JPH0641114A - 新規メバロノラクトン類とその製法 - Google Patents
新規メバロノラクトン類とその製法Info
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- JPH0641114A JPH0641114A JP21621092A JP21621092A JPH0641114A JP H0641114 A JPH0641114 A JP H0641114A JP 21621092 A JP21621092 A JP 21621092A JP 21621092 A JP21621092 A JP 21621092A JP H0641114 A JPH0641114 A JP H0641114A
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- JP
- Japan
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- alkyl
- hydrogen
- alkoxy
- butylsilyloxy
- tert
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 式〔Ｉ〕で表される新規なメバロノラクト
ン。 【化１】 〔式中、Ｒα、Ｒβは一緒になって結合を又は酸素原子
を、Ａｒは （式中の各Ｒは芳香環の置換基として常用されるＨ、ハ
ロゲン、低級アルキル等である）等を表す。〕 【効果】 この化合物は、種々の医薬、農薬、コスメテ
ィックスあるいは食品添加物等の製造原料や合成中間体
として有用な化合物である。
ン。 【化１】 〔式中、Ｒα、Ｒβは一緒になって結合を又は酸素原子
を、Ａｒは （式中の各Ｒは芳香環の置換基として常用されるＨ、ハ
ロゲン、低級アルキル等である）等を表す。〕 【効果】 この化合物は、種々の医薬、農薬、コスメテ
ィックスあるいは食品添加物等の製造原料や合成中間体
として有用な化合物である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】メバロノラクトン類は、種々の医
薬、農薬、コスメティックスあるいは食品添加物等の製
造原料や合成中間体として有用な化合物である。本発明
は、一般式(I) で表される光学活性なメバロノラクトン
類並びにそれらの製造法に関する。
薬、農薬、コスメティックスあるいは食品添加物等の製
造原料や合成中間体として有用な化合物である。本発明
は、一般式(I) で表される光学活性なメバロノラクトン
類並びにそれらの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び本発明が解決しようとする課題】メバ
ロノラクトンは、環上の４位が不斉炭素原子であり、光
学活性なＲ体（天然型）及びＳ体（非天然型）が存在す
る。メバロノラクトン誘導体のうちあるものは、抗高脂
血症治療剤の一種であるＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤
として知られており、これらのものはメバロノラクトン
環上の４位に水酸基、６位にアルケニル基を有すること
を特徴としている[WO-8,402,131号公報, ドイツ特許382
3-045号公報, 同3805-801号公報, 欧州特許325,130号公
報] 。更にこれらの化合物中、４Ｒ，６Ｓの立体配置は
酵素阻害活性発現のための必須構造であり、化学的又は
生物化学的な手法を用いて、所望の立体配置を有する化
合物の、優先的な製造法の開発は重要な課題である。
ロノラクトンは、環上の４位が不斉炭素原子であり、光
学活性なＲ体（天然型）及びＳ体（非天然型）が存在す
る。メバロノラクトン誘導体のうちあるものは、抗高脂
血症治療剤の一種であるＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤
として知られており、これらのものはメバロノラクトン
環上の４位に水酸基、６位にアルケニル基を有すること
を特徴としている[WO-8,402,131号公報, ドイツ特許382
3-045号公報, 同3805-801号公報, 欧州特許325,130号公
報] 。更にこれらの化合物中、４Ｒ，６Ｓの立体配置は
酵素阻害活性発現のための必須構造であり、化学的又は
生物化学的な手法を用いて、所望の立体配置を有する化
合物の、優先的な製造法の開発は重要な課題である。
【０００３】
【化５２】
【０００４】従来、光学活性な出発原料を用いてこの立
体配置を有する光学活性なメバロノラクトン誘導体を合
成する方法が開発されてきた。例えば、トリ−Ｏ−アセ
チル−ＤグルカールをＰＣＣ酸化し、ついで亜鉛とトリ
エチルアミンで脱酢酸する方法[Tetrahedron Letters,
29, 1255 (1988)]、メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド
を脱水酸基化する方法[米国特許公報4,440,927号公報]
、Ｄ−グルコースにMurray-Prokop's 法を施し、つい
でWittig反応で増炭する方法[Tetrahedron Letters, 2
6, 4995 (1985)]、Ｌ−リンゴ酸にCorey 法を適用する
方法[J. Org. Chem.,49, 3994 (1984)] 、Ｓ−グルタミ
ン酸から誘導されるγ−バレロラクトンを経る方法[J.
Chem. Soc. Chem. Commun., 1786(1987)] 、Ｄ−グリセ
ルアルデヒドから誘導される不斉dipolarophile を利用
する方法[J. Org. Chem., 50, 778 (1985)] などが知ら
れている。しかしこれらの方法は、高価な出発原料を用
いたり、キラル中心の導入率が低く、また、合成工程に
おける操作性の低さから大量合成が困難なものであっ
た。
体配置を有する光学活性なメバロノラクトン誘導体を合
成する方法が開発されてきた。例えば、トリ−Ｏ−アセ
チル−ＤグルカールをＰＣＣ酸化し、ついで亜鉛とトリ
エチルアミンで脱酢酸する方法[Tetrahedron Letters,
29, 1255 (1988)]、メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド
を脱水酸基化する方法[米国特許公報4,440,927号公報]
、Ｄ−グルコースにMurray-Prokop's 法を施し、つい
でWittig反応で増炭する方法[Tetrahedron Letters, 2
6, 4995 (1985)]、Ｌ−リンゴ酸にCorey 法を適用する
方法[J. Org. Chem.,49, 3994 (1984)] 、Ｓ−グルタミ
ン酸から誘導されるγ−バレロラクトンを経る方法[J.
Chem. Soc. Chem. Commun., 1786(1987)] 、Ｄ−グリセ
ルアルデヒドから誘導される不斉dipolarophile を利用
する方法[J. Org. Chem., 50, 778 (1985)] などが知ら
れている。しかしこれらの方法は、高価な出発原料を用
いたり、キラル中心の導入率が低く、また、合成工程に
おける操作性の低さから大量合成が困難なものであっ
た。
【０００５】本発明は、安価な光学活性エピクロルヒド
リンを出発原料とし、キラル中心の導入率が高く、大量
合成が可能な、光学活性メバロノラクトン誘導体の製造
法を提供する。
リンを出発原料とし、キラル中心の導入率が高く、大量
合成が可能な、光学活性メバロノラクトン誘導体の製造
法を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)
【０００７】
【化５３】
【０００８】｛式中、Rα、Rβは一緒になって結合を表
すか又は酸素原子を表す。Arは
すか又は酸素原子を表す。Arは
【０００９】
【化５４】
【００１０】〔R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8ア
ルキル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R
21N-(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキル
を意味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロ
モ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキ
シ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシ
リルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒ
ドロキシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3
アルキルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を
意味するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一
緒になって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味
し、R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C
7シクロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は
ルキル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R
21N-(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキル
を意味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロ
モ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキ
シ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシ
リルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒ
ドロキシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3
アルキルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を
意味するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一
緒になって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味
し、R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C
7シクロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は
【００１１】
【化５５】
【００１２】(R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコ
キシ、C1-C3アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオ
ロ、クロロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジ
フルオロメトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒド
ロキシ、トリメチルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブ
チルシリルオキシ、又はヒドロキシメチルを意味す
る。)を意味するか；
キシ、C1-C3アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオ
ロ、クロロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジ
フルオロメトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒド
ロキシ、トリメチルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブ
チルシリルオキシ、又はヒドロキシメチルを意味す
る。)を意味するか；
【００１３】
【化５６】
【００１４】の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しく
は２ケによって置換されたC1-C3アルキルを意味す
る。〕を意味するか、
は２ケによって置換されたC1-C3アルキルを意味す
る。〕を意味するか、
【００１５】
【化５７】
【００１６】〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R4a、R
5a及びR6aはそれぞれ独立に水素、C1-C6アルキル、C3-C
7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R26R27N-(R26、R
27はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキルを意味す
る。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリ
メチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチルまたは-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アル
キルを意味し、mは１、２または３を意味する。)を意味
するか；R4aとR5aが一緒になって-CH=CH-CH=CH-を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR4aとR5aが一緒
になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素または
C1-C3アルキルを意味する。)を意味する。〕を意味する
か、
5a及びR6aはそれぞれ独立に水素、C1-C6アルキル、C3-C
7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R26R27N-(R26、R
27はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキルを意味す
る。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリ
メチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチルまたは-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アル
キルを意味し、mは１、２または３を意味する。)を意味
するか；R4aとR5aが一緒になって-CH=CH-CH=CH-を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR4aとR5aが一緒
になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素または
C1-C3アルキルを意味する。)を意味する。〕を意味する
か、
【００１７】
【化５８】
【００１８】〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R
4bは、水素原子、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C3
-C7シクロアルキル、C2-C6アルケニル、αもしくはβ−
ナフチル、2,3 もしくは4-ピリジル、２もしくは３−チ
エニル、２もしくは３−フリル、フルオロ、クロロ、ブ
ロモ、
4bは、水素原子、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C3
-C7シクロアルキル、C2-C6アルケニル、αもしくはβ−
ナフチル、2,3 もしくは4-ピリジル、２もしくは３−チ
エニル、２もしくは３−フリル、フルオロ、クロロ、ブ
ロモ、
【００１９】
【化５９】
【００２０】(R6b、R7b、R8bはそれぞれ独立に水素、C1
-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルキルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロ、-NR31R32(R31、R32はそれ
ぞれ独立にC1-C3アルキルを意味する。) 、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチルまたは-O(CH2)nOR33(R33は水素またはC1-C3アル
