JPH0643276B2 - 単結晶引上装置における湯漏れ防止構造 - Google Patents
単結晶引上装置における湯漏れ防止構造Info
- Publication number
- JPH0643276B2 JPH0643276B2 JP1043102A JP4310289A JPH0643276B2 JP H0643276 B2 JPH0643276 B2 JP H0643276B2 JP 1043102 A JP1043102 A JP 1043102A JP 4310289 A JP4310289 A JP 4310289A JP H0643276 B2 JPH0643276 B2 JP H0643276B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- single crystal
- hot water
- chamber
- melt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
結晶引上装置における湯漏れ防止構造に関する。
(Czochralski法)によって得られるが、単結晶引上装
置は、チャンバー内に、多結晶原料を収容するルツボ、
該ルツボの周囲に配されるヒータ、該ヒータの周囲に配
される断熱材等を収納して構成される。
入されたシリコン等の多結晶原料がヒータで加熱されて
溶融せしめられ、ルツボ内の多結晶融液(湯)に上方か
ら吊下する種結晶を浸漬してこれを回転させながら引き
上げることによって所望の単結晶が得られる。
や黒鉛で構成されるが、石英や黒鉛は脆くて耐衝撃性に
乏しいため、例えば、リチャージ、に際して多結晶原料
を当該ルツボに投入すると衝撃でこれに亀裂が生じ、こ
の亀裂から高温の多結晶融液がルツボ外へ流れ出すこと
がある。
の多結晶融液が周囲に飛散することもある。
り、飛散すると、該融液はルツボの外周壁からチャンバ
ー下部に落下したり、ルツボの外周から該ルツボを支持
する支持軸に沿って流下し、金属部に達して該金属部を
浸食する。尚、高温のシリコンは金属に対する浸食作用
が特に激しい。
する冷却水がチャンバー内に流出して蒸気化し、チャン
バー内は高圧の蒸気で満たされて水蒸気爆発を起こす虞
れがある。
する処は、不慮の事故によって多結晶融液がルツボ外へ
流出しても、これが金属部に達するのを防いで、チャン
バーの水蒸気爆発等の危険を未然に回避することができ
る単結晶引上装置における湯漏れ防止構造を提供するこ
とにある。
晶原料を収容するルツボ、該ルツボの周囲に配されるヒ
ータ、該ヒータの周囲に配される断熱材等を収納して構
成される単結晶引上装置の前記ルツボより下方の部位
に、湯切り溝、フィン、フランジ等の湯切り手段を設け
るとともに、前記チャンバーの底部に黒鉛板及び湯受け
用黒鉛皿を設けたことをその特徴とする。
結晶融液(湯)が流出しても、これは金属部に達する以
前に湯切り溝等の湯切り手段によってチャンバー底部の
黒鉛板に落下せしめられ、チャンバー底部に設けられた
湯受け用黒鉛皿に収容されるため、金属部が高温の多結
晶融液によって浸食を受けることがなく、従って、該金
属部を冷却する冷却水がチャンバー内に流出することも
なく、チャンバーの水蒸気爆発等の事故の発生が未然に
防がれる。
る。
置要部の縦断面図であり、図中、1は密閉タンク状のチ
ャンバーであって、該チャンバー1の周壁に形成された
冷却水通路(図示せず)には冷却水が流されている。
軸2が下方から垂直に臨んでおり、該支持軸2の上端部
には上下2段の支持台3,4が取り付けられている。そ
して、支持台3上には、石英ルツボ5と該石英ルツボ5
の周囲を被ってこれを保護する黒鉛ルツボ6が載置され
ている。
は、図示のようにリング状の湯切り溝3aが形成されて
おり、他方の支持台4の下面の外周部近傍には、リング
状のフィン4aが一体に突設され、同支持台4の内周部
(前記支持軸2の上端外周部に嵌合する部位)には、下
方に向かって円錐状に広がるテーパフィン4bが一体に
突設されている。
の周囲には円筒状のヒータ7が配され、該ヒータ7の周
囲には同じく円筒状の断熱材8が配されている。
れているが、該支持部材9の下面には、リング状のフィ
ン9aが一体に突設されている。
ー1の底壁を貫通して臨んでおり、該ガス管10の上端
は円板状のフランジ10aにて被われている。そして、
このガス管10の上部周壁には4つの円孔11…が穿設
されている。
設されており、該黒鉛板12の周囲は湯受け用黒鉛皿1
4で囲撓されている。
引き上げるものであって、この引上装置においては、石
英ルツボ5内に投入されたシリコン等の多結晶原料はヒ
ータ7によって加熱されて溶融せしめられ、ルツボ5,
6内には多結晶の融液(湯)13が収容される。そし
て、この融液13に、上方から吊下する不図示の種結晶
を浸漬し、該種結晶を回転させながらこれを所定の速度
で引き上げれば、種結晶の先に所望の単結晶が成長す
る。
多結晶原料を投入した場合、原料投入の衝撃によってル
ツボ5,6に亀裂が生じ、この亀裂から融液13がルツ
ボ5,6外へ流出し、或いは原料投入時に石英ルツボ5
内の融液13が周囲に飛散しても、黒鉛ルツボ6の外周
面に沿って下方へ流れる融液13の一部は、支持台3の
外周面で切られて矢印aにて示すようにヒータ7の底部
及びフランジ10a上に落下する。
支持部材9の周囲に沿って流れ、その流れは該支持部材
9の下面に突設されたフィン9aにて切られて矢印bに
て示すようにそこから黒鉛板12上に落下し、湯受け用
黒鉛皿14に収容される。
にて示すようにフランジ10aの外周から黒鉛板12に
向けて落下するため、これが、円孔11…からガス管1
0内に流入することがない。
の融液13は、支持台3の下面に沿って該支持台3の中
心に向かって流れるが、その一部は矢印dにて示すよう
