JPH0656964A - Epoxy resin composition for electronic component, epoxy resin, and production of epoxy resin - Google Patents

Epoxy resin composition for electronic component, epoxy resin, and production of epoxy resin

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JPH0656964A
JPH0656964A JP26147492A JP26147492A JPH0656964A JP H0656964 A JPH0656964 A JP H0656964A JP 26147492 A JP26147492 A JP 26147492A JP 26147492 A JP26147492 A JP 26147492A JP H0656964 A JPH0656964 A JP H0656964A
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JP
Japan
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epoxy resin
bond
group
compound
parts
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JP26147492A
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Japanese (ja)
Inventor
Masashi Miyazawa
賢史 宮澤
Atsushi Osada
淳 長田
Taku Kitamura
卓 北村
Kunio Mori
邦夫 森
Toshiharu Ebara
俊治 江原
Hiroshi Sakata
浩 坂田
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain the epoxy resin composition excellent in reliability of humidity resistance by forming a composition essentially consisting of an epoxy resin, a curing agent and a cure accelerator, wherein the epoxy resin has a specified structure. CONSTITUTION:The resin composition essentially consists of an epoxy resin, a curing agent and a cure accelerator. The epoxy resin has desirably a structure composed of a glycidyloxyarylene bond, an ethylidene bond, an arylene bond and an ethylidene bond bonded to each other in the given order, glycidyloxynaphthylene, bis(glycidyloxy)-naphthylene or glycidyloxyphenylene, more desirably a structure of the formula [wherein G is glycidyl; A is a (lower- alkyl-substituted) benzene ring or naphthalene ring; m is 1 or 2; and n is 0-10].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は 特に耐湿信頼性に優れ
た電子部品を提供する電子部品用エポキシ樹脂組成物に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for electronic parts, which provides electronic parts having particularly excellent moisture resistance reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】トランジスタ、IC、LSIなどの半導
体類あるいはダイオード、表示素子などの電気・電子部
品類は通常セラミックパッケージあるいはプラスチック
パッケージなどで封止され装置化されている。上記のパ
ッケージは、本来電気・電子素子の耐環境特性を向上さ
せることを目的としており、プラスチックパッケージは
安価で量産性に優れるものの、耐熱性・耐透湿性・耐吸
湿性などの特性がセラミックパッケージに比較して劣っ
ており、その改善が強く求められていた。
2. Description of the Related Art Semiconductors such as transistors, ICs and LSIs, and electric / electronic parts such as diodes and display elements are usually sealed in a ceramic package or a plastic package to form a device. The above packages are originally intended to improve the environmental resistance characteristics of electrical and electronic devices. Although plastic packages are inexpensive and have excellent mass productivity, they are ceramic packages with characteristics such as heat resistance, moisture permeation resistance, and moisture absorption resistance. It is inferior to the above, and its improvement has been strongly demanded.

【0003】そのため従来よりプラスチックパッケージ
においては、o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂組
成物が使用されている。
Therefore, conventionally, an o-cresol novolac epoxy resin composition has been used in a plastic package.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記o−クレ
ゾールノボラックエポキシ樹脂は、近年の高密度な電子
部品類を封鎖するプラスチックパッケージ用として充分
な耐湿性が得られない、という欠点があった。
However, the above-mentioned o-cresol novolac epoxy resin has a drawback that sufficient moisture resistance cannot be obtained for a plastic package for sealing high-density electronic parts in recent years.

【0005】本発明が、解決しようとする課題は、耐湿
性に著しく優れたエポキシ樹脂、およびそれを用いた電
子部品用エポキシ樹脂組成物を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to provide an epoxy resin having extremely excellent moisture resistance, and an epoxy resin composition for electronic parts using the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の課題
を解決すべく鋭意検討した結果、グリシジルオキシアリ
ーレン結合と、エチリデン結合と、アリーレン結合と、
エチリデン結合とが、この順に結合した構造を有するエ
ポキシ化合物を必須成分として含むエポキシ樹脂を電子
部品用途に用いた場合にその硬化物の耐湿性が著しく改
善され、例えばパッケージ成形物のクラックの発生率の
低下に代表される耐熱衝撃性が改良されることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a glycidyloxyarylene bond, an ethylidene bond, an arylene bond,
When the ethylidene bond and the epoxy resin having an epoxy compound having a structure bonded in this order as an essential component are used for electronic part applications, the moisture resistance of the cured product is remarkably improved, and, for example, the crack occurrence rate of the package molded product. It was found that the thermal shock resistance represented by the decrease of the above was improved, and the present invention was completed.

【0007】即ち、本発明はエポキシ樹脂、硬化剤及び
硬化促進剤を必須成分とする電子部品用エポキシ樹脂組
成物において、エポキシ樹脂が、グリシジルオキシアリ
ーレン結合と、エチリデン結合と、アリーレン結合とエ
チリデン結合とが、この順に結合した構造を有すること
を特徴とする電子部品用エポキシ樹脂組成物、下記構造
式(1)で表わされるエポキシ樹脂 構造式(1)
That is, according to the present invention, in an epoxy resin composition for electronic parts, which comprises an epoxy resin, a curing agent and a curing accelerator as essential components, the epoxy resin comprises a glycidyloxyarylene bond, an ethylidene bond, an arylene bond and an ethylidene bond. And an epoxy resin composition for electronic parts, which has a structure bonded in this order, and an epoxy resin structural formula (1) represented by the following structural formula (1)

【0008】[0008]

【化2】 [Chemical 2]

【0009】(式中、Gはグリシジル基、Aはベンゼン
環、低級アルキル基で置換されたベンゼン環またはナフ
タレン環を表わし、mは1または2、nは0〜10の整
数を夫々示す。)および、フェノール性水酸基を含有す
る芳香族炭化水素と、ビニル基を少なくとも2個有する
芳香族化合物とを反応させ、次いで得られたポリオール
化合物とエピハロヒドリンとを反応させることを特徴と
するエポキシ樹脂の製造方法に関する。
(In the formula, G represents a glycidyl group, A represents a benzene ring, a benzene ring substituted with a lower alkyl group or a naphthalene ring, m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 to 10.) And a method for producing an epoxy resin, which comprises reacting an aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group with an aromatic compound having at least two vinyl groups, and then reacting the obtained polyol compound with epihalohydrin Regarding the method.