キルを意味し、ｎは１、２又は３を意味する。)を意味
し、R8bが水素の時、お互いにオルソ位にある場合の
R6b、R7b、が一緒になって-OC(R34)(R35)O-(R34、R35は
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
ることもあり、R7b、R8bが共に水素の時、R6bは
-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルキルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロ、-NR31R32(R31、R32はそれ
ぞれ独立にC1-C3アルキルを意味する。) 、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチルまたは-O(CH2)nOR33(R33は水素またはC1-C3アル
キルを意味し、ｎは１、２又は３を意味する。)を意味
し、R8bが水素の時、お互いにオルソ位にある場合の
R6b、R7b、が一緒になって-OC(R34)(R35)O-(R34、R35は
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
ることもあり、R7b、R8bが共に水素の時、R6bは
【００２１】
【化６０】
【００２２】(R36 は水素、C1-C4アルキル、C1-C3アル
コキシ、トリフルオロメチル、クロロ、ブロモまたはフ
ルオロである。)を意味するか、フェニル基がC1-C4アル
キル、C1-C3アルコキシ、弗素、塩素もしくは臭素によ
って置換されていてもよいフェニル-C2-C3アルケニルを
意味するか、またはC1-C3アルコキシ、ナフチルもしく
は
コキシ、トリフルオロメチル、クロロ、ブロモまたはフ
ルオロである。)を意味するか、フェニル基がC1-C4アル
キル、C1-C3アルコキシ、弗素、塩素もしくは臭素によ
って置換されていてもよいフェニル-C2-C3アルケニルを
意味するか、またはC1-C3アルコキシ、ナフチルもしく
は
【００２３】
【化６１】
【００２４】から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの
０、１もしくは２ヶによって置換されたC 1-C3アルキル
を意味する；R5bは、ピラゾロピリジン環の１位または
２位の窒素原子と結合しており、この55bは水素、C1-C8
アルキル、１ないし３ヶの弗素原子によって置換された
C1-C 3アルキル、C3-C7シクロアルキル、αもしくはβ−
ナフチル、２，３もしくは４−ピリジル、２もしくは３
−チエニル、２もしくは３−フリルまたは
０、１もしくは２ヶによって置換されたC 1-C3アルキル
を意味する；R5bは、ピラゾロピリジン環の１位または
２位の窒素原子と結合しており、この55bは水素、C1-C8
アルキル、１ないし３ヶの弗素原子によって置換された
C1-C 3アルキル、C3-C7シクロアルキル、αもしくはβ−
ナフチル、２，３もしくは４−ピリジル、２もしくは３
−チエニル、２もしくは３−フリルまたは
【００２５】
【化６２】
【００２６】を意味するか；またはC1-C3アルコキシ、
ヒドロキシ、ナフチルもしくは
ヒドロキシ、ナフチルもしくは
【００２７】
【化６３】
【００２８】から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの
０、１もしくは２ヶによって置換されたC 1-C3アルキル
を意味する。〕を意味するか、
０、１もしくは２ヶによって置換されたC 1-C3アルキル
を意味する。〕を意味するか、
【００２９】
【化６４】
【００３０】〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R4c、R
5cはそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケ
ニル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、フルオ
ロ、クロロ、ブロモ、
5cはそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケ
ニル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、フルオ
ロ、クロロ、ブロモ、
【００３１】
【化６５】
【００３２】(R6c、R7c、R8cはそれぞれ独立に水素、C1
-C4アルキル、C1-C3アルコキシ、C3-C7シクロアルキ
ル、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ及びブロモ
を意味する。)、２，３若しくは４−ピリジル、２若し
くは５−ピリミジル、２若しくは３−チエニル、２若し
くは３−フリル、
-C4アルキル、C1-C3アルコキシ、C3-C7シクロアルキ
ル、トリフルオロメチル、フルオロ、クロロ及びブロモ
を意味する。)、２，３若しくは４−ピリジル、２若し
くは５−ピリミジル、２若しくは３−チエニル、２若し
くは３−フリル、
【００３３】
【化６６】
【００３４】、-NR37R38(R37、R38はそれぞれ独立に水
素、C1-C4アルキル、
素、C1-C4アルキル、
【００３５】
【化６７】
【００３６】(ｊは１、２又は３を意味する。)若しくは
R37、R38が一緒になって-(CH2)k-(ｋは３、４又は５を
意味する。))を意味するか；
R37、R38が一緒になって-(CH2)k-(ｋは３、４又は５を
意味する。))を意味するか；
【００３７】
【化６８】
【００３８】及びC1-C8アルキルの０、１若しくは２ケ
によって置換されたC1-C3アルキル又はα若しくはβナ
フチルを意味するか；R4cとR5cが一緒になってC1-C4ア
ルキル、C3-C7シクロアルキル、フルオロ、クロロ又は
ブロモの０から３ケ、及び
によって置換されたC1-C3アルキル又はα若しくはβナ
フチルを意味するか；R4cとR5cが一緒になってC1-C4ア
ルキル、C3-C7シクロアルキル、フルオロ、クロロ又は
ブロモの０から３ケ、及び
【００３９】
【化６９】
【００４０】の０から１ケで置換されたC2-C6アルキレ
ンを意味するか；-(CHR39)p-A-(CHR40)q-(ｐ、ｑはそれ
ぞれ０、１、２又は３を意味し、Ａは-C(R 41)=C(R42)-
(R41、R42は水素又はC1-C3アルキルを意味する。)、−
Ｏ−、−Ｓ−又は -N(R43)-(R43は水素、C1-C4アルキ
ル、
ンを意味するか；-(CHR39)p-A-(CHR40)q-(ｐ、ｑはそれ
ぞれ０、１、２又は３を意味し、Ａは-C(R 41)=C(R42)-
(R41、R42は水素又はC1-C3アルキルを意味する。)、−
Ｏ−、−Ｓ−又は -N(R43)-(R43は水素、C1-C4アルキ
ル、
【００４１】
【化７０】
【００４２】)を意味し、R39、R40はそれぞれ独立に水
素またはC1-C4アルキルを意味する。)又は-CH=CH-CH=CH
-を意味する。〕を意味するか、
素またはC1-C4アルキルを意味する。)又は-CH=CH-CH=CH
-を意味する。〕を意味するか、
【００４３】
【化７１】
【００４４】〔R1、R2、R3は前記に同じ。R4、R5はそれ
ぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7シクロアルキ
ル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルコキシメチル、R26R27
N-(R26、R27 はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキ
ルを意味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブ
ロモ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロ
キシ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチル
シリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、
ヒドロキシメチル、C1-C3アルコキシメチルまたは-O(CH
2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを意味し、ｍは
１、２または３を意味する。)を意味するか；R4とR5が
一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素ま
たはC1-C3アルキルを意味する。)を意味する。〕を意味
するか、
ぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7シクロアルキ
ル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルコキシメチル、R26R27
N-(R26、R27 はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキ
ルを意味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブ
ロモ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロ
キシ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチル
シリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、
ヒドロキシメチル、C1-C3アルコキシメチルまたは-O(CH
2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを意味し、ｍは
１、２または３を意味する。)を意味するか；R4とR5が
一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素ま
たはC1-C3アルキルを意味する。)を意味する。〕を意味
するか、
【００４５】
【化７２】
【００４６】〔R1、R2、R3、R4、R5は前記に同じ。〕を
意味するか、
意味するか、
【００４７】
【化７３】
【００４８】〔R1、R2、R4、R5は前記に同じ。〕を表
す。｝で表される光学活性なメバロノラクトン化合物に
関する。本発明化合物が有する置換基である、R1、R2、
R3、R4、R4a、R4b、R4c、R5a、R5c、R6aにおける置換基
の具体例として、C1-C8アルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、i-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、2,2-ジメチ
ルエチル、1,2-ジメチルペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプ
チル、n-オクチルの各置換基が挙げられる。C3-C7シク
ロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、1-メチルシクロプロピル、2-メチルシクロプロピル
の各置換基が挙げられる。C1-C8アルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキ
シ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、i-ブトキシ、tert-ブ
トキシ、n-ペントキシ、n-オクトキシの各置換基が挙げ
られる。C2-C6アルケニル基としては、ビニル、n-プロ
ペニル、i-プロペニル、1-メチル-1-プロペニル、2-メ
チル-1-プロペニル、1,2-ジメチル-1-プロペニルの各置
換基が挙げられる。C5-C7シクロアルケニル基として
は、シクロプロペニル、1-シクロブテニル、2-シクロブ
テニル、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニル、3-
シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シクロヘキ
セニル、3-シクロヘキセニルの各置換基が挙げられる。
C1-C3アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチ
オ、n-プロピルチオ、i-プロピルチオの各置換基が挙げ
られる。
す。｝で表される光学活性なメバロノラクトン化合物に
関する。本発明化合物が有する置換基である、R1、R2、
R3、R4、R4a、R4b、R4c、R5a、R5c、R6aにおける置換基
の具体例として、C1-C8アルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、i-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、2,2-ジメチ
ルエチル、1,2-ジメチルペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプ
チル、n-オクチルの各置換基が挙げられる。C3-C7シク
ロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、1-メチルシクロプロピル、2-メチルシクロプロピル
の各置換基が挙げられる。C1-C8アルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキ
シ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、i-ブトキシ、tert-ブ
トキシ、n-ペントキシ、n-オクトキシの各置換基が挙げ
られる。C2-C6アルケニル基としては、ビニル、n-プロ
ペニル、i-プロペニル、1-メチル-1-プロペニル、2-メ
チル-1-プロペニル、1,2-ジメチル-1-プロペニルの各置
換基が挙げられる。C5-C7シクロアルケニル基として
は、シクロプロペニル、1-シクロブテニル、2-シクロブ
テニル、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニル、3-
シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シクロヘキ
セニル、3-シクロヘキセニルの各置換基が挙げられる。
C1-C3アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチ
オ、n-プロピルチオ、i-プロピルチオの各置換基が挙げ
られる。
【００４９】R4、R5における置換基の具体例として、C1
-C3アルコキシメチル基としては、メトキシメチル、エ
トキシメチル、n-プロポキシメチル、i-プロポキシメチ
ルの各置換基が挙げられる。R6、R7、R8における置換基
の具体例として、C1-C4アルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、i-ブチル、tert-ブチルの各置換基が挙げられる。C
1-C3アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n-プ
ロポキシ、i-プロポキシの各置換基が挙げられる。C3-C
7シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル、1-メチルシクロプロピル、2-メチルシクロプロピ
ルの各置換基が挙げられる。
-C3アルコキシメチル基としては、メトキシメチル、エ
トキシメチル、n-プロポキシメチル、i-プロポキシメチ
ルの各置換基が挙げられる。R6、R7、R8における置換基
の具体例として、C1-C4アルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチ
ル、i-ブチル、tert-ブチルの各置換基が挙げられる。C
1-C3アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n-プ
ロポキシ、i-プロポキシの各置換基が挙げられる。C3-C
7シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル、1-メチルシクロプロピル、2-メチルシクロプロピ
ルの各置換基が挙げられる。
【００５０】一般式(I)で表されるメバロノラクトン誘
導体は、下記の反応式に従って合成される。反応式中、
Arは上述の一般式(I)で表される化合物で定義される置
換基であり、TMSはテトラメチルシリル基、Phはフェニ
ル基、Buはブチル基、THPはテトラヒドロピラニル基、T
HFはテトラヒドロフラン、mCPBAはメタクロロ過安息香
酸、PPTSはピリジニウムパラトルエンスルフォネートを
表す。
