JP2012031431A - Thermosetting resin composition and method of producing the same - Google Patents
Thermosetting resin composition and method of producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012031431A JP2012031431A JP2011242269A JP2011242269A JP2012031431A JP 2012031431 A JP2012031431 A JP 2012031431A JP 2011242269 A JP2011242269 A JP 2011242269A JP 2011242269 A JP2011242269 A JP 2011242269A JP 2012031431 A JP2012031431 A JP 2012031431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- thermosetting resin
- silicone polymer
- composition according
- silane compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
本発明は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a thermosetting resin composition such as an epoxy resin and a method for producing the same.
熱硬化性樹脂のひとつであるエポキシ樹脂は、その優れた成形性や接着性及び絶縁信頼性等により、電子材料用途や塗料用途に幅広く使用されている。中でも、電子材料用途については、印刷配線板に用いられる積層板やレジストインク及び半導体回りに用いられる封止用材料やダイボンド材及びアンダーフィル材等と多岐に渡っている。近年、パーソナルコンピュータや携帯電話等の情報端末電子機器の普及に伴い、この中に搭載される各種電子部品の小型化・高性能化の進歩が著しい。このため、印刷配線板やその上に実装されるパッケージをはじめとした実装部品はこれまで以上に薄く、小さくそして高密度実装に耐えられる高い信頼性を発現する必要がある。 Epoxy resin, which is one of thermosetting resins, is widely used in electronic materials and paints due to its excellent moldability, adhesion, insulation reliability, and the like. Among these, electronic materials are used in a wide variety of applications such as laminates used for printed wiring boards, resist inks, sealing materials used around semiconductors, die bond materials, and underfill materials. In recent years, along with the widespread use of information terminal electronic devices such as personal computers and mobile phones, the progress of miniaturization and high performance of various electronic components mounted therein has been remarkable. For this reason, mounting components such as a printed wiring board and a package mounted thereon must be thinner, smaller, and more reliable to withstand high-density mounting.
このような状況において、これら電子部品に使用されるエポキシ樹脂についても、より高い耐熱性や接着性が要求されている。
従来、エポキシ樹脂の耐熱性を向上させる手法としては、ノボラック型に代表されるような多官能のエポキシ樹脂や硬化剤を用いるのが一般的である。しかしながら、これらの硬化物は架橋密度が高くなるため、堅くて脆くなる欠点がある。このような堅くて脆い樹脂は、吸湿後の耐熱性や金属との接着性が低下する傾向にある。
Under such circumstances, higher heat resistance and adhesiveness are required for epoxy resins used in these electronic components.
Conventionally, as a method for improving the heat resistance of an epoxy resin, a polyfunctional epoxy resin or a curing agent represented by a novolac type is generally used. However, these cured products have a drawback that they become hard and brittle because of high crosslinking density. Such a hard and brittle resin tends to reduce heat resistance after moisture absorption and adhesion to metal.
一方、エポキシ樹脂の接着性向上策としては、樹脂硬化物の架橋密度を低減し、伸びを大きくする方法が一般的であった。しかしながら、架橋密度を低下させると、ガラス転移温度(以下、Tgと称す)が低下するため、高温での機械的な特性が低下するといった問題が発生し、又、配線板の信頼性に悪影響を及ぼす恐れがある。この傾向は、電子部品が薄く、高密度になりかつはんだ接続のためのリフロー回数が増えている現状では非常に大きな問題となっている。更に、鉛を含有しないはんだに代表されるようなこれからの地球環境を考慮した材料開発等が進むことにより、電子材料が高温雰囲気にさらされるケースが多くなることが予想されている。このためエポキシ樹脂には、高耐熱性と高い靭性の両立が要求されている。これらの特性を満足させるためには、高いTgを有しかつ高温域ではある程度の低弾性を発現することが重要となる。 On the other hand, as a measure for improving the adhesiveness of the epoxy resin, a method of reducing the crosslink density of the cured resin and increasing the elongation is common. However, when the crosslink density is lowered, the glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) is lowered, which causes a problem that mechanical properties at high temperatures are lowered, and adversely affects the reliability of the wiring board. There is a risk. This tendency is a very big problem at present when electronic parts are thin and dense and the number of reflows for solder connection is increasing. Furthermore, it is expected that electronic materials will be exposed to high-temperature atmospheres as the development of materials taking the global environment into consideration, such as solder containing no lead, advances. For this reason, the epoxy resin is required to satisfy both high heat resistance and high toughness. In order to satisfy these characteristics, it is important to have a high Tg and to exhibit a certain degree of low elasticity in a high temperature range.
耐熱性を低下させずに接着性を向上させる代表的な手法には、熱可塑性樹脂等を用いて変性する方法がある。例えば、堅くて脆い高架橋した耐熱エポキシ樹脂に、靭性の高い耐熱性の熱可塑性樹脂を配合して変性することが挙げられる。しかしながら、スーパーエンプラに代表されるように、耐熱性に優れた熱可塑性樹脂は軟化点が高く、溶融粘度も非常に高い。このため、エポキシ樹脂をうまく変性できても得られる変性エポキシ樹脂の溶融粘度は高くなり、一般的に加熱・加圧により成形される従来のエポキシ樹脂と比較して成形性が著しく低下する問題がある。また、熱可塑性樹脂は一般的に極性が低く金属との接着性が低いため、結果的に変性エポキシ樹脂の接着性も低下する場合が多い。又、室温付近での弾性率が低下する傾向があり、取り扱い性や剛性が低くなり易い。 A typical method for improving adhesiveness without reducing heat resistance is a method of modifying using a thermoplastic resin or the like. For example, a highly brittle and highly crosslinked heat-resistant epoxy resin may be modified by blending a heat-resistant thermoplastic resin with high toughness. However, as represented by super engineering plastics, thermoplastic resins with excellent heat resistance have a high softening point and a very high melt viscosity. For this reason, even if an epoxy resin can be modified | denatured successfully, the melt viscosity of the modified epoxy resin obtained becomes high, and there exists a problem that a moldability falls remarkably compared with the conventional epoxy resin generally shape | molded by heating and pressurization. is there. In addition, thermoplastic resins generally have low polarity and low adhesion to metals, and as a result, adhesion of modified epoxy resins often decreases. In addition, the modulus of elasticity near room temperature tends to decrease, and the handleability and rigidity tend to be low.