に湯切り溝3aによって切られて黒鉛板12上及びヒー
タ7上に落下する。
支持部材9の下面に突設されたフィン9aによって切ら
れて最終的には黒鉛板12上に落下して湯受け用黒鉛皿
14に収容される。
支持台3から他方の支持台4の外周部に沿って流れ、矢
印eにて示すように支持台4の下面に突設されたフィン
4aによって切られて黒鉛板12に向けて落下し、フィ
ン4aによっても切られないで最終的に残った融液13
の全ては、矢印fにて示すようにテーパフィン4bによ
って確実に切られて黒鉛板12上に落下して湯受け用黒
鉛皿14に収容される。従って、高温の融液13が支持
軸2の外周面に沿って落下することがない。
3がルツボ5,6外へ流出しても、この流出した融液1
3は、湯切り溝3a、フィン4a,4b,9a及びフラ
ンジ10aから成る湯切り手段によって切られ、その全
てが黒鉛板12上に安全に落下せしめられて湯受け用黒
鉛皿14に収容されるため、不図示の金属部が融液13
によって浸食を受けることがない。
チャンバー1内に流出して蒸気化することがなく、チャ
ンバー1の水蒸気爆発等の事故の発生が未然に防がれ
る。
ー内に、多結晶原料を収容するルツボ、該ルツボの周囲
に配されるヒータ、該ヒータの周囲に配される断熱材等
を収納して構成される単結晶引上装置の前記ルツボより
下方の部位に、湯切り溝、フィン、フランジ等の湯切り
手段を設けるとともに、前記チャンバーの底部に黒鉛板
及び湯受け用黒鉛皿を設けたため、不慮の事故によって
多結晶融液がルツボ外へ流出しても、これが金属部に達
するのを防いで、チャンバーの水蒸気爆発等の危険を未
然に回避することができるという効果が得られる。
置要部の縦断面図である。 1……チャンバー、3a……湯切り溝(湯切り手段)、
4a,4b……フィン(湯切り手段)、5,6……ルツ
ボ、7……ヒータ、8……断熱材、9a……フィン(湯
切り手段)、10a……フランジ(湯切り手段)。
Claims (1)
- 【請求項1】チャンバー内に、多結晶原料を収容するル
ツボ、該ルツボの周囲に配されるヒータ、該ヒータの周
囲に配される断熱材等を収納して構成される単結晶引上
装置の前記ルツボより下方の部位に、湯切り溝、フィ
ン、フランジ等の湯切り手段を設けるとともに、前記チ
ャンバーの底部に黒鉛板及び湯受け用黒鉛皿を設けて成
る単結晶引上装置における湯漏れ防止構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1043102A JPH0643276B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 単結晶引上装置における湯漏れ防止構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1043102A JPH0643276B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 単結晶引上装置における湯漏れ防止構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02225393A JPH02225393A (ja) | 1990-09-07 |
JPH0643276B2 true JPH0643276B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=12654471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1043102A Expired - Lifetime JPH0643276B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 単結晶引上装置における湯漏れ防止構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0643276B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9422635B2 (en) | 2011-02-07 | 2016-08-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Single crystal production apparatus and single crystal production method having pedestal with grooves |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020096097A (ko) * | 2001-06-16 | 2002-12-31 | 주식회사 실트론 | 실리콘 잉곳 성장 장치 |
US20070195852A1 (en) * | 2005-08-18 | 2007-08-23 | Bp Corporation North America Inc. | Insulation Package for Use in High Temperature Furnaces |
TW200930851A (en) * | 2008-01-03 | 2009-07-16 | Green Energy Technology Inc | Crystal growth furnace having guiding structure for overflow slurry |
JP4849083B2 (ja) * | 2008-03-12 | 2011-12-28 | 信越半導体株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