導体は、下記の反応式に従って合成される。反応式中、
Arは上述の一般式(I)で表される化合物で定義される置
換基であり、TMSはテトラメチルシリル基、Phはフェニ
ル基、Buはブチル基、THPはテトラヒドロピラニル基、T
HFはテトラヒドロフラン、mCPBAはメタクロロ過安息香
酸、PPTSはピリジニウムパラトルエンスルフォネートを
表す。
【００５１】以下の説明中、不活性ガスとしては窒素や
アルゴン等が使用できる。有機溶媒としては炭化水素類
（例えば、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、石油エーテ
ル、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等）、エーテル類（例えば、ジメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等）、アルコール類（例えば、メタノ
ール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、
n-ブタノール、tert-ブタノール、オクタノール、グリ
コール等）、含ハロゲン類（例えば、ジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロホルム等）、ケトン類（例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル
等）、エステル類（例えば、酢酸エチル等）等が使用で
きる。又、非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジ
メチルスルフォキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセタミド、N-メチルピロリドン、スルホラン、テト
ラメチル尿素、1,3-ジメチル-2-イミダゾリドン等が使
用できる。
アルゴン等が使用できる。有機溶媒としては炭化水素類
（例えば、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、石油エーテ
ル、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等）、エーテル類（例えば、ジメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等）、アルコール類（例えば、メタノ
ール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、
n-ブタノール、tert-ブタノール、オクタノール、グリ
コール等）、含ハロゲン類（例えば、ジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロホルム等）、ケトン類（例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル
等）、エステル類（例えば、酢酸エチル等）等が使用で
きる。又、非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジ
メチルスルフォキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセタミド、N-メチルピロリドン、スルホラン、テト
ラメチル尿素、1,3-ジメチル-2-イミダゾリドン等が使
用できる。
【００５２】各反応工程において、出発原料クロルヒド
リン中のキラル中心の立体配置は、異性化することな
く、次工程へ導入される。出発原料としてはブロモヒド
リンも同様に使用しうる。更に、式中においてTMSの代
わりに適当なトリアルキルシリル基（例えば、トリエチ
ルシリル、トリ-n-プロピルシリル、トリ-i-プロピルシ
リル、トリ-n-ブチルシリル、トリ-i-ブチルシリル、ト
リ-n-ヘキシルシリル、ジメチルエチルシリル、ジメチ
ル-n-プロピルシリル、ジメチル-n-ブチルシリル、ジメ
チル-i-ブチルシリル、ジメチル-tert-ブチルシリル、
ジメチル-n-ペンチルシリル、ジメチル-n-オクチルシリ
ル、ジメチルシクロヘキシルシリル、ジメチルテキシル
シリル、ジメチル-2,3- ジメチルプロピルシリル、ジメ
チル-2-(ビシクロヘプチル) シリル、ジメチルベンジル
シリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-p-トリル
シリル、ジメチルフロフェメシルシリル、メチルジフェ
ニルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニル-tert-ブ
チルシリル、トリベンジルシリル、ジフェニルビニルシ
リル、ジフェニル-n-ブチルシリル、フェニルメチルビ
ニルシリル等)も使用できる。又、THP(テトラヒドロピ
ラニル基) の代わりにトリチル、ベンジル、トリアルキ
ルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、メチルチ
オメチル、トリメチルシリルエトキシメチル等も使用で
きる。
リン中のキラル中心の立体配置は、異性化することな
く、次工程へ導入される。出発原料としてはブロモヒド
リンも同様に使用しうる。更に、式中においてTMSの代
わりに適当なトリアルキルシリル基（例えば、トリエチ
ルシリル、トリ-n-プロピルシリル、トリ-i-プロピルシ
リル、トリ-n-ブチルシリル、トリ-i-ブチルシリル、ト
リ-n-ヘキシルシリル、ジメチルエチルシリル、ジメチ
ル-n-プロピルシリル、ジメチル-n-ブチルシリル、ジメ
チル-i-ブチルシリル、ジメチル-tert-ブチルシリル、
ジメチル-n-ペンチルシリル、ジメチル-n-オクチルシリ
ル、ジメチルシクロヘキシルシリル、ジメチルテキシル
シリル、ジメチル-2,3- ジメチルプロピルシリル、ジメ
チル-2-(ビシクロヘプチル) シリル、ジメチルベンジル
シリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-p-トリル
シリル、ジメチルフロフェメシルシリル、メチルジフェ
ニルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニル-tert-ブ
チルシリル、トリベンジルシリル、ジフェニルビニルシ
リル、ジフェニル-n-ブチルシリル、フェニルメチルビ
ニルシリル等)も使用できる。又、THP(テトラヒドロピ
ラニル基) の代わりにトリチル、ベンジル、トリアルキ
ルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、メチルチ
オメチル、トリメチルシリルエトキシメチル等も使用で
きる。
【００５３】
【化７４】
【００５４】
【化７５】
【００５５】
【化７６】
【００５６】
【化７７】
【００５７】
【化７８】
【００５８】
【化７９】
【００５９】次に各工程を詳細に説明する。
【００６０】〔ａ工程〕出発原料のクロルヒドリン(XI)
はキラル中心１個を有し、Ｓ体(XIa)及びＲ体(XIb)が存
在する。これらＳ体、Ｒ体は各々公知の化合物である。
クロルヒドリン(XI)とトリメチルシリルアセチレンとの
反応は、不活性ガス雰囲気下、低温下（例えば、０〜−
１２０℃、好ましくは−５０〜−１００℃）で乾燥した
非プロトン性溶媒（例えば、ＴＨＦ、トルエン、ヘキサ
ンまたはエーテル）中で、強塩基（例えば、アルキルリ
チウム）及びルイス酸触媒（例えば、三フッ化ホウ素、
好ましくは三フッ化ホウ素エーテル溶液）の存在下で行
う。
はキラル中心１個を有し、Ｓ体(XIa)及びＲ体(XIb)が存
在する。これらＳ体、Ｒ体は各々公知の化合物である。
クロルヒドリン(XI)とトリメチルシリルアセチレンとの
反応は、不活性ガス雰囲気下、低温下（例えば、０〜−
１２０℃、好ましくは−５０〜−１００℃）で乾燥した
非プロトン性溶媒（例えば、ＴＨＦ、トルエン、ヘキサ
ンまたはエーテル）中で、強塩基（例えば、アルキルリ
チウム）及びルイス酸触媒（例えば、三フッ化ホウ素、
好ましくは三フッ化ホウ素エーテル溶液）の存在下で行
う。
【００６１】〔ｂ工程〕この工程は、アセチレンクロル
ヒドリン(X) を適当な塩基性条件下、エポキシアセチレ
ン化合物(IX)に導く反応で、低温下（例えば、３０〜−
５０℃、好ましくは１０〜−１０℃）で乾燥した有機溶
媒（例えばＴＨＦ）中、アルカリ水酸化物（例えば、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム）存在下で行う。
ヒドリン(X) を適当な塩基性条件下、エポキシアセチレ
ン化合物(IX)に導く反応で、低温下（例えば、３０〜−
５０℃、好ましくは１０〜−１０℃）で乾燥した有機溶
媒（例えばＴＨＦ）中、アルカリ水酸化物（例えば、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム）存在下で行う。
【００６２】〔ｃ工程〕この工程はエポキシアセチレン
化合物(IX)から化合物(VIII)へ導く反応で、不活性ガス
雰囲気下低温下（例えば、３０〜−１００℃、好ましく
は−５０〜−１００℃）で乾燥した非プロトン性溶媒
（例えば、ＴＨＦ、トルエン、ヘキサンまたはエーテル
好ましくはＴＨＦ）中で強塩基（例えばアルキルリチウ
ム）の存在下で行う。
化合物(IX)から化合物(VIII)へ導く反応で、不活性ガス
雰囲気下低温下（例えば、３０〜−１００℃、好ましく
は−５０〜−１００℃）で乾燥した非プロトン性溶媒
（例えば、ＴＨＦ、トルエン、ヘキサンまたはエーテル
好ましくはＴＨＦ）中で強塩基（例えばアルキルリチウ
ム）の存在下で行う。
【００６３】〔ｄ工程〕この工程は、化合物(VIII)を脱
離条件下、アセチレン化合物(VII)へ導く反応であり、
低温下（例えば、３０〜−５０℃、好ましくは１０〜−
２５℃）で有機溶媒（例えばメタノールやエタノール）
中、塩基（例えば、炭酸カリウム）の存在下で行う。
離条件下、アセチレン化合物(VII)へ導く反応であり、
低温下（例えば、３０〜−５０℃、好ましくは１０〜−
２５℃）で有機溶媒（例えばメタノールやエタノール）
中、塩基（例えば、炭酸カリウム）の存在下で行う。
【００６４】〔ｅ工程〕この工程は、アセチレン化合物
(VII)をカルボキシレーション条件でアセチレンカルボ
ン酸エステル(VI)へ導く反応であり、例えばアルコール
溶媒（例えばメタノール）中、一酸化炭素ガスを吹き込
みながら、塩化パラジウム、CuCl2 、酢酸ナトリウムの
存在下で行う。
(VII)をカルボキシレーション条件でアセチレンカルボ
ン酸エステル(VI)へ導く反応であり、例えばアルコール
溶媒（例えばメタノール）中、一酸化炭素ガスを吹き込
みながら、塩化パラジウム、CuCl2 、酢酸ナトリウムの
存在下で行う。
【００６５】〔ｆ工程〕この工程は、アセチレンカルボ
ン酸エステル(VI)を還元条件下、Ｚ型オレフィンに還元
し、ヒドロキシカルボン酸エステル(V)へ導く反応であ
り、水素ガス気流下、５０〜−５０℃で、極性有機溶媒
（例えば、メタノール）中で、金属触媒（例えば、Ｌｉ
ｎｄｌａｒ触媒）存在下で行う。化合物(V)は精製する
ことなく次の工程へ進むことができる。
ン酸エステル(VI)を還元条件下、Ｚ型オレフィンに還元
し、ヒドロキシカルボン酸エステル(V)へ導く反応であ
り、水素ガス気流下、５０〜−５０℃で、極性有機溶媒
（例えば、メタノール）中で、金属触媒（例えば、Ｌｉ
ｎｄｌａｒ触媒）存在下で行う。化合物(V)は精製する
ことなく次の工程へ進むことができる。
【００６６】〔ｇ工程〕この工程は、ヒドロキシカルボ
ン酸エステル(V) をラクトン(IV)へ導く反応であり、５
０〜−５０℃で、アルコール性溶媒（例えば、メタノー
ル、エタノールやトルエン、ベンゼンなどの有機溶媒）
中、酸触媒（例えば、塩酸の様な鉱酸、トリフルオロ酢
酸又はＰＰＴＳ：ピリジニウムパラトルエンスルホン酸
の様な有機酸）存在下行うか、アルコール性溶媒（例え
ばエタノール）中、塩基（例えば、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等）でエステルを加水分解し、遊離のカ
ルボン酸とした後、有機溶媒（例えばベンゼン）中共沸
脱水するか、脱水剤（例えばモルフォ−ＣＤＩ）を用い
て行う。
ン酸エステル(V) をラクトン(IV)へ導く反応であり、５
０〜−５０℃で、アルコール性溶媒（例えば、メタノー
ル、エタノールやトルエン、ベンゼンなどの有機溶媒）
中、酸触媒（例えば、塩酸の様な鉱酸、トリフルオロ酢
酸又はＰＰＴＳ：ピリジニウムパラトルエンスルホン酸
の様な有機酸）存在下行うか、アルコール性溶媒（例え
ばエタノール）中、塩基（例えば、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等）でエステルを加水分解し、遊離のカ
ルボン酸とした後、有機溶媒（例えばベンゼン）中共沸
脱水するか、脱水剤（例えばモルフォ−ＣＤＩ）を用い
て行う。
【００６７】〔ｈ工程〕この工程は、フェニルスルフィ
ド(IV)をスルフォキシド(III) に酸化する反応であり、
不活性ガス雰囲気下、低温下( 例えば２５〜−１００
℃、好ましくは−５０〜−８０℃）で、乾燥した含ハロ
ゲン系溶媒（例えばジクロロメタン）中、過酸（例え
ば、ｍＣＰＢＡ）、塩基（例えば炭酸水素ナトリウム）
存在下行う。
ド(IV)をスルフォキシド(III) に酸化する反応であり、
不活性ガス雰囲気下、低温下( 例えば２５〜−１００
℃、好ましくは−５０〜−８０℃）で、乾燥した含ハロ
ゲン系溶媒（例えばジクロロメタン）中、過酸（例え
ば、ｍＣＰＢＡ）、塩基（例えば炭酸水素ナトリウム）
存在下行う。
【００６８】〔ｉ工程〕この工程は、スルフォキシド(I
II)を脱離条件でＥ型オレフィンを生成し、不飽和ラク
トン(II)へ導く反応であり、有機溶媒( 例えば、ベンゼ
ンやトルエン)中、０℃〜反応に用いた溶媒の還流温度
で、塩基（例えば、炭酸カルシウム）の存在下で行う。
II)を脱離条件でＥ型オレフィンを生成し、不飽和ラク
トン(II)へ導く反応であり、有機溶媒( 例えば、ベンゼ
ンやトルエン)中、０℃〜反応に用いた溶媒の還流温度
で、塩基（例えば、炭酸カルシウム）の存在下で行う。
【００６９】〔ｊ工程〕この工程は、不飽和ラクトン(I
I)をエポキシラクトン(I)へ導く反応であり、３０〜−
３０℃で極性有機溶媒（例えば、低級アルコールまたは
その含水物）中で、アルカリ水酸化物（例えば、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム）存在下、ハイドロパーオ
キシド（例えばH2O2、tert-BuOOH）を用いて行う。
I)をエポキシラクトン(I)へ導く反応であり、３０〜−
３０℃で極性有機溶媒（例えば、低級アルコールまたは
その含水物）中で、アルカリ水酸化物（例えば、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム）存在下、ハイドロパーオ
キシド（例えばH2O2、tert-BuOOH）を用いて行う。
【００７０】〔ｋ工程〕この工程は、エピクロルヒドリ
ン(XI)にテトラヒドロピラニルプロパルギルアルコール
を反応させるものであり、ａ工程に準じた方法で行う。
ン(XI)にテトラヒドロピラニルプロパルギルアルコール
を反応させるものであり、ａ工程に準じた方法で行う。
【００７１】〔ｌ工程〕この工程は、クロルヒドリン体
(XVII)から、塩基性条件下でエポキシ(XVI)へ導く反応
であり、ｂ工程に準じて行う。
(XVII)から、塩基性条件下でエポキシ(XVI)へ導く反応
であり、ｂ工程に準じて行う。
【００７２】〔ｍ工程〕この工程は、ｃ工程に準じて行
う。
う。
【００７３】〔ｎ工程〕この工程は、酸性条件下、テト
ラヒドロピラニル基を脱離除去する反応であり、１００
〜−５０℃で、有機溶媒（例えばメタノール）中、酸触
媒（例えばＰＰＴＳ）存在下行う。
ラヒドロピラニル基を脱離除去する反応であり、１００
〜−５０℃で、有機溶媒（例えばメタノール）中、酸触
媒（例えばＰＰＴＳ）存在下行う。
【００７４】〔ｏ工程〕この工程は、ｆ工程に準じて行
う。
う。
【００７５】〔ｐ工程〕この工程は、酸化条件下、ジヒ
ドロキシ化合物(XIII)からアセタール(XII)を生成する
反応であり、５０〜−５０℃で有機溶媒（例えば、ジク
ロロメタン）中、酸化剤（例えば二酸化マンガン）存在
下行う。
ドロキシ化合物(XIII)からアセタール(XII)を生成する
反応であり、５０〜−５０℃で有機溶媒（例えば、ジク
ロロメタン）中、酸化剤（例えば二酸化マンガン）存在
下行う。
【００７６】〔ｑ工程〕この工程は、酸化条件で、環状
アセタール(XII)を酸化しラクトン(IV)を生成する反応
であり０℃〜反応に用いた溶媒の沸点温度で有機溶媒
（例えばベンゼン）中、酸化剤（例えばFetizon試薬）
存在下行う。
アセタール(XII)を酸化しラクトン(IV)を生成する反応
であり０℃〜反応に用いた溶媒の沸点温度で有機溶媒
（例えばベンゼン）中、酸化剤（例えばFetizon試薬）
