JPH0643132A - 浄水中の残留塩素濃度の測定方法 - Google Patents
浄水中の残留塩素濃度の測定方法Info
- Publication number
- JPH0643132A JPH0643132A JP4198792A JP19879292A JPH0643132A JP H0643132 A JPH0643132 A JP H0643132A JP 4198792 A JP4198792 A JP 4198792A JP 19879292 A JP19879292 A JP 19879292A JP H0643132 A JPH0643132 A JP H0643132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- residual chlorine
- purified water
- casing
- measuring
- chlorine concentration
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 浄水中の残留塩素濃度の測定に際し、インラ
インの処理を可能にする。 【構成】 浄水器から流出した浄水中の残留塩素の濃度
を測定する方法において、該残留塩素の濃度を電解式セ
ンサーにより測定することを特徴とする浄水中の残留塩
素濃度の測定方法。
インの処理を可能にする。 【構成】 浄水器から流出した浄水中の残留塩素の濃度
を測定する方法において、該残留塩素の濃度を電解式セ
ンサーにより測定することを特徴とする浄水中の残留塩
素濃度の測定方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電解式センサーを利用
した浄水中の残留塩素濃度の測定方法に関する。
した浄水中の残留塩素濃度の測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に浄水は塩素処理されているため、
水中に塩素が残留塩素として残り、実際に使用する際に
は人体に余りよい影響を与えない。特に近年は、水に対
する要求も高くなり、水中の残留塩素濃度を厳格に管理
することが要求されるようになった。この要求は浄水器
やプールの分野で、特に多く見られる。
水中に塩素が残留塩素として残り、実際に使用する際に
は人体に余りよい影響を与えない。特に近年は、水に対
する要求も高くなり、水中の残留塩素濃度を厳格に管理
することが要求されるようになった。この要求は浄水器
やプールの分野で、特に多く見られる。
【０００３】この残留塩素の量を管理する方法として
は、現在比色法の一種であるジエチル−ｐ−フェニレン
ジアミンを用いる方法（ＤＰＤ法）が利用されている
が、このＤＰＤ法では対象の水に試薬を加えて比色する
ため、水をラインより取り出して処理するオフライン処
理が必要となり、現在要求されている残留塩素濃度の厳
格な管理を行うことは困難である。
は、現在比色法の一種であるジエチル−ｐ−フェニレン
ジアミンを用いる方法（ＤＰＤ法）が利用されている
が、このＤＰＤ法では対象の水に試薬を加えて比色する
ため、水をラインより取り出して処理するオフライン処
理が必要となり、現在要求されている残留塩素濃度の厳
格な管理を行うことは困難である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、インライン
の処理が可能な、浄水中の残留塩素濃度の測定方法を提
供することを目的とする。
の処理が可能な、浄水中の残留塩素濃度の測定方法を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、浄水器から流
出した浄水中の残留塩素の濃度を測定する方法におい
て、該残留塩素の濃度を電解式センサーにより測定する
ことを特徴とする浄水中の残留塩素濃度の測定方法であ
る。本発明に用いる電解式センサーとしては、好ましく
は、ケーシング内にpH計測部を設け、該ケーシングの底
部に該ケーシングの外部から内部に向ってガスを透過さ
せるガス透過膜を取り付けた、残留塩素の濃度測定のた
めのセンサーであって、上記ガス透過膜の下方近傍に電
源の陽極が設けられている電解式センサーが挙げられ
る。
出した浄水中の残留塩素の濃度を測定する方法におい
て、該残留塩素の濃度を電解式センサーにより測定する
ことを特徴とする浄水中の残留塩素濃度の測定方法であ
る。本発明に用いる電解式センサーとしては、好ましく
は、ケーシング内にpH計測部を設け、該ケーシングの底
部に該ケーシングの外部から内部に向ってガスを透過さ
せるガス透過膜を取り付けた、残留塩素の濃度測定のた
めのセンサーであって、上記ガス透過膜の下方近傍に電
源の陽極が設けられている電解式センサーが挙げられ
る。
【０００６】前記の好ましい電解式センサーの縦断面図
を図１に示し、これを用いて本発明を詳細に説明する。
図１において、符号２は浄水、符号３は電解式センサ
ー、符号５は制御手段である。電解式センサー３によ
り、浄水２中の残留塩素濃度を測定しようとするときに
は、まず、ケーシング10の底部をガス透過膜12や電源22