最近では、エポキシ樹脂の変性手法の一つとして、特開平8-100107号公報や特開平10-298405 号公報及び特開平11-92623号公報に示されるような無機化合物との配合物がある。しかしながら、これらの方法は、いずれもゾル−ゲル等により高弾性率の堅いゲル化物を熱硬化性樹脂中に配合するものであり、高耐熱性を発現するものの高温域での靭性は低下してしまう。 Recently, as one of the modification methods for epoxy resins, there are blends with inorganic compounds as disclosed in JP-A-8-100107, JP-A-10-298405 and JP-A-11-92623. However, all of these methods are those in which a hard gelled material having a high elastic modulus is blended into a thermosetting resin by sol-gel or the like, and although high heat resistance is exhibited, the toughness in a high temperature range is lowered. End up.
本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂の優れた耐熱性や成形性を損ねることなく、高温での靭性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とするものである。 The present invention eliminates the above-mentioned problems of the prior art and provides an epoxy resin composition excellent in toughness at high temperature without impairing the excellent heat resistance and moldability of thermosetting resins, particularly epoxy resins. It is intended.
本発明者らは、鋭意研究を行った結果、エポキシ樹脂及びその硬化剤に、分子内に式 R2 SiO2/2 で示される2官能性シロキサン単位を有するシリコーン重合体を配合した組成物が本発明の目的を達成し得ることを見いだして、本発明を完成した。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that a composition in which a silicone polymer having a bifunctional siloxane unit represented by the formula R 2 SiO 2/2 in its molecule is blended with an epoxy resin and its curing agent. The present invention has been completed by finding out that the object of the present invention can be achieved.
すなわち、本発明は、硬化物の25℃における貯蔵弾性率が1.0GPa以上であり、200℃における貯蔵弾性率が100MPa以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を要旨とする。 That is, the gist of the present invention is a thermosetting resin composition characterized in that the cured product has a storage elastic modulus at 25 ° C. of 1.0 GPa or more and a storage elastic modulus at 200 ° C. of 100 MPa or less.
更に、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤を必須成分とし、硬化物の200℃における貯蔵弾性率が100MPa以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を要旨とする。 Furthermore, the gist of the present invention is a thermosetting resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent as essential components and a cured elastic modulus at 200 ° C. of 100 MPa or less.
又、本発明の樹脂組成物は、硬化物のガラス転移温度が170℃以上であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、分子内に式 R2 SiO2/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される2官能性シロキサン単位を有するシリコーン重合体を含有することを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、エポキシ樹脂100質量部に対してシリコーン重合体2質量部以上を含有することを特徴とする。
The resin composition of the present invention is characterized in that the cured product has a glass transition temperature of 170 ° C. or higher.
Further, the resin composition of the present invention contains a silicone polymer having a bifunctional siloxane unit represented by the formula R 2 SiO 2/2 (wherein R is the same or different organic group) in the molecule. It is characterized by doing.
The resin composition of the present invention is characterized by containing 2 parts by mass or more of a silicone polymer with respect to 100 parts by mass of an epoxy resin.
更に、本発明は、(a)エポキシ樹脂、(b)硬化剤及び(c)分子内に式 R2 SiO2/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される2官能性シロキサン単位を含有するシリコーン重合体を必須成分とする熱硬化性樹脂組成物を要旨とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(b)の硬化剤がフェノール樹脂であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が分子内に式 R2 SiO2/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される2官能性シロキサン単位及び式 RSiO3/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される3官能性シロキサン単位を含有することを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が分子内に式 R2 SiO2/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される2官能性シロキサン単位及び式 SiO4/2 で示される4官能性シロキサン単位を含有することを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が分子内に式 R2 SiO2/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される2官能性シロキサン単位、式 RSiO3/2 (式中、Rは同じか異なる有機基である。)で示される3官能性シロキサン単位及び式 SiO4/2 で示される4官能性シロキサン単位を含有することを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が分子内に含有する上記2官能性シロキサン単位がシリコーン重合体全体の10モル%以上であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体の平均重合度が2〜2,000であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体の配合量がエポキシ樹脂に対して2質量%以上であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体末端の少なくとも1つがシラノール基若しくはアルコキシ基であることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、カップリング剤をさらに含有することを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が、2官能性シラン化合物、3官能性シラン化合物又は4官能性シラン化合物のモノマを混在していることを特徴とする。
又、本発明の樹脂組成物は、(c)のシリコーン重合体が、2官能性シラン化合物、3官能性シラン化合物及び4官能性シラン化合物から選ばれる1種の化合物の単独系オリゴマ又はそれらの2種以上の化合物の複合系オリゴマを混在していることを特徴とする。
Furthermore, the present invention relates to (a) an epoxy resin, (b) a curing agent, and (c) 2 represented by the formula R 2 SiO 2/2 (wherein R is the same or different organic group). The gist is a thermosetting resin composition containing a silicone polymer containing a functional siloxane unit as an essential component.
The resin composition of the present invention is characterized in that the curing agent (b) is a phenol resin.
In the resin composition of the present invention, the silicone polymer of (c) is a bifunctional siloxane represented by the formula R 2 SiO 2/2 (wherein R is the same or different organic group) in the molecule. It contains a trifunctional siloxane unit represented by the unit and the formula RSiO 3/2 (wherein R is the same or different organic group).
In the resin composition of the present invention, the silicone polymer of (c) is a bifunctional siloxane represented by the formula R 2 SiO 2/2 (wherein R is the same or different organic group) in the molecule. Units and tetrafunctional siloxane units of the formula SiO 4/2 are contained.
In the resin composition of the present invention, the silicone polymer of (c) is a bifunctional siloxane represented by the formula R 2 SiO 2/2 (wherein R is the same or different organic group) in the molecule. Unit, a trifunctional siloxane unit represented by the formula RSiO 3/2 (wherein R is the same or different organic group) and a tetrafunctional siloxane unit represented by the formula SiO 4/2 And
Further, the resin composition of the present invention is characterized in that the bifunctional siloxane unit contained in the molecule of the silicone polymer (c) is 10 mol% or more of the whole silicone polymer.
The resin composition of the present invention is characterized in that the average degree of polymerization of the silicone polymer (c) is 2 to 2,000.
The resin composition of the present invention is characterized in that the amount of the silicone polymer (c) is 2% by mass or more based on the epoxy resin.
The resin composition of the present invention is characterized in that at least one of the terminals of the silicone polymer (c) is a silanol group or an alkoxy group.
Moreover, the resin composition of the present invention further comprises a coupling agent.
The resin composition of the present invention is characterized in that the silicone polymer (c) contains a monomer of a bifunctional silane compound, a trifunctional silane compound, or a tetrafunctional silane compound.
In the resin composition of the present invention, the silicone polymer (c) is a single oligomer of one compound selected from a bifunctional silane compound, a trifunctional silane compound, and a tetrafunctional silane compound, or their A composite oligomer of two or more kinds of compounds is mixed.