存在下行う。
【００７７】〔ｒ工程〕この工程は、エポキシラクトン
(I)を適当な還元条件でヒドロキシラクトン(XIX) へ導
く反応であり、アルコール性溶媒（例えば、低級アルコ
ールまたはその含水物）中で、還元剤（例えば、(PhSe)
2/NaBH4、アルミニウムアマルガム、NaI/CH3COONa、NaT
eH、SmI2、亜鉛、芳香族セレノール類や芳香族チオール
類及び、低級カルボン酸(例えば酢酸))存在下行う。
(I)を適当な還元条件でヒドロキシラクトン(XIX) へ導
く反応であり、アルコール性溶媒（例えば、低級アルコ
ールまたはその含水物）中で、還元剤（例えば、(PhSe)
2/NaBH4、アルミニウムアマルガム、NaI/CH3COONa、NaT
eH、SmI2、亜鉛、芳香族セレノール類や芳香族チオール
類及び、低級カルボン酸(例えば酢酸))存在下行う。
【００７８】〔ｓ工程〕この工程はクロルヒドリン(XI)
とフェニルスルフィド化合物(XVIII)を縮合させる反応
で、不活性ガス雰囲気下、低温下（好ましくは−５０℃
以下）で乾燥した非プロトン性溶媒（例えばTHF、トル
エン、ヘキサン、またはエーテル、好ましくはTHF）中で
強塩基（例えばアルキルリチウム）の存在下で行う。
とフェニルスルフィド化合物(XVIII)を縮合させる反応
で、不活性ガス雰囲気下、低温下（好ましくは−５０℃
以下）で乾燥した非プロトン性溶媒（例えばTHF、トル
エン、ヘキサン、またはエーテル、好ましくはTHF）中で
強塩基（例えばアルキルリチウム）の存在下で行う。
【００７９】〔ｔ工程〕この工程はハロヒドリン化合物
(XX)からエポキシ化合物(XXI)へ導く反応で、例えば５
０〜−５０℃、好ましくは３０〜０℃で乾燥した有機溶
媒（例えばTHF）中、アルカリ水酸化物（例えば、水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム）の存在下で行う。
(XX)からエポキシ化合物(XXI)へ導く反応で、例えば５
０〜−５０℃、好ましくは３０〜０℃で乾燥した有機溶
媒（例えばTHF）中、アルカリ水酸化物（例えば、水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム）の存在下で行う。
【００８０】〔ｕ工程〕この工程は、エポキシ化合物(X
XI)に金属アセチリドを縮合させ、アセチレン化合物(VI
I)へ導く反応であり、例えば５０〜−５０℃、好ましく
は３０〜−１５℃で、乾燥した非プロトン性極性有機溶
媒（例えばジメチルスルフォキシド）中で行う。
XI)に金属アセチリドを縮合させ、アセチレン化合物(VI
I)へ導く反応であり、例えば５０〜−５０℃、好ましく
は３０〜−１５℃で、乾燥した非プロトン性極性有機溶
媒（例えばジメチルスルフォキシド）中で行う。
【００８１】出発原料として光学活性S-(+)-エピクロル
ヒドリン(XIa)を用いれば、光学活性な(3R,4R,6S)エポ
キシメバロノラクトン(Ia)を、R-(-)-エピクロルヒドリ
ン(XIb)を用いれば、光学活性な(3S,4S,6R)エポキシメ
バロノラクトン(Ib)を各々優先的に製造できる。更にエ
ポキシメバロノラクトン(Ia)からは光学活性な(4R,6S)
メバロノラクトン(XIXa)を、エポキシメバロノラクトン
(Ib)からは光学活性な(4S,6R)メバロノラクトン(XIXb)
へ各々優先的に誘導することができる。
ヒドリン(XIa)を用いれば、光学活性な(3R,4R,6S)エポ
キシメバロノラクトン(Ia)を、R-(-)-エピクロルヒドリ
ン(XIb)を用いれば、光学活性な(3S,4S,6R)エポキシメ
バロノラクトン(Ib)を各々優先的に製造できる。更にエ
ポキシメバロノラクトン(Ia)からは光学活性な(4R,6S)
メバロノラクトン(XIXa)を、エポキシメバロノラクトン
(Ib)からは光学活性な(4S,6R)メバロノラクトン(XIXb)
へ各々優先的に誘導することができる。
【００８２】本発明の化合物の具体例として、実施例に
記載された化合物を含めて、第１表ないし第７表に挙げ
た化合物が本発明の化合物の一例である。
記載された化合物を含めて、第１表ないし第７表に挙げ
た化合物が本発明の化合物の一例である。
【００８３】各表中、Ｒα、Ｒβは一緒になって結合を
表わすか又は酸素原子を表わす。尚、以下の置換基の表
示において、各記号は下記の置換基を意味する。即ち、
n-はノルマルを、i-はイソを、sec-はセカンダリーを、
tert-はターシャリ−を、c-はシクロを、Meはメチル
を、Etはエチルを、Prはプロピルを、Buはブチルを、Pe
ntはペンチルを、Hexはヘキシルを、Phはフェニルを意
味する。
表わすか又は酸素原子を表わす。尚、以下の置換基の表
示において、各記号は下記の置換基を意味する。即ち、
n-はノルマルを、i-はイソを、sec-はセカンダリーを、
tert-はターシャリ−を、c-はシクロを、Meはメチル
を、Etはエチルを、Prはプロピルを、Buはブチルを、Pe
ntはペンチルを、Hexはヘキシルを、Phはフェニルを意
味する。
【００８４】第 １ 表
【００８５】
【化８０】
【００８６】
【表１】
【００８７】第 ２ 表
【００８８】
【化８１】
【００８９】
【表２】
【００９０】
【表３】
【００９１】
【表４】 第２表（続） ──────────────────────────── Ｒ4a Ｒ5a Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ6a ──────────────────────────── Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ i-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-Cl Ｈ i-Pr Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-Cl Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-Me Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-n-Pent Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-c-Pr Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-c-Hex Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-MeO Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-n-BuO Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-NMe Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-NHEt Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-CF3 Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-CF3O Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-Cl Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-Br Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-PhO Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-PhCH2O Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-OH Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 4-OCH2CH2OH Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ 3,4-CH=CH-CH=CH- Ｈ c-Pr Ｈ ────────────────────────────
【００９２】
【表５】 第２表（続） ──────────────────────────── Ｒ4a Ｒ5a Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ6a ──────────────────────────── Ｈ Ｈ 3,4-OCH2O- Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ c-Pr Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ n-Pr Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ n-Pent Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ -CH=CH2 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ -CH=CHCH3 Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 3-c-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-Me-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-MeO-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-MeS-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-Cl-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-CF3-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-PhO-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-OH-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ 4-CH2OH-Ph Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ PhCH2- Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ PhCH(Me) Ｈ 6-n-Pent Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-c-Pr Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-n-BuO Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ ────────────────────────────
【００９３】
【表６】 第２表（続） ──────────────────────────── Ｒ4a Ｒ5a Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ6a ──────────────────────────── 6-CF3 Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-F Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-Ph Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-OH Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-HOCH2 Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6-MeOCH2 Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ 6,7-OCH2O- Ｈ 4-F Ｈ c-Pr Ｈ ────────────────────────────
【００９４】第 ３ 表
【００９５】
【化８２】
【００９６】
【表７】
【００９７】
【表８】
【００９８】
【表９】
【００９９】
【表１０】
【０１００】
【表１１】
【０１０１】
【表１２】
【０１０２】
【表１３】
【０１０３】
【表１４】
【０１０４】
【表１５】
【０１０５】
【表１６】
【０１０６】
【表１７】
【０１０７】
【表１８】
【０１０８】
【表１９】
【０１０９】
【表２０】
【０１１０】
【表２１】
【０１１１】
【表２２】
【０１１２】第 ４ 表
【０１１３】
【化８３】
【０１１４】
【表２３】
【０１１５】
【表２４】
【０１１６】
【表２５】
【０１１７】
【表２６】
【０１１８】
【表２７】
【０１１９】
【表２８】
【０１２０】
【表２９】
【０１２１】
【表３０】
【０１２２】
【表３１】
【０１２３】
【表３２】
【０１２４】
【表３３】
【０１２５】
【表３４】
【０１２６】
【表３５】
【０１２７】
【表３６】
【０１２８】
【表３７】
【０１２９】第 ５ 表
【０１３０】
【化８４】
【０１３１】
【表３８】
【０１３２】
【表３９】
【０１３３】
【表４０】
【０１３４】
【表４１】
【０１３５】第 ６ 表
【０１３６】
【化８５】
【０１３７】
【表４２】
【０１３８】第 ７ 表
【０１３９】
【化８６】
【０１４０】
【表４３】
【０１４１】
【表４４】
【０１４２】
【０１４３】（ａ工程）
【０１４４】
【化８７】
【０１４５】トリメチルシリルアセチレン(0.5ml, 3.5m
mol)のTHF(2.0ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi(1.4M, ｎ
−ヘキサン溶液;3.0ml, 4.2mmol)を滴下した。３時間
後、BF3・OEt(0.5ml, 4.1mmol) を加え、さらに30分後、
S-(+)-エピクロルヒドリン(XIa)(0.23ml, 2.9mmol)のTH
F(6.0ml)溶液を５分間かけて滴下した。そののち同温下
で25分間-30℃に昇温後18時間30分撹拌した。同温下、
水を加えたのち室温まで昇温したジエチルエーテルを用
いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶
媒留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリ
カゲル15g)に付し、ジエチルエーテル−ペンタン(1:3,V
/V)溶出部より無色油状の化合物(Xa)(509mg, 2.7mmol,
93%) を得た。
mol)のTHF(2.0ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi(1.4M, ｎ
−ヘキサン溶液;3.0ml, 4.2mmol)を滴下した。３時間
後、BF3・OEt(0.5ml, 4.1mmol) を加え、さらに30分後、
S-(+)-エピクロルヒドリン(XIa)(0.23ml, 2.9mmol)のTH
F(6.0ml)溶液を５分間かけて滴下した。そののち同温下
で25分間-30℃に昇温後18時間30分撹拌した。同温下、
水を加えたのち室温まで昇温したジエチルエーテルを用
いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶
媒留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリ
カゲル15g)に付し、ジエチルエーテル−ペンタン(1:3,V
/V)溶出部より無色油状の化合物(Xa)(509mg, 2.7mmol,
93%) を得た。
【０１４６】[α]D 28 +12.63°(c=1.008, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 3416(OH), 2176, 757, 699.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.15(s,9H), 2.45(d, 1H, J=5.6Hz,
exchangeable with D2O), 2.53(d, 1H, J=0.74Hz), 2.
60(s, 1H), 3.63(d,1H, J=3.42Hz), 3.69(d, 1H, J=1.7
1Hz), 3.8-4.02(m,1H). MS m/e : 175(M+-Me), 73(100%).
exchangeable with D2O), 2.53(d, 1H, J=0.74Hz), 2.
