JPH0656820A - チエニルエーテル誘導体の製造方法 - Google Patents
チエニルエーテル誘導体の製造方法Info
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- JPH0656820A JPH0656820A JP20863992A JP20863992A JPH0656820A JP H0656820 A JPH0656820 A JP H0656820A JP 20863992 A JP20863992 A JP 20863992A JP 20863992 A JP20863992 A JP 20863992A JP H0656820 A JPH0656820 A JP H0656820A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 下記式（１）
（式中、Ａはアルカリ金属原子、Ｒ1はシアノ基等、Ｒ2
は水素原子等を示す。）で表されるヒドロキシチオフェ
ン金属塩誘導体と下記式（２） Ｒ3Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ3はアルキル基等を示
す。）で表されるハロゲノ化合物とを反応させることを
特徴とする下記式（３） で表されるチエニルエーテル誘導体の製造方法。 【効果】 上記の製造方法は、高収率でチエニルエーテ
ル誘導体を得ることができ、特に、アルコール系の有機
溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘導体を得ること
が可能である。
は水素原子等を示す。）で表されるヒドロキシチオフェ
ン金属塩誘導体と下記式（２） Ｒ3Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ3はアルキル基等を示
す。）で表されるハロゲノ化合物とを反応させることを
特徴とする下記式（３） で表されるチエニルエーテル誘導体の製造方法。 【効果】 上記の製造方法は、高収率でチエニルエーテ
ル誘導体を得ることができ、特に、アルコール系の有機
溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘導体を得ること
が可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はチエニルエーテル誘導体
の製造方法に関する。より詳しくは、チエニルエーテル
誘導体を選択性よく、しかも高収率で製造する新規な製
造方法に関する。
の製造方法に関する。より詳しくは、チエニルエーテル
誘導体を選択性よく、しかも高収率で製造する新規な製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】チエニルエーテル誘導体は、農薬、医薬
や機能性高分子モノマーの中間体として広範囲に利用し
得る有用な化合物である。
や機能性高分子モノマーの中間体として広範囲に利用し
得る有用な化合物である。
【０００３】上記のチエニルエーテル誘導体の一種であ
る３−メトキシチオフェンカルボン酸誘導体は、従来３
−ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体にジアゾメタ
ンを反応させて、いわゆる３−ヒドロキシチオフェンカ
ルボン酸誘導体のアルキル化により得られていた。
る３−メトキシチオフェンカルボン酸誘導体は、従来３
−ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体にジアゾメタ
ンを反応させて、いわゆる３−ヒドロキシチオフェンカ
ルボン酸誘導体のアルキル化により得られていた。
【０００４】そして、上記の３−ヒドロキシチオフェン
カルボン酸誘導体は、一般に、アルコール溶媒中、チオ
グリコール酸誘導体の環化反応によって得られる。例え
ば、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル
は、α、β−ジクロロプロピオン酸メチルとチオグリコ
ール酸メチルとをメタノール溶媒中で反応させて製造す
ることが、シンセティック・コミニケーション（Ｓｙｎ
ｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，９，７３１（１９７９））に記
載されている。従って、目的とするチエニルエーテル誘
導体の製造を環化反応からの連続反応により行う場合に
は、前記のアルキル化を主としてアルコール中で行うこ
とになる。
カルボン酸誘導体は、一般に、アルコール溶媒中、チオ
グリコール酸誘導体の環化反応によって得られる。例え
ば、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル
は、α、β−ジクロロプロピオン酸メチルとチオグリコ
ール酸メチルとをメタノール溶媒中で反応させて製造す
ることが、シンセティック・コミニケーション（Ｓｙｎ
ｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，９，７３１（１９７９））に記
載されている。従って、目的とするチエニルエーテル誘
導体の製造を環化反応からの連続反応により行う場合に
は、前記のアルキル化を主としてアルコール中で行うこ
とになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのア
ルコール中で使用されるアルキル化剤として前記のジア
ゾメタンを用いると、収率良くチエニルエーテル誘導体
を製造することは困難であった。尚、そのジアゾメタン
には、爆発性があり、工業的に使用しづらいという問題
がある。
ルコール中で使用されるアルキル化剤として前記のジア
ゾメタンを用いると、収率良くチエニルエーテル誘導体
を製造することは困難であった。尚、そのジアゾメタン
には、爆発性があり、工業的に使用しづらいという問題
がある。
【０００６】従って、上記の問題を解決すること、即ち
チエニルエーテル誘導体を収率良く製造することが課題
となっている。
チエニルエーテル誘導体を収率良く製造することが課題
となっている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、原料とし
て特定の一般式で表されるハロゲノ化合物及びヒドロキ
シチオフェン金属塩誘導体を使用すると、収率良く、チ
エニルエーテル誘導体を製造しうることを見い出し、本
発明を完成するに至った。
て特定の一般式で表されるハロゲノ化合物及びヒドロキ
シチオフェン金属塩誘導体を使用すると、収率良く、チ
エニルエーテル誘導体を製造しうることを見い出し、本
発明を完成するに至った。
【０００８】即ち、本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化３】
【００１０】（式中、Ａはアルカリ金属原子を示し、Ｒ
1はシアノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基又はアミノカルボニル基を示し、Ｒ2は水素
原子、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアルキル
基、置換もしくは非置換のフェニル基、ニトロ基、シア
ノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基又はアミノカルボニル基を示す。）で表されるヒドロ
キシチオフェン金属塩誘導体と、一般式（２） Ｒ3Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3はアルキル基、