更に、本発明は、上記(a)成分、(b)成分及び(c)成分を同時に配合することを特徴とする上記の熱硬化性樹脂組成物の製造方法を要旨とする。
更に、本発明は、上記(a)成分、(b)成分及び(c)成分を溶剤の存在下、同時に配合・攪拌することを特徴とする上記の熱硬化性樹脂組成物の製造方法を要旨とする。
更に、本発明は、上記(c)のシリコーン重合体として、2官能性シラン化合物並びに3官能性シラン化合物及び/又は4官能性シラン化合物の混合物を触媒の存在下、オリゴマ化した溶液をそのまま使用することを特徴とする上記の熱硬化性樹脂組成物の製造方法を要旨とする。
Furthermore, the gist of the present invention is a method for producing the thermosetting resin composition, wherein the component (a), the component (b) and the component (c) are blended simultaneously.
Furthermore, the present invention provides a method for producing the thermosetting resin composition, wherein the components (a), (b) and (c) are blended and stirred simultaneously in the presence of a solvent. And
Furthermore, the present invention uses, as the silicone polymer of (c) above, a solution obtained by oligomerizing a bifunctional silane compound and a mixture of a trifunctional silane compound and / or a tetrafunctional silane compound in the presence of a catalyst. The gist is a method for producing the thermosetting resin composition described above.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化後に、高温での優れた靭性を発現することから、成形性や接着性に優れ、又、常温での弾性率の低下がないことから、剛性や取り扱い性に優れる。更には、Tgが高く保たれるような熱硬化性樹脂を選択することで信頼性の高い基板とすることが可能である。 Since the epoxy resin composition of the present invention exhibits excellent toughness at high temperature after curing, it has excellent moldability and adhesiveness, and since there is no decrease in elastic modulus at room temperature, rigidity and handleability. Excellent. Furthermore, a highly reliable substrate can be obtained by selecting a thermosetting resin that maintains a high Tg.
本発明で用いられる(a)のエポキシ樹脂は、多官能であれば特に限定はされず、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂及びそれらのハロゲン化物、水素添加物等があり、分子量はどのようなものでもよく、また何種類かを併用することもできる。ビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂が好ましく用いられ、耐熱性の観点からノボラック型エポキシ樹脂が特に好ましい。 The epoxy resin (a) used in the present invention is not particularly limited as long as it is polyfunctional. For example, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol, etc. Novolac epoxy resins, cresol novolac epoxy resins, bisphenol A novolac epoxy resins, bisphenol F novolac epoxy resins and other novolac epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, hydantoins Type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin and their halides, hydrogenated products, etc., any molecular weight may be used, and several types may be used in combination Kill. Bisphenol type epoxy resins and novolac type epoxy resins are preferably used, and novolac type epoxy resins are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance.
(b)の硬化剤としては、エポキシ樹脂の硬化剤として従来公知の種々のものを使用することができ、特に限定するものではない。例えば、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、フェノールノボラックやクレゾールノボラック等の多官能性フェノール樹脂等を挙げることができる。これらの硬化剤は何種類かを併用することも可能である。Tg等の向上により耐熱性を向上させるためには、フェノール樹脂を用いることが好ましい。中でも、ノボラック型のフェノール樹脂が好適である。硬化剤の配合量は特に限定するものではないが、エポキシ樹脂等の主材の官能基に対して0.5〜1.5当量程度が好ましい。 As the curing agent (b), various conventionally known epoxy resin curing agents can be used, and are not particularly limited. For example, polyfunctional phenol resins such as dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, phenol novolac and cresol novolac can be exemplified. Several kinds of these curing agents can be used in combination. In order to improve heat resistance by improving Tg or the like, it is preferable to use a phenol resin. Among these, novolac type phenol resins are preferable. Although the compounding quantity of a hardening | curing agent is not specifically limited, About 0.5-1.5 equivalent is preferable with respect to the functional group of main materials, such as an epoxy resin.
(c)のシリコーン重合体は、高温域での靭性向上を目的としているため、シロキサン単位の中に少なくとも2官能性シロキサン単位(R2 SiO2/2 )を有していれば特に限定されるものではない。好ましくは、3官能性シロキサン単位(RSiO3/2 )及び4官能性シロキサン単位(SiO4/2 )(これらの式中のRは前記と同意義である。)から選ばれる少なくとも1種類以上のシロキサン単位を併用し、平均重合度は2〜2,000が好ましい。より好ましい平均重合度は5〜1,000、特に好ましい平均重合度は10〜100である。ここで、平均重合度は、その重合体の分子量(低重合度の場合)又はゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレン若しくはポリエチレングリコールの検量線を利用して測定した数平均分子量から算出したものである。シリコーン重合体の中に各種シロキサン単位のモノマや複合したオリゴマが混在していてもかまわない。但し、平均重合度が2,000を超えると粘度が高すぎて均一な分散が困難となる。 The silicone polymer (c) is intended to improve toughness in a high temperature range, and therefore is particularly limited as long as it has at least a bifunctional siloxane unit (R 2 SiO 2/2 ) in the siloxane unit. It is not a thing. Preferably, at least one kind selected from trifunctional siloxane units (RSiO 3/2 ) and tetrafunctional siloxane units (SiO 4/2 ) (wherein R is as defined above). A siloxane unit is used in combination, and the average degree of polymerization is preferably 2 to 2,000. A more preferable average degree of polymerization is 5 to 1,000, and a particularly preferable average degree of polymerization is 10 to 100. Here, the average degree of polymerization is calculated from the molecular weight of the polymer (in the case of a low degree of polymerization) or the number average molecular weight measured by gel permeation chromatography using a standard polystyrene or polyethylene glycol calibration curve. . Monomers and composite oligomers of various siloxane units may be mixed in the silicone polymer. However, when the average degree of polymerization exceeds 2,000, the viscosity is too high and uniform dispersion becomes difficult.
前記Rの有機基としては、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基等がある。又、オリゴマ末端の官能基としては、シラノール基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアシルオキシ基等がある。 Examples of the organic group for R include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a phenyl group. Examples of the functional group at the terminal of the oligomer include a silanol group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms.