60(s, 1H), 3.63(d,1H, J=3.42Hz), 3.69(d, 1H, J=1.7
1Hz), 3.8-4.02(m,1H). MS m/e : 175(M+-Me), 73(100%).
【０１４７】（ｂ工程）
【０１４８】
【化８８】
【０１４９】化合物(Xa)(2.51g, 13mmol) のTHF(35ml)
溶液に氷冷撹拌下、KOH(87.5mg, 15.6mmol) を加えた。
3.5 時間後、さらにKOH(21.3mg, 3.8mmol)を加え、0.5
時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈したのち、水で
洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物を
カラムクロマトグラフィー (シリカゲル15g)に付し、ジ
エチルエーテル−ペンタン(1:9,V/V)溶出部より無色油
状の化合物(IXa)(1.4g,9.1mmol, 70%) を得た。
溶液に氷冷撹拌下、KOH(87.5mg, 15.6mmol) を加えた。
3.5 時間後、さらにKOH(21.3mg, 3.8mmol)を加え、0.5
時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈したのち、水で
洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物を
カラムクロマトグラフィー (シリカゲル15g)に付し、ジ
エチルエーテル−ペンタン(1:9,V/V)溶出部より無色油
状の化合物(IXa)(1.4g,9.1mmol, 70%) を得た。
【０１５０】[α]D 28 +29.44°(c=1.02, CDCl3). IR νmax (film) cm-1 : 2178, 758, 698.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.15(s,9H), 2.51-2.84(m, 4H), 3.
02-3.19(m,1H). MS m/e : 139(M+-Me), 109(100%), 73. High-resolution MS m/e Calcd for C7H11OSi(M+-Me);
139.0579, Found; 139.0570.
02-3.19(m,1H). MS m/e : 139(M+-Me), 109(100%), 73. High-resolution MS m/e Calcd for C7H11OSi(M+-Me);
139.0579, Found; 139.0570.
【０１５１】（ｃ工程）
【０１５２】
【化８９】
【０１５３】ベンジルフェニルスルフィド(XVIII-1)(1.
89g, 9.45mmol)のTHF(70ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi
(1.4M, ｎ−ヘキサン溶液;6.7ml, 9.38mmol)を滴下し
た。5.5時間後、化合物(IXa)(1.2g, 7.8mmol)のTHF(6.0
ml)溶液を５分間かけて滴下したのち同温下で1.5時間、
-20℃に昇温後10時間撹拌した。-20℃で、水を加えたの
ち室温まで昇温した。ジエチルエーテルを用いて希釈し
たのち水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル100
g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:4,V/V)
溶出部より無色油状の化合物(VIIIa-1)(2.0g, 5.6mmol,
72%) を得た。
89g, 9.45mmol)のTHF(70ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi
(1.4M, ｎ−ヘキサン溶液;6.7ml, 9.38mmol)を滴下し
た。5.5時間後、化合物(IXa)(1.2g, 7.8mmol)のTHF(6.0
ml)溶液を５分間かけて滴下したのち同温下で1.5時間、
-20℃に昇温後10時間撹拌した。-20℃で、水を加えたの
ち室温まで昇温した。ジエチルエーテルを用いて希釈し
たのち水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル100
g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:4,V/V)
溶出部より無色油状の化合物(VIIIa-1)(2.0g, 5.6mmol,
72%) を得た。
【０１５４】IR νmax (film) cm-1 : 3444(-OH), 217
4, 743, 694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.16(s,9H), 1.98-2.45(m, 5H, 1H
exchangeable with D2O), 3.5(sextet, 1H), 4.39-4.56
(m,1H), 7.19-7.22(m, 10H, aromatic). MS m/e : 354(M+), 199, 155, 73(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C21H26OSiS(M+); 3
54.1474, Found; 354.1497.
4, 743, 694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.16(s,9H), 1.98-2.45(m, 5H, 1H
exchangeable with D2O), 3.5(sextet, 1H), 4.39-4.56
(m,1H), 7.19-7.22(m, 10H, aromatic). MS m/e : 354(M+), 199, 155, 73(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C21H26OSiS(M+); 3
54.1474, Found; 354.1497.
【０１５５】（ｄ工程）
【０１５６】
【化９０】
【０１５７】化合物(VIIIa-1)(1.29g, 3.64mmol)のメタ
ノール(15ml)溶液に氷冷撹拌下、K2CO3(754mg, 5.46mmo
l)を加え、室温に昇温後、９時間撹拌した。減圧下溶媒
留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル40g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘキサン(1:3,V
/V)溶出部より無色油状の化合物(VIIa-1)(822mg, 2.93m
mol, 80%)を得た。
ノール(15ml)溶液に氷冷撹拌下、K2CO3(754mg, 5.46mmo
l)を加え、室温に昇温後、９時間撹拌した。減圧下溶媒
留去した。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル40g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘキサン(1:3,V
/V)溶出部より無色油状の化合物(VIIa-1)(822mg, 2.93m
mol, 80%)を得た。
【０１５８】IR νmax (film) cm-1 : 3422(-OH), 329
6, 2166, 742, 696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.96-2.43(m, 6H, 1H exchangeable
with D2O), 3.36-3.71(m, 0.5H), 3.92-4.22(m, 0.5
H), 4.28-4.51(m, 1H), 7.17-7.23(m,10H, aromatic). MS m/e : 282(M+), 199, 173, 155, 129(100%), 105. High-resolution MS m/e Calcd for C18H18OS; 282.107
8, Found; 282.1069.
6, 2166, 742, 696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.96-2.43(m, 6H, 1H exchangeable
with D2O), 3.36-3.71(m, 0.5H), 3.92-4.22(m, 0.5
H), 4.28-4.51(m, 1H), 7.17-7.23(m,10H, aromatic). MS m/e : 282(M+), 199, 173, 155, 129(100%), 105. High-resolution MS m/e Calcd for C18H18OS; 282.107
8, Found; 282.1069.
【０１５９】（ｅ工程）
【０１６０】
【化９１】
【０１６１】化合物(VIIa-1)(281.7mg, 1mmol)のメタノ
ール(10ml)溶液にNaOAc(165mg, 2.0mmol)、PdCl2(11mg
0.06mmol)、CuCl2(269mg, 2.0mmol)を順次加え、COガス
気液下で５時間10分撹拌した。残留物をカラムクロマト
グラフィー (シリカゲル20g)に付し、ジエチルエーテル
−n-ヘキサン(1:3,V/V)溶出部より無色飴状の化合物(VI
a-1)(241.7mg, 0.77mmol, 71%)を得た。
ール(10ml)溶液にNaOAc(165mg, 2.0mmol)、PdCl2(11mg
0.06mmol)、CuCl2(269mg, 2.0mmol)を順次加え、COガス
気液下で５時間10分撹拌した。残留物をカラムクロマト
グラフィー (シリカゲル20g)に付し、ジエチルエーテル
−n-ヘキサン(1:3,V/V)溶出部より無色飴状の化合物(VI
a-1)(241.7mg, 0.77mmol, 71%)を得た。
【０１６２】IR νmax (film) cm-1 : 3448(-OH), 223
8, 1713, 747, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.06-2.23(m, 3H, 1H exchangeable
with D2O), 2.41-2.57(m, 2H), 3.50-3.84(m, 0.5H),
3.74(s, 1.5H), 3.76(s, 1.5H), 4.13-4.31(m,1.5H),
7.19-7.25(m,10H, aromatic). MS m/e : 340(M+), 322, 199, 155, 105(100%), 59. High-resolution MS m/e Calcd for C20H20O3S; 340.11
32, Found; 340.1131.
8, 1713, 747, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.06-2.23(m, 3H, 1H exchangeable
with D2O), 2.41-2.57(m, 2H), 3.50-3.84(m, 0.5H),
3.74(s, 1.5H), 3.76(s, 1.5H), 4.13-4.31(m,1.5H),
7.19-7.25(m,10H, aromatic). MS m/e : 340(M+), 322, 199, 155, 105(100%), 59. High-resolution MS m/e Calcd for C20H20O3S; 340.11
32, Found; 340.1131.
【０１６３】（ｆ工程）
【０１６４】
【化９２】
【０１６５】化合物(VIa-1)(91.6mg, 0.27mmol)のメタ
ノール(2ml)溶液にLindlar触媒(6.4mg, 7% W/W) を加
え、水素気流下室温で11時間撹拌した。セライトろ過
後、減圧下溶媒留去し、残留物(Va-1)88.3mgを得た。 IR νmax (film) cm-1 : 3446(-OH), 1717, 741, 693.,1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.00-2.41(m, 3H, 1H exchangeable
with D2O), 2.63-2.90(m, 2H), 3.35-3.80(m, 0.5H),
3.69(s, 1.5H), 3.71(s, 1.5H), 3.90-4.20(m,0.5H),
4.30-4.56(m, 1H), 5.82-5.98(m, 1H), 6.11-6.42(m, 1
H), 7.12-7.25(m, 10H, aromatic). MS m/e : 342(M+), 310, 199, 129, 105, 97(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C20H22O3S; 342.12
90, Found; 342.1328.
ノール(2ml)溶液にLindlar触媒(6.4mg, 7% W/W) を加
え、水素気流下室温で11時間撹拌した。セライトろ過
後、減圧下溶媒留去し、残留物(Va-1)88.3mgを得た。 IR νmax (film) cm-1 : 3446(-OH), 1717, 741, 693.,1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.00-2.41(m, 3H, 1H exchangeable
with D2O), 2.63-2.90(m, 2H), 3.35-3.80(m, 0.5H),
3.69(s, 1.5H), 3.71(s, 1.5H), 3.90-4.20(m,0.5H),
4.30-4.56(m, 1H), 5.82-5.98(m, 1H), 6.11-6.42(m, 1
H), 7.12-7.25(m, 10H, aromatic). MS m/e : 342(M+), 310, 199, 129, 105, 97(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C20H22O3S; 342.12
90, Found; 342.1328.
【０１６６】（ｇ工程）
【０１６７】
【化９３】
【０１６８】化合物(Va-1)(47.8mg, 0.14mmol)のメタノ
ール(1.5ml)溶液に氷冷撹拌下、濃塩酸(0.15ml)を加え
た。15分後室温に昇温してさらに４時間撹拌した。再び
氷冷撹拌下NaHCO3を加え室温まで昇温した。ジエチルエ
ーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル8g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘ
キサン(1:2,V/V)溶出部より無色油状の化合物(IVa-1)(4
0.3mmol, 93%)を得た。
ール(1.5ml)溶液に氷冷撹拌下、濃塩酸(0.15ml)を加え
た。15分後室温に昇温してさらに４時間撹拌した。再び
氷冷撹拌下NaHCO3を加え室温まで昇温した。ジエチルエ
ーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル8g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘ
キサン(1:2,V/V)溶出部より無色油状の化合物(IVa-1)(4
0.3mmol, 93%)を得た。
【０１６９】IR νmax (film) cm-1 : 1718, 743, 694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.90-2.64(m, 4H), 3.93-4.30(m,
0.5H), 4.30-5.00(m, 1.5H), 5.85-6.07(M, 1H), 6.66-
6.94(m, 1H), 7.19-7.27(m, 10H, aromatic). MS m/e : 310(M+), 199, 97(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H18O2S; 310.10
28, Found; 310.1035.
0.5H), 4.30-5.00(m, 1.5H), 5.85-6.07(M, 1H), 6.66-
6.94(m, 1H), 7.19-7.27(m, 10H, aromatic). MS m/e : 310(M+), 199, 97(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H18O2S; 310.10
28, Found; 310.1035.