【0010】本発明の電子部品用エポキシ樹脂組成物で
用いるエポキシ樹脂は、グリシジルオキシアリーレン結
合と、エチリデン結合と、アリーレン結合とエチリデン
結合とが、この順に結合したエポキシ化合物を必須成分
として含むものである。
The epoxy resin used in the epoxy resin composition for electronic parts of the present invention contains, as an essential component, an epoxy compound in which a glycidyloxyarylene bond, an ethylidene bond, an arylene bond and an ethylidene bond are bonded in this order.

【0011】グリシジルオキシアリーレン結合として
は、特に限定されるものではないが、グリシジルオキシ
フェニレン、グリシジルオキシナフチレン、ビス(グリ
シジルオキシ)ナフチレン等が好ましく挙げられるが、
中でも硬化物の耐熱特性および耐湿性を一層向上できる
点からグリシジルオキシナフチレン、ビス(グリシジル
オキシ)ナフチレンが好ましい。
The glycidyloxyarylene bond is not particularly limited, but glycidyloxyphenylene, glycidyloxynaphthylene, bis (glycidyloxy) naphthylene and the like are preferably mentioned.
Of these, glycidyloxynaphthylene and bis (glycidyloxy) naphthylene are preferable from the viewpoint of further improving the heat resistance and moisture resistance of the cured product.

【0012】また、このグリシジルオキシアリーレン結
合に替えて、グリシジルオキシフェニレン、グリシジル
オキシナフチレン、ビス(グリシジルオキシ)ナフチレ
ンがメチレン基或いは2,2−プロピレン基を結節基と
して連結して二量体化しているものを用いてもよい。
Further, instead of the glycidyloxyarylene bond, glycidyloxyphenylene, glycidyloxynaphthylene, and bis (glycidyloxy) naphthylene are linked as a methylene group or a 2,2-propylene group to form a dimer. You may use the thing.

【0013】一方、アリーレン結合としては特に限定さ
れるものではないが、フェニレン、ナフチレン等が挙げ
られるが、中でも硬化物の耐湿性に優れる点からフェニ
レンが好ましい。
On the other hand, the arylene bond is not particularly limited, and examples thereof include phenylene and naphthylene. Among them, phenylene is preferable from the viewpoint of excellent moisture resistance of the cured product.

【0014】この様なエポキシ樹脂として具体的には、
例えば次の構造式(1)で表わされる本発明のエポキシ
樹脂が好ましく挙げられる。 構造式(1)
Specifically as such an epoxy resin,
For example, the epoxy resin of the present invention represented by the following structural formula (1) is preferable. Structural formula (1)

【0015】[0015]

【化3】 [Chemical 3]

【0016】(式中、Gはグリシジル基、Aはベンゼン
環、低級アルキル基で置換されたベンゼン環またはナフ
タレン環を表わし、mは1または2、nは0〜6の整数
を夫々示す。)ここでnは合成された樹脂中の平均数を
しめすものであり、通常0〜10、好ましくは0〜6の
整数である。
(In the formula, G represents a glycidyl group, A represents a benzene ring, a benzene ring substituted with a lower alkyl group or a naphthalene ring, m represents 1 or 2 and n represents an integer of 0 to 6, respectively.) Here, n represents the average number in the synthesized resin, and is usually an integer of 0 to 10, preferably 0 to 6.

【0017】上記構造式で表わされるエポキシ樹脂は、
グリシジル基が結合しているアリーレン骨格上に単官能
のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物に由来する
フリーデルクラフツ反応によって生じたアラルキル基が
置換されていてもよい。
The epoxy resin represented by the above structural formula is
The aralkyl group generated by the Friedel-Crafts reaction derived from a compound having a monofunctional ethylenically unsaturated double bond on the arylene skeleton to which a glycidyl group is bonded may be substituted.

【0018】また、上述したエポキシ樹脂は、通常、重
量平均分子量430〜20000、エポキシ当量150
〜400であるが、好ましくは耐熱性に優れる点から重
量平均分子量430〜10000であることが好まし
い。
The above-mentioned epoxy resin usually has a weight average molecular weight of 430 to 20,000 and an epoxy equivalent of 150.
However, the weight average molecular weight is preferably 430 to 10,000 from the viewpoint of excellent heat resistance.

【0019】このようなエポキシ樹脂は、その骨格をな
す分子構造の特性から耐熱性と耐湿性においてとくに優
れたバランスを示すものである。即ち、エポキシ樹脂が
炭化水素鎖部分とナフトール(ジヒドロキシナフタレ
ン)部分が交互に並んだ構造をとることにより、従来の
優れた耐熱性を維持した上で 炭化水素部分の効果から
その耐湿性が著しく向上するものである。
Such an epoxy resin exhibits a particularly excellent balance in heat resistance and humidity resistance due to the characteristics of the molecular structure forming its skeleton. In other words, the epoxy resin has a structure in which hydrocarbon chain parts and naphthol (dihydroxynaphthalene) parts are alternately arranged, so that while maintaining the excellent heat resistance of the past, the effect of the hydrocarbon part significantly improves its moisture resistance. To do.

【0020】上述したエポキシ樹脂は、その製造方法が
特に限定されるものではないが、例えば下記に詳述する
本発明の製造方法を好ましい。即ち、本発明のエポキシ
樹脂の製造方法は、フェノール性水酸基を含有する芳香
族炭化水素と、ビニル基を少なくとも2個有する芳香族
化合物とを反応させ、次いで得られたポリオール化合物
とエピハロヒドリンとを反応させて、グリシジルエーテ
ル基を形成し、目的とするエポキシ樹脂が得られるもの
である。
The production method of the above-mentioned epoxy resin is not particularly limited, but for example, the production method of the present invention described in detail below is preferable. That is, the method for producing an epoxy resin of the present invention comprises reacting an aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group with an aromatic compound having at least two vinyl groups, and then reacting the obtained polyol compound with epihalohydrin. Then, a glycidyl ether group is formed to obtain the desired epoxy resin.

