JPH0653111A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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Publication number
JPH0653111A
JPH0653111A JP4203429A JP20342992A JPH0653111A JP H0653111 A JPH0653111 A JP H0653111A JP 4203429 A JP4203429 A JP 4203429A JP 20342992 A JP20342992 A JP 20342992A JP H0653111 A JPH0653111 A JP H0653111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical path
shutter
blocking member
exposure
Prior art date
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Pending
Application number
JP4203429A
Other languages
English (en)
Inventor
Reiko Shimizu
玲子 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP4203429A priority Critical patent/JPH0653111A/ja
Publication of JPH0653111A publication Critical patent/JPH0653111A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェハを非露光位置に待避させることなくシ
ャッターのリセットを行う。 【構成】 シャッター3で光路を閉鎖した際に積算露光
量計で光量が検出された際に、補助シャッター11で光
路を閉鎖してシャッター3をリセットする。また、露光
中に積算露光量計14で検出される露光量が所定の値と
異なる場合、若しくは、ウェハ9が露光位置に存在する
場合にシャッターをリセットする際に、補助シャッター
11で光路を閉鎖してシャッター3をリセットする。 【効果】 ウェハを非露光位置に待避させることなく、
シャッター3のリセットを行うことができ、ウェハを再
度位置決めする必要がなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子等の製造に
用いる露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の装置は図4に示すような
構成であった。即ち、光源1から射出された光束は、楕
円鏡2、シャッター3、ミラー6等を介してレチクル7
に照射され、レチクル7上のパターンを投影光学系8を
介してウェハ9上に投影露光する。シャッター3は、シ
ャッター制御部5によって制御される位置検出器を備え
た駆動部4(ロータリーエンコーダ付きのモータ等)に
よって光束の光路中に進退可能となっており、ウェハ9
に対する露光を制御する構成となっている。一般的にこ
の種の装置には、光束の一部を検出する受光素子10、
及び受光素子10で検出された信号に基づいてウェハ9
に対する露光量を計測するための積算露光量計14が設
けられ、この積算露光量計14からの積算露光量に関す
る信号に基づいてシャッター3の駆動を制御する構成と
なっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に用いられるシャッターとしては、エンコーダ等の位置
検出器によって位置を検出(信号をカウント)しながら
モータによって回転するロータリーシャッターや、空気
圧によって光路中に直線的に進退可能な遮光板等が挙げ
られる。そのため、位置検出器の検出位置がずれたり
(エンコーダのカウントミス)、空気圧の低下等によっ
てシャッターの位置が正しく制御されなくなることがあ
った。シャッターの位置が正しく制御されないと、遮光
しているはずのシャッターから光束が漏れたり、露光中
に十分な光束が照射されないといった不都合が生じる。
また、積算露光量計の検出結果に基づいてシャッター
(露光時間)を制御する場合には、シャッターの位置制
御のずれによって正確な露光量の制御ができなくなる。
この場合、シャッターを試験的に駆動して位置検出器の
検出位置をリセットすることになるが、シャッターのリ
セットの際に露光位置にウェハが存在すると、シャッタ
ーの駆動によって不要な光束がウェハに照射されること
になる。これを避けるにはウェハを非露光位置まで待避
させなければならず、露光の再開時に再度ウェハを位置
決めする必要が生じ、生産効率が低下するという問題点
があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記問題点解決のため本
発明では、シャッターをリセットするのに先立って補助