【０１７０】（ｈ工程）
【０１７１】
【化９４】
【０１７２】化合物(IVa-1) (62.1mg, 0.2mmol) のCH2C
l2(5ml)溶液に-78℃撹拌下、NaHCO3(18.5mg, 0.22mmol)
及び80%m-CPBA(43.8mg, 0.2mmol)を加えた。２時間撹拌
後-40℃に昇温してさらに25分間撹拌した。CH2Cl2を用
いて希釈して、希釈NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル4g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘ
キサン(4:1,V/V)溶出部より無色飴状の化合物(IIIa-1)
(634mg, 0.19mmol, 95%)を得た。
l2(5ml)溶液に-78℃撹拌下、NaHCO3(18.5mg, 0.22mmol)
及び80%m-CPBA(43.8mg, 0.2mmol)を加えた。２時間撹拌
後-40℃に昇温してさらに25分間撹拌した。CH2Cl2を用
いて希釈して、希釈NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル4g)に付し、ジエチルエーテル−n-ヘ
キサン(4:1,V/V)溶出部より無色飴状の化合物(IIIa-1)
(634mg, 0.19mmol, 95%)を得た。
【０１７３】IR νmax (film) cm-1 : 1718, 1042, 74
7, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.10-2.93(m, 4H), 3.75-5.10(m, 2
H), 5.75-6.02(m, 1H),6.60-7.46(m, 11H, 10H, aromat
ic). MS m/e : 200(M+-SOPh), 126, 104, 68(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O2; 200.083
7, Found; 200.0840.
7, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.10-2.93(m, 4H), 3.75-5.10(m, 2
H), 5.75-6.02(m, 1H),6.60-7.46(m, 11H, 10H, aromat
ic). MS m/e : 200(M+-SOPh), 126, 104, 68(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O2; 200.083
7, Found; 200.0840.
【０１７４】（ｉ工程）
【０１７５】
【化９５】
【０１７６】化合物(IIIa-1)(50mg, 0.15mmol)のトルエ
ン(1.5ml)溶液にCaCO3(21.0mg, 0.19mmol) を加え、１
時間加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈
しセライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラ
ムクロマトグラフィー (シリカゲル3g)に付し、ジエチ
ルエーテル−n-ヘキサン(2:1,V/V)溶出部より無色結晶
の化合物(IIa-1)(29.6mg, 0.148mmol, 100%)を得た。
ン(1.5ml)溶液にCaCO3(21.0mg, 0.19mmol) を加え、１
時間加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈
しセライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラ
ムクロマトグラフィー (シリカゲル3g)に付し、ジエチ
ルエーテル−n-ヘキサン(2:1,V/V)溶出部より無色結晶
の化合物(IIa-1)(29.6mg, 0.148mmol, 100%)を得た。
【０１７７】[α]D 28 -178.09°(c=0.49, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 1724, 750, 694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 2.45-2.60(m, 2H), 5.08(dd, 1H, J
=16.2, 7.1), 5.94-7.02(m, 4H), 7.25-7.42(m, 5H). MS m/e : 200(M+), 155, 104, 91, 68(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O2; 200.083
7, Found; 200.0827.
=16.2, 7.1), 5.94-7.02(m, 4H), 7.25-7.42(m, 5H). MS m/e : 200(M+), 155, 104, 91, 68(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O2; 200.083
7, Found; 200.0827.
【０１７８】（ｊ工程）
【０１７９】
【化９６】
【０１８０】化合物(IIa-1)(26.6mg, 0.13mmol)のメタ
ノール(2ml)溶液に氷冷撹拌下、30%H 2O2(0.045ml, 0.4m
mol) 、4N NaOH(0.016ml, 0.064mmol)を順次滴下した。
20分後ジエチルエーテルを用いて希釈し、MgSO4で乾燥
後減圧下溶媒留去した。残留物をトルエン中、PPTS(3.3
mg)と共に加熱還流し、ジエチルエーテルを用いて稀釈
し、水洗後MgSO4で乾燥、減圧下溶媒留去した。残留物
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル6.0g)に付し、
ジエチルエーテル−n-ヘキサン(1:3,V/V)溶出部より無
色結晶の化合物(Ia-1)(23.6mg, 82%) を得た。
ノール(2ml)溶液に氷冷撹拌下、30%H 2O2(0.045ml, 0.4m
mol) 、4N NaOH(0.016ml, 0.064mmol)を順次滴下した。
20分後ジエチルエーテルを用いて希釈し、MgSO4で乾燥
後減圧下溶媒留去した。残留物をトルエン中、PPTS(3.3
mg)と共に加熱還流し、ジエチルエーテルを用いて稀釈
し、水洗後MgSO4で乾燥、減圧下溶媒留去した。残留物
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル6.0g)に付し、
ジエチルエーテル−n-ヘキサン(1:3,V/V)溶出部より無
色結晶の化合物(Ia-1)(23.6mg, 82%) を得た。
【０１８１】[α]D 29 +52.9°(c=1.1, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 1732, 747, 692.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.97-2.63(m, 2H), 3.60-3.76(m, 2
H), 5.02-5.28(m, 1H),6.10(dd, 1H, J=15.9, 6.84),
6.69(d, 1H, J=15.9), 7.25-7.41(m, 5, aromatic). MS m/e : 216(M+), 131(100%), 115, 104. High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O3; 216.078
6, Found; 216.0776.
H), 5.02-5.28(m, 1H),6.10(dd, 1H, J=15.9, 6.84),
6.69(d, 1H, J=15.9), 7.25-7.41(m, 5, aromatic). MS m/e : 216(M+), 131(100%), 115, 104. High-resolution MS m/e Calcd for C13H12O3; 216.078
6, Found; 216.0776.
【０１８２】（ｒ工程）
【０１８３】
【化９７】
【０１８４】(PhSe)2(35.5mg, 0.11mmol) のiPrOH(0.7m
l) 溶液に氷冷撹拌下、NaBH4(9.6mg, 0.25mmol)を加え
た。15分後酢酸(2.2μl)を滴下し、次いで化合物(Ia-1)
(13.2mg, 0.06mmol)のiPrOH(1.3ml)溶液を滴下した。５
分後ジエチルエーテルを用いて希釈したのち飽和NaHCO3
で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル4.0g)に付し、
酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:1, V/V)溶出部より無色結
晶の化合物(XIXa-1)(6.6mg, 0.03mmol, 50%)を得た。
l) 溶液に氷冷撹拌下、NaBH4(9.6mg, 0.25mmol)を加え
た。15分後酢酸(2.2μl)を滴下し、次いで化合物(Ia-1)
(13.2mg, 0.06mmol)のiPrOH(1.3ml)溶液を滴下した。５
分後ジエチルエーテルを用いて希釈したのち飽和NaHCO3
で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル4.0g)に付し、
酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:1, V/V)溶出部より無色結
晶の化合物(XIXa-1)(6.6mg, 0.03mmol, 50%)を得た。
【０１８５】[α]D 27 +9.86°(c=0.8, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 3500(-OH), 1721.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.90-2.21(m, 3H, 1H exchangeable
with D2O), 2.65-2.29(m, 2H), 4.44(quint, 1H, J=3.
1Hz), 5.27-5.50(m,1H), 6.19(dd, 1H, J=15.7,5.7Hz),
6.72(d, 1H, J=15.7Hz), 7.25-7.42(m, 5H, aromati
c).
with D2O), 2.65-2.29(m, 2H), 4.44(quint, 1H, J=3.
1Hz), 5.27-5.50(m,1H), 6.19(dd, 1H, J=15.7,5.7Hz),
6.72(d, 1H, J=15.7Hz), 7.25-7.42(m, 5H, aromati
c).
【０１８６】（ｋ工程）
【０１８７】
【化９８】
【０１８８】o-テトラヒドロピラニルプロパギルアルコ
ール(4.7g, 33.5mmol)のTHF(25ml)溶液に-78℃撹拌下、
nBuLi(1.4M, ｎ−ヘキサン溶液;24.5ml, 34.3mmol)を滴
下した。３時間40分後、BF3・OEt2(3.2ml, 26mmol) を加
え、さらに20分後、S-(+)-エピクロルヒドリン(XIa)(1.
0ml, 13mmol)を滴下し、８時間45分撹拌した。飽和NaHC
O3水溶液を加えたのち室温まで昇温した。ジエチルエー
テルを用いて希釈した後、飽和NaHCO3水溶液で洗浄、Mg
SO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムク
ロマトグラフィー (シリカゲル60g)に付し、ジエチルエ
ーテル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部より化合物(XVII
a)(2.52g, 11mmol, 85%) を得た。
ール(4.7g, 33.5mmol)のTHF(25ml)溶液に-78℃撹拌下、
nBuLi(1.4M, ｎ−ヘキサン溶液;24.5ml, 34.3mmol)を滴
下した。３時間40分後、BF3・OEt2(3.2ml, 26mmol) を加
え、さらに20分後、S-(+)-エピクロルヒドリン(XIa)(1.
0ml, 13mmol)を滴下し、８時間45分撹拌した。飽和NaHC
O3水溶液を加えたのち室温まで昇温した。ジエチルエー
テルを用いて希釈した後、飽和NaHCO3水溶液で洗浄、Mg
SO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムク
ロマトグラフィー (シリカゲル60g)に付し、ジエチルエ
ーテル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部より化合物(XVII
a)(2.52g, 11mmol, 85%) を得た。
【０１８９】IR νmax (film) cm-1 : 3418(-OH), 222
8.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.40-2.00(m, 6H), 2.50-2.72(m, 2
H), 2.95(d, 1H, J=5.61Hz, exchangeable with D2O),
3.42-5.18(m, 4H), 5.18-5.20(m, 2H), 4.79(s,1H). MS m/e : 131(M+-OTHP), 85(100%). High-resolution MS m/e : Calcd for C6H8OCl(M+-OTH
P); 131.0264, Found; 131.0275.
8.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.40-2.00(m, 6H), 2.50-2.72(m, 2
H), 2.95(d, 1H, J=5.61Hz, exchangeable with D2O),
3.42-5.18(m, 4H), 5.18-5.20(m, 2H), 4.79(s,1H). MS m/e : 131(M+-OTHP), 85(100%). High-resolution MS m/e : Calcd for C6H8OCl(M+-OTH
P); 131.0264, Found; 131.0275.
【０１９０】（ｌ工程）
【０１９１】
【化９９】
【０１９２】化合物(XVIIa)(2.3g, 9.9mmol)のTHF(40m
l)溶液に氷冷撹拌下、KOH(550mg, 9.8mmol) を加え、室
温に昇温後４時間撹拌した。再び氷冷撹拌下、KOH(225m
g, 4.0mmol) を加え、室温に昇温後１時間撹拌した。ジ
エチルエーテルを用いて希釈した後、水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル80g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(1:4,V/V)溶出部より無色油状の化合
物(XVIa)(1.934g, 9.87mmol, 100%)を得た。
l)溶液に氷冷撹拌下、KOH(550mg, 9.8mmol) を加え、室
温に昇温後４時間撹拌した。再び氷冷撹拌下、KOH(225m
g, 4.0mmol) を加え、室温に昇温後１時間撹拌した。ジ
エチルエーテルを用いて希釈した後、水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル80g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(1:4,V/V)溶出部より無色油状の化合
物(XVIa)(1.934g, 9.87mmol, 100%)を得た。
【０１９３】IR νmax (film) cm-1 : 2232.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.40-2.00(m, 6H), 2.48-2.88(m, 4
H), 3.01-3.25(m, 1H),3.25-4.05(m, 2H), 4.20-4.33
(m, 2H), 4.93(bs, 1H). MS m/e : 195(M+-1), 101, 85(100%). High-resolution MS m/e : Calcd for C11H16O3; 196.1
099, Found; 196.1038.
H), 3.01-3.25(m, 1H),3.25-4.05(m, 2H), 4.20-4.33
(m, 2H), 4.93(bs, 1H). MS m/e : 195(M+-1), 101, 85(100%). High-resolution MS m/e : Calcd for C11H16O3; 196.1
099, Found; 196.1038.