【0021】フェノール性水酸基を含有する芳香族炭化
水素としては、特にその構造が限定されるものではない
が、フェノール、クレゾール、ナフトール及びジヒドロ
キシナフトールが硬化物の耐湿性向上効果に優れる点か
ら好ましい。これらを更に具体的に例示すれば、フェノ
ール、oまたはp−クレゾール、p−ターシャリーブチ
ルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,
6−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナ
フタレン、2、6ージヒドロキシナフタレン、2,7−
ジヒドロキシナフタレンが挙げられる。これらはそれぞ
れ単独で用いても良いし、また2種類以上を併用しても
よい。
The structure of the aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group is not particularly limited, but phenol, cresol, naphthol and dihydroxynaphthol are preferable because they are excellent in improving the moisture resistance of the cured product. Specific examples of these are phenol, o or p-cresol, p-tertiarybutylphenol, α-naphthol, β-naphthol, 1,
6-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-
Dihydroxynaphthalene may be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0022】また、これらの他にビスフェノールA、ビ
スフェノールF、ビス(ヒドロキシナフチル)メタン、
ビス(ヒドロキシナフチル)プロパン、ビス(ジヒドロ
キシナフチル)メタン、ビス(ジヒドロキシナフチル)
プロパン等を用いてもよい。
In addition to these, bisphenol A, bisphenol F, bis (hydroxynaphthyl) methane,
Bis (hydroxynaphthyl) propane, bis (dihydroxynaphthyl) methane, bis (dihydroxynaphthyl)
You may use propane etc.

【0023】ビニル基を少なくとも2個有する芳香族化
合物としては、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレ
ン、ジビニルビフェニル等が挙げられる。これらはそれ
ぞれ単独で用いても良いし、また2種類以上を併用して
もよい。
Examples of the aromatic compound having at least two vinyl groups include divinylbenzene, divinylnaphthalene and divinylbiphenyl. These may be used alone or in combination of two or more.

【0024】次に、上記のエポキシ化合物の製造方法を
更に詳述すると、本発明のエポキシ樹脂の製造方法はフ
ェノール性水酸基を含有する芳香族炭化水素及びビニル
基を少なくとも2個有する芳香族化合物の二成分を、酸
触媒の存在下でフリーデルクラフツ型反応によって交互
重合させてノボラック系樹脂(以下、ポリオール化合物
という)を得る第1工程と、このポリオール化合物にエ
ピハロヒドリンをNaOH、KOH等の塩基性化合物の
存在下付加反応を行った後、脱塩反応を行なってグリシ
ジルエーテル基を生成させ、目的とするエポキシ樹脂を
得る第2工程から成り立っている。
Next, the method for producing the above-mentioned epoxy compound will be described in more detail. The method for producing an epoxy resin of the present invention relates to an aromatic hydrocarbon having a phenolic hydroxyl group and an aromatic compound having at least two vinyl groups. The first step of alternating polymerization of the two components by Friedel-Crafts type reaction in the presence of an acid catalyst to obtain a novolac resin (hereinafter referred to as a polyol compound), and epihalohydrin is added to this polyol compound as a basic compound such as NaOH or KOH. After the addition reaction is carried out in the presence of the compound, a desalting reaction is carried out to generate a glycidyl ether group, and the second step of obtaining the target epoxy resin is constituted.

【0025】第1工程では、ビニル基を少なくとも2個
有する芳香族化合物はフェノール性水酸基を含有する芳
香族化合物1モルに対して通常0.3〜1.0モルであ
ることが耐熱性に優れる適切な分子量に調製できる点か
ら好ましく、中でも0.5〜0.9モルであることが好
ましい。尚、この使用割合は原料の種類あるいはその純
度によっても、その最適値は異なってくる。
In the first step, it is excellent in heat resistance that the aromatic compound having at least two vinyl groups is usually 0.3 to 1.0 mol per mol of the aromatic compound containing a phenolic hydroxyl group. It is preferable from the viewpoint that the molecular weight can be adjusted to an appropriate molecular weight, and it is particularly preferably 0.5 to 0.9 mol. The optimum value of this usage rate varies depending on the type of raw material or its purity.

【0026】第1工程で使用する反応触媒としては、塩
化アルミニウム、塩化第二錫のごとき金属塩化物や、硫
酸、塩酸、燐酸などの鉱酸類、ベンゼンスルホン酸、パ
ラトルエンスルホン酸等のスルホン酸類、酢酸、シュウ
酸、マレイン酸、のごとき有機カルボン酸等が使用され
る。好ましくは、フリーデルクラフツ触媒である金属塩
化物や、鉱酸類、有機スルホン酸類を使用するものであ
り、これによって短時間で反応を終了させるとともに、
分子量分布の狭い樹脂を得ることが容易になる。触媒の
使用量は反応系によっても異なるが一般的には(a)成
分に対して0.1重量%以上5.0重量%以下が好まし
い。
The reaction catalyst used in the first step includes metal chlorides such as aluminum chloride and stannic chloride, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid, and sulfonic acids such as benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Organic carboxylic acids such as acetic acid, acetic acid, oxalic acid and maleic acid are used. Preferably, a metal chloride that is a Friedel-Crafts catalyst, a mineral acid, or one that uses an organic sulfonic acid, whereby the reaction is completed in a short time,
It becomes easy to obtain a resin having a narrow molecular weight distribution. The amount of the catalyst used varies depending on the reaction system, but is generally preferably 0.1% by weight or more and 5.0% by weight or less with respect to the component (a).

【0027】ポリオール化合物の製造時の反応温度は特
に限定されないが110℃以上が望ましく必要に応じて
反応に不活性な溶媒を使用することも可能である。ここ
で生成したポリオール化合物は一度単離したのちに、続
く第2工程であるエポキシ化の工程に導いてもよいが、
反応器中で中和、水洗等で第1工程の触媒を失活させた
のちに単離取得することなしにエポキシ化を行なうこと
も可能である。
The reaction temperature during the production of the polyol compound is not particularly limited, but is preferably 110 ° C. or higher, and a solvent inert to the reaction can be used if necessary. The polyol compound produced here may be isolated once and then led to the subsequent step of epoxidation, which is the second step.
It is also possible to deactivate the catalyst of the first step by neutralization, washing with water, etc. in the reactor and then carry out the epoxidation without isolation and acquisition.

【0028】ポリオール化合物とエピハロヒドリンとの
反応によってエポキシ樹脂を製造する第2工程は公知慣
用のノボラック型エポキシ樹脂の場合と同様の方法によ
っておこなうことができる。
The second step of producing an epoxy resin by reacting a polyol compound with epihalohydrin can be carried out by the same method as in the case of a known and conventional novolac type epoxy resin.

