JPH0642189B2 - Touch panel - Google Patents

Touch panel

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JPH0642189B2
JPH0642189B2 JP22377888A JP22377888A JPH0642189B2 JP H0642189 B2 JPH0642189 B2 JP H0642189B2 JP 22377888 A JP22377888 A JP 22377888A JP 22377888 A JP22377888 A JP 22377888A JP H0642189 B2 JPH0642189 B2 JP H0642189B2
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conductive
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coating
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政幸 松田
嗣雄 小柳
満 大熊
護郎 佐藤
育利 野末
通郎 小松
昭 中島
道泰 萩尾
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JGC Catalysts and Chemicals Ltd
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Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、コンピューターなどの入力時に使用されるタ
ッチパネルに関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a touch panel used for inputting by a computer or the like.

発明の技術的背景ならびにその問題点 コンピューターの入力機器は、多数開発されている。そ
の代表的なものに、キーボード、トラックボール、マウ
ス、感圧パッド、デジタイザー、タッチパネルがある。
ところが、表示画面を見ながら直接表示画面上で所定の
情報を入力できるタッチパネルは、他の入力機器より使
いやすく便利なことが多い。
Technical background of the invention and its problems Many input devices for computers have been developed. Typical examples are keyboards, trackballs, mice, pressure sensitive pads, digitizers, and touch panels.
However, a touch panel that allows direct input of predetermined information on the display screen while looking at the display screen is often easier and more convenient to use than other input devices.

代表的なタッチパネルとしては、マトリックス型とアナ
ログ型がある。マトリックス型のタッチパネルでは、透
明絶縁基材上の透明電極を短冊状にエッチング加工した
物を二枚用い、これらの間にスペーサーを介在させ、前
記透明電極を縦と横に交差させて対向させている。ま
た、アナログ型のタッチパネルでは、透明電極を短冊状
に加工せずに、透明電極の両端に銀ペーストなどで電極
を設け、これら透明電極間にスペーサーを介在して縦横
に対向させて、アナログ/デジタル(A/D)変換器で
位置座標を検出するようにしている。マトリックス型
は、短冊の幅によって位置検出分解能が左右されるた
め、文字・図形入力時に適さず、もっぱらタッチスイッ
チ的に使用される。これに対して、アナログ型は、A/
D変換器の能力により、高分解能が期待できるため、文
字・図形入力の主流になっている。
There are a matrix type and an analog type as typical touch panels. In a matrix type touch panel, two transparent electrodes on a transparent insulating base material are etched and processed into strips, a spacer is interposed between them, and the transparent electrodes are crossed vertically and horizontally to face each other. There is. In an analog type touch panel, the transparent electrodes are not processed into strips, but electrodes are provided on both ends of the transparent electrodes with silver paste or the like. The position coordinates are detected by a digital (A / D) converter. Since the position detection resolution of the matrix type depends on the width of the strip, it is not suitable for inputting characters and figures, and is used exclusively as a touch switch. On the other hand, the analog type is A /
Due to the ability of the D converter, high resolution can be expected, and it has become the mainstream for character / graphic input.

ところが、このようなアナログ型のタッチパネルにあっ
ては、誤入力などを防止するために透明電極間に絶縁体
であるスペーサーを印刷などの手段で介在させる必要が
あるが、これでは、スペーサー部分での入力ができな
い。またスペーサーの幅が広いため分解能が制限され、
高精細な文字、あるいは図形の入力は不可能であった。
さらにスペーサーは幅が広いため透明電極の透明性を低
下し易く、それを防止するには、スペーサー同士の間隔
を大きくしなければならなかった。ところがそのため
に、透明絶縁基材のたわみが発生したり、誤ってタッチ
パネルに触れた際(以下誤入力という)スペーサーによ
って保たれる間隔がなくなったりして、透明電極同士が
接触し、誤動作を起こすこともあった。
However, in such an analog type touch panel, in order to prevent erroneous input, it is necessary to interpose a spacer, which is an insulator, between the transparent electrodes by means of printing or the like. Cannot be entered. Also, since the width of the spacer is wide, the resolution is limited,
It was impossible to input high-definition characters or figures.
Further, since the spacer is wide, the transparency of the transparent electrode is likely to be deteriorated, and in order to prevent this, the distance between the spacers must be increased. However, as a result, the transparent insulating base material may bend, or when the touch panel is touched by mistake (hereinafter referred to as erroneous input), the space held by the spacer disappears, causing the transparent electrodes to come into contact with each other and cause malfunctions. There were things.

さらに、このようなアナログ型のタッチパネルは、入力
時に加えられる圧力、あるいは、透明電極の接触時に生
じるアークによって、透明電極が傷ついたり、あるいは
透明電極の表面抵抗が悪くなったりして、電極としての
機能が保てなくなることもあった。
Further, such an analog type touch panel is not suitable as an electrode because the transparent electrode is damaged or the surface resistance of the transparent electrode is deteriorated by the pressure applied at the time of input or the arc generated when the transparent electrode comes into contact. Sometimes the function could not be maintained.

発明の目的 本発明は、上記のようなアナログ型のタッチパネルにお
ける従来技術に伴う問題点を主として解決するものであ
る。すなわち、高精細な文字・図形などの入力を可能と
するにもかかわらず、誤入力が少なく、耐久性に優れた
タッチパネルの提供を目的としている。
OBJECT OF THE INVENTION The present invention mainly solves the problems associated with the prior art in the above analog type touch panel. That is, it is an object of the present invention to provide a touch panel that is highly durable and has few erroneous inputs even though high-definition characters and figures can be input.

発明の概要 本発明に係るタッチパネルは、絶縁基材の一方の表面に
導電層が形成された(A)、(B)2枚の基材の組み合
せからなり、それぞれの導電層を対向させ、略平行で所
定の間隔に配置し、いずれか一方の前記基材の一部を押
圧することにより、該導電層同士の一部を接触させて電
気的に導通させるタッチパネルにおいて、前記基材
(A)が下記の基材III、V、VI、VII、VIII、IXから選
ばれた一種の基材であり、基材(B)が下記の基材Iな
いしIXから選ばれた一種の基材であり、下記の基材II
I、V、VI、VII、VIII、IXにおいては絶縁粒子の一部が
導電層から露出し、該絶縁粒子の他部が導電層中に埋設
されており、前記導電層から露出している絶縁粒子の先
端が該導電層の最上部に位置することを特徴としてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION A touch panel according to the present invention comprises a combination of two base materials (A) and (B) in which a conductive layer is formed on one surface of an insulating base material. In the touch panel arranged in parallel at a predetermined interval and pressing a part of one of the base materials to bring a part of the conductive layers into electrical contact with each other, the base material (A) Is a kind of base material selected from the following base materials III, V, VI, VII, VIII and IX, and a base material (B) is a kind of base material selected from the following base materials I to IX. , The following base material II
In I, V, VI, VII, VIII, and IX, some of the insulating particles are exposed from the conductive layer, and the other parts of the insulating particles are embedded in the conductive layer, and the insulating is exposed from the conductive layer. The tip of the particle is located at the top of the conductive layer.

基材I:抵抗膜からなる導電層が表面に形成された基材 基材II:導電粒子が分散した抵抗膜からなる導電層が表
面に形成された基材 基材III:導電粒子が分散した抵抗膜と、絶縁粒子が分
散した被膜とがこの順序で基材表面に積層されてなる導
電層を有し、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表面に露
出し、前記絶縁粒子の他部は前記被膜中に埋設され、前
記被膜は絶縁性であっても導電性であってもよく、前記
被膜が絶縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒
子の一部が露出した基材 基材IV:抵抗膜と、導電粒子が分散した被膜とがこの順
序で基材表面に積層されてなる導電層を有する基材 基材V:抵抗膜と、導電粒子が分散した被膜と、絶縁粒
子が分散した被膜とがこの順序で基材表面に積層されて
なる導電層を有し、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表
面に露出し、前記絶縁粒子の他部は前記絶縁粒子分散被
膜中に埋設され、前記絶縁粒子分散被膜は絶縁性であっ
ても導電性であってもよく、前記絶縁粒子分散被膜が絶
縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒子が露出
した基材 基材VI:絶縁粒子が分散した抵抗膜からなる導電層が表
面に形成され、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表面に
露出し、前記絶縁粒子の他部は前記導電層中に埋設され
た基材 基材VII:抵抗膜と、絶縁粒子が分散した導電性被膜と
がこの順序で基材表面に積層されてなる導電層を有し、
前記絶縁粒子の一部が前記導電層表面に露出し、前記絶
縁粒子の他部が前記導電性被膜中に埋設された基材 基材VIII:導電粒子および絶縁粒子が分散した抵抗膜か
らなる導電層が表面に形成され、前記絶縁粒子の一部が
前記導電層表面に露出し、前記絶縁粒子の他部が前記導
電層中に埋設された基材 基材IX:抵抗膜と、導電粒子と絶縁粒子とが分散した被
膜とがこの順序で基材表面に積層されてなる導電層を有
し、前記絶縁粒子の一部が前記導電層表面に露出し、前
記絶縁粒子の他部が前記被膜中に埋設され、前記被膜は
絶縁性であっても導電性であってもよく、前記被膜が絶
縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒子の一部
が露出した基材 上記基材I〜IXのうち、基材III、V、VI、VII、VIII、
IVでは絶縁粒子の一部が導電層から露出し、該絶縁粒子
の他部が導電層中に埋設されており、露出している絶縁
粒子の先端が導電層の最上部に位置している。導電層中
に絶縁粒子と導電粒子とがともに含まれている場合に
は、この導電層から絶縁粒子の先端が導電粒子の先端よ
りも上部に突出しており、絶縁粒子はタッチパネルの基
材間を一定の間隔に保つ役割を果たしている。
Substrate I: Substrate having a conductive layer made of a resistive film formed on the surface Substrate II: Substrate having a conductive layer made of a resistive film dispersed on the surface Substrate III: Conductive particles dispersed A resistance film and a conductive film in which a coating in which insulating particles are dispersed are laminated in this order on the surface of a base material, a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is formed. Is embedded in the coating, and the coating may be insulative or conductive. When the coating is insulative, a group in which a part of the conductive particles is exposed on the surface of the conductive layer is formed. Material Base material IV: A base material having a conductive layer in which a resistance film and a coating film in which conductive particles are dispersed are laminated on the base material surface in this order. Base material V: a resistance film and a coating film in which conductive particles are dispersed, A coating film in which insulating particles are dispersed has a conductive layer laminated on the surface of the base material in this order, and the insulating particles A part is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the insulating particle-dispersed coating, and the insulating particle-dispersed coating may be insulative or conductive. When the particle-dispersed coating is insulative, the base material in which the conductive particles are exposed on the surface of the conductive layer Base material VI: A conductive layer composed of a resistance film in which insulating particles are dispersed is formed on the surface, Part is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is a base material embedded in the conductive layer. Base material VII: a resistive film and a conductive coating in which insulating particles are dispersed are the base materials in this order. It has a conductive layer laminated on the surface,
A base material in which a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the conductive coating material. Base material VIII: Conductivity consisting of conductive particles and a resistance film in which insulating particles are dispersed A layer is formed on the surface, a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the conductive layer. Base material IX: resistive film and conductive particles A coating film in which insulating particles are dispersed has a conductive layer formed on the surface of a base material in this order, a part of the insulating particles is exposed on the conductive layer surface, and the other part of the insulating particles is the coating film. Embedded in the coating, the coating may be insulative or conductive, and when the coating is insulative, a base material in which a part of the conductive particles is exposed on the conductive layer surface. Of the materials I to IX, the base materials III, V, VI, VII, VIII,
In IV, a part of the insulating particles is exposed from the conductive layer, the other part of the insulating particles is embedded in the conductive layer, and the exposed tips of the insulating particles are located at the uppermost part of the conductive layer. When both the insulating particles and the conductive particles are contained in the conductive layer, the tips of the insulating particles are projected above the tips of the conductive particles from the conductive layer, and the insulating particles move between the base materials of the touch panel. It plays a role in maintaining a constant interval.

本発明に係る第1のタッチパネル(以下本第1タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材IIIを用い、基
材(B)として基材I〜IXのうちから選ばれる一種を組
み合わせた構造からなる。
The first touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the first touch panel) uses a base material III as a base material (A) and combines one kind selected from base materials I to IX as a base material (B). Composed of structure.

本発明に係る第2のタッチパネル(以下本第2タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材Vを用い、基材
(B)として基材I、II、IV、V〜IXのうちから選ばれ
る一種を組み合わせた構造からなる。
A second touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the second touch panel) uses a base material V as a base material (A) and selects one of base materials I, II, IV, and V to IX as a base material (B). It consists of a combination of selected types.

本発明に係る第3のタッチパネル(以下本第3タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材VIを用い、基材
(B)として基材I、II、IV、VI〜IXのうちから選ばれ
る一種を組み合わせた構造からなる。
A third touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the third touch panel) uses a base material VI as a base material (A) and selects one of base materials I, II, IV, and VI to IX as a base material (B). It consists of a combination of selected types.