【０１９４】（ｍ工程）
【０１９５】
【化１００】
【０１９６】ベンジルフェニルスルフィド(XVIII-1)(17
7.8mg, 0.89mmol)のTHF(5ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi
(1.4M ｎ−ヘキサン溶液;0.9ml, 1.26mmol)を滴下し
た。30分後、化合物(XVIa)(144.7mg, 0.74mmol)のTHF(5
ml)溶液を５分間かけて滴下したのち同温で30分間撹拌
した。飽和NaHCO3水溶液を加えた後室温まで昇温した。
ジエチルエーテルを用いて希釈したのち、飽和NaCl水溶
液で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留
物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル15g)に付
し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:3,V/V)溶出部
より無色油状の化合物(XVa-1)(223.7mg, 0.56mmol, 76
%) を得た。
7.8mg, 0.89mmol)のTHF(5ml)溶液に-78℃撹拌下、nBuLi
(1.4M ｎ−ヘキサン溶液;0.9ml, 1.26mmol)を滴下し
た。30分後、化合物(XVIa)(144.7mg, 0.74mmol)のTHF(5
ml)溶液を５分間かけて滴下したのち同温で30分間撹拌
した。飽和NaHCO3水溶液を加えた後室温まで昇温した。
ジエチルエーテルを用いて希釈したのち、飽和NaCl水溶
液で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留
物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル15g)に付
し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:3,V/V)溶出部
より無色油状の化合物(XVa-1)(223.7mg, 0.56mmol, 76
%) を得た。
【０１９７】IR νmax (film) cm-1 : 3438(-OH), 743,
694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.40-1.97(m, 6H), 1.97-2.53(m, 5
H, 1H exchangeable with D2O), 3.34-4.55(m, 6H), 4.
78(s, 0.5H), 4.75(s, 0.5H), 7.13-7.31(m, 10H, arom
atic). MS m/e : 312(M+-THP), 199, 85(100%).
694.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.40-1.97(m, 6H), 1.97-2.53(m, 5
H, 1H exchangeable with D2O), 3.34-4.55(m, 6H), 4.
78(s, 0.5H), 4.75(s, 0.5H), 7.13-7.31(m, 10H, arom
atic). MS m/e : 312(M+-THP), 199, 85(100%).
【０１９８】（ｎ工程）
【０１９９】
【化１０１】
【０２００】化合物(XVa-1)(1.45g, 3.9mmol)のメタノ
ール(15ml)溶液に室温撹拌下ピリジニウムｐ−トルエン
スルフォネート(93mg, 0.37mmol)を加え、同温で５分間
撹拌後、60℃に昇温して２時間撹拌した。ジエチルエー
テルで希釈したのち飽和NaCl水溶液で洗浄、MgSO4で乾
燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグ
ラフィー (シリカゲル20g)に付し、ジエチルエーテル−
ｎ−ヘキサン(2:1,V/V)溶出部より無色油状の化合物(XI
Va-1)(1.036g, 3.3mmol, 85%)を得た。
ール(15ml)溶液に室温撹拌下ピリジニウムｐ−トルエン
スルフォネート(93mg, 0.37mmol)を加え、同温で５分間
撹拌後、60℃に昇温して２時間撹拌した。ジエチルエー
テルで希釈したのち飽和NaCl水溶液で洗浄、MgSO4で乾
燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグ
ラフィー (シリカゲル20g)に付し、ジエチルエーテル−
ｎ−ヘキサン(2:1,V/V)溶出部より無色油状の化合物(XI
Va-1)(1.036g, 3.3mmol, 85%)を得た。
【０２０１】IR νmax (film) cm-1 : 3366(-OH), 222
8, 743, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.93-2.76(m, 6H, 2H exchangeable
with D2O), 3.31-3.66(m, 1H), 4.18(s, 2H), 4.28-4.
53(m, 1H), 7.12-7.30(m,10H, aromatic). MS m/e : 312(M+), 294, 199, 185, 167, 105(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H20O2S; 312.11
84, Found; 312.1167.
8, 743, 695.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.93-2.76(m, 6H, 2H exchangeable
with D2O), 3.31-3.66(m, 1H), 4.18(s, 2H), 4.28-4.
53(m, 1H), 7.12-7.30(m,10H, aromatic). MS m/e : 312(M+), 294, 199, 185, 167, 105(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H20O2S; 312.11
84, Found; 312.1167.
【０２０２】（ｏ工程）
【０２０３】
【化１０２】
【０２０４】化合物(XIVa-1)(234mg, 0.75mmol)のメタ
ノール(4ml)溶液にLindlar 触媒を加え、水素気流下で
8.5 時間撹拌した。セライトろ過後、減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル10
g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(4:1,V/V)
溶出部より無色油状の化合物(XIIIa-1)(221.8mg, 0.71m
mol, 95%)を得た。
ノール(4ml)溶液にLindlar 触媒を加え、水素気流下で
8.5 時間撹拌した。セライトろ過後、減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル10
g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(4:1,V/V)
溶出部より無色油状の化合物(XIIIa-1)(221.8mg, 0.71m
mol, 95%)を得た。
【０２０５】IR νmax (film) cm-1 : 3350(-OH), 744,
696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.97-2.34(m 4H), 2.48(bs, 2H,exc
hangeable with D2O),3.25-3.56(m, 0.5H), 3.80-4.20
(m, 2.5H), 4.20-4.50(m, 1H), 5.30-6.00(m, 2H), 7.1
6-7.24(m, 10H, aromatic). MS m/e : 314(M+), 296, 199, 110(100%), 83(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H22O2S; 314.13
41, Found; 314.1302.
696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.97-2.34(m 4H), 2.48(bs, 2H,exc
hangeable with D2O),3.25-3.56(m, 0.5H), 3.80-4.20
(m, 2.5H), 4.20-4.50(m, 1H), 5.30-6.00(m, 2H), 7.1
6-7.24(m, 10H, aromatic). MS m/e : 314(M+), 296, 199, 110(100%), 83(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H22O2S; 314.13
41, Found; 314.1302.
【０２０６】（ｐ工程）
【０２０７】
【化１０３】
【０２０８】化合物(XIIIa-1)(793mg, 2.53mmol)のCH2C
l2(20ml)溶液にMnO2(2.64mg, 30.4mmol)を加え、３時間
30分超音波照射を行った。CH2Cl2を用いて希釈しセライ
トろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー (シリカゲル16g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部より無色飴状の化合
物(XIIa-1)(395mg, 1.27mmol, 50%)を得た。
l2(20ml)溶液にMnO2(2.64mg, 30.4mmol)を加え、３時間
30分超音波照射を行った。CH2Cl2を用いて希釈しセライ
トろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー (シリカゲル16g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部より無色飴状の化合
物(XIIa-1)(395mg, 1.27mmol, 50%)を得た。
【０２０９】IR νmax (film) cm-1 : 3400(-OH), 743,
696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.75-2.32(m, 5H, 1H exchangeable
with D2O), 3.50-3.83(m, 0.5H), 4.08-4.62(m, 1.5
H), 5.32(bs, 1H), 5.50-6.10(m, 2H), 7.21-7.35(m, 1
0H, aromatic). MS m/e : 312(M+), 242, 199, 105(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H20O2S; 312.11
84, Found; 312.1193.
696.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.75-2.32(m, 5H, 1H exchangeable
with D2O), 3.50-3.83(m, 0.5H), 4.08-4.62(m, 1.5
H), 5.32(bs, 1H), 5.50-6.10(m, 2H), 7.21-7.35(m, 1
0H, aromatic). MS m/e : 312(M+), 242, 199, 105(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C19H20O2S; 312.11
84, Found; 312.1193.
【０２１０】（ｑ工程）
【０２１１】
【化１０４】
【０２１２】化合物(XIIa-1)(134mg, 0.43mmol)のベン
ゼン(5ml)溶液にFetizon 試薬(1.89g) を加え、35分間
加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈し、
セライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラム
クロマトグラフィー (シリカゲル4g) に付し、ジエチル
エーテル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部よりアモルフ
ァス状の化合物(IVa-1)(0.37mmol, 88%) を得た。
ゼン(5ml)溶液にFetizon 試薬(1.89g) を加え、35分間
加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈し、
セライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラム
クロマトグラフィー (シリカゲル4g) に付し、ジエチル
エーテル−ｎ−ヘキサン(1:2,V/V)溶出部よりアモルフ
ァス状の化合物(IVa-1)(0.37mmol, 88%) を得た。
【０２１３】〔実施例−２〕
【０２１４】（ｃ工程）
【０２１５】
【化１０５】
【０２１６】フェニルスルフィド(XVIII-2)(510mg, 1.3
2mmol)のTHF(3ml)溶液に-78 ℃撹拌下 tBuLi(1.1M ペン
タン溶液, 1.4ml, 1.54mmol)を滴下した。７分後化合物
(IXa)(300mg, 1.95mmol)のTHF(3ml)溶液を滴下し、同温
下１時間撹拌した。同温下水を加えたのち室温まで昇温
した。ジエチルエーテルを用いて希釈したのち水で洗
浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル 60g) に付し、ジ
エチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:8, V/V)溶出部により
無色油状の化合物(VIIIa-2)(29.5mg, 0.55mmol, 41%)を
得た。
2mmol)のTHF(3ml)溶液に-78 ℃撹拌下 tBuLi(1.1M ペン
タン溶液, 1.4ml, 1.54mmol)を滴下した。７分後化合物
(IXa)(300mg, 1.95mmol)のTHF(3ml)溶液を滴下し、同温
下１時間撹拌した。同温下水を加えたのち室温まで昇温
した。ジエチルエーテルを用いて希釈したのち水で洗
浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル 60g) に付し、ジ
エチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:8, V/V)溶出部により
無色油状の化合物(VIIIa-2)(29.5mg, 0.55mmol, 41%)を
得た。
【０２１７】IR νmax (film) cm-1 : 3450(-OH), 217
2.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.09(s,9H), 1.00-3.00(m, 10H, 1H
exchangeable with D2O), 3.30-6.63(m, 1H), 4.43-4.
72(m,1H), 6.10-7.70(m, 12H, aromatic), 7.80-8.02
(m, 1H, aromatic). MS m/e : 539(M+), 466, 430,412, 290, 274, 73(100
%). High-resolution MS m/e Calcd for C33H34NOSFSi; 53
9.2115, Found; 539.2101.
2.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.09(s,9H), 1.00-3.00(m, 10H, 1H
exchangeable with D2O), 3.30-6.63(m, 1H), 4.43-4.
72(m,1H), 6.10-7.70(m, 12H, aromatic), 7.80-8.02
(m, 1H, aromatic). MS m/e : 539(M+), 466, 430,412, 290, 274, 73(100
%). High-resolution MS m/e Calcd for C33H34NOSFSi; 53
9.2115, Found; 539.2101.
【０２１８】（ｄ工程）
【０２１９】
【化１０６】
【０２２０】化合物(VIIIa-2)(172mg, 0.32mmol)のメタ
ノール(10ml)溶液に氷冷撹拌下、K2CO3(66mg, 0.48mmo
l) を加え、室温に昇温後、９時間撹拌した。減圧下溶
媒留去し、ジエチルエーテルを用いて希釈したのち水で
洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物を
カラムクロマトグラフィー (シリカゲル60g)に付し、酢
酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:4, V/V)溶出部により無色油
状の化合物(VIIa-2)(140mg, 0.30mmol, 94%)を得た。
ノール(10ml)溶液に氷冷撹拌下、K2CO3(66mg, 0.48mmo
l) を加え、室温に昇温後、９時間撹拌した。減圧下溶
媒留去し、ジエチルエーテルを用いて希釈したのち水で
洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物を
カラムクロマトグラフィー (シリカゲル60g)に付し、酢
酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:4, V/V)溶出部により無色油
状の化合物(VIIa-2)(140mg, 0.30mmol, 94%)を得た。
【０２２１】IR νmax (film) cm-1 : 3458(-OH), 330
2, 2248.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.00-1.36(m, 4H), 1.62-3.07(m, 7
H, 1H exchangeable with D2O), 3.33-3.73(m, 0.5H),
3.83-4.26(m, 0.5H), 4.46-4.80(m, 1H), 6.10-7.70(m,
12H, aromatic), 7.94(d, 1H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 467(M+), 358, 314(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C30H26NOSF; 467.1
719, Found; 467.1711.