本発明におけるシリコーン重合体は、高温域での靭性向上を目的としているため、3官能性シロキサン単位や4官能性シロキサン単位だけで重合したものは、堅くなりすぎてしまい、高靭性を発現することが困難となる。例えば、2官能性シロキサン単位のみからなるもの、2官能性シロキサン単位と4官能性シロキサン単位からなるもの、2官能性シロキサン単位と3官能性シロキサン単位からなるもの、2官能性シロキサン単位と3官能性シロキサン単位と4官能性シロキサン単位からなるものが好ましい。又、これらシリコーン重合体が樹脂硬化物の中で均一に分散するために、シリコーン重合体の末端の少なくとも1つが官能基を有していることが好ましい。官能基を有していないシリコーン重合体は、エポキシ樹脂の中に入り込みにくく、成形時等に樹脂硬化物表面に染み出してしまい、均一な分散は望めない。 Since the silicone polymer in the present invention is intended to improve toughness at high temperatures, those polymerized with only a trifunctional siloxane unit or a tetrafunctional siloxane unit become too stiff and exhibit high toughness. It becomes difficult. For example, those consisting only of bifunctional siloxane units, those consisting of bifunctional siloxane units and tetrafunctional siloxane units, those consisting of bifunctional siloxane units and trifunctional siloxane units, bifunctional siloxane units and trifunctional What consists of a functional siloxane unit and a tetrafunctional siloxane unit is preferable. Moreover, in order for these silicone polymers to disperse | distribute uniformly in a resin hardened | cured material, it is preferable that at least 1 of the terminal of a silicone polymer has a functional group. A silicone polymer having no functional group hardly penetrates into the epoxy resin, and oozes out on the surface of the cured resin during molding or the like, so that uniform dispersion cannot be expected.
シロキサン単位を形成するモノマの配合量は、全シロキサン単位に対して、2官能性シロキサン単位が10〜100モル%、好ましくは25〜90モル%、及び3官能性シロキサン単位と4官能性シロキサン単位の合計が0〜90モル%、好ましくは10〜75モル%となるように調整される。 The amount of the monomer forming the siloxane unit is 10 to 100 mol%, preferably 25 to 90 mol%, and the trifunctional siloxane unit and the tetrafunctional siloxane unit with respect to the total siloxane units. Is adjusted to be 0 to 90 mol%, preferably 10 to 75 mol%.
本発明おけるシリコーン重合体は、下記一般式(I)で表されるシラン化合物を加水分解、重縮合させて得ることができる。
R′n SiX4-n (I)
上記式中Xは、−ORを示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルキルカルボニル基を示す。又、R′は炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基等のアリール基を示し、nは0〜2の整数を意味する。
The silicone polymer in the present invention can be obtained by hydrolyzing and polycondensing a silane compound represented by the following general formula (I).
R ' n SiX 4-n (I)
In the above formula, X represents —OR, and R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms. R ′ represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group such as a phenyl group, and n represents an integer of 0 to 2.
前記一般式(I)で表されるシラン化合物は、具体的には
等のフェニルトリアルコキシシラン、
Phenyltrialkoxysilane, etc.
本発明で用いられる前記一般式(I)で表されるシラン化合物は、2官能性シラン化合物が必須成分として用いられ、3官能性シラン化合物や4能性シラン化合物は必要に応じて適宜使用される。特に、2官能性シラン化合物としてはジアルキルジアルコキシシランが好ましく、3官能性シラン化合物としてはモノアルキルトリアルコキシシランが好ましく、4官能性シラン化合物としてはテトラアルコキシシランが好ましい。 In the silane compound represented by the general formula (I) used in the present invention, a bifunctional silane compound is used as an essential component, and a trifunctional silane compound or a tetrafunctional silane compound is appropriately used as necessary. The In particular, the difunctional dialkoxysilane is preferable as the bifunctional silane compound, the monoalkyltrialkoxysilane is preferable as the trifunctional silane compound, and the tetraalkoxysilane is preferable as the tetrafunctional silane compound.
本発明におけるシリコーン重合体は、前記の一般式(I)で表されるシラン化合物を加水分解、重縮合して製造されるが、このとき、触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、フッ酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、スルホン酸、ギ酸等の有機酸を使用することが好ましく、アンモニア、トリメチルアンモニウムなどの塩基性触媒を用いることもできる。これら触媒は、一般式(I)で表されるシラン化合物の量に応じて適当量用いられるが、好適には一般式(I)で表されるシラン化合物1モルに対し0.001〜0.5モルの範囲で用いられる。 The silicone polymer in the present invention is produced by hydrolysis and polycondensation of the silane compound represented by the general formula (I). At this time, examples of the catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, Inorganic acids such as hydrofluoric acid, and organic acids such as oxalic acid, maleic acid, sulfonic acid and formic acid are preferably used, and basic catalysts such as ammonia and trimethylammonium can also be used. These catalysts are used in an appropriate amount depending on the amount of the silane compound represented by the general formula (I), but preferably 0.001 to 0.003 per mole of the silane compound represented by the general formula (I). It is used in the range of 5 moles.
又、上記の加水分解・重縮合は、エポキシ樹脂組成物に配合する前に予め行うことが重要である。この反応に際して、均一の重合体を得るために任意の溶媒を用いてもよい。使用する溶媒は特に限定はなく、例えば各種アルコール系やケトン系、セロソルブ系、アミド系等がある。又、この反応は水により促進される。水の量も適宜決められるが、通常アルコキシ基1モル当たり5モル以下、好ましくは0.1〜2モルの範囲で使用される。水の配合量が多すぎる場合には、シリコーン重合体の保存安定性が低下したり、樹脂硬化物の靭性が低下するなどの問題が発現する可能性がある。 In addition, it is important that the hydrolysis / polycondensation is performed in advance before blending into the epoxy resin composition. In this reaction, any solvent may be used in order to obtain a uniform polymer. The solvent used is not particularly limited, and examples thereof include various alcohols, ketones, cellosolves, amides, and the like. This reaction is also promoted by water. The amount of water is also appropriately determined, but it is usually 5 mol or less, preferably 0.1 to 2 mol per mol of alkoxy group. When the amount of water is too large, problems such as a decrease in the storage stability of the silicone polymer and a decrease in the toughness of the cured resin may occur.
又、これらのシリコーン重合体は各種カップリング剤と併用してもよい。カップリング剤としてはシラン系カップリング剤やチタネート系カップリング剤等が挙げられ、シラン系カップリング剤としては、一般にエポキシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系、ビニルシラン系、アクリルシラン系、メルカプトシラン系及びこれらの複合系等がある。 These silicone polymers may be used in combination with various coupling agents. Examples of coupling agents include silane coupling agents and titanate coupling agents. Generally, silane coupling agents include epoxy silane, amino silane, cationic silane, vinyl silane, acrylic silane, and mercapto. There are silane type and composite type of these.