アルケニル基又はアルキニル基を示す。）で表されるハ
ロゲノ化合物とを反応させることを特徴とする一般式
（３）
1はシアノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基又はアミノカルボニル基を示し、Ｒ2は水素
原子、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアルキル
基、置換もしくは非置換のフェニル基、ニトロ基、シア
ノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基又はアミノカルボニル基を示す。）で表されるヒドロ
キシチオフェン金属塩誘導体と、一般式（２） Ｒ3Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3はアルキル基、
アルケニル基又はアルキニル基を示す。）で表されるハ
ロゲノ化合物とを反応させることを特徴とする一般式
（３）
【００１１】
【化４】
【００１２】（式中、Ｒ1及びＲ2は前記一般式（１）に
おけるＲ1及びＲ2とそれぞれ同一であり、Ｒ3は前記一
般式（２）におけるＲ3と同一である。）で表されるチ
エニルエーテル誘導体の製造方法に関する。
おけるＲ1及びＲ2とそれぞれ同一であり、Ｒ3は前記一
般式（２）におけるＲ3と同一である。）で表されるチ
エニルエーテル誘導体の製造方法に関する。
【００１３】本発明において使用する原料の一つは、前
記した一般式（１）で表されるヒドロキシチオフェン金
属塩誘導体である。上記一般式（１）中、Ａで示される
アルカリ金属原子としてはナトリウム、カリウム、リチ
ウム等が好適に用いられる。前記一般式（１）中、Ｒ1
又はＲ2で示されるアルコキシカルボニル基はその炭素
数には特に限定されないが、炭素数２〜７のものが好適
に用いられ、具体的には、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓ
ｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル
基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカル
ボニル基、ｎ−ペントキシカルボニル基、ｎ−ヘキソキ
シカルボニル基等が例として挙げられる。
記した一般式（１）で表されるヒドロキシチオフェン金
属塩誘導体である。上記一般式（１）中、Ａで示される
アルカリ金属原子としてはナトリウム、カリウム、リチ
ウム等が好適に用いられる。前記一般式（１）中、Ｒ1
又はＲ2で示されるアルコキシカルボニル基はその炭素
数には特に限定されないが、炭素数２〜７のものが好適
に用いられ、具体的には、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓ
ｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル
基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカル
ボニル基、ｎ−ペントキシカルボニル基、ｎ−ヘキソキ
シカルボニル基等が例として挙げられる。
【００１４】一般式（１）中、Ｒ1又はＲ2で示されるア
ミノカルボニル基は窒素原子上に１つまたは２つのアル
キル基置換またはアルコキシ基置換したものを含む。該
アルキル基を例示すると、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基等が挙げられる。また、該アルコキシ基を例示す
ると、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ
ｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。
ミノカルボニル基は窒素原子上に１つまたは２つのアル
キル基置換またはアルコキシ基置換したものを含む。該
アルキル基を例示すると、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基等が挙げられる。また、該アルコキシ基を例示す
ると、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ
ｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００１５】一般式（１）中、Ｒ2で示されるハロゲン
原子としては例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙
げられる。
原子としては例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙
げられる。
【００１６】一般式（１）中、Ｒ2で示されるアルキル
基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数１〜６
のものが好適に使用される。該アルキル基を例示する
と、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。 一般式（１）中、Ｒ2で示される置換アルキル基
又は置換フェニル基の置換基は特に限定されないが、反
応に不活性な置換基が好適である。特に好適に使用でき
る置換基としては、例えばハロゲン原子；ニトロ基；水
酸基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基等のアルキル基；クロロメチル基、ジフロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ト
リフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等のハロ
ゲノアルキル基；フェニル基等が挙げられる。
基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数１〜６
のものが好適に使用される。該アルキル基を例示する
と、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。 一般式（１）中、Ｒ2で示される置換アルキル基
又は置換フェニル基の置換基は特に限定されないが、反
応に不活性な置換基が好適である。特に好適に使用でき
る置換基としては、例えばハロゲン原子；ニトロ基；水
酸基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基等のアルキル基；クロロメチル基、ジフロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ト
リフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等のハロ
ゲノアルキル基；フェニル基等が挙げられる。
【００１７】上記のヒドロキシチオフェン金属塩誘導体
を具体的に例示すると次のとおりである。
を具体的に例示すると次のとおりである。
【００１８】３−ヒドロキシ−５−メチルチオフェンカ
ルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−メチルチ
オフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−エチルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒド
ロキシ−５−エチルチオフェンカルボン酸エチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプロピルチオフェンカルボ
ン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプロピルチ
オフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボ
ン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチルチオ
フェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
ｎブチルチオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−ｉｓｏブチルチオフェンカルボン酸メチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏブチルチオフェンカル
ボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔブチ
ルチオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−
５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカルボン酸エチルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカ
ルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−（３′−ク
ロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３
−ヒドロキシ−５−（２′−クロロフェニル）チオフェ
ンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
（４′−クロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチル
Ｎａ塩、３−ヒドロキシ−５−（２′，４′−ジクロロ
フェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−（３′，４′−ジクロロフェニル）チオ
フェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
ブロモチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−クロロチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェ
ニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−（４′−イソプロピルフェニル）チオフェン
カルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′
−メトキシフェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロチオフェンカルボン酸
メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロチオフェン
カルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロ
チオフェンカルボン酸イソプロピルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−シアノチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸エチ
ルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′−トリクロロフ
ェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒド
ロキシ−５−（４′−トリクロロフェニル）チオフェン
カルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−トリフ
ルオロメチルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ジフルオロメチルチオフェンカルボン
酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フルオロメチルチ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
フルオロチオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−メチルチオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−エチルチオフェンカルボン酸フェ
ニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカ
ルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒドロキシ−２，５−ジチ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩等。
ルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−メチルチ
オフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−エチルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒド
ロキシ−５−エチルチオフェンカルボン酸エチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプロピルチオフェンカルボ
ン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプロピルチ
オフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボ
ン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチルチオ
フェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
ｎブチルチオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−ｉｓｏブチルチオフェンカルボン酸メチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏブチルチオフェンカル
ボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔブチ
ルチオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−
５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカルボン酸エチルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカ
ルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−（３′−ク
ロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３
