JPH0656760U - 高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 プラズマから２次元面検出器までの光路中に
プラズマからの発光を透過させたり遮断させたりする遮
断装置を設け、光の測定をしていない時には検出器の全
面でプラズマの光を遮断し、測定している時には分析に
不要な検出面でプラズマの光を遮断する。 【効果】 検出器に入射する光の量を削減でき、検出器
の劣化を少なくできる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置に関し、特に２次元面検出器を用い た装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来は、２次元面検出器の代わりに光電子増倍管を用いた装置が用いられいた 。光電子増倍管を用いた装置では、特に遮断装置を設けていなかった。また、試 料をプラズマ発光させて、そのプラズマ光を分光器により分光させ、その分光し た光を２次元的に検出する２次元面検出器を用いた高周波誘導結合プラズマ発光 分光分析装置でも、同様に遮断装置を設けていなかった。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

光電子増倍管を用いる場合には、分析する光のみが検出器に入射するように分 光器が構成される。２次元面検出器を用いる場合には、プラズマからの光の全部 が検出器に入射するように分光器が構成される。

【０００４】 一方、検出器は、一般に光が入射すると性能が劣化する。 光電子増倍管を用いる場合には、分光する光のみが検出器に入射すること、検 出面が大きいこと、光電子増倍管の直前にスリットを入れて光量を制限すること などのため、性能の劣化は、あまり大きくなかった。また、劣化は分析のための 光によって生じるものであり、劣化することは分析するために避けられないこと であった。劣化した場合も、分光器に於ける検出位置は、スリットで決まってい るため、交換は容易であった。

【０００５】 ところが、２次元面検出器を用いる場合には、検出面の分析に供されない部分 にも常に光が入射すること、検出面が光電子増倍管に比べて１／１００以下と極 めて小さいこと、スリット等がないため入射光が制限されていないことなどによ り、光電子増倍管を用いていた場合と比べ、検出器は非常に速く劣化する。

【０００６】 また、２次元面検出器では、直前にスリットを設けず検出面のセルの一つ一つ がスリットの役目を果たすため、分光器に置ける検出位置は、検出器の位置によ って決まる。このため、劣化した場合には、交換時に分光器の再調整、特に位置 の調整が必要であり、検出器の交換が難しかった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

プラズマと検出器の間に遮断装置を設け、分析に不必要でかつ劣化を早めるよ うな光を遮断する。このときに次の二つの手段が考えられる。 ひとつは、測定していない時間にプラズマからの光を遮断する手段を設けるこ と。

【０００８】 もう一つは、分析に不要な検出面の部分への光の入射を遮断する手段を設ける ことである。

【０００９】

【作用】

光の測定をしていない時には、２次元検出器の全面に入射するプラズマの光を 光を遮断する遮断手段により、測定時には、分析に不要な検出面に入射するプラ ズマの光を遮断することができる。そして、２次元検出器の劣化を極力防止する ことができる。

【００１０】

【実施例】

以下実施例に基づき、詳細に説明する。 なお、本高周波誘導結合プラズマ発光分析装置の分析測定原理は、既に公知で あるので、ここでは説明を省略する。

【００１１】 図１は、本考案の実施例である。図示しないプラズマ発生装置によってプラズ マ１が生成し、図示しない試料導入装置によってプラズマ１に試料が導入され、 プラズマ１から分析に供される光が発光する。プラズマ１から出た光は、分光器 ３に入射スリット３ａを通って、分光器３の２次元面検出器４に到達し、測定が 行なわれる。２はその光路を示している。入射スリット３ａを通った光はコリメ ートミラー２１により平行光線または集束光線となり、そして回折格子２２に入 射する。回折格子２２にて光線は分光されて反射される。回折格子２２にて分光 された光は、屈折板２３によりその光路２が曲げられる。屈折板２３を通過した 光は、カメラミラー２４にて反射され、そして分光した光の広がりを制御される 。カメラミラー２４にて反射した光は、分光器３内の２次元面検出器４にてその 光の強度分布を検出する。２次元面検出器４にて検出された光の強度分布に基づ き試料の成分及び濃度が検出さる。なお、２次元面検出器４は、ＣＣＤ、または ＣＩＤ装置よりなる。

【００１２】 カメラミラー２４と２次元面検出器４との光路２上でかつ２次元面検出器４に 近い位置に、光が２次面検出に入射するのを任意に遮断を行う完全遮断装置５ａ と部分遮断５ｂが備えられている。完全遮断装置５ａは、光が２次元面検出器４ に入射するのを完全に遮断するものであり、部分遮断装置５ｂは、２次元面検出 器４に入射する光のうち、その必要な部分を除き、その入射を遮断するものであ る。

【００１３】 ウォーミングアップ中や試料の導入中などの、光の測定が行なわれないときに は、２次元検出器４の全面でプラズマ１の光を遮断するように完全遮断装置５ａ が動作する。 また、光の測定中には、プラズマ１の主要構成成分であるアルゴンの波長の強 い光や試料に起因する元素からの強い光が入射するような２次元面検出器４の検 出面の部分でかつ、分析に不要な検出面の部分でプラズマ１の光を遮断するよう に部分遮断装置５ｂが動作する。

【００１４】 次に、他の実施例を示す図２に基づいて説明する。遮断装置以外は、前述の実 施例と同じなので、遮断装置のみの説明を行う。 完全遮断装置５ａは、入射スリット３ａの入口に備えられており、機能は、前 述の完全遮断装置５ａと同じである。

【００１５】 また、カメラミラー２４と２次元面検出器４との光路２上でかつ２次元面検出 器４に近い位置に、一対の部分遮断５ｂ、５ｂが備えられている。一対の部分遮 断５ｂ、５ｂはそれぞれ、異なった部分を部分的に光を遮断する。 なお、完全遮断装置５ａの配置は、２次元面検出器４の前または入射スリット の前後が適当であり、部分遮断装置５ｂの配置は、２次元面検出器４の前が適当 である。そして、部分遮断装置５ｂは複数備えることにより、測定試料により、 その遮断する光を適宜に選択することができるようになる。

【００１６】

【考案の効果】

測定が行なわれないときには、２次元検出器の全面でプラズマの光を遮断し、 また、測定中には、分析に不要な検出面の部分でプラズマの光を遮断するために 、検出器に入射する光の量を削減でき、検出器の劣化を少なくできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例の断面図である。

【図２】他の実施例の断面図である。

【符号の説明】

１ プラズマ ２ 光路 ３ 分光器 ４ ２次元面検出器 ５ａ 完全遮断装置 ５ｂ 部分遮断装置

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラズマを発生する高周波プラズマ発生
   装置と、 前記高周波プラズマ発生装置から発生したプラズマへ試
   料を導入する試料導入装置と、 前記プラズマからの発光を分光する分光器と、 前記分光器の中に設けられ、分光された光を検出する２
   次元面検出器と、 前記プラズマから前記２次元面検出器までの光路中に設
   けられ、前記プラズマからの光を任意に透させたり遮断
   させたりする遮断装置とから構成されたことを特徴とす
   る高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置。
2. 【請求項２】 前記２次元面検出器がＣＣＤまたはＣＩ
   Ｄであることを特徴する請求項１記載の高周波誘導結合
   プラズマ発光分光分析装置。
3. 【請求項３】 前記遮断装置が複数設けられ、複数の遮
   断装置の内の一つは次元面検出器の検出面の全面を覆う
   とともに、他の複数の遮断装置は２次元面検出器の検出
   面の内の特定の部分を覆うように構成されたことを特徴
   とする請求項１記載の高周波誘導結合プラズマ発光分光
   分析装置。