シャッターによって光路を閉鎖し、ウェハに光束が照射
されないようにした。具体的には、光源(1)からの光
束の光路中に光路の閉鎖及び開放を選択する遮光部材
(3)を備え、光束を所定位置に配置された対象物
(9)に選択的に照射する露光装置において、光源
(1)と対象物(9)との間の光路中の位置に設けら
れ、光路の閉鎖及び開放を選択する第2遮光部材(1
1)と;遮光部材(3)の光束に対する基準位置を記憶
しておく記憶手段(5)と;遮光部材(3)の光束に対
する位置を検出する位置検出手段(4)と;遮光部材
(3)と対象物(9)との間の光路中に配置され、光束
の少なくとも一部を検出する光束検出手段(10)と;
位置検出手段によって検出された位置に基づいて遮光部
材(3)を基準位置に設定した際に光束検出手段(1
0)によって検出される情報に基づいて、位置検出手段
の異常を判定する判定手段と(15);判定手段(1
5)による判定結果に基づいて第2遮光部材(11)を
駆動し、光路を閉鎖する制御手段(13)とを備え、第
2遮光部材(11)による光路の閉鎖中に位置検出手段
(4)によって検出される位置を基準位置に設定しなお
すこととした。
【0005】また、光源(1)からの光束の光路中に光
路の閉鎖及び開放を選択する遮光部材(3)を備え、光
束を所定位置に配置された対象物(9)に選択的に照射
する露光装置において、遮光部材(3)の光束に対する
基準位置を記憶しておく記憶手段と(5);遮光部材
(3)の光束に対する位置を検出する位置検出手段
(4)と;遮光部材(3)と対象物(9)との間の光路
中に配置された露光量計測手段と(10);露光装置の
動作に関する情報を検出する検出手段(16)と;露光
量計測手段(10)と対象物(9)との間の光路中の位
置に設けられ、光路の閉鎖及び開放を選択する第2遮光
部材(11)と;露光量計測手段(10)による情報が
予め決定された情報と異なる場合、若しくは検出手段
(16)によって対象物(9)が所定位置に配置されて
いると判断した場合に第2遮光部材(11)によって光
路を閉鎖する制御手段(13)とを備え、光路の閉鎖中
に位置検出手段(4)によって検出される位置を基準位
置に設定しなおすこととした。
【0006】
【作用】本発明においては、シャッターをリセットする
際に光束を遮光する補助シャッターを設けることとした
ため、露光位置にウェハ等が存在する場合でも、これを
非露光位置に待避させる必要がなくなる。
【0007】
【実施例】図1は、本発明の第1の実施例による露光装
置の概略的な構成を示す図である。基本的な構成は従来
の露光装置と同様であるが、受光素子10よりウェハ9
側の光路中に、光源1からの光束の光路の閉鎖及び開放
を選択する補助シャッターを設けた点で異なる。この補
助シャッター11は、シャッター3と同様に駆動部12
内の位置検出器でその位置を検出し、この検出結果に基
づいて制御部13によって制御されている。
【0008】以上の構成において、シャッター3をリセ
ットする際には、先ず補助シャッター11を駆動して光
路を閉鎖し、その後にシャッター3をリセットする。と
ころで、上記の構成ではシャッター3をリセットするか
否かの判断をする構成を特に設けていないが、この構成
の例として以下に述べるような構成を用いるようにす
る。一般的に駆動部4内の位置検出器の検出位置によっ
てシャッター3の光束に対する位置を管理している。そ
こで、位置検出器の値をシャッター3が光束を閉鎖する
値に設定する。このとき、積算露光量計14では光量が
検出されないはずであるが、万一検出された場合は判定
部15によってシャッター3が異常であると判断する。
判定部15は、シャッター3を異常と判断すると制御部
13に信号を出力して、駆動部12によって補助シャッ
ター11を駆動し、光路を閉鎖する。補助シャッター1
1によって光路が閉鎖されると、制御部13からの信号
が制御部5に出力され、シャッター3をリセットする。
【0009】次に、本発明の第2の実施例による露光装
置について図2を参照して説明する。この場合の基本的
な構成は第1の実施例による露光装置と同様であるが、
シャッター3のリセットをするか否かの判断をする構成
が異なる。即ち、判定部15はウェハ9に対する露光中
の積算露光量を予め決定されている露光量と比較して、
両者が許容値以上に異なる場合にシャッター3が異常で
あると判断する。また、露光位置にウェハ9が存在する
か否かの情報を検出する検出部16を設ける。判定部1
5でシャッター3が異常であると判断した場合はシャッ
ター3をリセットすることとし、補助シャッター11の
制御部13に信号を出力して、駆動部12によって補助
シャッター11を駆動して光路を閉鎖する。また、判定
部15の情報に関係なくシャッター3をリセットする場
合は、検出部16の情報に基づいてウェハ9が露光位置
に有ると判断した場合に補助シャッター11を駆動して
光路を閉鎖する。上記判定部15及び検出部16からの
信号の少なくとも一方に基づいて補助シャッター11に
よって光路が閉鎖されると、制御部13からの信号が制