−ヒドロキシ−５−（２′−クロロフェニル）チオフェ
ンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
（４′−クロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチル
Ｎａ塩、３−ヒドロキシ−５−（２′，４′−ジクロロ
フェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−（３′，４′−ジクロロフェニル）チオ
フェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
ブロモチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−クロロチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェ
ニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−（４′−イソプロピルフェニル）チオフェン
カルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′
−メトキシフェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロチオフェンカルボン酸
メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロチオフェン
カルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロ
チオフェンカルボン酸イソプロピルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−シアノチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、
３−ヒドロキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸エチ
ルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′−トリクロロフ
ェニル）チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒド
ロキシ−５−（４′−トリクロロフェニル）チオフェン
カルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−トリフ
ルオロメチルチオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ジフルオロメチルチオフェンカルボン
酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フルオロメチルチ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
フルオロチオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−メチルチオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−エチルチオフェンカルボン酸フェ
ニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルチオフェンカ
ルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒドロキシ−２，５−ジチ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩等。
【００１９】４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル
−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メチル−
４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフ
ェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メトキシ−４−ヒドロ
キシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボ
キサミドＮａ塩、Ｎ−エトキシ−４−ヒドロキシ−５−
メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＮ
ａ塩、Ｎ−フェノキシ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ
カルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＫ塩、３−
ヒドロキシ−２，５−ジシアノチオフェンＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチ
ルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェン
カルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−
５−チオフェンカルボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ塩、３−
ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸フ
ェニルＫ塩等。
−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メチル−
４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフ
ェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メトキシ−４−ヒドロ
キシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボ
キサミドＮａ塩、Ｎ−エトキシ−４−ヒドロキシ−５−
メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＮ
ａ塩、Ｎ−フェノキシ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ
カルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＫ塩、３−
ヒドロキシ−２，５−ジシアノチオフェンＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチ
ルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェン
カルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−
５−チオフェンカルボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ塩、３−
ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸フ
ェニルＫ塩等。
【００２０】本発明で用いられる原料の他の一つは、前
記した一般式（２）で表されるハロゲノ化合物である。
記した一般式（２）で表されるハロゲノ化合物である。
【００２１】上記一般式（２）中、Ｒ3で示されるアル