本発明に係る第4のタッチパネル(以下本第4タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材VIIを用い、基
材(B)として基材I、II、IV、VII〜IXのうちから選
ばれる一種を組み合わせた構造からなる。
A fourth touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the fourth touch panel) uses a base material VII as a base material (A) and selects one of base materials I, II, IV, and VII to IX as a base material (B). It consists of a combination of selected types.

本発明に係る第5のタッチパネル(以下本第5タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材VIIIを用い、基
材(B)として基材I、II、IV、VIII、IXのうちから選
ばれる一種を組み合わせた構造からなる。
A fifth touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the fifth touch panel) uses a substrate VIII as a substrate (A) and a substrate I, II, IV, VIII, IX as a substrate (B). It consists of a combination of selected types.

本発明に係る第6のタッチパネル(以下本第6タッチパ
ネルという)は、基材(A)として基材IXを用い、基材
(B)として基材I、II、IV、IXのうちから選ばれる一
種を組み合わせた構造からなる。
The sixth touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the sixth touch panel) uses the base material IX as the base material (A) and is selected from the base materials I, II, IV and IX as the base material (B). It consists of a combination of types.

本第1〜第6タッチパネルでは、絶縁粒子が従来のタッ
チパネルにおけるスペーサーの作用をなすため、誤入力
を有効に防止できる。しかも、絶縁粒子および導電粒子
は、微小な粒径であるため、従来のタッチパネルに比較
して分解能が向上し、高精細な文字・図形の入力が可能
である。本発明のタッチパネルを製造するには、予め導
電粒子および/または絶縁粒子が均一に分散して抵抗膜
形成用塗料、および導電粒子および/または絶縁粒子が
均一に分散した被膜形成用塗料を前記基材I〜IXの構造
にそって絶縁基材上に塗布すれば良い。そのため従来の
タッチパネルのように、後工程でスペーサーだけをドッ
ト状に印刷する必要がない。また、本発明のタッチパネ
ルは、抵抗膜同士が直接接触しないので、誤入力による
誤動作等を確実に防止できる構造となっている。さら
に、対向する一方の導電層の表面抵抗値を、他方の導電
層の表面抵抗値以上に設定し、高い抵抗値を有する導電
層側に電源の+側を接続するように本発明のタッチパネ
ルを構成すれば、従来のタッチパネルで導電層同士の接
触時に生じていたアークを有効に防止することができ
る。そのため抵抗膜等が傷ついたり、剥がれたり、ある
いはその表面抵抗が悪くなったりしないので、長期間使
用することができ、従来のタッチパネルと比較して耐久
性が大幅に向上する。
In the first to sixth touch panels, since the insulating particles act as a spacer in the conventional touch panel, erroneous input can be effectively prevented. Moreover, since the insulating particles and the conductive particles have a small particle diameter, the resolution is improved as compared with the conventional touch panel, and high-definition characters and figures can be input. In order to manufacture the touch panel of the present invention, a conductive film and / or insulating particles are dispersed in advance to form a resistance film, and a conductive film and / or insulating particles are uniformly dispersed to form a coating film. It may be applied on the insulating base material according to the structure of the materials I to IX. Therefore, unlike the conventional touch panel, it is not necessary to print only the spacers in a dot shape in the subsequent process. Further, in the touch panel of the present invention, since the resistance films do not come into direct contact with each other, the touch panel of the present invention has a structure capable of surely preventing an erroneous operation due to erroneous input. Furthermore, the touch panel of the present invention is set so that the surface resistance value of one of the conductive layers facing each other is set to be equal to or higher than the surface resistance value of the other conductive layer, and the positive side of the power source is connected to the conductive layer side having a high resistance value. With this configuration, it is possible to effectively prevent the arc that occurs when the conductive layers are brought into contact with each other in the conventional touch panel. Therefore, the resistance film or the like is not scratched or peeled off, or the surface resistance thereof is not deteriorated, so that the resistance film can be used for a long period of time, and the durability is significantly improved as compared with the conventional touch panel.

発明の具体的説明 以下、本発明のタッチパネルを図面に示す実施例を参照
しつつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The touch panel of the present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings.

まず本発明のタッチパネルに使用される基材I〜IXにつ
いて説明する。第1図〜第9図は、基材I〜IXの要部断
面図である。
First, the substrates I to IX used in the touch panel of the present invention will be described. 1 to 9 are cross-sectional views of main parts of the base materials I to IX.

第1図は、基材Iを示している。この基材Iでは、絶縁
基材4(5)の表面に、導電層として抵抗膜6(7)が
形成されている。すなわち絶縁基材4の表面に抵抗膜6
が形成され、絶縁基材5の表面に抵抗膜7が形成されて
いる。
FIG. 1 shows the substrate I. In this base material I, a resistance film 6 (7) is formed as a conductive layer on the surface of the insulating base material 4 (5). That is, the resistance film 6 is formed on the surface of the insulating base material 4.
And the resistance film 7 is formed on the surface of the insulating base material 5.

第2図は、基材IIを示している。この基材IIでは、絶縁
基材4(5)の表面に、導電層として、導電粒子15が
分散した抵抗膜6(7)が形成されている。
FIG. 2 shows the substrate II. In this base material II, a resistance film 6 (7) in which conductive particles 15 are dispersed is formed as a conductive layer on the surface of the insulating base material 4 (5).

第3図は、基材IIIを示している。この基材IIIでは、絶
縁基材4(5)の表面に、導電粒子15が分散した抵抗
膜6(7)と、絶縁粒子14が分散した被膜9とがこの
順序で積層された導電層が形成されている。このうち、
絶縁粒子14の一部は被膜9の表面(すなわち導電層表
面)に露出しており、絶縁粒子14の他部は被膜9中に
埋設されている。また、導電粒子15の一部も被膜9の
表面(すなわち導電層表面)に露出している。
FIG. 3 shows the substrate III. In this substrate III, a conductive layer in which a resistance film 6 (7) in which conductive particles 15 are dispersed and a coating film 9 in which insulating particles 14 are dispersed are laminated in this order on the surface of the insulating substrate 4 (5) Has been formed. this house,
Part of the insulating particles 14 is exposed on the surface of the coating 9 (that is, the surface of the conductive layer), and the other part of the insulating particles 14 is embedded in the coating 9. Further, part of the conductive particles 15 is also exposed on the surface of the coating film 9 (that is, the surface of the conductive layer).

被膜9は絶縁性であっても導電性であってもよいが、被
膜9が絶縁性の場合には、導電粒子15が導電層表面に
露出している。被膜9が導電性の場合には、導電粒子1
5は導電層表面に露出していなくてもよい。
The coating 9 may be insulating or conductive, but when the coating 9 is insulating, the conductive particles 15 are exposed on the surface of the conductive layer. If the coating 9 is conductive, the conductive particles 1
5 may not be exposed on the surface of the conductive layer.

第4図は、基材IVを示している。この基材IVでは、絶縁
基材4(5)の表面に、抵抗膜6(7)と、導電粒子1
5が分散した被膜8とがこの順序で積層された導電層が
形成されている。
FIG. 4 shows the substrate IV. In this substrate IV, the resistive film 6 (7) and the conductive particles 1 are formed on the surface of the insulating substrate 4 (5).
A coating layer 8 in which 5 is dispersed is laminated in this order to form a conductive layer.

第5図は、基材Vを示している。この基材Vでは、絶縁
基材4(5)の表面に、抵抗膜6(7)と、導電粒子1
5が分散した被膜8と、絶縁粒子14が分散した被膜9
とがこの順序で積層された導電層が形成されている。こ
のうち、絶縁粒子14の一部は被膜9の表面(すなわち
導電層表面)に露出しており、絶縁粒子14の他部は被
膜9中に埋設されている。また、導電粒子15の一部も
被膜9の表面(すなわち導電層表面)に露出している。
FIG. 5 shows the substrate V. In this base material V, the resistive film 6 (7) and the conductive particles 1 are formed on the surface of the insulating base material 4 (5).
Coating 8 in which 5 is dispersed and coating 9 in which insulating particles 14 are dispersed
To form a conductive layer. Of these, some of the insulating particles 14 are exposed on the surface of the coating 9 (that is, the surface of the conductive layer), and the other portions of the insulating particles 14 are embedded in the coating 9. Further, part of the conductive particles 15 is also exposed on the surface of the coating film 9 (that is, the surface of the conductive layer).

被膜9は絶縁性であっても導電性であってもよいが、被
膜9が絶縁性の場合には、導電粒子15が導電層表面に
露出している。被膜9が導電性の場合には、導電粒子1
5は導電層表面に露出していなくてもよい。
The coating 9 may be insulating or conductive, but when the coating 9 is insulating, the conductive particles 15 are exposed on the surface of the conductive layer. If the coating 9 is conductive, the conductive particles 1
5 may not be exposed on the surface of the conductive layer.

第6図は、基材VIを示している。この基材VIでは、絶縁
基材4(5)の表面に、導電層として絶縁粒子14が分
散した抵抗膜6(7)が形成されている。このうち、絶
縁粒子14の一部は抵抗膜6(7)の表面(すなわち導
電層表面)に露出しており、絶縁粒子14の他部は抵抗
膜6(7)中に埋設されている。
FIG. 6 shows substrate VI. In this base material VI, a resistance film 6 (7) having insulating particles 14 dispersed therein is formed as a conductive layer on the surface of the insulating base material 4 (5). Of these, part of the insulating particles 14 is exposed on the surface of the resistive film 6 (7) (that is, the surface of the conductive layer), and the other part of the insulating particles 14 is embedded in the resistive film 6 (7).

第7図は、基材VIIを示している。この基材VIIでは、絶
縁基材4(5)の表面に、抵抗膜6(7)と、絶縁粒子
14が分散した導電性被膜9とがこの順序で積層された
導電層が形成されている。このうち、絶縁粒子14の一
部は導電性被膜9の表面(すなわち導電層表面)に露出
しており、絶縁粒子14の他部は導電性被膜9中に埋設
されている。
FIG. 7 shows the substrate VII. In this base material VII, a conductive layer in which a resistive film 6 (7) and a conductive coating film 9 in which insulating particles 14 are dispersed are laminated in this order is formed on the surface of the insulating base material 4 (5). . Of these, some of the insulating particles 14 are exposed on the surface of the conductive coating 9 (that is, the surface of the conductive layer), and the other portions of the insulating particles 14 are embedded in the conductive coating 9.

第8図は、基材VIIIを示している。この基材VIIIでは、
絶縁基材4(5)の表面に、導電層として、導電粒子1
5および絶縁粒子14が分散した抵抗膜6(7)が形成
されている、このうち、絶縁粒子14の一部は抵抗膜6
(7)の表面(すなわち導電層表面)に露出しており、
絶縁粒子14の他部は抵抗膜6(7)中に埋設されてい
る。
FIG. 8 shows the substrate VIII. In this substrate VIII,
Conductive particles 1 as a conductive layer on the surface of the insulating base material 4 (5)
5 and the insulating particles 14 are dispersed in the resistance film 6 (7), of which part of the insulating particles 14 is the resistance film 6
It is exposed on the surface of (7) (that is, the surface of the conductive layer),
The other part of the insulating particles 14 is embedded in the resistance film 6 (7).

第9図は、基材IXを示している。この基材IXでは、絶縁
基材4(5)の表面に、抵抗膜6(7)と、導電粒子1
5と絶縁粒子14とが分散した被膜10とがこの順序で
積層された導電層が形成されている。このうち、絶縁粒
子14の一部は被膜10の表面(すなわち導電層表面)
に露出しており、絶縁粒子14の他部は被膜10中に埋
設されている。また、導電粒子15の一部も被膜10の
表面(すなわち導電層表面)に露出している。
FIG. 9 shows the substrate IX. In this substrate IX, the resistive film 6 (7) and the conductive particles 1 are formed on the surface of the insulating substrate 4 (5).
5 and the coating film 10 in which the insulating particles 14 are dispersed are laminated in this order to form a conductive layer. Of these, part of the insulating particles 14 is the surface of the coating film 10 (that is, the surface of the conductive layer).
The other part of the insulating particles 14 is embedded in the coating film 10. Further, part of the conductive particles 15 is also exposed on the surface of the coating film 10 (that is, the surface of the conductive layer).

被膜10は絶縁性であっても導電性であってもよいが、
被膜10が絶縁性の場合には、導電粒子15が導電層表
面に露出している。被膜10が導電性の場合には、導電
粒子15は導電層表面に露出していなくてもよい。
The coating 10 may be insulating or conductive,
When the coating film 10 is insulative, the conductive particles 15 are exposed on the surface of the conductive layer. When the coating film 10 is conductive, the conductive particles 15 may not be exposed on the surface of the conductive layer.