これらシリコーン重合体の配合量は、使用する樹脂組成や発現する靭性のレベル、シリコーン重合体の組成等で決定され、特に限定するものではないが、エポキシ樹脂に対して2〜50質量%が好ましい。2質量%よりも少ないと、靭性向上の効果がうすく、50質量%よりも多くなると耐熱性が低下しやすい。 The compounding amount of these silicone polymers is determined by the resin composition to be used, the level of toughness to be expressed, the composition of the silicone polymer, etc., and is not particularly limited, but is preferably 2 to 50% by mass with respect to the epoxy resin. . When the amount is less than 2% by mass, the effect of improving toughness is weak, and when the amount is more than 50% by mass, the heat resistance tends to decrease.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化を促進する目的で硬化促進剤を用いることができる。硬化促進剤はエポキシ樹脂と硬化剤の反応を促進するものであれば、特に限定するものではなく、例えば、イミダゾール化合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩などが用いられる。ここで用いられるイミダゾール化合物としては、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−ヘプタデシルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等があり、これらのイミノ基をマスク化したものもある。マスク剤としては、アクリロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート等がある。
これらの硬化促進剤は何種類かを併用してもよく、配合量はエポキシ樹脂100質量部に対して0.01〜5質量部が好ましい。0.01質量部より少ないと促進効果が小さく、5質量部より多いと保存安定性が悪くなる。
The epoxy resin composition of the present invention can use a curing accelerator for the purpose of accelerating curing. The curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the reaction between the epoxy resin and the curing agent. For example, an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or the like is used. Examples of the imidazole compound used here include imidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, and 2-heptadecylimidazole. 4,5-diphenylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2-undecylimidazoline, 2-heptadecylimidazoline, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole 2-ethylimidazoline, 2-isopropylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline, and the like, and some of these imino groups are masked. Examples of the masking agent include acrylonitrile, phenylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, and melamine acrylate.
Some of these curing accelerators may be used in combination, and the blending amount is preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. When the amount is less than 0.01 parts by mass, the promoting effect is small, and when the amount is more than 5 parts by mass, the storage stability is deteriorated.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤を配合してもよい。無機充填剤としては、例えば、シリカ、クレー、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、アルミナ、ガラス繊維、ガラス粉等が挙げられる。 You may mix | blend an inorganic filler with the epoxy resin composition of this invention as needed. Examples of the inorganic filler include silica, clay, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium carbonate, alumina, glass fiber, and glass powder.
これら樹脂材料を希釈してワニス化する場合は溶剤が用いられる。この溶剤は特に制限はなく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール等があり、これらは何種類かを混合してもよい。又、ワニスの固形分濃度は特に制限はなく、樹脂組成や無機充填剤の有無や配合量等により適宜変更できる。 A solvent is used when diluting these resin materials into varnishes. There are no particular restrictions on this solvent, and examples include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, methanol, and ethanol. May be. The solid content concentration of the varnish is not particularly limited, and can be appropriately changed depending on the resin composition, the presence or absence of an inorganic filler, the blending amount, and the like.
前記各成分を配合して得たワニスは、溶剤を揮発させ樹脂をある程度硬化させる目的で乾燥後、加熱硬化することにより硬化物が得られる。加熱温度や時間等は樹脂組成やシリコーン重合体の組成等で大きく異なるが、一般的には20℃〜230℃の温度で、15分間〜24時間硬化させる。必要に応じて加圧成形する場合もある。この硬化物は、エポキシ樹脂硬化物の中に数μm以下のシリコーンゲル化物を分散させることで目的とする靭性を発現している。 The varnish obtained by blending the above components is dried for the purpose of volatilizing the solvent and curing the resin to some extent, and then cured by heating to obtain a cured product. The heating temperature, time, and the like vary greatly depending on the resin composition and the composition of the silicone polymer, but are generally cured at a temperature of 20 ° C. to 230 ° C. for 15 minutes to 24 hours. In some cases, pressure molding may be performed as necessary. This cured product expresses the intended toughness by dispersing a silicone gel product of several μm or less in the cured epoxy resin.
一般に、印刷配線板の取り扱い性、剛性等を考慮すると、印刷配線板に用いる樹脂組成物には、室温付近での硬化物の弾性率が1.0GPa以上であることが要求される。硬化物の室温付近での弾性率の上限は特にないが、他の特性等とのバランスを考慮すると通常10.0GPa程度とされる。また、はんだリフロー時の耐熱性や金属との接着性等を考慮すると、200℃以上といった高温下では樹脂硬化物の弾性率が100MPa以下であることが必要とされ、80MPa以下であることが好ましい。高温下での硬化物の弾性率について特に下限はないが、通常は1MPa程度とされる。また、樹脂硬化物のTgが低いと高温時の機械特性が低下し、また、スルーホールの接続信頼性等、配線板の信頼性に悪影響を及ぼす恐れがあることから、Tgは170℃以上であることが好ましい。Tgは高いほど好ましく、特に上限はないが、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いた場合には通常200℃程度が上限となる。 In general, considering the handleability, rigidity, and the like of a printed wiring board, the resin composition used for the printed wiring board is required to have an elastic modulus of a cured product near room temperature of 1.0 GPa or more. There is no particular upper limit on the modulus of elasticity of the cured product near room temperature, but it is usually about 10.0 GPa considering the balance with other characteristics. In consideration of heat resistance during solder reflow, adhesion to metal, and the like, the elastic modulus of the cured resin is required to be 100 MPa or less at a high temperature of 200 ° C. or more, and preferably 80 MPa or less. . There is no particular lower limit on the elastic modulus of the cured product at high temperatures, but it is usually about 1 MPa. Also, if the Tg of the resin cured product is low, the mechanical properties at high temperatures will deteriorate, and the reliability of the wiring board such as through hole connection reliability may be adversely affected. Preferably there is. Tg is preferably as high as possible, and there is no particular upper limit. However, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, the upper limit is usually about 200 ° C.
以上のように、室温付近での硬化物の弾性率が1.0MPa以上であり、200℃以上といった高温下では樹脂硬化物の弾性率が100MPa以下である樹脂組成物を用いることで、取り扱い性、成形品の剛性、耐熱性、接着性、信頼性等に優れる印刷配線板を作製することが可能となる。このような樹脂組成物としては、200℃以上といった高温下では樹脂硬化物の弾性率が100MPa以下であるエポキシ樹脂組成物を用いることができ、具体例としては、前記のシリコーン重合体を含有するエポキシ樹脂組成物が挙げられる。 As described above, the elasticity of the cured product near room temperature is 1.0 MPa or more, and by using a resin composition in which the modulus of elasticity of the cured resin is 100 MPa or less at a high temperature of 200 ° C. or more, handling properties are improved. In addition, it is possible to produce a printed wiring board having excellent rigidity, heat resistance, adhesiveness, reliability, and the like of a molded product. As such a resin composition, an epoxy resin composition having an elastic modulus of a resin cured product of 100 MPa or less can be used at a high temperature of 200 ° C. or higher. As a specific example, the above-mentioned silicone polymer is contained. An epoxy resin composition is mentioned.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでない。なお、実施例及び比較例における部は質量部である。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example and a comparative example is a mass part.