キル基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数１
〜６のものが好適に用いられる。該アルキル基を例示す
ると、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。
キル基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数１
〜６のものが好適に用いられる。該アルキル基を例示す
ると、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。
【００２２】上記一般式（２）中、Ｒ3で示されるアル
ケニル基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数
３〜６のものが好適に用いられる。該アルケニル基を例
示すると、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基等が挙げられる。 上記一般式（２）中、
Ｒ3で示されるアルキニル基はその炭素数には特に限定
されないが、炭素数３〜６のものが好適に用いられる。
該アルキニル基を例示すると、プロピニル基、ブチニル
基、ペンチル基、ヘキシニル基等が挙げられる。
ケニル基はその炭素数には特に限定されないが、炭素数
３〜６のものが好適に用いられる。該アルケニル基を例
示すると、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基等が挙げられる。 上記一般式（２）中、
Ｒ3で示されるアルキニル基はその炭素数には特に限定
されないが、炭素数３〜６のものが好適に用いられる。
該アルキニル基を例示すると、プロピニル基、ブチニル
基、ペンチル基、ヘキシニル基等が挙げられる。
【００２３】上記一般式（２）中、Ｘで示されるハロゲ
ン原子としては例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が
挙げられる。
ン原子としては例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が
挙げられる。
【００２４】前記の一般式（２）で表されるハロゲノ化
合物を例示すると次のとおりである。
合物を例示すると次のとおりである。
【００２５】塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、
塩化ブチル、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、
臭化ブチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロ
ピル、ヨウ化ブチル、塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化
アリル、塩化メタリル、塩化プロパルギル等。
塩化ブチル、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、
臭化ブチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロ
ピル、ヨウ化ブチル、塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化
アリル、塩化メタリル、塩化プロパルギル等。
【００２６】本発明の反応は、通常有機溶媒中で行われ
る。この有機溶媒としては、例えばジエチルエーテル、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
・アセトン・メチルエチルケトン等のケトン類・ジメチ
ルホルムアミド・ジメチルスルホキシドの他に、メタノ
ール、エタノール等のアルコール等が挙げられる。この
うち、アルコールを使用した場合、アルコール溶媒中に
おけるチオグリコール酸誘導体の環化反応によって得ら
れるヒドロキシチオフェン金属塩誘導体及びアルコール
が含まれてなる液をそのまま原料として使用でき、環化
反応からのチエニルエーテル誘導体の製造を速やかに行
うことができるという点で有利である。又、前記の有機
溶媒は、通常ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体を基準
に１〜１００倍（容量比）使用する。
る。この有機溶媒としては、例えばジエチルエーテル、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
・アセトン・メチルエチルケトン等のケトン類・ジメチ
ルホルムアミド・ジメチルスルホキシドの他に、メタノ
ール、エタノール等のアルコール等が挙げられる。この
うち、アルコールを使用した場合、アルコール溶媒中に
おけるチオグリコール酸誘導体の環化反応によって得ら
れるヒドロキシチオフェン金属塩誘導体及びアルコール
が含まれてなる液をそのまま原料として使用でき、環化
反応からのチエニルエーテル誘導体の製造を速やかに行
うことができるという点で有利である。又、前記の有機
溶媒は、通常ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体を基準
に１〜１００倍（容量比）使用する。
【００２７】本発明において、原料のヒドロキシチオフ
ェン金属塩誘導体とハロゲノ化合物の使用モル比は、特
に限定されるものではないが、一般には１：１〜１：１
００、好ましくは１：１〜１：２０の範囲で使用するの
がよい。
ェン金属塩誘導体とハロゲノ化合物の使用モル比は、特
に限定されるものではないが、一般には１：１〜１：１
００、好ましくは１：１〜１：２０の範囲で使用するの
がよい。
【００２８】本発明において、反応温度は特に限定され
ず、広い温度範囲で選びうるが、一般には−７０℃〜２
００℃の範囲、好ましくは−１０℃〜１５０℃の範囲か
ら選ぶのがよい。また、本発明の反応時間は特に限定さ
れず、使用原料及び使用量、反応温度等の反応条件等に
より異なるが、通常１〜４０時間、好ましくは４〜２４
時間である。
ず、広い温度範囲で選びうるが、一般には−７０℃〜２
００℃の範囲、好ましくは−１０℃〜１５０℃の範囲か
ら選ぶのがよい。また、本発明の反応時間は特に限定さ
れず、使用原料及び使用量、反応温度等の反応条件等に
より異なるが、通常１〜４０時間、好ましくは４〜２４
時間である。
【００２９】本発明の製造方法において、使用する原料
等の添加順序について特に限定されるものではないが、
通常、ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体を有機溶媒に
配合した後、撹拌しながらハロゲノ化合物を徐々に滴下
或いは吹き込むことによってチエニルエーテル誘導体を
生成することができる。
等の添加順序について特に限定されるものではないが、
通常、ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体を有機溶媒に
配合した後、撹拌しながらハロゲノ化合物を徐々に滴下
或いは吹き込むことによってチエニルエーテル誘導体を
生成することができる。
【００３０】本発明の方法により得られるチエニルエー
テル誘導体は、精製することも差し支えない。その精製
方法は、特に限定されるものではないが、一般に、該チ
エニルエーテル誘導体が含まれてなる液を濃縮後、得ら
れた濃縮物に水を加え、反応生成物である該チエニルエ
ーテル誘導体を溶解させる溶剤によって抽出し、水層と
分離し、次いで溶剤を蒸留等により除去することによ
り、チエニルエーテル誘導体を精製することができる。