御部5に出力され、シャッター3をリセットする。
【0010】上記の第1、第2実施例では、シャッター
3のリセット中にウェハ9を感光させないという目的の
他、以下のようなことにも用いることができる。一般的
に、積算露光量計を用いてウェハに対する露光量を制御
する場合、予め、シャッター3で光路を閉鎖する(シャ
ッター3を閉じる)のに必要な時間と、その間の露光量
との関係を求めておく必要がある。そこで、補助シャッ
ター11でウェハ9への光路を閉鎖した後にシャッター
3を駆動し、積算露光量計14で得られる露光量に基づ
いて上記の関係を求める。
【0011】図1及び図2中では、補助シャッター11
は受光素子10よりウェハ9側に配置された例を示して
いるが、この補助シャッター11は、光源1とウェハ9
との間の光路中の何処に配置されていても構わない。例
えば、図3に示すように光源と受光素子10との間の光
路中に配置するようにしても構わない。この場合、補助
シャッター11によって光路を閉鎖すると受光素子10
に入射する光束はなくなり、積算露光量計14で検出さ
れる値を求めることによって、積算露光量計14の回路
が持つオフセットを求めることもできる。
【0012】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、補助シャ
ッターを閉じた後にシャッターのリセットを行う構成と
したため、露光位置にウェハが存在する場合でもこれを
非露光位置に待避させる必要がなくなり、改めてウェハ
を位置決めする必要がなくなる。このため、露光装置全
体の処理時間が短くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
【図2】本発明の第2の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
【図3】本発明の実施例による露光装置における補助シ
ャッターの配置の他の例を示す図
【図4】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図
【符号の説明】
4 駆動部 5 制御部 11 補助シャッター 13 制御部 14 積算露光量計 15 判定部 16 検出部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの光束の光路中に該光路の閉鎖
    及び開放を選択する遮光部材を備え、前記光束を所定位
    置に配置された対象物に選択的に照射する露光装置にお
    いて、 前記光源と前記対象物との間の前記光路中の位置に設け
    られ、前記光路の閉鎖及び開放を選択する第2遮光部材
    と;前記遮光部材の前記光束に対する基準位置を記憶し
    ておく記憶手段と;前記遮光部材の前記光束に対する位
    置を検出する位置検出手段と;前記遮光部材と前記対象
    物との間の光路中に配置され、前記光束の少なくとも一
    部を検出する光束検出手段と;前記位置検出手段によっ
    て検出された前記位置に基づいて前記遮光部材を前記基
    準位置に設定した際に前記光束検出手段によって検出さ
    れる情報に基づいて、前記位置検出手段の異常を判定す
    る判定手段と;前記判定手段による判定結果に基づいて
    前記第2遮光部材を駆動し、前記光路を閉鎖する制御手
    段とを備え、 前記第2遮光部材による前記光路の閉鎖中に前記位置検
    出手段によって検出される前記位置を前記基準位置に設
    定しなおすことを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 光源からの光束の光路中に該光路の閉鎖
    及び開放を選択する遮光部材を備え、前記光束を所定位
    置に配置された対象物に選択的に照射する露光装置にお
    いて、 前記遮光部材の前記光束に対する基準位置を記憶してお
    く記憶手段と;前記遮光部材の前記光束に対する位置を
    検出する位置検出手段と;前記遮光部材と前記対象物と
    の間の光路中に配置された露光量計測手段と;前記露光
    装置の動作に関する情報を検出する検出手段と;前記露
    光量計測手段と前記対象物との間の前記光路中の位置に
    設けられ、前記光路の閉鎖及び開放を選択する第2遮光
    部材と;前記露光量計測手段による情報が予め決定され
    た情報と異なる場合、若しくは前記検出手段によって前
    記対象物が前記所定位置に配置されていると判断した場
    合に前記第2遮光部材によって前記光路を閉鎖する制御
    手段とを備え、 前記第2遮光部材による前記光路の閉鎖中に前記位置検
    出手段によって検出される前記位置を前記基準位置に設
    定しなおすことを特徴とする露光装置。
JP4203429A 1992-07-30 1992-07-30 露光装置 Pending JPH0653111A (ja)

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