離槽3pに
送り込んで気液分離を促進させて、液分を配管3qによ
って溶剤槽14に回収し、ガス分は深冷器3rに送り込
んで液化を促進させて、配管3sにより配管3qに合流
させる。液化できないガス分が混入している場合には、
これを配管3tを経由して活性炭槽3uに送り込んで活
性炭による吸着を促進させ、さらに、活性炭槽3uの下
流に配管3v及び減圧ポンプ3wを接続してガス分の吸
引を行ない、このガス分を配管3xによって配管3h等
の減圧ポンプ3gの下流側に合流させる循環を行なうよ
うにして、各管路内の有機溶剤を溶剤槽14に回収する
ものである。なお、図1及び図6において、符号3yは
冷凍機であり、予冷器3n及び深冷器3rに冷媒を送り
込んで低温雰囲気を形成するために設置される。
【0019】一方、溶剤槽14に貯留される有機溶媒
は、図7に示す溶剤精製手段6によって精製処理され
る。移送ポンプ2aの作動によって、図7に太線及び矢
印で示すように、有機溶剤が配管2b、配管6aを経由
して溶剤精製槽6bに送り込まれ、ヒーター6cの作動
により加熱されて気化ガスとなり、該気化ガスが配管6
dを経由して液化器6eに送られて液状の有機溶媒に戻
され、そして、配管6fを経由して精製溶剤槽15に送
られて貯留されるとともに、この液状の有機溶媒中に水
等の不純物が混入している場合には、水分離器6gで捕
捉分離される結果、精製された有機溶媒のみが精製溶剤
槽15に貯留される。なお、精製溶剤槽15から溶剤槽
14に有機溶媒を移送する場合には、水頭差を利用した
自然流下により行なわれる。
【0020】「検証試験例」図1に示す除染装置による
除染処理の妥当性について検証試験を行なった。除染対
象物(被処理物)は、原子炉圧力容器用スタッドテンシ
ョナ(容器上蓋部締付ボルト着脱用治具)で、約100
0kgを確保し、約20kg以下の大きさに切断したも
のを試験片として使用した。処理除染剤として、有機溶
剤(メチレンクロライドを主剤とする有機溶剤):12
6リットル、脱錆剤(NTA系キレート剤を主剤とする
脱錆剤):80リットル、リンス液(上述の容器溶剤と
同じもの):3400リットルを使用し、正味7日間の
一連の処理を行なったところ、図8に示すように、処理
前の汚染密度103 cpm以上であったレベルが、処理
後において5×10cpm以下の搬出限界値以下まで低
下した。一方、除染処理にともなって、脱錆剤240k
g、フィルター等の雑固体83kgの二次廃棄物が発生
した。これらの二次廃棄物は、セメント固化や雑固体と
して後日処理することが必要であるが、全体として除染
・除却率が84%程度となった。かつ、放射性廃棄物を
ドラム缶に充填して保管処理し、その場合のドラム缶の
空間占有率を考慮した場合、廃棄物がドラム缶4本から
ドラム缶1本に削減できると判断される。なお、使用し
た有機溶剤は、前述したように精製、回収して再使用さ
れるが、その状態のものの核種分析の結果、放射線管理
区域外への搬出が可能な放射線レベルであることが明ら
かとなった。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る放射
性汚染物の除染方法及びその装置は、放射性汚染物を除
染処理槽に収容した状態で、有機溶剤を注入して放射性
汚染物と接触させ、放射性汚染物に付着している放射性
物質や塗膜等の軟化及び剥離を促進し、表面を露出させ
た状態の放射性汚染物に、脱錆剤を接触させ金属酸化物
を除去するものであるから、以下のような効果を奏す
る。 (1) 被処理物の金属表面や塗膜等を拡散させること
なく、高い効率で除染することができる。 (2) 有機溶剤処理及び脱錆剤処理に使用した有機溶
剤及び脱錆剤は、繰り返し再利用されるため、処理系か
ら外部への放射性物質の移動量を低減することができ、
かつ、有機溶剤にあっては、精製状態とすることによっ
て、放射線管理区域外へ搬出可能な程度まで低下させる
ことができる。 (3) 除染処理によって発生するや二次廃棄物の量
を、当初の被処理物量よりも著しく低減し、放射性物質
の管理を容易にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る放射性汚染物の除染装置の一実施
例を示す結線図である。
【図2】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
有機溶剤浸漬処理の一実施例を示すフロー図である。
【図3】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
有機溶剤スプレー洗浄処理の一実施例を示すフロー図で
ある。
【図4】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
脱錆剤洗浄処理の一実施例を示すフロー図である。
【図5】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
リンス処理の一実施例を示すフロー図である。
【図6】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
有機溶剤の回収処理の一実施例を示すフロー図である。
【図7】本発明に係る放射性汚染物の除染方法における
有機溶剤の精製処理の一実施例を示すフロー図である。
【図8】図1の除染装置による廃材の除染処理例の汚染
レベルの推移図である。
【符号の説明】
A 溶剤除染系 B 脱錆除染系 1 除染処理槽 2 溶剤注入手段 3 溶剤回収手段 4 脱錆剤注入手段 5 脱錆剤回収手段 6 溶剤精製手段 11 蓋 12 蓋開閉手段 12a アクチュエータ 12b ラックピニオン機構 12c 開閉アーム 13 処理物旋回手段 13a 回転駆動源 13b 減速機 13c 旋回アーム 14 溶剤槽 15 精製溶剤槽 16 脱錆剤槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三輪 敬一 神奈川県横浜市磯子区新中原町1番地 石 川島播磨重工業株式会社技術研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放射性汚染物にメチレンクロライドを主
    剤とする有機溶剤を接触させ放射性汚染物の表面を軟化
    及び剥離させる有機溶剤処理工程と、有機溶剤処理後に
    有機溶剤を回収する工程と、有機溶剤処理後の放射性汚
    染物にNTA系キレート剤を主剤とする脱錆剤を接触さ
    せ金属酸化物を除去する脱錆剤処理工程と、脱錆剤処理
    後の脱錆剤を回収する脱錆剤回収工程とを有する放射性
    汚染物の除染方法。
  2. 【請求項2】 放射性汚染物を収容する除染処理槽が配
    されるとともに、該除染処理槽に、有機溶剤を注入して
    放射性汚染物と反応させる溶剤注入手段と、有機溶剤を
    回収する溶剤回収手段と、有機溶剤と反応後の放射性汚
    染物に脱錆剤を反応させる脱錆剤注入手段と、脱錆剤を
    回収する脱錆剤回収手段とが接続状態に配されることを
    特徴とする放射性汚染物の除染装置。
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