基材III、V、VIII、IXの導電層中には絶縁粒子と導電
粒子とがともに含まれている。このように導電層中に絶
縁粒子と導電粒子とがともに含まれている基材において
は、導電層表面に露出している絶縁粒子の先端は、この
導電層の最上部に位置している。すなわち、この導電層
表面から突出し、かつ露出している絶縁粒子先端の高さ
は、同様にしてこの導電層表面から突出し、かつ露出し
ている導電粒子先端の高さよりも高くなっている。この
ため、基材III、V、VIII、IXのうち、いずれか一種の
基材と、基材I〜IXから選ばれたいずれか一種の基材と
を組み合せ、それぞれの導電層同士を対向させてタッチ
パネルを作成した場合、基材III、V、VIII、IXの導電
層中に含まれている絶縁粒子によって、一対の基材の導
電層間が一定の間隔に保たれている。
Both the insulating particles and the conductive particles are contained in the conductive layers of the base materials III, V, VIII, and IX. Thus, in the base material in which the insulating particles and the conductive particles are both contained in the conductive layer, the tips of the insulating particles exposed on the surface of the conductive layer are located at the uppermost part of the conductive layer. That is, the height of the tip of the insulating particle protruding and exposed from the surface of the conductive layer is higher than the height of the tip of the conductive particle protruding and exposed from the surface of the conductive layer in the same manner. Therefore, one of the base materials III, V, VIII, and IX is combined with any one of the base materials I to IX so that the conductive layers face each other. When a touch panel is manufactured by using the touch panel, insulating layers contained in the conductive layers of the substrates III, V, VIII, and IX keep the conductive layers of the pair of substrates at a constant interval.

以下、基材I〜IXに使用される絶縁基材、導電粒子、絶
縁粒子、抵抗膜、被膜について説明する。
Hereinafter, the insulating base material, the conductive particles, the insulating particles, the resistance film, and the coating film used for the base materials I to IX will be described.

絶縁基材は、板状であって、その材質としては、ガラス
製あるいはプラスチック製のものが使用できる。絶縁基
材は、透明のものでも不透明のものでも良いが、本発明
のタッチパネルを表示装置等の上に配置して使用する時
には、透明のものを用いる。その際には、抵抗膜、被膜
も透明なものを使用する。基材I〜IXを適宜に組み合わ
せて構成される本発明のタッチパネルは、一方の絶縁基
材を押圧して、当該絶縁基材を撓ませ、絶縁基材上に形
成された導電層を介して、対向する導電層同士を一部接
触させることで電気的に導通させる構造である。したが
って、基材I〜IXを組み合わせる際に、いずれか一方の
絶縁基材は、可撓性を有しているものを用いる。たとえ
ばプラスチックフィルムあるいはプラスチックシートが
好適である。
The insulating base material is plate-shaped, and as its material, glass or plastic can be used. The insulating base material may be transparent or opaque, but when the touch panel of the present invention is arranged and used on a display device or the like, a transparent one is used. In that case, transparent resistance films and coatings are used. The touch panel of the present invention configured by appropriately combining the base materials I to IX has one insulating base material pressed to bend the insulating base material, and through the conductive layer formed on the insulating base material. In this structure, the conductive layers facing each other are partially brought into contact with each other to be electrically conducted. Therefore, when combining the substrates I to IX, one of the insulating substrates having flexibility is used. For example, a plastic film or a plastic sheet is suitable.

導電粒子は、体積抵抗の小さなものならばなんでも良い
が、好ましくは10Ω・cm以下、特に好ましくは10
-1Ω・cm以下のものが良い。具体的には、Au 、Ag 、
Pt 、Pd 、Sn 、Cu 、Ni 、Zn 、Fe 、Pb 等の
金属粒子または前記金属の合金粒子が使用できる。ま
た、無機物の粒子や樹脂粒子に金属が鍍金されたもので
も使用することができる。
Conductive particles are anything good if the volume resistivity of the small, preferably 10 0 Omega · cm or less, particularly preferably 10
-1 Ω · cm or less is preferable. Specifically, Au, Ag,
Metal particles such as Pt, Pd, Sn, Cu, Ni, Zn, Fe and Pb or alloy particles of the above metals can be used. In addition, inorganic particles or resin particles in which a metal is plated can also be used.

抵抗膜または被膜に含まれる導電粒子間の距離dは、
≦300μmが好ましい。300μmを超えると、
入力できない部分がでてくる場合がある。また透明性の
要求される用途では、5μm≦dが好ましい。5μm
未満であると、基材の全光線透過率およびヘーズ等の透
明性が維持できない。
The distance d 2 between the conductive particles contained in the resistance film or the coating is
It is preferable that d 2 ≦ 300 μm. If it exceeds 300 μm,
There may be a part that cannot be entered. In addition, for applications requiring transparency, 5 μm ≦ d 2 is preferable. 5 μm
If it is less than the above, the total light transmittance of the substrate and the transparency such as haze cannot be maintained.

絶縁粒子は、本発明のタッチパネルの対向する導電層同
士が常に接触しないように、両導電層の間隙を保たせる
ものである。その体積抵抗は、10Ω・cm以上好まし
くは1012Ω・cm以上のものが良い。絶縁粒子の材質と
しては、樹脂あるいは無機物のものが使用できる。樹脂
としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性
樹脂のいずれでも使用できる。また無機物としては、酸
化物、炭化物、窒化物が使用できる。
The insulating particles keep the gap between the two conductive layers so that the conductive layers facing each other of the touch panel of the present invention are not always in contact with each other. The volume resistance is preferably 10 8 Ω · cm or more, and more preferably 10 12 Ω · cm or more. As a material for the insulating particles, a resin or an inorganic material can be used. As the resin, any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin can be used. Further, oxides, carbides, and nitrides can be used as the inorganic substance.

これら樹脂または無機物は、一種あるいは二種組み合わ
せて使用することが可能であり、または両者を混合して
も良い。絶縁粒子の粒径は、抵抗膜、被膜の膜厚よりも
大きいものを選択する。さらに、それぞれの粒径が抵抗
膜、被膜の膜厚より大きいならば、粒径の違う数種の絶
縁粒子を組み合わせて使用することもできる。この場
合、タッチパネルの透明性や絶縁性を向上できたり、入
力時の荷重が入力面内のいずれの座標でも一定になった
りするなどの利点が生ずる。これは粒径の比較的小さい
方の絶縁粒子(小粒径の絶縁粒子)が、粒径の比較的大
きい方の絶縁粒子(大粒径の絶縁粒子)間に都合よく配
置され、この小粒径の絶縁粒子が大粒径の絶縁粒子の絶
縁効果を都合よく補助し、透明性を低下させる原因とな
る大粒径の絶縁粒子を減らせるとともに、大粒径の絶縁
粒子の間隔を広くすることができるためである。
These resins or inorganic substances can be used alone or in combination of two kinds, or both may be mixed. The particle size of the insulating particles is selected to be larger than the film thickness of the resistance film and the film. Furthermore, if the respective particle diameters are larger than the film thickness of the resistance film and the film, several kinds of insulating particles having different particle diameters can be used in combination. In this case, there are advantages that the transparency and insulation of the touch panel can be improved, and that the load at the time of input becomes constant at any coordinates on the input surface. This is because the insulating particles having a relatively small particle size (insulating particles having a small particle size) are conveniently arranged between the insulating particles having a relatively large particle size (insulating particles having a large particle size). Insulation particles of large diameter conveniently assist the insulation effect of large-diameter insulating particles, reduce the large-sized insulating particles that cause deterioration of transparency, and widen the intervals of large-sized insulating particles. This is because it is possible.

抵抗膜または被膜に含まれる絶縁粒子間の距離dは、
≦1000μmが好ましい。さらに好ましくは、5
00μm以下である。1000μmを超えると、導電層
を介して抵抗膜同士が常時接触するおそれがでてくる。
また透明性の要求される用途では、30μm≦d≦1
000μmが好ましい。30μm未満であると、基材の
全光線透過率およびヘーズ等の透明性が維持できない。
The distance d 1 between the insulating particles contained in the resistance film or the film is
It is preferable that d 1 ≦ 1000 μm. More preferably, 5
It is not more than 00 μm. If it exceeds 1000 μm, the resistance films may always contact with each other via the conductive layer.
For applications requiring transparency, 30 μm ≦ d 1 ≦ 1
000 μm is preferable. If it is less than 30 μm, the total light transmittance of the substrate and the transparency such as haze cannot be maintained.

導電粒子あるいは絶縁粒子を各膜に均一に分散させる手
段としては、導電粒子または絶縁粒子を、抵抗膜形成用
塗料または被膜形成用塗料中に均一に配合しておき、こ
の塗料を絶縁基材の表面に所定膜厚に塗布するとよい。
As a means for uniformly dispersing conductive particles or insulating particles in each film, conductive particles or insulating particles are uniformly blended in a resistance film forming coating or a film forming coating, and this coating is applied to an insulating substrate. It may be applied on the surface to a predetermined thickness.

抵抗膜は、蒸着法・スパッタリング法・CVD法等の気
相法により、絶縁基材上に、導電性酸化インジウム膜
(ITO膜)、あるいは導電性酸化錫膜(NESA膜)
等を被着することによって得ることができる。また銀ペ
ースト、カーボンペースト等の不透明な電極ペーストを
塗布するか、あるいは(a) 導電性酸化物粉末を、(b) バ
インダー樹脂(以下抵抗膜用バインダー樹脂という)中
に分散した抵抗膜形成用塗料を塗布して絶縁基材上に形
成することもできる。(c) 導電粒子および/または(d)
絶縁粒子が分散した抵抗膜の場合には、前記抵抗膜形成
用塗料に(c) 導電粒子およひ/または(d) 絶縁粒子を混
入してやればよい。
The resistance film is a conductive indium oxide film (ITO film) or a conductive tin oxide film (NESA film) on an insulating substrate by a vapor phase method such as a vapor deposition method, a sputtering method or a CVD method.
Etc. can be obtained by applying. For forming a resistance film, apply an opaque electrode paste such as silver paste or carbon paste, or (a) a conductive oxide powder dispersed in (b) a binder resin (hereinafter referred to as a binder resin for a resistance film). It is also possible to apply a paint to form it on the insulating substrate. (c) conductive particles and / or (d)
In the case of a resistance film in which insulating particles are dispersed, (c) conductive particles and / or (d) insulating particles may be mixed in the resistance film forming coating material.

この抵抗膜形成用塗料で用いられる(b) 抵抗膜用バイン
ダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外
線硬化性樹脂または、キャリアー移動速度が10-8cm2
/V・sec 以上の導電性の樹脂が使用できる。具体的に
は、メタクリル樹脂などのアクリル系樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂などのアミノ系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アルキッド樹脂
などのポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、塩素化ポ
リエーテル樹脂などの塩素化物系樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、シリコーン樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ABS系樹脂、ポリアミンスルフォン樹脂、
ポリエーテルスルフォン樹脂などのポリスルフォン系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ブチラール樹脂な
どのビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリフェニレンオキ
シド系樹脂、ポリプロール系樹脂、ポリファラフェニレ
ン系樹脂、紫外線硬化性樹脂あるいはセルロース誘導体
などが用いられる。また、上記樹脂の共重合体等を、一
種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
またキャリアー移動速度が10-8cm2/V・sec 以上の
バインダー樹脂としては、ポリピロール、ポリアセター
ル、ポリピリジン等の導電性樹脂、あるいはポリビニル
カルバゾール、ジフェニルアミノスチレン等の光導電性
樹脂などが使用できる。さらに前記熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のうちの一種以上を上記の
導電性の樹脂と混合すると、抵抗膜形成用塗料の塗工性
を向上させたり、得られる抵抗膜と絶縁基材との密着性
を向上させたりすることができる。
The (b) binder resin for the resistance film used in this resistance film forming coating is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or a carrier moving speed of 10 -8 cm 2
A conductive resin of / V · sec or more can be used. Specifically, acrylic resin such as methacrylic resin, urea resin, amino resin such as melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polyether resin, alkyd resin, etc. Chlorinated resin such as polyester resin, epoxy resin and chlorinated polyether resin, polyolefin resin such as polyethylene resin and polypropylene resin,
Polycarbonate resin, silicone resin, polystyrene resin, ABS resin, polyamine sulfone resin,
Polysulfone resin such as polyethersulfone resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl carbazole resin, vinyl resin such as butyral resin, fluorine resin, polyphenylene oxide resin, polyprol resin, polyphalar A phenylene resin, an ultraviolet curable resin, a cellulose derivative or the like is used. Further, the above-mentioned resin copolymers and the like can be used alone or in combination of two or more.
As the binder resin having a carrier moving speed of 10 −8 cm 2 / V · sec or more, a conductive resin such as polypyrrole, polyacetal or polypyridine, or a photoconductive resin such as polyvinylcarbazole or diphenylaminostyrene can be used. Further, by mixing one or more of the thermoplastic resin, the thermosetting resin, and the ultraviolet curable resin with the above-mentioned conductive resin, the coatability of the resistance film-forming coating material is improved, and the resistance film is obtained. The adhesion with the insulating base material can be improved.

上記の導電性の樹脂と、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
紫外線硬化性樹脂との混合割合は、混合されたバインダ
ー樹脂でのキャリアー移動速度が10-8cm2/V・sec
以上に保持される範囲とする。
The above conductive resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin,
The mixing ratio with the ultraviolet curable resin is such that the carrier moving speed in the mixed binder resin is 10 -8 cm 2 / V · sec.
The range is held above.