(実施例1)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、ジメトキシジメチルシランを40g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.33g、蒸留水を12g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は10であった。この重合体溶液を下記のエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学工業(株)製、商品名:ESCN-195、エポキシ当量195)100部、フェノールノボラック樹脂(日立化成工業(株)製、商品名:HP-850N 、水酸基当量106)55部、2−エチル−4−メチルイミダゾール0.5部及びメチルエチルケトン35部を混合してエポキシ樹脂組成物とする。
Example 1
A solution containing 40 g of dimethoxydimethylsilane and 10 g of methanol in a glass flask equipped with a stirrer, condenser and thermometer was mixed with 0.33 g of acetic acid and 12 g of distilled water, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. A coalescence was synthesized. The average polymerization degree of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 10. 25 parts of this polymer solution was blended with the following epoxy resin composition in terms of solid content to prepare a varnish.
Cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: ESCN-195, epoxy equivalent 195), phenol novolac resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name: HP-850N, hydroxyl equivalent 106) ) 55 parts, 0.5 part of 2-ethyl-4-methylimidazole and 35 parts of methyl ethyl ketone are mixed to obtain an epoxy resin composition.
(実施例2)
実施例1と同様に、ジメトキシジメチルシランを30g、テトラメトキシシランを10g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.31g、蒸留水を13.7g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は18であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 2)
As in Example 1, 0.31 g of acetic acid and 13.7 g of distilled water were added to a solution containing 30 g of dimethoxydimethylsilane, 10 g of tetramethoxysilane, and 10 g of methanol, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. A polymer was synthesized. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 18. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例3)
実施例1と同様に、ジメトキシジメチルシランを20g、テトラメトキシシランを20g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.29g、蒸留水を15.5g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は24であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 3)
As in Example 1, 20 g of dimethoxydimethylsilane, 20 g of tetramethoxysilane, and 10 g of methanol were mixed with 0.29 g of acetic acid and 15.5 g of distilled water, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. A polymer was synthesized. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 24. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例4)
実施例1と同様に、ジメトキシジメチルシランを20g、トリメトキシメチルシランを20g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.31g、蒸留水を14g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は20であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
Example 4
As in Example 1, 0.31 g of acetic acid and 14 g of distilled water were added to a solution containing 20 g of dimethoxydimethylsilane, 20 g of trimethoxymethylsilane, and 10 g of methanol, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. A coalescence was synthesized. The average polymerization degree of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 20. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例5)
実施例1と同様に、ジメトキシジメチルシランを30g、トリメトキシメチルシランを10g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.32g、蒸留水を13g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は11であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 5)
As in Example 1, 0.32 g of acetic acid and 13 g of distilled water were added to a solution containing 30 g of dimethoxydimethylsilane, 10 g of trimethoxymethylsilane, and 10 g of methanol, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. A coalescence was synthesized. The average degree of polymerization of siloxane repeating units of the obtained silicone polymer was 11. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例6)
実施例1と同様に、ジメトキシジメチルシランを20g、トリメトキシメチルシランを10g、テトラメトキシシランを10g、メタノールを10g配合した溶液に、酢酸を0.15g、蒸留水を14.8g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は25であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 6)
In the same manner as in Example 1, 20 g of dimethoxydimethylsilane, 10 g of trimethoxymethylsilane, 10 g of tetramethoxysilane, and 10 g of methanol were mixed with 0.15 g of acetic acid and 14.8 g of distilled water. Was stirred for 8 hours to synthesize a silicone polymer. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 25. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例7)
実施例2で得られたシリコーン重合体溶液に、シランカップリング剤(CP)としてのγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー(株)製、商品名:A−187)を質量比でシリコーン重合体:A−187=50:50となるように配合した。この溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 7)
In the silicone polymer solution obtained in Example 2, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd., trade name: A-187) as a silane coupling agent (CP) was used in a mass ratio. Silicone polymer: A-187 was blended so as to be 50:50. 25 parts of this solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例8)
実施例2で得られたシリコーン重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で12部配合して、ワニスを調製した。
(Example 8)
The silicone polymer solution obtained in Example 2 was blended in the epoxy resin composition used in Example 1 with 12 parts in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例9)
実施例2で得られたシリコーン重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で150部配合し、更にメチルエチルケトンを5部配合して、ワニスを調製した。
Example 9
150 parts of the silicone polymer solution obtained in Example 2 was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content, and further 5 parts of methyl ethyl ketone was blended to prepare a varnish.
(実施例10)
撹拌時間を8時間から24時間にした以外は、実施例3と同様にしてシリコーン重合体を合成した。得られたシリコーン重合体のシロキサン繰り返し単位の平均重合度は98であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Example 10)
A silicone polymer was synthesized in the same manner as in Example 3 except that the stirring time was changed from 8 hours to 24 hours. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone polymer was 98. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(実施例11)
実施例2で得られたシリコーン重合体溶液を下記のエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学工業(株)製、商品名:ESCN-195、エポキシ当量195)100部、ジシアンジアミド(日本カーバイド(株)製、活性水素基当量21)6部、2−エチル−4−メチルイミダゾール0.5部及びメチルエチルケトン35部を混合して、エポキシ樹脂組成物を調製する。
(Example 11)
The silicone polymer solution obtained in Example 2 was blended with 25 parts of the following epoxy resin composition in terms of solid content to prepare a varnish.
Cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: ESCN-195, epoxy equivalent 195) 100 parts, dicyandiamide (manufactured by Nippon Carbide Corporation, active hydrogen group equivalent 21) 6 parts, 2-ethyl- An epoxy resin composition is prepared by mixing 0.5 part of 4-methylimidazole and 35 parts of methyl ethyl ketone.
(比較例1)
実施例1で得られたエポキシ樹脂組成物をそのまま用いた。
(Comparative Example 1)
The epoxy resin composition obtained in Example 1 was used as it was.
(比較例2)
実施例11で得られたエポキシ樹脂組成物をそのまま用いた。
(Comparative Example 2)
The epoxy resin composition obtained in Example 11 was used as it was.