WO2010027833A1 (en) * | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Bp Corporation North America Inc. | System and method for liquid silicon containment |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275087A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-30 | Kyushu Denshi Kinzoku Kk | 結晶引上炉の湯漏れ検出装置 |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1043102A patent/JPH0643276B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9422635B2 (en) | 2011-02-07 | 2016-08-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Single crystal production apparatus and single crystal production method having pedestal with grooves |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02225393A (ja) | 1990-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5919303A (en) | Process for preparing a silicon melt from a polysilicon charge | |
EP0068021B1 (en) | The method and apparatus for forming and growing a single crystal of a semiconductor compound | |
US4249988A (en) | Growing crystals from a melt by controlling additions of material thereto | |
WO1999016939A1 (en) | Heat shield for crystal puller | |
JP2009161421A (ja) | スラリー排出ダクト構造を有する結晶成長炉 | |
JPH0643276B2 (ja) | 単結晶引上装置における湯漏れ防止構造 | |
JP2813592B2 (ja) | 単結晶製造方法 | |
JPS59213697A (ja) | 単結晶半導体引上装置 | |
KR100725672B1 (ko) | 단결정 인상장치에서의 탕루 수용대 | |
JP4256576B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
JP2937104B2 (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JP2624922B2 (ja) | 単結晶シリコン引上装置 | |
JPH01317188A (ja) | 半導体単結晶の製造方法及び装置 | |
US3698872A (en) | Breakout protection for crystal growers | |
EP0055310A1 (en) | Method and apparatus for the continuous casting of silicon | |
JP4085521B2 (ja) | シリコン鋳塊切断方法 | |
JPH01100088A (ja) | 単結晶の引上げ装置および方法 | |
RU2791646C1 (ru) | Способ кристаллизации крупногабаритных легированных германиевых слитков в виде дисков и пластин и устройство для его реализации | |
CN207608659U (zh) | 石墨盖板及应用该石墨盖板的多晶铸锭炉 | |
JPH029782A (ja) | 単結晶成長装置 | |
KR100296440B1 (ko) | 반도체소재를융융시키는방법및그융융장치 | |
JP2002292455A (ja) | シリコン鋳造装置およびシリコン鋳造方法 | |
US4431599A (en) | Method for the melting and solidification of silicon | |
JPS58162029A (ja) | 多結晶シリコンウエハの製造方法 | |
JP5488545B2 (ja) | 単結晶育成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080608 Year of fee payment: 14 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080608 Year of fee payment: 14 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080608 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090608 Year of fee payment: 15 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090608 Year of fee payment: 15 |