(a) 導電性酸化物粉末は、酸化インジウムに、錫、フッ
素、塩素などの元素を、一種または二種以上ドープした
導電性酸化インジウム粉末、あるいは、酸化錫に、アン
チモン、フッ素、リン、塩素などの元素を一種または二
種以上ドープした導電性酸化錫粉末が用いられる。
(a) The conductive oxide powder is a conductive indium oxide powder obtained by doping indium oxide with one or more elements such as tin, fluorine and chlorine, or tin oxide with antimony, fluorine, phosphorus and chlorine. A conductive tin oxide powder doped with one or more of the above elements is used.

さらに導電性酸化インジウム粉末と、導電性酸化錫粉末
とを、混合して使用することもできる。また、このよう
な導電性酸化物が被着された薄片状物質、繊維状物質か
らなる粉体も使用できる。
Further, the conductive indium oxide powder and the conductive tin oxide powder can be mixed and used. Further, a powder composed of a flaky substance or a fibrous substance coated with such a conductive oxide can also be used.

さらに、透明性を要求される用途では、塗料中における
導電性酸化物粉末の平均粒径が、0.01〜0.6μm
好ましくは、0.01〜0.5μmの範囲のものが好ま
しい。さらに0.8μm以上の粗大粒子が、少量しか含
まれていないものがよい。これらの粉末は、本出願人が
先に出願した特開昭60-50813号公報、特開昭60-253112
号公報、特開昭63-11519号公報によって得られるものが
好ましい。
Furthermore, in applications requiring transparency, the average particle size of the conductive oxide powder in the paint is 0.01 to 0.6 μm.
It is preferably in the range of 0.01 to 0.5 μm. Further, it is preferable that coarse particles of 0.8 μm or more are contained only in a small amount. These powders are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-50813 and 60-253112 filed by the present applicant.
Those obtained by JP-A No. 63-11519 and JP-A No. 63-11519 are preferable.

(a) 導電性酸化物粉末と、(b) 抵抗膜用バインダー樹脂
との混合割合は、それぞれの重量において、60≦(a)
/((a)+(b))≦95重量%が好ましい。(a) が((a)+
(b))に対して40重量%未満では、得られる抵抗膜の導
電性が悪くなる。一方95重量%を超えると抵抗膜と絶
縁基材との密着性および得られる抵抗膜の透明性が悪く
なるので好ましくない。
The mixing ratio of (a) the conductive oxide powder and (b) the binder resin for the resistance film is 60 ≦ (a) in each weight.
It is preferable that / ((a) + (b)) ≦ 95% by weight. (a) is ((a) +
If it is less than 40% by weight with respect to (b), the conductivity of the resulting resistance film becomes poor. On the other hand, if it exceeds 95% by weight, the adhesiveness between the resistance film and the insulating base material and the transparency of the resistance film obtained are deteriorated, which is not preferable.

(c) 導電粒子と(b) 抵抗膜用バインダー樹脂とはそれぞ
れの容積において、0.1≦(c) /((c)+(b))≦50 v
ol%、好ましくは0.5≦(c) /((c)+(b))≦30 vol
%である。0.1 vol%未満であると、抵抗膜分解能が
悪くなる。また50 vol%を超えると、透明性が悪くな
る。
(c) The conductive particles and (b) the binder resin for the resistance film have respective volumes of 0.1 ≦ (c) / ((c) + (b)) ≦ 50 v
ol%, preferably 0.5 ≦ (c) / ((c) + (b)) ≦ 30 vol
%. If it is less than 0.1 vol%, the resistance film resolution is deteriorated. Further, if it exceeds 50 vol%, the transparency becomes poor.

(d) 絶縁粒子と(b) 抵抗膜用バインダー樹脂とは、それ
ぞれの容積において、0.1≦(d) /((d)+(b))≦50
vol%、好ましくは0.5≦(d) /((d)+(b))≦20 v
ol%である。0.1 vol%未満であると、抵抗膜同士が
被膜を介して常に接触してしまう。また50 vol%を超
えると、透明性が悪くなる。
(d) Insulating particles and (b) Binder resin for resistive film are 0.1 ≦ (d) / ((d) + (b)) ≦ 50 in each volume.
vol%, preferably 0.5 ≦ (d) / ((d) + (b)) ≦ 20 v
ol%. If it is less than 0.1 vol%, the resistance films will always contact each other through the coating. Further, if it exceeds 50 vol%, the transparency becomes poor.

(c) 導電粒子および/または(d) 絶縁粒子と不透明な電
極ペーストとの混合割合も同様である。
The same applies to the mixing ratio of the (c) conductive particles and / or (d) insulating particles to the opaque electrode paste.

キャリアー移動速度とは、樹脂に電界をかけた場合に、
樹脂中で電子または正孔が動く速さを意味しており、モ
ビリティ(mobility)ともいう。このキャリアー移動速度
は、以下のようにして測定される。
Carrier moving speed is when the electric field is applied to the resin,
It means the speed at which electrons or holes move in the resin, and is also called mobility. This carrier moving speed is measured as follows.

距離lの電極間に厚さlの樹脂を差し込む。次に樹脂に
光を照射して樹脂内の電子を励起させ、正極に電子を移
動させる。この際、光を照射した時刻tと、正極に電
子が到達した時刻tとの差を測定機器により計測す
る。ここでキャリアー移動速度関数ν(E)は、次式で
表わされる。
A resin having a thickness of 1 is inserted between electrodes having a distance of 1. Next, the resin is irradiated with light to excite the electrons in the resin and move the electrons to the positive electrode. In this case, the time t 0 when irradiated with light, is measured by the measuring device the difference between the time t 1 that electrons reaches the positive electrode. Here, the carrier moving speed function ν (E) is expressed by the following equation.

したがって (式中のμは、キャリアー移動速度、Eは電界、Vは電
圧である。) 抵抗膜は、50Ω/□≦表面抵抗≦3000Ω/□を有
するものがよい。透明性を要求される用途では、前記表
面抵抗を有し、かつ抵抗膜が形成された絶縁基材の全光
線透過率が70%以上、ヘーズが20%未満であるのが
好ましい。
Therefore (In the formula, μ is a carrier moving speed, E is an electric field, and V is a voltage.) The resistance film preferably has 50Ω / □ ≦ surface resistance ≦ 3000Ω / □. In applications requiring transparency, it is preferable that the insulating substrate having the above-mentioned surface resistance and having a resistance film has a total light transmittance of 70% or more and a haze of less than 20%.

被膜は、絶縁粒子および/または導電粒子が分散された
被膜形成用塗料を用いて、抵抗膜上に順次塗布形成され
る。被膜自体は、基材VIIを除き導電性を有していて
も、有していなくてもよい。導電性を有さない被膜で
は、導電粒子を介して上下の抵抗膜相互を導通させるよ
うに導電粒子の一部が露出するように被膜の膜厚または
導電粒子の粒径を調整しなければならない。なお、被膜
自体が導電性を有した場合には、タッチパネルの分解能
をさらに向上させることができる。
The coating film is sequentially formed on the resistance film by using a coating film-forming coating material in which insulating particles and / or conductive particles are dispersed. The coating itself may or may not have conductivity, except for the substrate VII. In a non-conductive film, the film thickness of the film or the particle size of the conductive particles must be adjusted so that a part of the conductive particles is exposed so that the upper and lower resistance films can be electrically conducted through the conductive particles. . In addition, when the coating film itself has conductivity, the resolution of the touch panel can be further improved.

被膜自体に導電性をもたせるには、キャリアー移動速度
が10-8cm2/V・sec 以上のバインダー樹脂(以下導
電性被膜用バインダー樹脂という)中に、(d) 絶縁粒子
および/または(c) 導電粒子が分散された導電性被膜形
成用塗料を用いて、抵抗膜等の上に塗布形成すればよ
い。この導電性被膜用バインダー樹脂は、前記抵抗膜用
バインダー樹脂に用いられるキャリアー移動速度が10
-8cm2/V・sec 以上のバインダー樹脂と同じものであ
る。さらに抵抗膜用バインダー樹脂の場合と同様に熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂の一種以上
を混合すると、導電性被膜形成用塗料の塗工性を向上さ
せたり、得られる抵抗膜と被膜との密着性を向上させた
りすることができる。
In order to impart conductivity to the coating film itself, (d) insulating particles and / or (c) are added to a binder resin having a carrier moving speed of 10 -8 cm 2 / V · sec or more (hereinafter referred to as binder resin for conductive coating film). ) A conductive film-forming coating material in which conductive particles are dispersed may be used to form a coating on a resistance film or the like. The conductive resin binder resin has a carrier moving speed of 10 used in the resistance film binder resin.
-It is the same as the binder resin of 8 cm 2 / V · sec or more. Further, as in the case of the binder resin for the resistance film, mixing one or more of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable resin improves the coatability of the conductive film-forming coating material or obtains the resistance film. It is possible to improve the adhesion between the coating and the coating.

また、被膜自体に導電性をもたせない場合には、上記の
導電性被膜用バインダー樹脂の代わりに、非導電性被膜
用バインダー樹脂を用いた非導電性被膜形成用塗料で、
塗布形成すればよい。非導電性被膜用バインダー樹脂と
は、前記抵抗膜用バインダー樹脂と同様の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂と同じものであ
る。
Further, when the coating itself does not have conductivity, in place of the binder resin for the above-mentioned conductive coating, a non-conductive coating forming paint using a binder resin for the non-conductive coating,
It may be formed by coating. The non-conductive coating binder resin is the same as the thermoplastic resin, thermosetting resin, or ultraviolet curable resin similar to the binder resin for the resistance film.

(c) 導電粒子と(e) 導電性または非導電性被膜用バイン
ダー樹脂とはそれぞれの容積において、0.1≦(c) /
((c)+(e))≦50 vol%、好ましくは0.5≦(c) /
((c)+(e))≦30 vol%である。0.1 vol%未満であ
ると、抵抗膜分解能が悪くなる。また50 vol%を超え
ると、透明性が悪くなる。
(c) The conductive particles and (e) the conductive or non-conductive binder resin for the coating film have a volume of 0.1 ≦ (c) /
((c) + (e)) ≦ 50 vol%, preferably 0.5 ≦ (c) /
((c) + (e)) ≦ 30 vol%. If it is less than 0.1 vol%, the resistance film resolution is deteriorated. Further, if it exceeds 50 vol%, the transparency becomes poor.

(d) 絶縁粒子と(e) 導電性または非導電性被膜用バイン
ダー樹脂とは、それぞれの容積において、0.1≦(d)
/((d)+(e))≦50 vol%、好ましくは0.5≦(d) /
((d)+(e))≦20 vol%である。0.1 vol%未満であ
ると、抵抗膜同士が被膜を介して常に接触してしまう。
また50 vol%を超えると、透明性が悪くなる。
(d) the insulating particles and (e) the conductive or non-conductive coating binder resin have a volume of 0.1 ≦ (d)
/ ((D) + (e)) ≦ 50 vol%, preferably 0.5 ≦ (d) /
((d) + (e)) ≦ 20 vol%. If it is less than 0.1 vol%, the resistance films will always contact each other through the coating.
Further, if it exceeds 50 vol%, the transparency becomes poor.

被膜が積層された導電層は、積層された状態における被
膜面で、100Ω/□≦表面抵抗≦5000Ω/□を有
するものがよい。透明性を要求される用途では、前記表
面抵抗を有し、かつ被膜を積層した状態での絶縁基材の
全光線透過率が70%以上、ヘーズが20%未満である
のが好ましい。被膜の膜厚は、0.5〜50μmが好ま
しい。50μmを超えると分解能が悪くなり、また0.
5μm未満では、入力時に被膜が剥げたり、アークが発
生したりしてチッチパネルを長期間使用できなくなる。
The conductive layer on which the coating is laminated preferably has 100Ω / □ ≦ surface resistance ≦ 5000Ω / □ on the coating surface in the laminated state. In applications where transparency is required, it is preferable that the insulating substrate having the above-mentioned surface resistance and having a coating layer have a total light transmittance of 70% or more and a haze of less than 20%. The film thickness of the coating is preferably 0.5 to 50 μm. If it exceeds 50 μm, the resolution becomes poor, and if it is 0.
If the thickness is less than 5 μm, the coating may be peeled off or an arc may be generated at the time of input, and the chich panel cannot be used for a long period of time.

抵抗膜に導電粒子が分散している場合(基材II、VII
I)、この導電粒子は必ずしも表面に露出している必要
はない。また、基材III、IV、VおよびIXにおいても、
被膜8、9、10が導電性を有する場合は必ずしも導電
粒子が表面に露出していなくても良い。
When conductive particles are dispersed in the resistive film (Base materials II, VII
I), the conductive particles do not necessarily have to be exposed on the surface. Further, in the base materials III, IV, V and IX,
When the coatings 8, 9 and 10 have conductivity, the conductive particles do not necessarily have to be exposed on the surface.

しかし、被膜自体が導電性を有し、導電粒子が露出して
いる方が、タッチパネルの分解能の向上、入力抵抗の低
下、さらに入力荷重の減少を図ることができる。
However, when the coating film itself has conductivity and the conductive particles are exposed, the resolution of the touch panel can be improved, the input resistance can be reduced, and the input load can be reduced.