更に、必要に応じて常圧蒸留、減圧蒸留、再結晶または
クロマトグラフィー等によって精製することができる。
テル誘導体は、精製することも差し支えない。その精製
方法は、特に限定されるものではないが、一般に、該チ
エニルエーテル誘導体が含まれてなる液を濃縮後、得ら
れた濃縮物に水を加え、反応生成物である該チエニルエ
ーテル誘導体を溶解させる溶剤によって抽出し、水層と
分離し、次いで溶剤を蒸留等により除去することによ
り、チエニルエーテル誘導体を精製することができる。
更に、必要に応じて常圧蒸留、減圧蒸留、再結晶または
クロマトグラフィー等によって精製することができる。
【００３１】本発明の製造方法により得られるチエニル
エーテル誘導体は、一般式（３）で表されるものであ
り、具体的に例示すると下記の通りである。
エーテル誘導体は、一般式（３）で表されるものであ
り、具体的に例示すると下記の通りである。
【００３２】３−メトキシ−５−メチルチオフェンカル
ボン酸メチル、３−エトキシ−５−メチルチオフェンカ
ルボン酸エチル、３−メトキシ−５−エチルチオフェン
カルボン酸メチル、３−ｉｓｏプロポキシ−５−エチル
チオフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−ｎプ
ロピルチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ｎプロピルチオフェンカルボン酸エチル、３−エトキ
シ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン酸メチル、
３−メトキシ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン
酸エチル、３−ｉｓｏプロポキシ−５−ｎブチルチオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−ｎブチルチ
オフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−ｉｓｏ
ブチルチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ｉｓｏブチルチオフェンカルボン酸エチル、３−エト
キシ−５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカルボン酸メチ
ル、３−エトキシ−５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカル
ボン酸エチル、３−メトキシ−５−フェニルチオフェン
カルボン酸メチル、３−エトキシ−５−フェニルチオフ
ェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−（３′−ク
ロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチル、３−メト
キシ−５−（２′−クロロフェニル）チオフェンカルボ
ン酸メチル、３−メトキシ−５−（４′−クロロフェニ
ル）チオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−
（２′，４′−ジクロロフェニル）チオフェンカルボン
酸メチル、３−メトキシ−５−（３′，４′−ジクロロ
フェニル）チオフェンカルボン酸メチル、３−エトキシ
−５−ブロモチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキ
シ−５−クロロチオフェンカルボン酸メチル、３−ｎプ
ロポキシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェニル）
チオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−
（４′−イソプロピルフェニル）チオフェンカルボン酸
メチル、３−メトキシ−５−（４′−メトキシフェニ
ル）チオフェンカルボン酸メチル、３−エトキシ−５−
ニトロチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ニトロチオフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−
５−ニトロチオフェンカルボン酸イソプロピル、３−メ
トキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸メチル、３−
エトキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸エチル、３
−エトキシ−５−（４′−トリクロロフェニル）チオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−（４′−ト
リクロロフェニル）チオフェンカルボン酸エチル、３−
メトキシ−５−トリフルオロメチルチオフェンカルボン
酸メチル、３−メトキシ−５−ジフルオロメチルチオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−フルオロメ
チルチオフェンカルボン酸メチル、３−エトロキシ−５
−フルオロチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ
−５−メチルチオフェンカルボン酸フェニル、３−メト
キシ−５−エチルチオフェンカルボン酸フェニル、３−
メトキシ−５−フェニルチオフェンカルボン酸フェニ
ル、４−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオ
フェンカルボキサミド、Ｎ−メチル−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、Ｎ−メトキシ−４−エトキシ−５−メトキシカルボ
ニル−２−チオフェンカルボキサミド、Ｎ−エトキシ−
４−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェ
ンカルボキサミド、Ｎ−フェノキシ−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、４−メトキシ−２，５−ジシアノチオフェン、４−
エトキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチ
ル、４−エトキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボ
ン酸エチル、４−エトキシ−２−シアノ−５−チオフェ
ンカルボン酸ｉｓｏ−プロピル、４−メトキシ−２−シ
アノ−５−チオフェンカルボン酸フェニル等。
ボン酸メチル、３−エトキシ−５−メチルチオフェンカ
ルボン酸エチル、３−メトキシ−５−エチルチオフェン
カルボン酸メチル、３−ｉｓｏプロポキシ−５−エチル
チオフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−ｎプ
ロピルチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ｎプロピルチオフェンカルボン酸エチル、３−エトキ
シ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン酸メチル、
３−メトキシ−５−ｉｓｏプロピルチオフェンカルボン
酸エチル、３−ｉｓｏプロポキシ−５−ｎブチルチオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−ｎブチルチ
オフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−ｉｓｏ
ブチルチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ｉｓｏブチルチオフェンカルボン酸エチル、３−エト
キシ−５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカルボン酸メチ
ル、３−エトキシ−５−ｔｅｒｔブチルチオフェンカル
ボン酸エチル、３−メトキシ−５−フェニルチオフェン
カルボン酸メチル、３−エトキシ−５−フェニルチオフ
ェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−５−（３′−ク
ロロフェニル）チオフェンカルボン酸メチル、３−メト
キシ−５−（２′−クロロフェニル）チオフェンカルボ
ン酸メチル、３−メトキシ−５−（４′−クロロフェニ
ル）チオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−
（２′，４′−ジクロロフェニル）チオフェンカルボン
酸メチル、３−メトキシ−５−（３′，４′−ジクロロ
フェニル）チオフェンカルボン酸メチル、３−エトキシ
−５−ブロモチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキ
シ−５−クロロチオフェンカルボン酸メチル、３−ｎプ
ロポキシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェニル）
チオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−
（４′−イソプロピルフェニル）チオフェンカルボン酸
メチル、３−メトキシ−５−（４′−メトキシフェニ
ル）チオフェンカルボン酸メチル、３−エトキシ−５−
ニトロチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５
−ニトロチオフェンカルボン酸エチル、３−メトキシ−
５−ニトロチオフェンカルボン酸イソプロピル、３−メ
トキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸メチル、３−
エトキシ−５−シアノチオフェンカルボン酸エチル、３
−エトキシ−５−（４′−トリクロロフェニル）チオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−（４′−ト
リクロロフェニル）チオフェンカルボン酸エチル、３−
メトキシ−５−トリフルオロメチルチオフェンカルボン
酸メチル、３−メトキシ−５−ジフルオロメチルチオフ
ェンカルボン酸メチル、３−メトキシ−５−フルオロメ
チルチオフェンカルボン酸メチル、３−エトロキシ−５
−フルオロチオフェンカルボン酸メチル、３−メトキシ
−５−メチルチオフェンカルボン酸フェニル、３−メト
キシ−５−エチルチオフェンカルボン酸フェニル、３−
メトキシ−５−フェニルチオフェンカルボン酸フェニ
ル、４−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオ
フェンカルボキサミド、Ｎ−メチル−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、Ｎ−メトキシ−４−エトキシ−５−メトキシカルボ
ニル−２−チオフェンカルボキサミド、Ｎ−エトキシ−
４−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェ
ンカルボキサミド、Ｎ−フェノキシ−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、４−メトキシ−２，５−ジシアノチオフェン、４−
エトキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチ
ル、４−エトキシ−２−シアノ−５−チオフェンカルボ
ン酸エチル、４−エトキシ−２−シアノ−５−チオフェ
ンカルボン酸ｉｓｏ−プロピル、４−メトキシ−２−シ
アノ−５−チオフェンカルボン酸フェニル等。
【００３３】本発明の製造方法により得られるチエニル
エーテル誘導体は、1Ｈ−ＮＭＲ分析によるδ値、即ち
アルコキシ基プロトンに起因するδ値が１．５〜２．５
ｐｐｍ及び３．２〜５．０ｐｐｍ付近に、チオフェン環
プロトンに起因するδ値が６．５〜８．５ｐｐｍ付近
に、及び各種の置換基プロトンに起因する特定のδ値が
それぞれ観察され、その結果により構造を確認できる
が、その他元素分析、ＩＲ分析等により構造を確認する
こともできる。
エーテル誘導体は、1Ｈ−ＮＭＲ分析によるδ値、即ち
アルコキシ基プロトンに起因するδ値が１．５〜２．５
ｐｐｍ及び３．２〜５．０ｐｐｍ付近に、チオフェン環
プロトンに起因するδ値が６．５〜８．５ｐｐｍ付近
に、及び各種の置換基プロトンに起因する特定のδ値が
それぞれ観察され、その結果により構造を確認できる
が、その他元素分析、ＩＲ分析等により構造を確認する
こともできる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の製造方法は、高収率でチエニル
エーテル誘導体を得ることができるものである。特に、
アルコール系の有機溶媒中でも高収率でチエニルエーテ
ル誘導体を得ることが可能である。
エーテル誘導体を得ることができるものである。特に、
アルコール系の有機溶媒中でも高収率でチエニルエーテ
ル誘導体を得ることが可能である。
【００３５】
【実施例】本発明をさらに具体的に説明するため、以下
に実施例及び比較例を示すが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
に実施例及び比較例を示すが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
【００３６】実施例１ １Ｌのオートクレーブに３−ヒドロキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルのナトリウム塩２７ｇ（０．１５ｍ
ｏｌ）とメタノール２００ｍｌを入れ、塩化メチル６
１.６４ｇ（１.２２ｍｏｌ）を加えた後、８０℃で１３
時間反応させた。この時、ゲージ圧は、７．３から６．
０ｋｇ／ｃｍ2に変化した。
ンカルボン酸メチルのナトリウム塩２７ｇ（０．１５ｍ
ｏｌ）とメタノール２００ｍｌを入れ、塩化メチル６
１.６４ｇ（１.２２ｍｏｌ）を加えた後、８０℃で１３
時間反応させた。この時、ゲージ圧は、７．３から６．
０ｋｇ／ｃｍ2に変化した。
【００３７】反応終了後、反応液を濃縮した。水１００
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である３−メトキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得た。
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である３−メトキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得た。
【００３８】実施例２ 撹拌機を備えた２００ｍｌの三ツ口フラスコに５−フェ
ニル−３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチ
ルのカリウム塩４０．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）とメタノ