【0029】即ち、ポリオール化合物のフェノール性水
酸基に対して当量以上のエピハロヒドリンを当量以上の
NaOH、KOHなどの存在下で反応させ、その後樹脂
中に含有される無機塩あるいは触媒残査等を水洗などの
方法で除去する方法が挙げられる。
That is, an equivalent amount or more of epihalohydrin with respect to the phenolic hydroxyl group of the polyol compound is reacted in the presence of an equivalent amount or more of NaOH, KOH or the like, and then the inorganic salt or catalyst residue contained in the resin is washed with water or the like. The method of removing by a method is mentioned.

【0030】本発明で用いるエピハロヒドリンとして
は、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、
β−メチルエピクロルヒドリン等が挙げられるが、中で
もエピクロルヒドリンが好ましい。
Examples of the epihalohydrin used in the present invention include epichlorohydrin, epibromohydrin,
β-methylepichlorohydrin and the like can be mentioned, with epichlorohydrin being preferred.

【0031】本発明のエポキシ樹脂は、優れた耐湿性に
特徴を有する。例えば、上記構造式(1)のものを、当
量のフェノールノボラック樹脂を硬化剤として使用した
場合には、85℃・85%R.H.の条件で300時間
の経過後、吸水率は軟化点を同じくする対応するo−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂に比較して約48%
にすぎず、また硬化物中の貯蔵弾性率はガラス転移点を
越える領域(220℃)では20%にすぎない。
The epoxy resin of the present invention is characterized by excellent moisture resistance. For example, in the case of using the above-mentioned structural formula (1) with an equivalent amount of a phenol novolac resin as a curing agent, 85 ° C. and 85% R.V. H. After the lapse of 300 hours under the conditions of No. 1, the water absorption rate is about 48% as compared with the corresponding o-cresol novolac type epoxy resin having the same softening point.
Further, the storage elastic modulus in the cured product is only 20% in the region exceeding the glass transition point (220 ° C.).

【0032】このことは、明らかに本発明で開示するエ
ポキシ樹脂組成物が電子部品封止用として適しているこ
と、さらに具体的には硬化成形物においても吸水率が低
く、熱衝撃を加えた場合にもクラックの発生が抑制され
ることが期待されることを示している。
This clearly indicates that the epoxy resin composition disclosed in the present invention is suitable for encapsulation of electronic parts, and more specifically, a cured molded article has a low water absorption rate and is subjected to thermal shock. In this case, it is expected that the generation of cracks is expected to be suppressed.

【0033】本発明の電子部品用エポキシ樹脂組成物
は、上述したエポキシ樹脂と硬化剤と硬化促進剤とを必
須成分として含有するものであるが、硬化剤としては特
に限定されるものではなく、例えばフェノールノボラッ
ク樹脂、アミン類、酸無水物類、その他潜在性硬化剤な
どのエポキシ樹脂の硬化剤として用いられているものな
らばいずれも使用することができる。
The epoxy resin composition for electronic parts of the present invention contains the above-mentioned epoxy resin, curing agent and curing accelerator as essential components, but the curing agent is not particularly limited. For example, any of those used as a curing agent for epoxy resins such as phenol novolac resins, amines, acid anhydrides and other latent curing agents can be used.

【0034】エポキシ樹脂と硬化剤の配合比は、エポキ
シ樹脂中のエポキシ基1当量あたり硬化剤が0.5〜2.0当
量となるように配合することが好適であり0.8〜1.2当量
がより好適である。
The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably such that the curing agent is 0.5 to 2.0 equivalents per equivalent of epoxy groups in the epoxy resin, more preferably 0.8 to 1.2 equivalents.

【0035】また、本発明で用いる硬化促進剤は上記エ
ポキシ樹脂と硬化剤の反応を助けるためのものであり、
例えば2,4,6−トリス(ジメチルアミノ)フェノー
ル、ベンジルジメチルアミンなどの第三級アミン類、2
−メチル−4−メチルイミダゾール類が挙げられる。
The curing accelerator used in the present invention is to assist the reaction between the epoxy resin and the curing agent,
For example, tertiary amines such as 2,4,6-tris (dimethylamino) phenol and benzyldimethylamine, 2
-Methyl-4-methylimidazoles may be mentioned.

【0036】本発明の電子部品用エポキシ樹脂組成物に
おいて用いるエポキシ樹脂は上述したエポキシ樹脂を単
独で使用してもよいが、更に他のエポキシ樹脂を配合し
てもよい。
As the epoxy resin used in the epoxy resin composition for electronic parts of the present invention, the above-mentioned epoxy resins may be used alone, but further other epoxy resins may be blended.

【0037】他のエポキシ樹脂としては、汎用のBPA
型エポキシ樹脂、BPF型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂などのエポキシ樹脂類を例示することができ
る。
Other epoxy resins include general-purpose BPA.
Examples thereof include epoxy resins such as type epoxy resin, BPF type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type epoxy resin.

【0038】この場合、グリシジルオキシナフチレン結
合と、エチリデン結合と、アリーレン結合と、エチリデ
ン結合とが、この順に結合した単位構造を有するエポキ
シ樹脂との配合割合は、混合量に応じてその特性を示す
ため、必要とされる吸水率と他の特性のバランスの許す
範囲内でその混合率を選択すれば良い。
In this case, the mixing ratio of the epoxy resin having the unit structure in which the glycidyloxynaphthylene bond, the ethylidene bond, the arylene bond, and the ethylidene bond are bonded in this order is determined by the characteristics depending on the mixing amount. In order to show, the mixing ratio may be selected within the range where the balance between the required water absorption rate and other characteristics is allowed.

【0039】また、一般に上記の必須成分とともに無機
物質が充填剤として用いられ、例えば結晶性シリカ、溶
融シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、ガラスなどが挙
げられる。このような無機物質充填剤はエポキシ樹脂組
成物全体の0〜90%の範囲で設定することが好適であ
る。さらにこのエポキシ樹脂組成物の成形性を助けるこ
とを目的として表面処理剤、顔料、難燃剤、潤滑剤など
の添加剤類が併用されても良い。
In addition, an inorganic substance is generally used as a filler together with the above-mentioned essential components, and examples thereof include crystalline silica, fused silica, alumina, calcium carbonate, glass and the like. It is preferable to set such an inorganic substance filler in the range of 0 to 90% of the whole epoxy resin composition. Further, additives such as a surface treatment agent, a pigment, a flame retardant, and a lubricant may be used in combination for the purpose of assisting the moldability of the epoxy resin composition.