本発明で用いられる抵抗膜形成用塗料、被膜形成用塗料
は、前記各成分が溶剤中に、溶解あるいは分散されてい
る。この溶剤としては、各樹脂を、溶解または希釈しう
るものを使用する。たとえば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコー
ル、シクロヘキサノール等のアルコール類、アセトン、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ホロン、イソホロン等のケトン類、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリモノエ
チルエーテル、カルビトール、メチルカルビトール、ジ
オキサン等のエーテル類、酢酸n-ブチル等のエステル
類、ヘキサン、シクロヘキサン等の石油ナフサ類、トル
エン、キシレン、メシチレン等の芳香族類、N-メチル-2
- ピロリドンおよびその誘導体などが一種または二種以
上組み合わせて使用する。このような溶剤は、所望の膜
厚および塗料を塗布しうる粘度となるような量で用いら
れる。また水溶性バインダー樹脂を用いた場合には、溶
剤として水を用いることもできる。
In the coating for forming a resistance film and the coating for forming a film used in the present invention, the above components are dissolved or dispersed in a solvent. As this solvent, one that can dissolve or dilute each resin is used. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, diacetone alcohol, cyclohexanol, acetone,
Cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as phorone and isophorone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glymonoethyl ether, carbitol, ethers such as methyl carbitol and dioxane, esters such as n-butyl acetate, hexane , Petroleum naphthas such as cyclohexane, aromatics such as toluene, xylene and mesitylene, N-methyl-2
-Pyrrolidone and its derivatives are used alone or in combination of two or more. Such a solvent is used in an amount such that a desired film thickness and a viscosity capable of applying a coating material are obtained. When a water-soluble binder resin is used, water can be used as the solvent.

抵抗膜形成用塗料、被膜形成用塗料を製造する際には、
絶縁粒子、導電粒子または導電性酸化物粉末の分散性を
向上させて、粒子同士の再凝集を防止するため、界面活
性剤あるいはカップリング材を前記塗料に添加すると良
い。
When manufacturing paint for resistance film formation, paint for film formation,
In order to improve the dispersibility of the insulating particles, the conductive particles or the conductive oxide powder and prevent the particles from re-agglomerating, a surfactant or a coupling material may be added to the coating material.

界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオ
ン系などのものを広く用いることもできる。またカップ
リング剤としては、シラン系、チタン系、アルミニウム
系、ジルコニウム系、マグネシウム系のものが使用でき
る。
As the surfactant, those of anionic type, nonionic type and cationic type can be widely used. As the coupling agent, silane-based, titanium-based, aluminum-based, zirconium-based, and magnesium-based ones can be used.

このようにして得られる塗料を用い、従来公知の塗工
法、たとえば、スピンナー法、バーコート法、ディップ
法、メイヤバー法、エアーナイフ法あるいはグラビア、
スクリーン、ロールコーター等の印刷法によって塗布
し、ついで硬化させることによって基材I〜IXが得られ
る。本発明では、これらの方法によって得られた基材I
〜IXを、各導電層が対向するように重ねてタッチパネル
を構成している。
Using the coating material thus obtained, conventionally known coating methods, for example, spinner method, bar coating method, dipping method, Mayer bar method, air knife method or gravure,
Substrates I to IX are obtained by applying by a printing method such as a screen or a roll coater and then curing. In the present invention, the substrate I obtained by these methods is
~ IX are stacked so that the conductive layers face each other to form a touch panel.

第10図は、本第1タッチパネルの要部断面図である。
第11図は、本発明のタッチパネルの座標読み取り原理
図の一例である。また第12図は、本タッチパネルの概
略斜視図である。ここでは第10図と第12図を用い
て、本第1タッチパネルの座標読み取り原理図の一例を
示す(基材Iと基材IIIとの組合せ)。この例では、可
動パネル(上側)2により押圧位置A点のY座標を、固
定パネル(下側)3によりX座標を読み取る。押圧位置
A点で、抵抗膜7と被膜10を介して抵抗膜6とが接触
すると、定電流電源装置21により供給された電流I
は、IとIとに分配されて可動パネル(上側)2を
流れ、A点で下側のA′点に移る。さらにA′点で電流
Iは、IとIに分配された後、固定パネル(下側)
3を流れて回路を形成する。ここでIとIを検出す
れば、A点のY座標が算出され、同じくIとIを検
出すれば、A点のX座標が算出されて、A点の座標が決
定される。
FIG. 10 is a cross-sectional view of an essential part of the first touch panel.
FIG. 11 is an example of a principle of coordinate reading of the touch panel of the present invention. Further, FIG. 12 is a schematic perspective view of the touch panel. Here, an example of the principle of coordinate reading of the first touch panel is shown with reference to FIGS. 10 and 12 (combination of the base material I and the base material III). In this example, the movable panel (upper side) 2 reads the Y coordinate of the pressed position A and the fixed panel (lower side) 3 reads the X coordinate. When the resistance film 7 contacts the resistance film 6 via the film 10 at the pressing position A, the current I supplied by the constant current power supply device 21
Is distributed to I 1 and I 2 , flows through the movable panel (upper side) 2, and moves to the lower A'point at the point A. Further, at the point A ′, the current I is distributed to I 3 and I 4 , and then fixed panel (lower side).
3 to form a circuit. If I 1 and I 2 are detected here, the Y coordinate of point A is calculated, and if I 3 and I 4 are detected, the X coordinate of point A is calculated and the coordinate of point A is determined. .

さらに可動パネル(上側)2あるいは固定パネル(下
側)3のうちいずれか一方の抵抗膜の抵抗値が他方の抵
抗膜の抵抗値より高いものを組み合せ、抵抗値の高い方
のパネルを定電流電源装置の+側に接続すると、文字・
図形の入力時に発生するアークを有効に防止することが
できる。
Further, one of the movable panel (upper side) 2 and the fixed panel (lower side) 3 in which the resistance value of the resistance film is higher than the resistance value of the other resistance film is combined, and the panel having the higher resistance value is set to the constant current. When connected to the + side of the power supply,
It is possible to effectively prevent an arc that occurs when a figure is input.

なお、本発明は図示するような実施例に限らず、本発明
の範囲内で種々に改変することができる。たとえば、本
タッチパネルは、上述したような第12図に示すX,Y
座標読み取り用電気回路に接続されるだけでなく、その
他の公知の電気回路に接続されることも可能である。そ
の際に、本タッチパネルを二層以上積層させて使用する
ようにしても良い。
The present invention is not limited to the illustrated embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention. For example, this touch panel has the X, Y shown in FIG. 12 as described above.
It is possible to connect not only to the coordinate reading electric circuit but also to other known electric circuits. At this time, the touch panel may be used by stacking two or more layers.

発明の効果 以上説明してきたように、本タッチパネルは、絶縁基材
の一方の表面に主として抵抗膜からなる導電層が形成さ
れた2枚の基材を用い、それぞれの導電層を対向させ、
略平行で所定の間隔に配置し、いずれか一方の前記基材
の一部を押圧することにより、該導電層同士の一部を接
触して、電気的に導電させ、高精細な文字・図形を入力
するものであって、一方の基材として基材III、V、V
I、VII、VIII、IXから選ばれた一種の基材を用い、他方
の基材として基材I〜基材IXのうちから選ばれる一種を
組み合わせた構造からなる。そのため、高精細な文字・
図形などの入力が可能となり、誤入力が少なく、タッチ
パネルの耐久性が向上するという優れた効果を有する。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the present touch panel uses two base materials in which a conductive layer mainly made of a resistance film is formed on one surface of an insulating base material, and the respective conductive layers are opposed to each other.
High-definition characters / figures are arranged substantially parallel and at a predetermined interval, and by pressing a part of one of the base materials, a part of the conductive layers are brought into contact with each other to be electrically conductive. For inputting one of the base materials III, V, V
It has a structure in which one kind of base material selected from I, VII, VIII and IX is used and one kind of base material selected from the base materials I to IX is combined as the other base material. Therefore, high-definition characters
It is possible to input a figure and the like, and there are few erroneous inputs, which has an excellent effect of improving the durability of the touch panel.

本タッチパネルの用途としては、コンピューターの入力
装置として使用できるのはもちろんのこと、さらにコピ
ー機では、複写位置を指定する際にも使用できる。また
透明性の要求されない用途での使用も可能であり、その
際には、絶縁基材、抵抗膜、被膜が透明でなくても構わ
ない。
The touch panel can be used not only as an input device of a computer but also in a copying machine when designating a copy position. It can also be used in applications where transparency is not required, in which case the insulating base material, the resistance film, and the coating need not be transparent.

以下本タッチパネルを、より具体的な実施例によって説
明するが、本タッチパネルは、これら実施例に限定され
るものではない。
The present touch panel will be described below with reference to more specific examples, but the present touch panel is not limited to these examples.

実施例 タッチパネルを形成するために、以下に示す基材I〜IX
を作成した。
Examples In order to form a touch panel, the following substrates I to IX
It was created.

「基材I−1」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
120 、平均粒径2μm、触媒化成工業(株)製)130g
とポリエステル樹脂(商品名 バイロン 東洋紡績(株)
製)70gとシクロヘキサノン200gとを混合し、サ
ンドミルで30分間粉砕して抵抗膜形成用塗料を得た。
この塗料を、ポリカーボネート板(CR-39) にバーコータ
ーで塗布し、乾燥して基材を得た。
"Substrate I-1" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
120, average particle size 2μm, Catalyst Chemical Co., Ltd.) 130g
And polyester resin (trade name: Byron Toyobo Co., Ltd.)
70 g) and 200 g of cyclohexanone were mixed and pulverized with a sand mill for 30 minutes to obtain a resistance film-forming coating material.
This paint was applied to a polycarbonate plate (CR-39) with a bar coater and dried to obtain a base material.

「基材I−2」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材I−1と同様にして基材を得た。
"Substrate I-2" A substrate was obtained in the same manner as the substrate I-1 except that a PET film (thickness 125 µm) was used.

「基材I−3」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
130 、平均粒径0.2μm、触媒化成工業(株)製)15
0gとポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコー
ル亜南香料製 キャリアー移動速度が10-6cm2/V・s
ec )25.0gと紫外線硬化樹脂(商品名 DH-705
(株)大八化学工業所製)12.5gとシクロヘキサノン
200gとを混合し、サンドミルで2時間粉砕して抵抗
膜形成用塗料を得た。この塗料を、ポリカーボネート板
(CR-39) にバーコーターで塗布し、乾燥した後紫外線で
硬化させて基材を得た。
"Substrate I-3" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
130, average particle size 0.2 μm, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) 15
0 g and polyvinyl carbazole resin (trade name, manufactured by Chibicol Anan Fragrance, carrier moving speed is 10 −6 cm 2 / V · s
ec) 25.0g and UV curable resin (trade name DH-705
12.5 g (manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) and 200 g of cyclohexanone were mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours to obtain a resistance film-forming coating material. Use this paint on a polycarbonate plate
(CR-39) was coated with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to obtain a substrate.

「基材I−4」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材I−3と同様にして基材を得た。
"Substrate I-4" A substrate was obtained in the same manner as the substrate I-3 except that a PET film (thickness 125 µm) was used.

「基材I−5」 5重量%の酸化錫を含む酸化インジウム粉末を、ダブレ
ット状に成型した後、2kwの電子銃を用い、ガラス板
上に板温度400℃、酸化分圧3×10-4torr、蒸着速
度3Å/sec で蒸着し、基材を得た。「基材I−6」 PETフィルム(厚み125μm)を用い、板温度を1
00℃とした以外は、基材I−5と同様にして基材を得
た。
The indium oxide powder containing a "substrate I-5" 5 wt% of tin oxide, was molded into a doublet shape, an electron gun 2 kw, the plate temperature 400 ° C. on a glass plate, oxide partial pressure 3 × 10 - The substrate was obtained by vapor deposition at 4 torr and a vapor deposition rate of 3Å / sec. "Substrate I-6" Using a PET film (thickness 125 μm), the plate temperature is 1
A base material was obtained in the same manner as the base material I-5 except that the temperature was set to 00 ° C.

「基材I−7」 カーボンペースト(商品名 JEF024-R132 日本アチソン
(株)製)を、ポリカーボネート板(CR-39) に、150メ
ッシュのスクリーンを使用してスクリーン印刷し、15
0℃、30分間乾燥して基材を得た。
"Substrate I-7" Carbon paste (product name JEF024-R132 Nippon Acheson
Screen-printed on a polycarbonate plate (CR-39) using a 150 mesh screen.
A substrate was obtained by drying at 0 ° C. for 30 minutes.

「基材I−8」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材I−7と同様にして基材を得た。
"Substrate I-8" A substrate was obtained in the same manner as the substrate I-7 except that a PET film (thickness 125 µm) was used.

「基材I−9」 弗素をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM T
L-130 、平均粒径0.2μm、触媒化成工業(株)製)1
50gとポリエステル樹脂(商品名 バイロン)37.
5gとシクロヘキサノン200gとを混合し、サンドミ
ルで2時間粉砕して抵抗膜形成用塗料を得た。この塗料
を、PETフィルム(厚み100μm)にバーコーター
で塗布し、乾燥して基材を得た。
"Substrate I-9" Fluorine-doped indium oxide powder (trade name ELCOM T
L-130, average particle size 0.2 μm, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) 1
50 g and polyester resin (trade name: Byron) 37.
5 g and 200 g of cyclohexanone were mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours to obtain a resistance film-forming coating material. This coating material was applied to a PET film (thickness 100 μm) with a bar coater and dried to obtain a base material.