(比較例3)
撹拌装置、コンデンサ及び温度計を備えたガラスフラスコに、テトラメトキシシランを40g、メタノールを93g配合した溶液に、酢酸を0.47g、蒸留水を18.9g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーンオリゴマを合成した。得られたシリコーンオリゴマのシロキサン繰り返し単位の平均重合度は20であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Comparative Example 3)
In a glass flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 40 g of tetramethoxysilane and 93 g of methanol were mixed with 0.47 g of acetic acid and 18.9 g of distilled water, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. Silicone oligomers were synthesized. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone oligomer was 20. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(比較例4)
実施例1と同様に、トリメトキシメチルシランを40g、メタノールを93g配合した溶液に、酢酸を0.53g、蒸留水を15.8g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーンオリゴマを合成した。得られたシリコーンオリゴマのシロキサン繰り返し単位の平均重合度は15であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Comparative Example 4)
In the same manner as in Example 1, a solution containing 40 g of trimethoxymethylsilane and 93 g of methanol was mixed with 0.53 g of acetic acid and 15.8 g of distilled water, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours to synthesize a silicone oligomer. The average degree of polymerization of siloxane repeating units of the obtained silicone oligomer was 15. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(比較例5)
実施例1と同様に、トリメトキシメチルシランを20g、テトラメトキシシランを22g、メタノールを98g配合した溶液に、酢酸を0.52g、蒸留水を18.3g配合後50℃で8時間撹拌し、シリコーンオリゴマを合成した。得られたシリコーンオリゴマのシロキサン繰り返し単位の平均重合度は25であった。この重合体溶液を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Comparative Example 5)
As in Example 1, 20 g of trimethoxymethylsilane, 22 g of tetramethoxysilane, and 98 g of methanol were mixed with 0.52 g of acetic acid and 18.3 g of distilled water, and then stirred at 50 ° C. for 8 hours. Silicone oligomers were synthesized. The average degree of polymerization of the siloxane repeating unit of the obtained silicone oligomer was 25. 25 parts of this polymer solution was blended with the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content to prepare a varnish.
(比較例6)
シリコーン重合体溶液の代りに、シランカップリング剤(CP)としてのγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー(株)製、商品名:A−187)を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Comparative Example 6)
Epoxy resin using γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., trade name: A-187) as a silane coupling agent (CP) instead of the silicone polymer solution in Example 1 A varnish was prepared by blending 25 parts of the composition in terms of solid content.
(比較例7)
シリコーン重合体溶液の代りに、シリコーンゴムパウダ(SRP)(東レダウコーニングシリコーン(株)製、商品名:トレフィルE601)を実施例1で用いたエポキシ樹脂組成物に固形分換算で25部配合して、ワニスを調製した。
(Comparative Example 7)
In place of the silicone polymer solution, 25 parts of silicone rubber powder (SRP) (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., trade name: Trefil E601) in the epoxy resin composition used in Example 1 in terms of solid content is blended. A varnish was prepared.
実施例1〜11及び比較例1〜7で作製したワニスを、厚さ約0.1mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに塗布し、150℃で5分間加熱、乾燥後、得られた樹脂をPETフィルムから揉み解してBステージの樹脂粉を得た。この樹脂粉を厚さ1.6mmのスペーサに必要量入れ、その両側に厚さ18μmの銅箔を光沢面を内側にして重ね、170℃、90分、4.0MPaでプレス後、銅箔を剥がして樹脂板を作製した。 The varnishes produced in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 7 were applied to a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of about 0.1 mm, heated at 150 ° C. for 5 minutes and dried, and then the obtained resin was PET. A B-stage resin powder was obtained by demulsifying from the film. Put the required amount of this resin powder in a 1.6 mm thick spacer, and stack 18 μm thick copper foil on both sides with the glossy surface inside, press at 170 ° C. for 90 minutes at 4.0 MPa, The resin plate was produced by peeling off.
得られた樹脂板について、次の方法で動的粘弾性を測定し、それらの結果を表1に示した。
(動的粘弾性の測定)
粘弾性測定器としてレオメトリック社製、機種名:RSA-IIを用い、25℃から250℃まで昇温し(昇温速度:10℃/分)、スパン間距離は6mmとし、引張りモードにて測定した。試験片サイズは5mm×20mmとした。得られた粘弾性曲線から50℃及び200℃の貯蔵弾性率を、tan δの最大値からTgを求めた。
The obtained resin plate was measured for dynamic viscoelasticity by the following method, and the results are shown in Table 1.
(Measurement of dynamic viscoelasticity)
Using a rheometer as a viscoelasticity measuring instrument, model name: RSA-II, raising the temperature from 25 ° C to 250 ° C (heating rate: 10 ° C / min), setting the span distance to 6 mm, and in the tension mode It was measured. The test piece size was 5 mm × 20 mm. The storage elastic modulus at 50 ° C. and 200 ° C. was obtained from the obtained viscoelastic curve, and Tg was obtained from the maximum value of tan δ.
表1から、次のことが明らかである。
実施例1〜11に係る組成物は、シリコーン重合体を配合していない比較例1に係る組成物や比較例2に係る組成物と比較して、ほとんどTg及び25℃での弾性率の低下がなく、200℃での弾性率が低減した。一方、比較例3〜6に係る組成物は、比較例1に係る組成物に比べてTgは高くなるが、200℃での弾性率が逆に高くなった。比較例7に係る組成物もTgは高くなるものの、全ての温度域の弾性率が顕著に低下した。以上から、実施例に係る組成物は、200℃における弾性率が100MPa以下であり、高温で優れた靭性を示すことが判る。
From Table 1, the following is clear.
The compositions according to Examples 1 to 11 are almost reduced in elastic modulus at Tg and 25 ° C. as compared with the composition according to Comparative Example 1 and the composition according to Comparative Example 2 in which no silicone polymer is blended. The elastic modulus at 200 ° C. was reduced. On the other hand, the compositions according to Comparative Examples 3 to 6 had higher Tg than the composition according to Comparative Example 1, but the elastic modulus at 200 ° C. was increased. Although the composition according to Comparative Example 7 also increased in Tg, the elastic modulus in all temperature ranges was significantly reduced. From the above, it can be seen that the compositions according to the examples have an elastic modulus at 200 ° C. of 100 MPa or less and exhibit excellent toughness at high temperatures.