の陽極23、陰極24と共に上記浄水２に接触させる。
を図１に示し、これを用いて本発明を詳細に説明する。
図１において、符号２は浄水、符号３は電解式センサ
ー、符号５は制御手段である。電解式センサー３によ
り、浄水２中の残留塩素濃度を測定しようとするときに
は、まず、ケーシング10の底部をガス透過膜12や電源22
の陽極23、陰極24と共に上記浄水２に接触させる。
【０００７】そして、上記電源22により陽極23に正の電
位を与えると、電解により上記陽極23近傍では残留塩素
が塩素ガスになり、これが上記ガス透過膜12を透過して
ケーシング10内の内部液14に溶解する。塩素ガスは次亜
塩素酸（ＨＯＣｌ）と塩酸（ＨＣｌ）になり、ガス透過
膜12の近傍の内部液14のpHを変える。この内部液のpH変
化がpH計測部13により計測され、この値により残留塩素
濃度の値が得られることとなる。
位を与えると、電解により上記陽極23近傍では残留塩素
が塩素ガスになり、これが上記ガス透過膜12を透過して
ケーシング10内の内部液14に溶解する。塩素ガスは次亜
塩素酸（ＨＯＣｌ）と塩酸（ＨＣｌ）になり、ガス透過
膜12の近傍の内部液14のpHを変える。この内部液のpH変
化がpH計測部13により計測され、この値により残留塩素
濃度の値が得られることとなる。
【０００８】即ち、上記残留塩素の測定作業は、単に電
解式センサー３におけるケーシング10の底部を浄水２に
接触させ、同様に浄水２中に接触させた陽極23に正の電
位を与えれば足りる。本発明の測定方法は、プール、各
種水槽等における大型の浄水器の他、家庭用小型浄水器
にも適用することができる。
解式センサー３におけるケーシング10の底部を浄水２に
接触させ、同様に浄水２中に接触させた陽極23に正の電
位を与えれば足りる。本発明の測定方法は、プール、各
種水槽等における大型の浄水器の他、家庭用小型浄水器
にも適用することができる。
【０００９】即ち、家庭用小型浄水器は濾材（活性炭カ
ートリッジ）が交換式となっているが、ユーザーには濾
材の交換時期がわからない。本発明の測定方法を利用す
ることにより、濾材からリークする残留塩素を検出（検
出値目安：0.05ppm)し、ユーザーに濾材の交換時期であ
ることを表示することができる。
ートリッジ）が交換式となっているが、ユーザーには濾
材の交換時期がわからない。本発明の測定方法を利用す
ることにより、濾材からリークする残留塩素を検出（検
出値目安：0.05ppm)し、ユーザーに濾材の交換時期であ
ることを表示することができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。 （実施例１）図２において、符号８は原水、符号７は浄
水器、符号２は浄水、符号３は電解式センサー、符号５
は制御手段、符号４は薬注入ポンプ、符号６は次亜塩素
酸タンクである。
る。 （実施例１）図２において、符号８は原水、符号７は浄
水器、符号２は浄水、符号３は電解式センサー、符号５
は制御手段、符号４は薬注入ポンプ、符号６は次亜塩素
酸タンクである。
【００１１】浄水器７において、活性炭を用いて濁り、
有機物等を除去した後、塩素注入を行う必要があるが、
その際浄水中の残留塩素濃度をモニターして薬注入ポン
プ４を制御するために電解式センサー３を用いる。この
場合、一般には残留塩素濃度を 0.1〜１ppm の範囲内に
制御する必要があるが、浄水２に接触するように電解式
センサー３が設けられ、その測定結果が制御手段５に入
力されるようになっている。一方、浄水中に次亜塩素酸
を供給できるように次亜塩素酸タンク６が薬注入ポンプ
４を介して設けられている。該薬注入ポンプ４は該制御
手段５により制御されており、浄水中の残留塩素濃度が
所定値以下になったときは次亜塩素酸が供給され、一
方、浄水中の残留塩素濃度が所定値以上になったときは
次亜塩素酸の供給が停止される。これにより浄水中の残
留塩素の濃度が一定範囲内に維持されるようになってい
る。
有機物等を除去した後、塩素注入を行う必要があるが、
その際浄水中の残留塩素濃度をモニターして薬注入ポン
プ４を制御するために電解式センサー３を用いる。この
場合、一般には残留塩素濃度を 0.1〜１ppm の範囲内に
制御する必要があるが、浄水２に接触するように電解式
センサー３が設けられ、その測定結果が制御手段５に入
力されるようになっている。一方、浄水中に次亜塩素酸
を供給できるように次亜塩素酸タンク６が薬注入ポンプ
４を介して設けられている。該薬注入ポンプ４は該制御
手段５により制御されており、浄水中の残留塩素濃度が
所定値以下になったときは次亜塩素酸が供給され、一
方、浄水中の残留塩素濃度が所定値以上になったときは
次亜塩素酸の供給が停止される。これにより浄水中の残
留塩素の濃度が一定範囲内に維持されるようになってい
る。
【００１２】図１において、上記電解式センサー３は軸
心が縦向きで円筒状のケーシング10を有している。この
ケーシング10の上部は蓋板11で閉じられており、これら
ケーシング10と蓋板11は樹脂製とされている。上記ケー
シング10の底部にはこのケーシング10の内外を仕切るガ
ス透過膜12が設けられている。上記ガス透過膜12で閉じ