【0040】電子部品用エポキシ樹脂組成物を製造する
方法としては、例えば、エポキシ樹脂と硬化剤とその他
必要に応じて添加剤、充填剤を所定量配合し、例えばミ
キサーによって充分に混合した後、溶融あるいはニーダ
ーなどによる混合処理を行い、必要ならば打錠などの成
形工程をへて目的とする電子部品用エポキシ樹脂組成物
を得ることができる。
As a method for producing an epoxy resin composition for electronic parts, for example, a predetermined amount of an epoxy resin, a curing agent, and other additives and fillers if necessary, are mixed, and, for example, after sufficiently mixed by a mixer, The desired epoxy resin composition for electronic parts can be obtained by performing a mixing process such as melting or kneading, and if necessary, a molding process such as tableting.

【0041】このようなエポキシ樹脂組成物を用いて電
気・電子用部品の封止を行う際はその方法は特に限定さ
れるものでなく通常の方法例えばトランスファー成形、
射出成形などの公知の方法により実施することができ
る。
The method for encapsulating electric / electronic parts using such an epoxy resin composition is not particularly limited, and a usual method such as transfer molding,
It can be carried out by a known method such as injection molding.

【0042】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0043】[0043]

【実施例】【Example】

製造例1 [第1工程]攪拌機、温度計、冷却管を装着した反応容
器中で、フェノール940部、塩化アルミニウム5部を
添加した後、90℃で30分間反応させた。次いで80
%p−ジビニルベンゼン976部を2時間かけて滴下
し、その後3時間、140℃で保持した後溶融状態のま
ま反応器より内容物を取り出しフェノール性水酸基当量
212g/eqのポリオール化合物(A)を得た。
Production Example 1 [First Step] 940 parts of phenol and 5 parts of aluminum chloride were added in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling tube, and then reacted at 90 ° C. for 30 minutes. Then 80
% P-divinylbenzene (976 parts) was added dropwise over 2 hours, and then held at 140 ° C. for 3 hours, then the contents were taken out from the reactor in a molten state and a phenolic hydroxyl group equivalent (212 g / eq) of the polyol compound (A) was obtained. Obtained.

【0044】[第2工程]攪拌機、温度計、滴下ロー
ト、冷却管を装着した反応容器中で、ポリオール化合物
(A)100部をエピクロルヒドリン220部中に溶解
した後、攪拌しながら80℃で20%水酸化ナトリウム
水溶液1000部を5時間かけて滴下し、更に1時間反
応を継続した後、分液操作によって水層を棄却した。有
機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によっ
て回収し反応粗製物をを得た。ここにメチルイソブチル
ケトン250部を加え内容物を均一に溶解させた後、8
0部の水で有機層を洗浄し、油層から共沸蒸留により水
を除去し、ろ過により析出する不溶解物を除去したのち
メチルイソブチルケトンを留去して、軟化点78.4
℃、溶融粘度3.0(ps,150℃)、エポキシ当量
が310g/eq、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーにる測定から重量平均分子量3900、分子量分
布300〜10000(ポリスチレン換算)であって下
記構造式(2)中のnの平均が3であるエポキシ樹脂
(a)を得た。 構造式(2)
[Second Step] In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a cooling tube, 100 parts of the polyol compound (A) was dissolved in 220 parts of epichlorohydrin, and then stirred at 80 ° C. for 20 minutes. A 1000% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 5 hours, the reaction was continued for 1 hour, and then the aqueous layer was discarded by liquid separation operation. Excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. 250 parts of methyl isobutyl ketone was added thereto to uniformly dissolve the contents, and then 8
The organic layer was washed with 0 part of water, the water was removed from the oil layer by azeotropic distillation, the insoluble matter precipitated was removed by filtration, and then methyl isobutyl ketone was distilled off to give a softening point of 78.4.
C., melt viscosity 3.0 (ps, 150.degree. C.), epoxy equivalent of 310 g / eq, weight average molecular weight of 3900, molecular weight distribution of 300 to 10,000 (polystyrene conversion) and the following structural formula. An epoxy resin (a) having an average n of 3 in (2) was obtained. Structural formula (2)

【0045】[0045]

【化4】 [Chemical 4]

【0046】この物質を重水素置換ジメチルスルホキシ
ドを溶媒として炭素13−NMRを測定した。このチャ
ートを第1図に示す。第1図において、炭素13−NM
R図中のシグナルの帰属は下記の通りである。尚、化学
シフトのppm値は内部標準に用いたテトラメチルシラ
ン中の炭素原子の値を0とする。
This substance was subjected to carbon 13 -NMR measurement using deuterium-substituted dimethyl sulfoxide as a solvent. This chart is shown in FIG. In FIG. 1, carbon 13-NM
The attribution of the signals in the R diagram is as follows. In addition, regarding the ppm value of the chemical shift, the value of carbon atoms in tetramethylsilane used as an internal standard is 0.

【0047】21〜24ppmの多重ピーク:架橋エチ
リデン基中のメチル基 38ppmのピーク :架橋エチリデン基中の
メチン炭素 44ppmのピーク :架橋エチリデン基中の
メチン炭素とグリシジル基中のメチレン炭素の重なり合
い 50ppmのピーク :グリシジル基中の三員
環内メチレン炭素 69ppmのピーク :グリシジル基中のメチ
ン炭素 16ppm及び30ppmのピークはジビニルベンゼン
中のエチルビニルベンゼンのフェノールへの付加によっ
て生じた末端エチル基のシグナルである。
Multiple peaks of 21 to 24 ppm: Methyl group in crosslinked ethylidene group 38 ppm peak: Methine carbon in crosslinked ethylidene group 44 ppm peak: Methine carbon in crosslinked ethylidene group and methylene carbon in glycidyl group overlap 50 ppm Peak: methylene carbon in the three-membered ring in glycidyl group 69 ppm peak: methine carbon in glycidyl group 16 ppm and 30 ppm peaks are signals of terminal ethyl groups generated by addition of ethylvinylbenzene in divinylbenzene to phenol. .

【0048】115〜160ppmまでのピークは全て
芳香族炭化水素に属するが、このうち116ppm、1
21ppm、128ppm、153ppmはフェノール
部分に、125〜133ppm及び139〜150pp
mは架橋ジビニルベンゼン中のベンゼン環に帰属され
る。
All peaks from 115 to 160 ppm belong to aromatic hydrocarbons, of which 116 ppm and 1
21ppm, 128ppm, 153ppm is phenol part, 125-133ppm and 139-150pp
m is assigned to the benzene ring in the crosslinked divinylbenzene.