「基材II−1」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
120 )130gとポリエステル樹脂(商品名 バイロ
ン)70gとシクロヘキサノン200gとを混合し、サ
ンドミルで30分間粉砕し、さらに酸化珪素粒子(商品
名 真絲球 粒径8μm 比重2.2 触媒化成工業
(株)製)の表面に厚み0.05μmの銀鍍金をした粒子
4.2g(比重2.5)とを混合し、抵抗膜形成用塗料
を得た。この塗料を、ポリカーボネート板(CR-39) にバ
ーコーターで塗布し、乾燥して基材を得た。(導電粒子
である真絲球に銀鍍金をした粒子は、2.0 vol%含
有。) 「基材II−2」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材II−1と同様にして基材を得た。
"Substrate II-1" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
120), 130 g of polyester resin (trade name: Byron) and 200 g of cyclohexanone are mixed, crushed in a sand mill for 30 minutes, and further, silicon oxide particles (trade name: true sphere, particle size: 8 μm, specific gravity: 2.2 Catalysis Chemical Industry)
(Manufactured by Co., Ltd.) was mixed with 4.2 g (specific gravity 2.5) of silver-plated particles having a thickness of 0.05 μm to obtain a resistance film-forming coating material. This paint was applied to a polycarbonate plate (CR-39) with a bar coater and dried to obtain a base material. (The particles obtained by plating silver particles on the conductive spheres are 2.0 vol%.) “Substrate II-2” The same as the substrate II-1 except that a PET film (thickness 125 μm) is used. A substrate was obtained.

「基材II−3」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名ELCOM TL-1
30 )150gとポリビニルカリバゾール樹脂(商品名
ツビコール)25.0gと紫外線硬化樹脂(商品名
DH-705 )12.5gとシクロヘキサノン200gとを
混合し、サンドミルで2時間粉砕し、さらに酸化珪素粒
子(商品名 真絲球 粒径5μm 比重2.2)の表面
に厚み0.05μmのニッケル鍍金、その上に0.05
μmの金鍍金をした粒子0.46g(比重3.5)とを
混合し、抵抗膜形成用塗料を得た。この塗料を、ポリカ
ーボネート板(CR-39) にバーコーターで塗布し、乾燥し
た後、紫外線で硬化させて基材を得た。(導電粒子であ
る真絲球にニッケル- 金鍍金をした粒子は、0.25 v
ol%含有。) 「基材II−4」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材II−3と同様にして基材を得た。
"Substrate II-3" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-1
30) 150 g and polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 25.0 g and ultraviolet curing resin (trade name)
12.5 g of DH-705) and 200 g of cyclohexanone were mixed, pulverized with a sand mill for 2 hours, and further, a nickel plating of 0.05 μm in thickness was formed on the surface of silicon oxide particles (trade name: true sphere, particle size: 5 μm, specific gravity: 2.2). 0.05 on it
0.4 μg (specific gravity 3.5) of particles plated with μm of gold were mixed to obtain a resistance film-forming coating material. This coating material was applied to a polycarbonate plate (CR-39) with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to obtain a base material. (The particle size of nickel-gold plated nickel-gold plated conductive particles is 0.25 v
Contains ol%. ) "Substrate II-4" A substrate was obtained in the same manner as the substrate II-3 except that a PET film (thickness 125 µm) was used.

「基材III−1」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
5gとイソホロン85gと酸化珪素粒子(商品名 毛粒
子 粒径16μm比重2.2触媒化成工業(株)製)1.
5gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得た。
この塗料を基材II−2にバーコーターで塗布し、乾燥し
て基材を形成した。(絶縁粒子である毛粒子は、5.1
vol%含有。) 「基材III−2」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.75gにした以
外は、基材III−1と同様にして基材を形成した。(絶
縁粒子である毛粒子は、2.6 vol%含有。) 「基材III−3」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.15gにした以
外は、基材III−1と同様にして基材を形成した。(絶
縁粒子である毛粒子は、0.5 vol%含有。) 「基材III−4」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
0gと紫外線硬化樹脂(商品名 DH-705 )5gとシクロ
ヘキサノン85gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商品名
ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)0.1
5gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得た。
この塗料を基材II−4にバーコーターで塗布し、乾燥し
た後、紫外線で硬化させて基材を形成した。(絶縁粒子
であるミクロパールSPは、1.0 vol%含有。) 「基材IV−1」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
130 )150gとアクリル樹脂(大日本インキ(株)製
商品名 アクリディック A-405)60gとメラミン樹脂
(大日本インキ(株)製 商品名 スパーベッカミン J-8
20-60 )33.3gとブチルカルビトールアセテート2
00gとを混合し、サンドミルで2時間粉砕し、さらに
酸化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径5μm 比重2.
2)の表面に厚み0.05μmの銀鍍金をした粒子0.
7g(比重2.7)とを混合し、被膜形成用塗料を得
た。この塗料を、基材I−5にバーコーターで塗布し、
乾燥して基材を得た。(導電粒子である真絲球に銀鍍金
をした粒子は、0.4 vol%含有。) 「基材IV−2」 基材I−6を用いた以外は、基材IV−1と同様にして基
材を得た。
"Substrate III-1" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
5 g, isophorone 85 g, and silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle size 16 μm, specific gravity 2.2, manufactured by Catalysts & Chemicals Industry Co., Ltd.)
5 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material.
This coating material was applied to a base material II-2 with a bar coater and dried to form a base material. (The hair particles that are insulating particles are 5.1
Contains vol%. ) "Base material III-2" A base material was formed in the same manner as the base material III-1 except that the amount of silicon oxide particles (trade name: hair particles) was 0.75 g. (Hair particles which are insulating particles contain 2.6 vol%.) "Base material III-3" Same as the base material III-1 except that the silicon oxide particles (trade name hair particles) are 0.15 g. To form a substrate. (The hair particles that are insulating particles contain 0.5 vol%.) "Base material III-4" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
0 g, UV curable resin (trade name: DH-705) 5 g, cyclohexanone 85 g, and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm, specific gravity 1.2) 0.1
5 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material.
This coating material was applied to a base material II-4 with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to form a base material. (Microvol SP, which is an insulating particle, contains 1.0 vol%.) “Base material IV-1” Indium oxide powder doped with tin (trade name ELCOM TL-
130) 150 g and acrylic resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
Product name Acridic A-405) 60g and melamine resin (Dainippon Ink Co., Ltd. product name Super Beckamine J-8
20-60) 33.3 g and butyl carbitol acetate 2
00g was mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours, and further, silicon oxide particles (trade name: true sphere, particle size: 5 μm, specific gravity: 2.
Particles having a thickness of 0.05 μm plated on the surface of 2) of 0.
7 g (specific gravity 2.7) was mixed to obtain a coating material for forming a film. This coating material is applied to a base material I-5 with a bar coater,
A substrate was obtained by drying. (Particles obtained by silver-plating true-spheres, which are conductive particles, contain 0.4 vol%.) "Substrate IV-2" Except that Substrate I-6 was used, it was the same as Substrate IV-1. A base material was obtained.

「基材IV−3」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
120 )120gとポリエステル樹脂(商品名 バイロ
ン)80gとシクロヘキサノン200gとを混合し、サ
ンドミルで30分間粉砕し、さらに酸化珪素粒子(商品
名 真絲球 粒径8μm 比重2.2)の表面に厚み
0.05μmの銀鍍金をした粒子18.2g(比重2.
5)とを混合し、被膜形成用塗料を得た。この塗料を、
基材I−8にバーコーターで塗布し、乾燥して基材を得
た。(導電粒子である真絲球に銀鍍金をした粒子は、
8.2 vol%含有。) 「基材V−1」 ポリエステル樹脂(商品名 バイロン)27gとシクロ
ヘキサノン130gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商品
名 ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)1.
5gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得た。
この塗料を基材IV−1にバーコーターで塗布し、乾燥し
て基材を形成した。(絶縁粒子であるミクロパールSP
は、5.5 vol%含有。) 「基材V−2」 基材IV−2を用いた以外は、基材V−1と同様にして基
材を得た。
"Substrate IV-3" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
120), 120 g of polyester resin (trade name: Byron) and 200 g of cyclohexanone are mixed, crushed in a sand mill for 30 minutes, and further, a silicon oxide particle (trade name: true sphere, particle size: 8 μm, specific gravity: 2.2) is formed on the surface of a thickness of 0.2. 18.2 g of particles plated with silver having a thickness of 05 μm (specific gravity: 2.
5) and were mixed to obtain a coating for forming a film. This paint
The base material I-8 was coated with a bar coater and dried to obtain a base material. (The particles that are silver-plated on the diamond balls that are conductive particles are
Contains 8.2 vol%. ) “Substrate V-1” 27 g of polyester resin (trade name: Byron), 130 g of cyclohexanone, and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size: 12 μm, specific gravity: 1.2)
5 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material.
This coating material was applied to the substrate IV-1 with a bar coater and dried to form a substrate. (Micropearl SP which is an insulating particle
Contains 5.5 vol%. ) "Substrate V-2" A substrate was obtained in the same manner as the substrate V-1 except that the substrate IV-2 was used.

「基材V−3」 ポリエステル樹脂(商品名 バイロン)20gとシクロ
ヘキサノン100gと酸化珪素粒子(商品名 毛粒子
粒径16μm 比重2.2)1.9gとを混合し、充分
分散して被膜形成用塗料を得た。この塗料を基材IV−3
にバーコーターで塗布し、乾燥して基材を形成した。
(絶縁粒子である毛粒子は、5.1 vol%含有。) 「基材VI−1」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
130 )150gとポリエステル樹脂(商品名 バイロ
ン)37.5gとシクロヘキサノン200gとを混合
し、サンドミルで2時間粉砕した。その後ジビニルベン
ゼン樹脂粒子(商品名 ミクロパールSP 粒径12μm
比重1.2)10gとを混合し、充分分散して抵抗膜
形成用塗料を得た。この塗料を、ポリカーボネート板(C
R-39) にバーコーターで塗布し、乾燥して基材を得た。
(絶縁粒子であるミクロパールSPは、1.6 vol%含
有。) 「基材VI−2」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材VI−1と同様にして基材を得た。
"Substrate V-3" 20 g of polyester resin (trade name Byron), 100 g of cyclohexanone and silicon oxide particles (trade name of hair particles)
A particle size of 16 μm and a specific gravity of 2.2) (1.9 g) were mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. Use this paint as the base material IV-3
Was coated with a bar coater and dried to form a substrate.
(The hair particles that are insulating particles contain 5.1 vol%.) "Base material VI-1" Indium oxide powder doped with tin (trade name ELCOM TL-
130) 150 g, polyester resin (trade name: Byron) 37.5 g and cyclohexanone 200 g were mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours. Then divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP particle size 12 μm
A specific gravity of 1.2) and 10 g were mixed and sufficiently dispersed to obtain a resistance film-forming coating material. Apply this paint to a polycarbonate plate (C
R-39) was coated with a bar coater and dried to obtain a substrate.
(Micropearl SP, which is an insulating particle, contains 1.6 vol%.) “Substrate VI-2” A substrate was obtained in the same manner as the substrate VI-1 except that a PET film (thickness 125 μm) was used. It was

「基材VII−1」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
5gとイソホロン85gと酸化珪素粒子(商品名 毛粒
子 粒径16μm 比重2.2)1.5gとを混合し、
充分分散して被膜形成用塗料を得た。この塗料を基材I
−2にバーコーターで塗布し、乾燥して基材を形成し
た。(絶縁粒子である毛粒子は、5.1 vol%含有。) 「基材VII−2」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.75gにした以
外は、基材VII−1と同様にして基材を形成した。(絶
縁粒子である毛粒子は、2.6 vol%含有。) 「基材VII−3」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.15gにした以
外は、基材VII−1と同様にして基材を形成した。(絶
縁粒子である毛粒子は、0.5 vol%含有。) 「基材VII−4」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
0gと紫外線硬化樹脂(商品名 DH-705 )5gとシクロ
ヘキサノン85gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商品名
ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)0.1
5gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得た。
この塗料を基材I−3にバーコーターで塗布し、乾燥し
た後、紫外線で硬化させて基材を形成した。(絶縁粒子
であるミクロパールSPは、1.0 vol%含有。) 「基材VII−5」 基材I−4を用いた以外は、基材VII−4と同様にして
基材を形成した。
"Substrate VII-1" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
5 g, 85 g of isophorone and 1.5 g of silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle size 16 μm, specific gravity 2.2) are mixed,
It was sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. This paint is used as a substrate I
-2 was coated with a bar coater and dried to form a substrate. (The hair particles which are insulating particles contain 5.1 vol%.) "Base material VII-2" Same as the base material VII-1 except that the silicon oxide particles (trade name hair particles) are 0.75 g. To form a substrate. (Hair particles which are insulating particles contain 2.6 vol%.) "Base material VII-3" Same as the base material VII-1, except that the silicon oxide particles (trade name hair particles) are 0.15 g. To form a substrate. (The hair particles which are insulating particles contain 0.5 vol%.) "Base material VII-4" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
0 g, UV curable resin (trade name: DH-705) 5 g, cyclohexanone 85 g, and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm, specific gravity 1.2) 0.1
5 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material.
This coating material was applied to the substrate I-3 with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to form a substrate. (Micropearl SP, which is an insulating particle, contains 1.0 vol%.) "Substrate VII-5" A substrate was formed in the same manner as the substrate VII-4 except that the substrate I-4 was used. .