られたケーシング10内にはpH計測部13が設けられてい
る。このpH計測部13は公知のものであって、ケーシング
10内の酢酸、酢酸ナトリウム、塩化カリウムの混合溶液
である内部液14と、この内部液14内に設けられる比較極
15及び作用極16とで構成され、この作用極16は上記ガス
透過膜12の上方近傍に位置させられている。これら比較
極15と作用極16とは前記した制御手段５に接続され、こ
の制御手段５は表示部17を有している。
心が縦向きで円筒状のケーシング10を有している。この
ケーシング10の上部は蓋板11で閉じられており、これら
ケーシング10と蓋板11は樹脂製とされている。上記ケー
シング10の底部にはこのケーシング10の内外を仕切るガ
ス透過膜12が設けられている。上記ガス透過膜12で閉じ
られたケーシング10内にはpH計測部13が設けられてい
る。このpH計測部13は公知のものであって、ケーシング
10内の酢酸、酢酸ナトリウム、塩化カリウムの混合溶液
である内部液14と、この内部液14内に設けられる比較極
15及び作用極16とで構成され、この作用極16は上記ガス
透過膜12の上方近傍に位置させられている。これら比較
極15と作用極16とは前記した制御手段５に接続され、こ
の制御手段５は表示部17を有している。
【００１３】上記ガス透過膜12はポリテトラフルオロエ
チレン（PTFE）又はポリテトラクロロエチレン（PTCE）
の多孔性膜である。 PTFE、PTCEが撥水性であり、その
多孔膜は、ガスは容易に透過させるが、液体の水は透過
させないという特性を持っている。従って、このガス透
過膜12はケーシング10の外部から内部に向ってガスのみ
を透過させるものである。市販品としてはフロロポア及
びゴアテックスと呼ばれる２製品がある。
チレン（PTFE）又はポリテトラクロロエチレン（PTCE）
の多孔性膜である。 PTFE、PTCEが撥水性であり、その
多孔膜は、ガスは容易に透過させるが、液体の水は透過
させないという特性を持っている。従って、このガス透
過膜12はケーシング10の外部から内部に向ってガスのみ
を透過させるものである。市販品としてはフロロポア及
びゴアテックスと呼ばれる２製品がある。
【００１４】図１において、上記ケーシング10の底部外
周壁は下方に向って延出し、これが円筒状の延出部21と
なっている。22は電源で、この電源22の陽極23は白金製
でコイル状をなし、ガス透過膜12の下方近傍で上記延出
部21内に設けられている。また、上記電源22の陰極24は
白金プレート製で、これは上記延出部21の下部側方に設
けられている。
周壁は下方に向って延出し、これが円筒状の延出部21と
なっている。22は電源で、この電源22の陽極23は白金製
でコイル状をなし、ガス透過膜12の下方近傍で上記延出
部21内に設けられている。また、上記電源22の陰極24は
白金プレート製で、これは上記延出部21の下部側方に設
けられている。
【００１５】上記電解式センサー３により、浄水２中の
残留塩素濃度を測定しようとするときには、まず、図１
と図２とで示すように、ケーシング10の底部をガス透過
膜12や電源22の陽極23、陰極24と共に上記浄水２に接触
させる。そして、上記電源22により陽極23と陰極24との
間に電流を流して陽極23に正の電位を与える。すると、
電解により上記陽極23近傍では、ｐＨ５以下で下記の反
応が←方向に進行して塩素ガスが発生する。
残留塩素濃度を測定しようとするときには、まず、図１
と図２とで示すように、ケーシング10の底部をガス透過
膜12や電源22の陽極23、陰極24と共に上記浄水２に接触
させる。そして、上記電源22により陽極23と陰極24との
間に電流を流して陽極23に正の電位を与える。すると、
電解により上記陽極23近傍では、ｐＨ５以下で下記の反
応が←方向に進行して塩素ガスが発生する。
【００１６】
【化１】
【００１７】生じた塩素ガスは上記ガス透過膜12を透過
してケーシング10内の内部液14に溶解し（図１、図３中
矢印Ａ) 、ここで次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）と塩酸（ＨＣ
ｌ）になる。すると、上記比較極15と測定極16との間に
電位差が生じ、これにより制御手段５でpHが計測され、
かつ、この値により残留塩素濃度の値が得られて、これ
が表示部17に表示される。
してケーシング10内の内部液14に溶解し（図１、図３中
矢印Ａ) 、ここで次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）と塩酸（ＨＣ
ｌ）になる。すると、上記比較極15と測定極16との間に
電位差が生じ、これにより制御手段５でpHが計測され、
かつ、この値により残留塩素濃度の値が得られて、これ
が表示部17に表示される。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、浄水中の残留塩素濃度
の測定に際し、インラインの処理が可能となる。
の測定に際し、インラインの処理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いる電解式センサーの縦断面図であ