【0049】また、この物質の赤外線吸収スペクトルを
測定し、その結果を第2図に示した。 実施例2 [第1工程]純度80%のp-ジビニルベンゼン976部
にかえて 純度98%のp−ジビニルベンゼン800部
をとフェノール940部にかえてクレゾール1080部
を用いる他は実施例1の第1段階と同様に反応を行って
ポリオール化合物(B)を得た。ここで得られたポリオ
ール化合物(B)は融点を90℃に持ち フェノール性
水酸基当量は231であった。
The infrared absorption spectrum of this substance was measured, and the results are shown in FIG. Example 2 [First step] The procedure of Example 1 was repeated except that 976 parts of p-divinylbenzene having a purity of 80% was replaced with 800 parts of p-divinylbenzene having a purity of 98%, and 1080 parts of cresol was replaced with 940 parts of phenol. The same reaction as in the first step was carried out to obtain a polyol compound (B). The polyol compound (B) obtained here had a melting point of 90 ° C. and a phenolic hydroxyl group equivalent of 231.

【0050】[第2工程]第1段階で得られたポリオー
ル化合物(B)の80部をポリオール化合物(A)に変
えて使用する他は実施例1[第2段階]と同様にして軟
化点97℃、溶融粘度3.2(ps,150℃)、エポ
キシ当量が320g/eqのエポキシ樹脂(b)を得
た。
[Second Step] The softening point is the same as in Example 1 [second step] except that 80 parts of the polyol compound (B) obtained in the first step is used instead of the polyol compound (A). An epoxy resin (b) having a melt viscosity of 97 ° C., 3.2 (ps, 150 ° C.) and an epoxy equivalent of 320 g / eq was obtained.

【0051】実施例3 [第1工程]攪拌機、温度計、冷却管を装着した反応容
器中で、80%p−ジビニルベンゼン117部、β−ナ
フトール288部を均一に溶解した後、150℃でp−
トルエンスルホン酸8部を添加し、その温度を保ったま
ま5時間反応させた。その後メチルイソブチルケトン
(MIBK)1000部を加え、内容物を溶解した後水
500部を加え、有機層を水洗浄し触媒を除去した。そ
の後MIBKを留去して ナフトール環をアリーレンア
ルキレン結合で結節した構造を単位構造として有する水
酸基当量222g/eqのポリオール化合物(C)385部
を取得した。
Example 3 [First Step] In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a cooling tube, 117 parts of 80% p-divinylbenzene and 288 parts of β-naphthol were uniformly dissolved and then at 150 ° C. p-
8 parts of toluenesulfonic acid was added, and the reaction was carried out for 5 hours while maintaining the temperature. Thereafter, 1000 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) was added, the contents were dissolved and then 500 parts of water was added, and the organic layer was washed with water to remove the catalyst. Then, MIBK was distilled off to obtain 385 parts of a polyol compound (C) having a hydroxyl equivalent of 222 g / eq and having a structure in which a naphthol ring was knotted by an arylene alkylene bond as a unit structure.

【0052】[第2工程]攪拌機、温度計、滴下ロー
ト、冷却管を装着した反応容器中で、ポリオール化合物
(C)500部をエピクロルヒドリン1050部中に溶
解した後、攪拌しながら80℃で20%水酸化ナトリウ
ム水溶液510部を5時間かけて滴下し、更に1時間反
応を継続した後、分液操作によって水層を棄却した。有
機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によっ
て回収し反応粗製物をを得た。ここにMIBK300部
を加え内容物を均一に溶解させた後、320部の水で3
回有機層を洗浄し、油層からMIBKを留去させること
により軟化点85℃、溶融粘度2.3(ps,150
℃)、エポキシ当量が295g/eq、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィーの測定による重量平均分子量(ポ
リスチレン換算)600であって下記構造式(3)でn
の平均が0.2であるエポキシ樹脂(C)620部を得
た。 構造式(3)
[Second Step] In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a cooling tube, 500 parts of the polyol compound (C) was dissolved in 1050 parts of epichlorohydrin, and then stirred at 80 ° C. for 20 minutes. % Aqueous sodium hydroxide solution (510 parts) was added dropwise over 5 hours, the reaction was further continued for 1 hour, and then the aqueous layer was discarded by liquid separation operation. Excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. To this, 300 parts of MIBK was added and the contents were uniformly dissolved.
The organic layer was washed and MIBK was distilled off from the oil layer to obtain a softening point of 85 ° C. and a melt viscosity of 2.3 (ps, 150
° C), the epoxy equivalent is 295 g / eq, the weight average molecular weight (converted to polystyrene) measured by gel permeation chromatography is 600, and n is represented by the following structural formula (3).
620 parts of an epoxy resin (C) having an average of 0.2 was obtained. Structural formula (3)

【0053】[0053]

【化5】 [Chemical 5]

【0054】(式中、Gはグリシジル基を表わす。)こ
の物質を重水素置換ジメチルスルホキシドを溶媒として
炭素13−NMRを測定した。このチャートを第3図に
示す。
(In the formula, G represents a glycidyl group.) This substance was subjected to carbon 13-NMR measurement using deuterium-substituted dimethyl sulfoxide as a solvent. This chart is shown in FIG.

【0055】第3図において、炭素13−NMR図中の
シグナルの帰属は下記の通りである。尚、化学シフトの
ppm値は内部標準に用いたテトラメチルシラン中の炭
素原子の値を0とする。
In FIG. 3, the attributions of signals in the carbon-13-NMR diagram are as follows. In addition, regarding the ppm value of the chemical shift, the value of carbon atoms in tetramethylsilane used as an internal standard is 0.

【0056】18〜19ppmのピーク :架橋エチ
リデン基中のメチル基 35ppmのピーク :架橋エチリデン基中の
メチン炭素 45ppmのピーク:グリシジル基中の三員環内メチレ
ン炭素 50ppmのピーク :グリシジル基中のメチ
ン炭素 70ppmのピーク :グリシジル基中のメチ
レン炭素 15ppm及び35ppmのピークはジビニルベンゼン
中のエチルビニルベンゼンのβ−ナフトールへの付加に
よって生じた末端エチル基のシグナルである。
18 to 19 ppm peak: methyl group in crosslinked ethylidene group 35 ppm peak: methine carbon in crosslinked ethylidene group 45 ppm peak: three-membered ring methylene carbon in glycidyl group 50 ppm peak: methine in glycidyl group Carbon 70 ppm peak: Methylene carbon in glycidyl group The 15 ppm and 35 ppm peaks are signals of the terminal ethyl group produced by the addition of ethyl vinylbenzene in β-naphthol in divinylbenzene.