「基材VII−6」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
0gとポリエステル樹脂(商品名 バイロン)1gとシ
クロヘキサノン89gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商
品名 ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)
0.5gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得
た。この塗料を基材I−5にバーコーターで塗布し、乾
燥して基材を形成した。(絶縁粒子であるミクロパール
SPは、4.3 vol%含有。) 「基材VII−7」 基材I−6を用いた以外は、基材VII−6と同様にして
基材を形成した。
"Substrate VII-6" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
0 g, polyester resin (trade name: Byron) 1 g, cyclohexanone 89 g, and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm, specific gravity 1.2)
0.5 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. This coating material was applied to a substrate I-5 with a bar coater and dried to form a substrate. (Micro pearls that are insulating particles
SP contains 4.3 vol%. ) "Substrate VII-7" A substrate was formed in the same manner as the substrate VII-6 except that the substrate I-6 was used.

「基材VII−8」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
500gとイソホロン8500gと酸化珪素粒子(商品
名 毛粒子 粒径16μm 比重2.2)150gと酸
化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径1μm 比重2.
2)0.04gとを混合し、充分分散して被膜形成用塗
料を得た。この塗料を基材I−2にバーコーターで塗布
し、乾燥して基材を形成した。(絶縁粒子である毛粒子
および真絲球は、両者の合計で5.1 vol%含有。) 「基材VII−9」 基材I−8を用いた以外は、基材VII−8と同様にして
基材を形成した。
"Substrate VII-8" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
500 g, isophorone 8500 g, silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle size: 16 μm, specific gravity 2.2) 150 g, silicon oxide particles (trade name: true sphere, particle size: 1 μm, specific gravity: 2.
2) 0.04 g was mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. This coating material was applied to the substrate I-2 with a bar coater and dried to form a substrate. (Hair particles and true spheres, which are insulating particles, contain 5.1 vol% in total of both.) "Base material VII-9" Same as base material VII-8 except that base material I-8 was used. To form a substrate.

「基材VIII−1」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
130 )150gとポリビニルカルバゾール樹脂(商品名
ツビコール)25.0gと紫外線硬化樹脂(商品名
DH-705 )12.5gとシクロヘキサノン200gとを
混合し、サンドミルで2時間粉砕し、さらにジビニルベ
ンゼン樹脂粒子(商品名ミクロパールSP 粒径12μm
比重1.2)0.3gと酸化珪素粒子(商品名 真絲
球 粒径5μm 比重2.2)の表面に厚み0.05μ
mのニッケル鍍金、その上に0.05の金鍍金をした粒
子0.46g(比重3.5)とを混合し、抵抗膜形成用
塗料を得た。この塗料を、ポリカーボネート板(CR-39)
にバーコーターで塗布し、乾燥した後、紫外線で硬化さ
せて基材を得た。(絶縁粒子であるミクロパールSPは、
0.5 vol%含有。導電粒子である真絲球にニッケル-
金鍍金をした粒子は、0.3 vol%含有。) 「基材VIII−2」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材VIII−1と同様にして基材を得た。
"Substrate VIII-1" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
130) 150 g and polyvinyl carbazole resin (trade name Tubicor) 25.0 g and ultraviolet curing resin (trade name)
DH-705) 12.5 g and cyclohexanone 200 g were mixed, pulverized with a sand mill for 2 hours, and further divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm
Specific gravity of 1.2) 0.3 g and silicon oxide particles (trade name: Masagozu, particle size 5 μm, specific gravity 2.2) with a thickness of 0.05 μ
m of nickel plating and 0.46 g of particles having a gold plating of 0.05 thereon (specific gravity 3.5) were mixed to obtain a coating film for forming a resistance film. Apply this paint to a polycarbonate plate (CR-39)
Was coated with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to obtain a substrate. (Micropearl SP, which is an insulating particle,
Contains 0.5 vol%. Nickel-
The gold-plated particles contain 0.3 vol%. ) "Substrate VIII-2" A substrate was obtained in the same manner as the substrate VIII-1 except that a PET film (thickness 125 µm) was used.

「基材VIII−3」 錫をドープした酸化インジウム粉末(商品名 ELCOM TL-
130 )9600gとポリビニルカルバゾール樹脂(商品
名 ツビコール)1600gと紫外線硬化樹脂(商品名
DH-705 )800gとイソホロン13600gと酸化珪
素粒子(商品名 毛粒子 粒径16μm 比重2.2)
240gと酸化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径3.5
μm比重2.2)0.7gと酸化珪素粒子(商品名 真
絲球 粒径2.4μm 比重2.2)の表面に厚み0.
05μmの銀鍍金をした粒子10g(比重3.2)とを
混合し、充分分散して抵抗膜形成用塗料を得た。この塗
料を、ポリカーボネート板(CR-39) にバーコーターで塗
布し、乾燥した後、紫外線で硬化させて基材を得た。
(絶縁粒子である毛粒子および真絲球は、両者の合計で
5.4 vol%含有。導電粒子である真絲球に銀鍍金をし
た粒子は、0.2 vol%含有。) 「基材VIII−4」 PETフィルム(厚み125μm)を用いた以外は、基
材VIII−3と同様にして基材を得た。
"Substrate VIII-3" Tin-doped indium oxide powder (trade name ELCOM TL-
130) 9600 g and polyvinyl carbazole resin (trade name Tubicor) 1600 g and ultraviolet curing resin (trade name)
DH-705) 800 g, isophorone 13600 g, and silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle diameter 16 μm, specific gravity 2.2)
240 g and silicon oxide particles (trade name: Masago ball, particle size: 3.5
μm specific gravity 2.2) 0.7 g and the thickness of silicon oxide particles (trade name: Masaki sphere particle size 2.4 μm specific gravity 2.2) of 0.7 g.
10 μg of silver-plated particles (specific gravity: 3.2) having a thickness of 05 μm were mixed and sufficiently dispersed to obtain a resistance film-forming coating material. This coating material was applied to a polycarbonate plate (CR-39) with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to obtain a base material.
(Hair particles and true spheres, which are insulating particles, contain 5.4 vol% in total. Particles obtained by plating the true spheres, which are conductive particles, with silver include 0.2 vol%.) "Substrate VIII-" 4 ”A base material was obtained in the same manner as the base material VIII-3, except that a PET film (thickness 125 μm) was used.

「基板IX−1」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
5gとイソホロン85gと酸化珪素粒子(商品名 毛粒
子 粒径16μm比重2.2)1.5gと酸化珪素粒子
(商品名 真絲球 粒径2μm 比重2.2)の表面に
厚み0.05μmの銀鍍金をした粒子0.45g(比重
3.3)とを混合し、充分分散して被膜形成用塗料を得
た。この塗料を、基材I−2にバーコーターで塗布し、
乾燥して基材を形成した。(絶縁粒子である毛粒子は、
5.1 vol%含有。導電粒子である真絲球に銀鍍金をし
た粒子は、1.0 vol%含有。) 「基材IX−2」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.75gにした以
外は、基材IX−1と同様にして基材を形成した。(絶縁
粒子である毛粒子は、2.6 vol%含有。導電粒子であ
る真絲球に銀鍍金をした粒子は、1.0 vol%含有。) 「基材IX−3」 酸化珪素粒子(商品名 毛粒子)を0.15gにした以
外は、基材IX−1と同様にして基材を形成した。(絶縁
粒子である毛粒子は、0.5 vol%含有。導電粒子であ
る真絲球に銀鍍金をした粒子は、1.0 vol%含有。) 「基材IX−4」 ポリビニルカルバゾール樹脂(商品名 ツビコール)1
0gと紫外線硬化樹脂(商品名 DH-705 )5gとシクロ
ヘキサノン85gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商品名
ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)0.1
5gと酸化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径3μm 比
重2.2)の表面に厚み0.05μmのニッケル- 金鍍
金をした粒子0.43g(比重4.3)とを混合し、充
分分散して被膜形成用塗料を得た。この塗料を、基材I
−3にバーコーターで塗布し、乾燥した後、紫外線で硬
化させて基材を形成した。(絶縁粒子であるミクロパー
ルSPは、1.0 vol%含有。導電粒子である真絲球に
ニッケル- 金鍍金をした粒子は、0.8 vol%含有。) 「基材IX−5」 基材I−4を用い、紫外線硬化樹脂の代わりにポリエス
テル樹脂(商品名 バイロン)1gとし、シクロヘキサ
ノンを89g、真絲球にニッケル- 金鍍金をした粒子を
0.15gにした以外は、基材IX−4と同様にして基材
を形成した。(絶縁粒子であるミクロパールSPは、
1.3 vol%含有。導電粒子である真絲球にニッケル-
金鍍金をした粒子は、0.4 vol%含有。) 「基材IX−6」 ポリエステル樹脂(商品名 バイロン)24gとシクロ
ヘキサノン89gとジビニルベンゼン樹脂粒子(商品名
ミクロパールSP 粒径12μm 比重1.2)1.5
gと酸化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径2.2μm
比重2.2)の表面に厚み0.05μmの銀鍍金をした
粒子0.35g(比重3.2)とを混合し、充分分散し
て被膜形成用塗料を得た。この塗料を、基材I−6に3
80メッシュのスクリーンを使用してスクリーン印刷
し、乾燥して基材を形成した。(絶縁粒子であるミクロ
パールSPは、6.1 vol%含有。導電粒子である真絲球
に銀鍍金をした粒子は、0.5 vol%含有。) 「基材IX−7」 ポリエステル樹脂(商品名 バイロン)2400gとイ
ソホロン13600gと酸化珪素粒子(商品名 毛粒子
粒径16μm 比重2.2)240gと酸化珪素粒子
(商品名 真絲球 粒径3.5μm 比重2.2)0.
7gと酸化珪素粒子(商品名 真絲球 粒径2.4μm
比重2.2)の表面に厚み0.05μmの銀鍍金をし
た粒子10g(比重3.2)とを混合し、充分分散して
被膜形成用塗料を得た。この塗料を、基材I−7に38
0メッシュのスクリーンを使用してスクリーン印刷し、
乾燥して基材を形成した。(絶縁粒子である毛粒子およ
び真絲球は両者の合計で5.4 vol%含有。導電粒子で
ある真絲球に銀鍍金をした粒子は、0.2 vol%含
有。) 以上のようにして得られた基材の、透明性(全光線透過
率:Tt、ヘーズ:H)をヘーズコンピューター(スガ
試験機製)で、表面抵抗(R)を電極セル(YHP
製)で、および膜厚を表面粗さ計(TAYLOR HOBSON社
製)で測定し、表1に結果を示した。
"Substrate IX-1" Polyvinylcarbazole resin (trade name: Tubicor) 1
0.05 g of silver on the surface of 5 g, 85 g of isophorone, silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle size: 16 μm, specific gravity 2.2), 1.5 g and silicon oxide particles (trade name: true sphere, particle size: 2 μm, specific gravity: 2.2) 0.45 g of the plated particles (specific gravity 3.3) were mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. This coating material is applied to the substrate I-2 with a bar coater,
It was dried to form a substrate. (Hair particles, which are insulating particles,
Contains 5.1 vol%. Particles of silver plated electro-conductive particles, containing 1.0 vol%. ) "Base material IX-2" A base material was formed in the same manner as the base material IX-1 except that the amount of silicon oxide particles (trade name: hair particles) was 0.75 g. (Containing 2.6 vol% of hair particles which are insulating particles, 1.0 vol% of particles which are silver-plated spherical particles which are conductive particles.) "Substrate IX-3" Silicon oxide particles (commodity) A base material was formed in the same manner as the base material IX-1 except that the amount of (namely hair particles) was 0.15 g. (The hair particles, which are insulating particles, contain 0.5 vol%. The particles, which are silver particles plated on the core, which are conductive particles, contain 1.0 vol%.) "Substrate IX-4" Polyvinylcarbazole resin (commodity) Name Tsubikoru) 1
0 g, UV curable resin (trade name: DH-705) 5 g, cyclohexanone 85 g, and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm, specific gravity 1.2) 0.1
5g and silicon oxide particles (trade name: Shin-yakyu, particle size: 3μm, specific gravity: 2.2) on the surface of nickel-gold plated particles with a thickness of 0.05μm 0.43g (specific gravity: 4.3) are mixed and sufficiently dispersed. A coating film-forming coating material was obtained. This paint is used as a base material I
-3 was applied with a bar coater, dried and then cured with ultraviolet rays to form a substrate. (Microvol SP, which is an insulating particle, contains 1.0 vol%. Nickel-gold plated particles, which are conductive particles, contain 0.8 vol%.) Substrate IX-5 Substrate IX-4 except that I-4 was used, 1 g of polyester resin (trade name: Byron) was used instead of the ultraviolet curable resin, 89 g of cyclohexanone, and 0.15 g of nickel-gold-plated particles were used. A substrate was formed in the same manner as in. (Micropearl SP, which is an insulating particle,
Contains 1.3 vol%. Nickel-
Particles plated with gold contain 0.4 vol%. ) “Substrate IX-6” 24 g of polyester resin (trade name: Byron), 89 g of cyclohexanone and divinylbenzene resin particles (trade name: Micropearl SP, particle size 12 μm, specific gravity 1.2) 1.5
g and silicon oxide particles (trade name: Masago ball, particle size: 2.2 μm
0.35 g (specific gravity 3.2) of silver-plated particles having a thickness of 0.05 μm on the surface of specific gravity 2.2) were mixed and sufficiently dispersed to obtain a coating material for forming a film. Apply this paint to Substrate I-6
Screen printed using an 80 mesh screen and dried to form the substrate. (The insulating particles, Micropearl SP, contains 6.1 vol%. The particles, which are conductive particles and plated with silver, contain 0.5 vol%.) "Substrate IX-7" Polyester resin (Product Name Byron) 2400 g, isophorone 13600 g, silicon oxide particles (trade name: hair particles, particle size 16 μm, specific gravity 2.2) 240 g, silicon oxide particles (trade name: true sphere particle size 3.5 μm, specific gravity 2.2) 0.2
7g and silicon oxide particles (trade name: Masago ball, particle size 2.4μm
10 g of silver-plated particles (specific gravity 3.2) having a thickness of 0.05 μm on the surface of specific gravity 2.2) were mixed and sufficiently dispersed to obtain a film-forming coating material. This paint is applied to the substrate I-7 38
Screen print using a 0 mesh screen,
It was dried to form a substrate. (The total of the insulating particles, hair particles and the true spheres, is 5.4 vol%. The conductive particles, the true spheres, are silver-plated. The content is 0.2 vol%.) The transparency (total light transmittance: Tt, haze: H) of the obtained substrate was measured by a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the surface resistance (R s ) was measured by an electrode cell (YHP).
Manufactured by TAYLOR HOBSON) and the film thickness was measured with a surface roughness meter (TAYLOR HOBSON), and the results are shown in Table 1.