Claims (20)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011242269A JP2012031431A (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Thermosetting resin composition and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011242269A JP2012031431A (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Thermosetting resin composition and method of producing the same |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001125538A Division JP2002322343A (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | Thermosetting resin composition and method for producing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012031431A true JP2012031431A (en) | 2012-02-16 |
Family
ID=45845187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011242269A Pending JP2012031431A (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Thermosetting resin composition and method of producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012031431A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011144386A (en) * | 2011-03-18 | 2011-07-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Thermosetting resin composition and method for producing the same |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57184242A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Molding material for sealing electronic part |
JPH05271518A (en) * | 1992-03-27 | 1993-10-19 | Nippon Soda Co Ltd | Curable resin composition |
JPH0656964A (en) * | 1991-09-30 | 1994-03-01 | Dainippon Ink & Chem Inc | Epoxy resin composition for electronic component, epoxy resin, and production of epoxy resin |
JPH1095899A (en) * | 1996-09-25 | 1998-04-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Epoxy resin composition and semiconductor device |
JPH10335534A (en) * | 1997-03-31 | 1998-12-18 | Toray Ind Inc | Wire bonding connection tape with adhesive agent, copper clad laminated board, semiconductor connecting substrate and semiconductor device |
JPH1160951A (en) * | 1997-08-19 | 1999-03-05 | Hitachi Chem Co Ltd | Resin composition for printed circuit board and prepreg, metal-clad laminate using the same |
JPH11265960A (en) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Semiconductor device with metal reinforcing material |
JPH11297904A (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Nitto Denko Corp | Semiconductor device |
JP2000109709A (en) * | 1998-10-06 | 2000-04-18 | Hitachi Ltd | Material for thermosetting resin and its production |
JP2000281756A (en) * | 1999-01-29 | 2000-10-10 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Hardener for epoxy resin and epoxy resin composition |
WO2001055243A1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Hitachi, Ltd. | Solvent-free thermosetting resin composition, process for producing the same, and product therefrom |
JP2001288249A (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Hitachi Ltd | Photocurable resin composition, process for preparation thereof, and product using it |
JP2001288244A (en) * | 2000-04-06 | 2001-10-16 | Hitachi Ltd | Thermosetting resin composition, production method thereof, and product produced by using the same |
JP2001291804A (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-19 | Hitachi Ltd | Semiconductor element and semiconductor device and semiconductor mounting structure |
JP2011144386A (en) * | 2011-03-18 | 2011-07-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Thermosetting resin composition and method for producing the same |
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011242269A patent/JP2012031431A/en active Pending
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57184242A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Molding material for sealing electronic part |
JPH0656964A (en) * | 1991-09-30 | 1994-03-01 | Dainippon Ink & Chem Inc | Epoxy resin composition for electronic component, epoxy resin, and production of epoxy resin |
JPH05271518A (en) * | 1992-03-27 | 1993-10-19 | Nippon Soda Co Ltd | Curable resin composition |
JPH1095899A (en) * | 1996-09-25 | 1998-04-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Epoxy resin composition and semiconductor device |
JPH10335534A (en) * | 1997-03-31 | 1998-12-18 | Toray Ind Inc | Wire bonding connection tape with adhesive agent, copper clad laminated board, semiconductor connecting substrate and semiconductor device |
JPH1160951A (en) * | 1997-08-19 | 1999-03-05 | Hitachi Chem Co Ltd | Resin composition for printed circuit board and prepreg, metal-clad laminate using the same |
JPH11265960A (en) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Semiconductor device with metal reinforcing material |
JPH11297904A (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Nitto Denko Corp | Semiconductor device |
JP2000109709A (en) * | 1998-10-06 | 2000-04-18 | Hitachi Ltd | Material for thermosetting resin and its production |
JP2000281756A (en) * | 1999-01-29 | 2000-10-10 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Hardener for epoxy resin and epoxy resin composition |
WO2001055243A1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Hitachi, Ltd. | Solvent-free thermosetting resin composition, process for producing the same, and product therefrom |
JP2001288249A (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Hitachi Ltd | Photocurable resin composition, process for preparation thereof, and product using it |
JP2001291804A (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-19 | Hitachi Ltd | Semiconductor element and semiconductor device and semiconductor mounting structure |
JP2001288244A (en) * | 2000-04-06 | 2001-10-16 | Hitachi Ltd | Thermosetting resin composition, production method thereof, and product produced by using the same |
JP2011144386A (en) * | 2011-03-18 | 2011-07-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Thermosetting resin composition and method for producing the same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011144386A (en) * | 2011-03-18 | 2011-07-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Thermosetting resin composition and method for producing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5545194B2 (en) | Method for producing novel silicone polymer, silicone polymer produced by the method, thermosetting resin composition, resin film, metal foil with insulating material, insulating film with double-sided metal foil, metal-clad laminate, multilayer metal-clad Laminated board and multilayer printed wiring board | |
JP5370333B2 (en) | Low thermal expansion thermosetting resin composition and resin film | |
JP4577716B2 (en) | Heat curable epoxy resin composition and article having a cured adhesive layer thereof | |
JP4656269B2 (en) | Liquid epoxy resin composition and semiconductor device | |
TWI242020B (en) | Latent curing agent for epoxy resin, and curable epoxy resin composition | |
EP1253811B1 (en) | Thermosetting resin composition and process for producing the same | |
KR101329695B1 (en) | Reworkable epoxy resin composition | |
KR101015738B1 (en) | Siloxane Copolymer and Its Preparation Method, and Thermosetting Resin Composition Using the Same | |
US20230303822A1 (en) | Thermoset Resin Compositions | |
JP2002194057A (en) | Thermosetting resin composition | |
JP2012031431A (en) | Thermosetting resin composition and method of producing the same | |
JP2011144386A (en) | Thermosetting resin composition and method for producing the same | |
JP3807188B2 (en) | Composite of epoxy resin and inorganic component and method for producing the same | |
JP4702764B2 (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof | |
JP4509539B2 (en) | Epoxy resin composition sheet | |
KR102087092B1 (en) | Paint composition | |
JP2010258462A (en) | Composite material for wiring board and production method thereof | |
KR100850618B1 (en) | Thermosetting Resin Composition With Low Thermal Expansion And Resin Film | |
JP2021050304A (en) | Resin composition, resin sheet, B stage sheet, C stage sheet, cured product, metal foil with resin, metal substrate, and power semiconductor device | |
JP4453899B2 (en) | Epoxy resin composition | |
JP2019143106A (en) | Modified polyphenylene ether resin-based polymer compound, and resin composition containing the polymer compound | |
JP2005146128A (en) | Epoxy resin composition | |
JP2012084923A (en) | Composite material for wiring board and manufacturing method thereof | |
JP2007126678A (en) | Thermosetting resin composition of low thermal expansibility and resin film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130416 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130617 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131029 |