【0057】115〜155ppmまでのピークはナフ
タレン環およびベンゼン環中の炭素に帰属される。ま
た、このエポキシ樹脂(C)のゲルパーミエーションク
ロマトグラフィーを測定したチャートを第4図に示す。
The peaks from 115 to 155 ppm are assigned to carbons in the naphthalene ring and the benzene ring. Moreover, the chart which measured the gel permeation chromatography of this epoxy resin (C) is shown in FIG.

【0058】実施例4 [第1工程]β−ナフトール288部に変えて 2,7
−ジヒドロキシナフタレン480部を用いた他は実施例
1[第1工程]と同様の方法で、2,7−ジヒドロキシ
ナフタレンを骨格に有する水酸基当量100g/eqのポリ
オール化合物(D)530部を取得した。
Example 4 [First Step] β-Naphthol was replaced with 288 parts of 2,7
-In the same manner as in Example 1 [Step 1] except that 480 parts of dihydroxynaphthalene was used, 530 parts of a polyol compound (D) having 2,7-dihydroxynaphthalene in the skeleton and having a hydroxyl equivalent of 100 g / eq was obtained. .

【0059】[第2工程]攪拌機、温度計、滴下ロー
ト、冷却管を装着した反応容器中で、ポリオール化合物
(D)300部をエピクロルヒドリン1400部中に溶
解した後、攪拌しながら80℃で20%水酸化ナトリウ
ム水溶液675部を5時間かけて滴下し、更に1時間反
応を継続した後、分液操作によって水層を棄却した。有
機層に存在する過剰のエピクロルヒドリンを蒸留によっ
て回収し反応粗製物をを得た。ここにMIBK700部
を加え内容物を均一に溶解させた後、320部の水で
3回有機層を洗浄し、油層からMIBKを留去させるこ
とにより軟化点73℃、溶融粘度2.6(ps,150
℃)、エポキシ当量が156g/eq、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィーの測定による重量平均分子量(ポ
リスチレン換算)890であって下記構造式(4)でn
の平均が0.6であるエポキシ樹脂のエポキシ樹脂
(D)440部を得た。 構造式(4)
[Second Step] 300 parts of the polyol compound (D) was dissolved in 1400 parts of epichlorohydrin in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a cooling tube, and then stirred at 80 ° C. for 20 minutes. % Aqueous sodium hydroxide solution (675 parts) was added dropwise over 5 hours, the reaction was further continued for 1 hour, and then the aqueous layer was discarded by liquid separation operation. Excess epichlorohydrin present in the organic layer was recovered by distillation to obtain a reaction crude product. To this, 700 parts of MIBK was added to uniformly dissolve the contents, and then 320 parts of water were added.
The organic layer was washed three times, and MIBK was distilled off from the oil layer to give a softening point of 73 ° C. and a melt viscosity of 2.6 (ps, 150).
° C), the epoxy equivalent is 156 g / eq, the weight average molecular weight is 890 (measured by gel permeation chromatography) (in terms of polystyrene), and n is the following structural formula (4).
440 parts of epoxy resin (D) of epoxy resin having an average of 0.6 was obtained. Structural formula (4)

【0060】[0060]

【化6】 [Chemical 6]

【0061】(式中、Gはグリシジル基を表わす。)ま
た、このエポキシ樹脂(D)のゲルパーミエーションク
ロマトグラフィーを測定したチャートを第5図に示す。
(In the formula, G represents a glycidyl group.) Also, a chart of measurement of gel permeation chromatography of this epoxy resin (D) is shown in FIG.

【0062】実施例5〜8 実施例1〜4で得られたエポキシ樹脂(A)〜(D)
に、硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(大日本イ
ンキ化学工業社製「バーカムTD−2131」、融点8
0℃)をエポキシ基とフェノールノボラック樹脂の水酸
基が当量となる量で、更に硬化促進剤としてトリフェニ
ルホスフィンを実施例1及び2は0.1phr、実施例
3及び4は0.2phrで夫々配合し、電子部品用エポ
キシ樹脂組成物を得た。
Examples 5 to 8 The epoxy resins (A) to (D) obtained in Examples 1 to 4
In addition, as a curing agent, phenol novolac resin ("Barcam TD-2131" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., melting point 8)
(0 ° C.) in an amount such that the epoxy groups and the hydroxyl groups of the phenol novolac resin are equivalent, and triphenylphosphine as a curing accelerator is added in 0.1 phr in Examples 1 and 2 and 0.2 phr in Examples 3 and 4, respectively. Then, an epoxy resin composition for electronic parts was obtained.

【0063】次いで、これらのエポキシ樹脂組成物を1
50℃で2時間、続いて180℃で5時間の条件で硬化
させ夫々試験片を作製し物性を測定した。結果を第1表
に示す。
Then, one of these epoxy resin compositions was prepared.
Curing was carried out under the conditions of 50 ° C. for 2 hours and then 180 ° C. for 5 hours, and test pieces were prepared and measured for physical properties. The results are shown in Table 1.

【0064】比較例1 エポキシ樹脂としてオルソクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(大日本インキ化学工業社製「エピクロンN−
665」、軟化点68℃、溶融粘度2.9(ps,15
0℃)、エポキシ当量207g/eq)を用い、硬化剤とし
てフェノールノボラック樹脂(大日本インキ化学工業社
製「バーカムTD−2131」、融点80℃)をエポキ
シ基とフェノールノボラック樹脂の水酸基が当量となる
量で、更に硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを
0.1phrで用いて配合し、電子部品用エポキシ樹脂
組成物を得た。
Comparative Example 1 Ortho-cresol novolac type epoxy resin (“Epiclone N- manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as an epoxy resin
665 ", softening point 68 ° C, melt viscosity 2.9 (ps, 15
0 ° C.), an epoxy equivalent of 207 g / eq), and a phenol novolac resin (“Barcam TD-2131” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., melting point 80 ° C.) as a curing agent, with epoxy groups and hydroxyl groups of the phenol novolac resin equivalent Triphenylphosphine as a curing accelerator was further added in an amount of 0.1 phr to obtain an epoxy resin composition for electronic parts.