次にこれらの基材を表2〜7のように組合せ、タッチパ
ネルを作成した。得られたタッチパネルについて、下記
の評価を行なった。
Next, these base materials were combined as shown in Tables 2 to 7 to prepare a touch panel. The following evaluation was performed about the obtained touch panel.

入力状態:文字・図形を、タッチパネルに書き込み、表
示部の入力状態を評価した。
Input state: Characters / graphics were written on the touch panel and the input state of the display was evaluated.

摺動テスト:300g荷重をかけたボールペンを、5cm
の幅で摺動させ、線切れなどの入力不能になるまでの往
復回数を評価した。
Sliding test: A ballpoint pen loaded with 300g load is 5cm
The number of times of reciprocation until the input became impossible such as a broken wire was evaluated by sliding the slides in the width.

透 明 性:Tt、Hを測定した。Transparency: Tt and H were measured.

入力荷重:タッチペンに、定電流電源装置21からDC
12V、1mAを供給し、ボールベンにかかる荷重を増
加させたとき、電圧計23で電圧が3V以下になった時
点での荷重を測定した。
Input load: DC from the constant current power supply 21 to the touch pen
When 12 V and 1 mA were supplied and the load applied to the ball ben was increased, the load was measured by the voltmeter 23 when the voltage became 3 V or less.

粒子間距離:電子顕微鏡写真により測定した。Distance between particles: Measured by electron micrograph.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第9図は基材I〜基材IXの要部断面図、第10
図は本タッチパネルの要部断面図、第11図は本第1〜
第6タッチパネルの座標読み取り原理の一例を示す概略
図、第12図は本タッチパネルの一例を示す概略斜視図
である。 1……タッチパネル、2……可動パネル(上側) 3……固定パネル(下側)、4,5……絶縁基材 6,7……抵抗膜、8……導電粒子分散被膜 9……絶縁粒子分散被膜 10……導電粒子絶縁粒子分散被膜 14……絶縁粒子、15……導電粒子 17,18,19,20……端子 21……定電流装置、22……電流計 23……電圧計、24……入力ペン
1 to 9 are cross-sectional views of a main part of a base material I to a base material IX, FIG.
FIG. 11 is a cross-sectional view of the main part of the touch panel, and FIG.
FIG. 12 is a schematic diagram showing an example of the coordinate reading principle of the sixth touch panel, and FIG. 12 is a schematic perspective view showing an example of the present touch panel. 1 ... Touch panel, 2 ... Movable panel (upper side), 3 ... Fixed panel (lower side), 4, 5 ... Insulating base material, 6, 7 ... Resistive film, 8 ... Conductive particle dispersion film, 9 ... Insulation Particle-dispersed film 10 ... Conductive particles Insulating particle-dispersed film 14 ... Insulating particles, 15 ... Conductive particles 17, 18, 19, 20 ... Terminal 21 ... Constant current device, 22 ... Ammeter 23 ... Voltmeter , 24 …… Input pen

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小松 通郎 東京都江戸川区中葛西3丁目36番9号 第 二彦本ビル アメニティ葛西901号 (72)発明者 中島 昭 福岡県北九州市若松区響南町2―1―206 (72)発明者 萩尾 道泰 福岡県北九州市若松区響南町2―1―406 (56)参考文献 特開 昭61−206116(JP,A) 特開 昭61−282909(JP,A) 特開 昭62−92301(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiro Komatsu 3-36-9 Nakakasai, Edogawa-ku, Tokyo No. 901, Amenities Kasai, 2nd Hikomoto Building (72) Inventor Akira Nakajima Hibiki Wakamatsu-ku, Kitakyushu, Fukuoka 2-1-206 Minamimachi (72) Inventor Michiyasu Hagio 2-1-406 Hibikiminamicho, Wakamatsu-ku, Kitakyushu City, Fukuoka Prefecture (56) References JP-A-61-206116 (JP, A) JP-A-61-282909 ( JP, A) JP 62-92301 (JP, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁基材の一方の表面に導電層が形成され
た(A)、(B)2枚の基材の組み合せからなり、それ
ぞれの導電層を対向させ、略平行で所定の間隔に配置
し、いずれか一方の前記基材の一部を押圧することによ
り、該導電層同士の一部を接触させて電気的に導通させ
るタッチパネルにおいて、前記基材(A)が下記の基材
III、V、VI、VII、VIII、IXから選ばれた一種の基材で
あり、基材(B)が下記の基材IないしIXから選ばれた
一種の基材であり、下記の基材III、V、VI、VII、VII
I、IXにおいては絶縁粒子の一部が導電層から露出し、
該絶縁粒子の他部が導電層中に埋設されており、前記導
電層から露出している絶縁粒子の先端が該導電層の最上
部に位置することを特徴とするタッチパネル。 基材I:抵抗膜からなる導電層が表面に形成された基材 基材II:導電粒子が分散した抵抗膜からなる導電層が表
面に形成された基材 基材III:導電粒子が分散した抵抗膜と、絶縁粒子が分
散した被膜とがこの順序で基材表面に積層されてなる導
電層を有し、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表面に露
出し、前記絶縁粒子の他部は前記被膜中に埋設され、前
記被膜は絶縁性であっても導電性であってもよく、前記
被膜が絶縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒
子の一部が露出した基材 基材IV:抵抗膜と、導電粒子が分散した被膜とがこの順
序で基材表面に積層されてなる導電層を有する基材 基材V:抵抗膜と、導電粒子が分散した被膜と、絶縁粒
子が分散した被膜とがこの順序で基材表面に積層されて
なる導電層を有し、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表
面に露出し、前記絶縁粒子の他部は前記絶縁粒子分散被
膜中に埋設され、前記絶縁粒子分散被膜は絶縁性であっ
ても導電性であってもよく、前記絶縁粒子分散被膜が絶
縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒子が露出
した基材 基材VI:絶縁粒子が分散した抵抗膜からなる導電層が表
面に形成され、前記絶縁粒子の一部は前記導電層表面に
露出し、前記絶縁粒子の他部は前記導電層中に埋設され
た基材 基材VII:抵抗膜と、絶縁粒子が分散した導電性被膜と
がこの順序で基材表面に積層されてなる導電層を有し、
前記絶縁粒子の一部が前記導電層表面に露出し、前記絶
縁粒子の他部が前記導電性被膜中に埋設された基材 基材VIII:導電粒子および絶縁粒子が分散した抵抗膜か
らなる導電層が表面に形成され、前記絶縁粒子の一部が
前記導電層表面に露出し、前記絶縁粒子の他部が前記導
電層中に埋設された基材 基材IX:抵抗膜と、導電粒子と絶縁粒子とが分散した被
膜とがこの順序で基材表面に積層されてなる導電層を有
し、前記絶縁粒子の一部が前記導電層表面に露出し、前
記絶縁粒子の他部が前記被膜中に埋設され、前記被膜は
絶縁性であっても導電性であってもよく、前記被膜が絶
縁性の場合には、前記導電層表面に前記導電粒子の一部
が露出した基材
1. A combination of two base materials (A) and (B) in which a conductive layer is formed on one surface of an insulating base material, and the conductive layers are opposed to each other and are substantially parallel to each other at a predetermined interval. In the touch panel which brings the conductive layers into contact with each other and electrically conducts them by pressing a part of one of the base materials, the base material (A) is a base material described below.
A base material selected from III, V, VI, VII, VIII and IX, wherein the base material (B) is a base material selected from the following base materials I to IX, and the base material described below. III, V, VI, VII, VII
In I and IX, some of the insulating particles are exposed from the conductive layer,
A touch panel, wherein the other part of the insulating particles is embedded in a conductive layer, and the tip of the insulating particles exposed from the conductive layer is located at the uppermost part of the conductive layer. Substrate I: Substrate having a conductive layer made of a resistive film formed on the surface Substrate II: Substrate having a conductive layer made of a resistive film dispersed on the surface Substrate III: Conductive particles dispersed A resistance film and a conductive film in which a coating in which insulating particles are dispersed are laminated in this order on the surface of a base material, a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is formed. Is embedded in the coating, and the coating may be insulative or conductive. When the coating is insulative, a group in which a part of the conductive particles is exposed on the surface of the conductive layer is formed. Material Base material IV: A base material having a conductive layer in which a resistance film and a coating film in which conductive particles are dispersed are laminated on the base material surface in this order. Base material V: a resistance film and a coating film in which conductive particles are dispersed, A coating film in which insulating particles are dispersed has a conductive layer laminated on the surface of the base material in this order, and the insulating particles A part is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the insulating particle-dispersed coating, and the insulating particle-dispersed coating may be insulative or conductive. When the particle-dispersed coating is insulative, the base material in which the conductive particles are exposed on the surface of the conductive layer Base material VI: A conductive layer composed of a resistance film in which insulating particles are dispersed is formed on the surface, Part is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is a base material embedded in the conductive layer. Base material VII: a resistive film and a conductive coating in which insulating particles are dispersed are the base materials in this order. It has a conductive layer laminated on the surface,
A base material in which a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the conductive coating material. Base material VIII: Conductivity consisting of conductive particles and a resistance film in which insulating particles are dispersed A layer is formed on the surface, a part of the insulating particles is exposed on the surface of the conductive layer, and the other part of the insulating particles is embedded in the conductive layer. Base material IX: resistive film and conductive particles A coating film in which insulating particles are dispersed has a conductive layer formed on the surface of a base material in this order, a part of the insulating particles is exposed on the conductive layer surface, and the other part of the insulating particles is the coating film. Embedded in the coating, the coating may be insulative or conductive, and when the coating is insulative, a base material in which a part of the conductive particles is exposed on the conductive layer surface.
【請求項2】一方の導電層の表面抵抗値を、他方の導電
層の表面抵抗値以上に設定するとともに、高い表面抵抗
値を有する導電層に電源の+側を接続したことを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のタッチパネル。
2. The surface resistance value of one conductive layer is set to be equal to or higher than the surface resistance value of the other conductive layer, and the positive side of the power source is connected to the conductive layer having a high surface resistance value. The touch panel according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH03172913A (en) * 1989-12-01 1991-07-26 Omron Corp Coordinate input device and manufacture thereof
SG52250A1 (en) * 1992-01-30 1998-09-28 Catalysts & Chem Ind Co Writing pad and production thereof
WO2009054371A1 (en) * 2007-10-23 2009-04-30 Ube-Nitto Kasei Co., Ltd. Method for formation of metal coating film, and electrically conductive particle
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61206116A (en) * 1985-03-08 1986-09-12 サンアロ−株式会社 Conductive sheet
JPS61282909A (en) * 1985-06-07 1986-12-13 Seiko Epson Corp Input device
JPS6292301A (en) * 1985-10-17 1987-04-27 東レ株式会社 Transparent resistive sheet with anisotropic conductive layer

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