る。
る。
【図２】本発明方法により浄水中の残留塩素濃度を制御
するシステムを示す図である。
するシステムを示す図である。
【図３】図１の部分拡大図である。
２ 浄水 ３ 電解式センサー ５ 制御手段 10 ケーシング 12 ガス透過膜 13 pH計測部 21 延出部 22 電源 23 陽極 24 陰極
Claims (2)
- 【請求項１】 浄水器から流出した浄水中の残留塩素の
濃度を測定する方法において、該残留塩素の濃度を電解
式センサーにより測定することを特徴とする浄水中の残
留塩素濃度の測定方法。 - 【請求項２】 電解式センサーが、ケーシング内にpH計
測部を設け、該ケーシングの底部に該ケーシングの外部
から内部に向ってガスを透過させるガス透過膜を取り付
けた、残留塩素の濃度測定のためのセンサーであって、
上記ガス透過膜の下方近傍に電源の陽極が設けられてい
る電解式センサーである請求項１記載の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198792A JPH0643132A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浄水中の残留塩素濃度の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198792A JPH0643132A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浄水中の残留塩素濃度の測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643132A true JPH0643132A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16396987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4198792A Pending JPH0643132A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浄水中の残留塩素濃度の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643132A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008203274A (ja) * | 2008-05-27 | 2008-09-04 | Tacmina Corp | 残留塩素計およびこれを用いた液体殺菌装置 |
| WO2016185929A1 (ja) * | 2015-05-21 | 2016-11-24 | オリンパス株式会社 | 内視鏡リプロセッサ |
| EP3111825A4 (en) * | 2014-11-17 | 2017-11-29 | Olympus Corporation | Endoscope reprocessor |
| US10363743B2 (en) | 2016-05-24 | 2019-07-30 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head having nozzle with electrostatic propensity |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP4198792A patent/JPH0643132A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008203274A (ja) * | 2008-05-27 | 2008-09-04 | Tacmina Corp | 残留塩素計およびこれを用いた液体殺菌装置 |
| EP3111825A4 (en) * | 2014-11-17 | 2017-11-29 | Olympus Corporation | Endoscope reprocessor |
| WO2016185929A1 (ja) * | 2015-05-21 | 2016-11-24 | オリンパス株式会社 | 内視鏡リプロセッサ |
| JP6122227B1 (ja) * | 2015-05-21 | 2017-04-26 | オリンパス株式会社 | 内視鏡リプロセッサ |
| US10499800B2 (en) | 2015-05-21 | 2019-12-10 | Olympus Corporation | Endoscope reprocesssor |
| US10363743B2 (en) | 2016-05-24 | 2019-07-30 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head having nozzle with electrostatic propensity |
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