【0065】次いで、このエポキシ樹脂組成物を150
℃で2時間、続いて180℃で5時間の条件で硬化させ
試験片を作製し物性を測定した。結果を第1表に示す。
Next, this epoxy resin composition was added to 150
The test piece was prepared by curing the test piece at 2 ° C. for 2 hours and then at 180 ° C. for 5 hours, and the physical properties were measured. The results are shown in Table 1.

【0066】[0066]

【表1】 (エポキシ樹脂硬化物の物性値の測定方法) [吸水率]85℃・85%RHの恒温恒湿槽中で300
時間放置したときの重量変化より求めた。
[Table 1] (Method for measuring physical properties of cured epoxy resin) [Water absorption rate] 300 in a constant temperature and humidity tank at 85 ° C and 85% RH
It was calculated from the weight change when left for a time.

【0067】[ガラス転移点]動的粘弾性測定装置(D
MA)を用いて上記の成形物を測定した。 [曲げ強度・引っ張り強度]熱硬化性プラスチック一般
試験方法(JIS K6911)に従って測定した。
[Glass Transition Point] Dynamic Viscoelasticity Measuring Device (D
(MA) was used to measure the above-mentioned molded products. [Bending Strength / Tensile Strength] Bending strength / tensile strength was measured according to a general test method for thermosetting plastics (JIS K6911).

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明によれば、耐湿性に著しく優れた
性能を有する電子部品用エポキシ樹脂組成物が得られ、
これを用いることにより電気・電子部品に優れた耐湿信
頼性を付与することができる。
EFFECT OF THE INVENTION According to the present invention, an epoxy resin composition for electronic parts having excellent performance in moisture resistance can be obtained.
By using this, excellent moisture resistance reliability can be imparted to electric / electronic parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1図はエポキシ樹脂(A)の炭素13−NM
Rの測定図である。
FIG. 1 is a carbon 13-NM of epoxy resin (A).
It is a measurement diagram of R.

【図2】第2図はエポキシ樹脂(A)の赤外線吸収スペ
クトルの測定図である。
FIG. 2 is a measurement diagram of an infrared absorption spectrum of epoxy resin (A).

【図3】第3図はエポキシ樹脂(C)の炭素13−NM
Rの測定図である。
FIG. 3 is a carbon 13-NM of epoxy resin (C).
It is a measurement diagram of R.

【図4】第4図はエポキシ樹脂(C)のゲルパーミエー
ションクロマトグラフィーの測定図である。
FIG. 4 is a measurement diagram of gel permeation chromatography of epoxy resin (C).

【図5】第5図はエポキシ樹脂(D)のゲルパーミエー
ションクロマトグラフィーの測定図である。
FIG. 5 is a measurement diagram of gel permeation chromatography of epoxy resin (D).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江原 俊治 千葉県千葉市緑区誉田町1−929−1 (72)発明者 坂田 浩 千葉県市原市辰巳台東4−4 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shunji Ehara 1-929-1 Hondada-cho, Midori-ku, Chiba-shi, Chiba (72) Inventor Hiroshi Sakata 4-4 Tatsumidai-higashi, Ichihara-shi, Chiba

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤及び硬化促進剤を
必須成分とする電子部品用エポキシ樹脂組成物におい
て、エポキシ樹脂が、グリシジルオキシアリーレン結合
と、エチリデン結合と、アリーレン結合とエチリデン結
合とが、この順に結合した構造を有することを特徴とす
る電子部品用エポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition for electronic parts, which comprises an epoxy resin, a curing agent and a curing accelerator as essential components, wherein the epoxy resin has a glycidyloxyarylene bond, an ethylidene bond, an arylene bond and an ethylidene bond. An epoxy resin composition for electronic parts, which has a structure of bonding in this order.
【請求項2】 エポキシ樹脂中のグリシジルオキシアリ
ーレン結合がグリシジルオキシナフチレン、ビス(グリ
シジルオキシ)ナフチレンまたはグリシジルオキシフェ
ニレンである請求項1記載の組成物。
2. The composition according to claim 1, wherein the glycidyloxyarylene bond in the epoxy resin is glycidyloxynaphthylene, bis (glycidyloxy) naphthylene or glycidyloxyphenylene.
【請求項3】 下記構造式(1)で表わされるエポキシ
樹脂。 構造式(1) 【化1】 (式中、Gはグリシジル基、Aはベンゼン環、低級アル
キル基で置換されたベンゼン環またはナフタレン環を表
わし、mは1または2、nは0〜10の整数を夫々示
す。)
3. An epoxy resin represented by the following structural formula (1). Structural formula (1) (In the formula, G represents a glycidyl group, A represents a benzene ring, a benzene ring substituted with a lower alkyl group or a naphthalene ring, m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 to 10.)
【請求項4】 フェノール性水酸基を含有する芳香族炭
化水素と、ビニル基少なくとも2個有する芳香族化合物
とを反応させ、次いで得られたポリオール化合物とエピ
ハロヒドリンとを反応させることを特徴とするエポキシ
樹脂の製造方法。
4. An epoxy resin characterized by reacting an aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group with an aromatic compound having at least two vinyl groups, and then reacting the obtained polyol compound with epihalohydrin. Manufacturing method.
【請求項5】 フェノール性水酸基を含有する芳香族炭
化水素が、フェノール、クレゾール、ナフトールおよび
ジヒドロキシナフタレンから成る群から選ばれるもので
ある請求項4記載の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group is selected from the group consisting of phenol, cresol, naphthol and dihydroxynaphthalene.
【請求項6】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも
2個有する芳香族化合物が、p−ジビニルベンゼンであ
る請求項4または5記載の製造法。
6. The method according to claim 4, wherein the aromatic compound having at least two ethylenically unsaturated double bonds is p-divinylbenzene.
【請求項7】 フェノール性水酸基を含有する芳香族炭
化水素1モルに対して、ビニル基を芳香族化合物を0.
3〜1.0モル反応させ、次いで得られたポリオール化
合物とエピハロヒドリンとを反応させる請求項4〜6の
何れか1つに記載の製造方法。
7. A vinyl group is used as an aromatic compound in an amount of 0.1 mol per mol of an aromatic hydrocarbon containing a phenolic hydroxyl group.
The method according to any one of claims 4 to 6, wherein 3 to 1.0 mol of the compound is reacted, and then the obtained polyol compound is reacted with epihalohydrin.
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