ール２００ｍｌを入れ、塩化メチル６１.６４ｇ（１.２
２ｍｏｌ）を加え、８０℃で１０時間反応させた。この
時、ゲージ圧は、７．４から６．０ｋｇ／ｃｍ2に変化
した。
ニル−３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチ
ルのカリウム塩４０．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）とメタノ
ール２００ｍｌを入れ、塩化メチル６１.６４ｇ（１.２
２ｍｏｌ）を加え、８０℃で１０時間反応させた。この
時、ゲージ圧は、７．４から６．０ｋｇ／ｃｍ2に変化
した。
【００３９】反応終了後、反応液を濃縮した。水１００
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である５−フェニル−３−メトキシ
−２−チオフェンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得
た。
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である５−フェニル−３−メトキシ
−２−チオフェンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得
た。
【００４０】実施例３ 撹拌機を備えた２００ｍｌの三ツ口フラスコに５−エト
キシカルボニル−３−ヒドロキシ−２−チオフェンカル
ボン酸エチルのナトリウム塩３９．９ｇ（０．１５ｍｏ
ｌ）とエタノール２００ｍｌ溶液を入れ、塩化メチル６
１.６４ｇ（１.２２ｍｏｌ）を加え、８０℃で１１時間
反応させた。この時、ゲージ圧は、６．４から５．０ｋ
ｇ／ｃｍ2に変化した。
キシカルボニル−３−ヒドロキシ−２−チオフェンカル
ボン酸エチルのナトリウム塩３９．９ｇ（０．１５ｍｏ
ｌ）とエタノール２００ｍｌ溶液を入れ、塩化メチル６
１.６４ｇ（１.２２ｍｏｌ）を加え、８０℃で１１時間
反応させた。この時、ゲージ圧は、６．４から５．０ｋ
ｇ／ｃｍ2に変化した。
【００４１】反応終了後、反応液を濃縮した。水１００
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である５−フェニル−３−エトキシ
−２−チオフェンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得
た。
ｍｌと塩化メチレン１００ｍｌを加え、塩化メチレン層
を水層から分離し、次いで塩化メチレンを留去すること
により、淡黄色固体である５−フェニル−３−エトキシ
−２−チオフェンカルボン酸メチルをほぼ定量的に得
た。
【００４２】実施例４ ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体、ハロゲノ化合物及
び有機溶媒のそれぞれ種類、反応温度及び反応時間を変
えた以外は、実施例１と同様にしてチエニルエーテル誘
導体を製造した。ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体と
しては前記一般式（１）で示され、かつＡ，Ｒ1及びＲ2
が表Ａ−１〜７に示す通りのもの、ハロゲノ化合物とし
ては前記一般式（２）で示され、かつＲ3及びＸが表Ａ
１〜７に示す通りのものをそれぞれ使用した。また、反
応温度及び反応時間は、表Ａ−１〜７に示す通りとし
た。
び有機溶媒のそれぞれ種類、反応温度及び反応時間を変
えた以外は、実施例１と同様にしてチエニルエーテル誘
導体を製造した。ヒドロキシチオフェン金属塩誘導体と
しては前記一般式（１）で示され、かつＡ，Ｒ1及びＲ2
が表Ａ−１〜７に示す通りのもの、ハロゲノ化合物とし
ては前記一般式（２）で示され、かつＲ3及びＸが表Ａ
１〜７に示す通りのものをそれぞれ使用した。また、反
応温度及び反応時間は、表Ａ−１〜７に示す通りとし
た。
【００４３】得られたチエニルエーテル誘導体は、一般
式（３）で示され、かつＲ1，Ｒ2及びＲ3が表Ａ−１〜
７に示す通りのものであった。また、収率は、表Ａ−１
〜７に示す通りであった。
式（３）で示され、かつＲ1，Ｒ2及びＲ3が表Ａ−１〜
７に示す通りのものであった。また、収率は、表Ａ−１
〜７に示す通りであった。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【表３】
【００４７】
【表４】
【００４８】
【表５】
【００４９】
【表６】
【００５０】
【表７】
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ａはアルカリ金属原子を示し、Ｒ1はシアノ
基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基
又はアミノカルボニル基を示し、Ｒ2は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もし
くは非置換のフェニル基、ニトロ基、シアノ基、アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基又はアミノ
カルボニル基を示す。）で表されるヒドロキシチオフェ
ン金属塩誘導体と一般式（２） Ｒ3Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3はアルキル基、
アルケニル基又はアルキニル基を示す。）で表されるハ
ロゲノ化合物とを反応させることを特徴とする一般式
（３） 【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2は前記一般式（１）におけるＲ1及
びＲ2とそれぞれ同一であり、及びＲ3は前記一般式
（２）におけるＲ3と同一である。）で表されるチエニ
ルエーテル誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20863992A JP3159405B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20863992A JP3159405B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0656820A true JPH0656820A (ja) | 1994-03-01 |
| JP3159405B2 JP3159405B2 (ja) | 2001-04-23 |
Family
ID=16559575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20863992A Expired - Fee Related JP3159405B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3159405B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6035469B1 (ja) * | 2016-04-01 | 2016-11-30 | 株式会社Ｗｉｎｄｙ | お薬カレンダー、お薬カレンダーを使用した服薬見守りシステム、及びお薬カレンダー個別製造システム |
-
1992
- 1992-08-05 JP JP20863992A patent/JP3159405B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3159405B2 (ja) | 2001-04-23 |
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