2, 2248.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.00-1.36(m, 4H), 1.62-3.07(m, 7
H, 1H exchangeable with D2O), 3.33-3.73(m, 0.5H),
3.83-4.26(m, 0.5H), 4.46-4.80(m, 1H), 6.10-7.70(m,
12H, aromatic), 7.94(d, 1H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 467(M+), 358, 314(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C30H26NOSF; 467.1
719, Found; 467.1711.
【０２２２】（ｅ工程）
【０２２３】
【化１０７】
【０２２４】化合物(VIIa-2)(1.0g, 2.14mmol)のメタノ
ール(70ml)溶液にNaOAc(354mg, 4.27mmol) 、PdCl2(37.
9mg 0.21mmol)、CuCl2(575mg, 4.27mmol)を順次加え、C
Oガス気液下で3.0 時間撹拌した。ジエチルエーテルを
用いて希釈したのちNaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー (シリカゲル80g)に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サン(1:4, V/V)溶出部より無色油状の化合物(VIa-2)(75
0mg, 1.43mmol, 67%) を得た。
ール(70ml)溶液にNaOAc(354mg, 4.27mmol) 、PdCl2(37.
9mg 0.21mmol)、CuCl2(575mg, 4.27mmol)を順次加え、C
Oガス気液下で3.0 時間撹拌した。ジエチルエーテルを
用いて希釈したのちNaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥
後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマトグラ
フィー (シリカゲル80g)に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サン(1:4, V/V)溶出部より無色油状の化合物(VIa-2)(75
0mg, 1.43mmol, 67%) を得た。
【０２２５】IR νmax (film) cm-1 : 3462(-OH), 223
8, 1712.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.00-1.40(m, 4H), 1.66-3.06(m, 6
H, 1H exchangeable with D2O), 3.43-3.90(m, 3.5H),
3.90-4.28(m, 0.5H), 4.43-4.80(m, 1H), 6.10-7.70(m,
12H, aromatic), 7.80-8.03(d, 1H, J=8.3Hz, aromati
c). MS m/e : 525(M+), 416(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C32H28NO3SF; 525.
1774, Found; 525.1741.
8, 1712.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.00-1.40(m, 4H), 1.66-3.06(m, 6
H, 1H exchangeable with D2O), 3.43-3.90(m, 3.5H),
3.90-4.28(m, 0.5H), 4.43-4.80(m, 1H), 6.10-7.70(m,
12H, aromatic), 7.80-8.03(d, 1H, J=8.3Hz, aromati
c). MS m/e : 525(M+), 416(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C32H28NO3SF; 525.
1774, Found; 525.1741.
【０２２６】（ｆ，ｇ工程）
【０２２７】
【化１０８】
【０２２８】化合物(VIa-2)(750mg, 1.43mmol)のメタノ
ール(50ml)溶液にLindlar 触媒(52.5mg, 7% W/W)を加
え、水素気流下25時間撹拌した。セライトろ過後、減圧
下溶媒留去し、残留物を得た。残留物のトルエン(15ml)
溶液にPPTS(34.5mg, 0.14mmol)を加え、1.5 時間加熱還
流した。冷後、ジエチルエーテルを用いて希釈したのち
NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
60g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:2, V/
V)溶出部より無色油状の化合物(IVa-2)(650mg, 1.31mmo
l, 92%) を得た。
ール(50ml)溶液にLindlar 触媒(52.5mg, 7% W/W)を加
え、水素気流下25時間撹拌した。セライトろ過後、減圧
下溶媒留去し、残留物を得た。残留物のトルエン(15ml)
溶液にPPTS(34.5mg, 0.14mmol)を加え、1.5 時間加熱還
流した。冷後、ジエチルエーテルを用いて希釈したのち
NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
60g)に付し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン(1:2, V/
V)溶出部より無色油状の化合物(IVa-2)(650mg, 1.31mmo
l, 92%) を得た。
【０２２９】IR νmax (film) cm-1 : 1728.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.80-1.38(m, 4H), 1.66-3.10(m, 5
H), 3.92-4.32(m, 0.5H), 4.41-4.83(m, 1.5H), 5.60-
6.08(m, 1H), 6.16-7.73(m, 13H, 12H, aromatic), 7.8
7(d, 1H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 495(M+), 386, 274. High-resolution MS m/e Calcd for C31H26NO2SF; 495.
1669, Found; 495.1665.
H), 3.92-4.32(m, 0.5H), 4.41-4.83(m, 1.5H), 5.60-
6.08(m, 1H), 6.16-7.73(m, 13H, 12H, aromatic), 7.8
7(d, 1H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 495(M+), 386, 274. High-resolution MS m/e Calcd for C31H26NO2SF; 495.
1669, Found; 495.1665.
【０２３０】（ｈ工程）
【０２３１】
【化１０９】
【０２３２】フェニルスルフィド(IVa-2) (6.50mg, 1.3
1mmol)のCH2Cl2(25ml)溶液に-78℃撹拌下、70%mCPBA(35
8mg, 1.25mmol) を加えた。同温下で１時間撹拌後-40
℃に昇温してさらに30分間撹拌した。同温下硫化メチル
を加え15分間撹拌した。CH2Cl2を用いて希釈したのち、
NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
70g)に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(2:1, V/V)溶出
部より無色油状の化合物(IIIa-2)(630mg, 1.26mmol, 96
%)を得た。
1mmol)のCH2Cl2(25ml)溶液に-78℃撹拌下、70%mCPBA(35
8mg, 1.25mmol) を加えた。同温下で１時間撹拌後-40
℃に昇温してさらに30分間撹拌した。同温下硫化メチル
を加え15分間撹拌した。CH2Cl2を用いて希釈したのち、
NaHCO3水溶液で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
70g)に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(2:1, V/V)溶出
部より無色油状の化合物(IIIa-2)(630mg, 1.26mmol, 96
%)を得た。
【０２３３】IR νmax (film) cm-1 : 1722.1 H-NMR(CDCl3)δ : 0.70-3.03(m, 9H), 3.90-4.31(m,
0.5H), 4.33-4.83(m, 1.5H), 5.73-6.03(m, 1H), 6.03-
6.71(m, 13H, 12H, aromatic),7.35(d, 1H, aromatic). MS m/e : 385(M+-HSOPh), 126. High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO2F; 385.1
478, Found; 385.1495.
0.5H), 4.33-4.83(m, 1.5H), 5.73-6.03(m, 1H), 6.03-
6.71(m, 13H, 12H, aromatic),7.35(d, 1H, aromatic). MS m/e : 385(M+-HSOPh), 126. High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO2F; 385.1
478, Found; 385.1495.
【０２３４】（ｉ工程）
【０２３５】
【化１１０】
【０２３６】化合物(IIIa-2)(97mg, 0.19mmol)のトルエ
ン(4ml)溶液にCaCO3(42mg, 0.42mmol) を加え、30分間
加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈しセ
ライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムク
ロマトグラフィー (シリカゲル12g)に付し、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサン(1:1,V/V)溶出部より無色結晶の不飽和
ラクトン(IIa-2)(73mg, 0.19mmol, 100%) を得た。
ン(4ml)溶液にCaCO3(42mg, 0.42mmol) を加え、30分間
加熱還流した。冷後ジエチルエーテルを用いて希釈しセ
ライトろ過後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムク
ロマトグラフィー (シリカゲル12g)に付し、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサン(1:1,V/V)溶出部より無色結晶の不飽和
ラクトン(IIa-2)(73mg, 0.19mmol, 100%) を得た。
【０２３７】[α]D 29 -57.84°(c=1.49, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 1724.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.01-1.07(m, 2H), 1.31-1.37(m, 2
H), 2.10-2.28(m, 2H),2.35-2.41(m, 1H), 4.90-4.95
(m, 1H), 5.70(dd, 1H, J=16.0Hz, 6.1Hz), 6.02(ddd,
1H, J=9.8Hz, 2.4Hz, 1.2Hz), 6.74(dd, 1H, J=16.0Hz,
1.2Hz), 6.81(ddd, 1H, J=9.8Hz, 5.5Hz, 3.1Hz), 7.1
7-7.36(m, 6H, aromatic), 7.59-7.63(m, 1H, aromati
c), 7.96(d, 1H, J=7.9Hz, aromatic). MS m/e : 385(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO2F; 385.1
478, Found; 385.1490.mp 168-168.5℃( ベンゼン−ｎ
−ヘキサンから再結晶)
H), 2.10-2.28(m, 2H),2.35-2.41(m, 1H), 4.90-4.95
(m, 1H), 5.70(dd, 1H, J=16.0Hz, 6.1Hz), 6.02(ddd,
1H, J=9.8Hz, 2.4Hz, 1.2Hz), 6.74(dd, 1H, J=16.0Hz,
1.2Hz), 6.81(ddd, 1H, J=9.8Hz, 5.5Hz, 3.1Hz), 7.1
7-7.36(m, 6H, aromatic), 7.59-7.63(m, 1H, aromati
c), 7.96(d, 1H, J=7.9Hz, aromatic). MS m/e : 385(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO2F; 385.1
478, Found; 385.1490.mp 168-168.5℃( ベンゼン−ｎ
−ヘキサンから再結晶)
【０２３８】（ｊ工程）
【０２３９】
【化１１１】
【０２４０】不飽和ラクトン体(IIa-2)(61.1mg, 0.16mm
ol)のメタノール−塩化メチレン(4:1, 5ml)溶液に氷冷
撹拌下、30%H2O2(0.05ml, 0.44mmol) 、4N NaOH(0.02m
l, 0.08mmol) を順次滴下した。40分後ジエチルエーテ
ルを用いて希釈して水で洗浄、MgSO4 で乾燥後減圧下溶
媒留去した。次いで抽出に用いた水層を濃塩酸を用いて
酸性にしたのち塩化メチレンを用いて希釈、水で洗浄、
MgSO4 で乾燥後減圧下溶媒留去した。全ての残留物のト
ルエン(5ml) 溶液にPPTS(4mg, 0.016mmol)を加え、30分
間加熱還流した。冷後、ジエチルエーテルを用いて希釈
したのち、水で洗浄、MgSO4 で乾燥後減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル20
g) に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:3, V/V)溶出
部より無色結晶の化合物(Ia-2)(52mg, 0.13mmol, 81%)
を得た。 [α]D 28 43.15°(c=1.13, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 1744.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.03-1.07(m, 2H), 1.31-1.39(m, 2
H), 1.77(dd, 1H, J=15.3Hz, 12.0Hz), 2.15(ddd, J=1
5.3Hz, 3.1Hz, 3.1Hz), 2.34-2.36(m, 1H), 3.59(d, 1
H, J=4.5Hz), 3.65(dd, 1H, J=4.5Hz, 3.1Hz), 4.96(dd
d, 1H, J=12.0Hz,7.3Hz, 3.1Hz), 5.55(dd, 1H, J=16.5
Hz, 7.3Hz), 6.70(d, 1H, J=16.5Hz), 7.17-7.35(m, 6
H, aromatic), 7.59-7.63(m, 1H, aromatic), 7.96(d,
1H, J=7.9Hz, aromatic). MS m/e : 401(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO3F; 401.1
427, Found; 401.1454.mp 170-171℃( ベンゼン−ｎ−
ヘキサンから再結晶)
ol)のメタノール−塩化メチレン(4:1, 5ml)溶液に氷冷
撹拌下、30%H2O2(0.05ml, 0.44mmol) 、4N NaOH(0.02m
l, 0.08mmol) を順次滴下した。40分後ジエチルエーテ
ルを用いて希釈して水で洗浄、MgSO4 で乾燥後減圧下溶
媒留去した。次いで抽出に用いた水層を濃塩酸を用いて
酸性にしたのち塩化メチレンを用いて希釈、水で洗浄、
MgSO4 で乾燥後減圧下溶媒留去した。全ての残留物のト
ルエン(5ml) 溶液にPPTS(4mg, 0.016mmol)を加え、30分
間加熱還流した。冷後、ジエチルエーテルを用いて希釈
したのち、水で洗浄、MgSO4 で乾燥後減圧下溶媒留去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル20
g) に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:3, V/V)溶出
部より無色結晶の化合物(Ia-2)(52mg, 0.13mmol, 81%)
を得た。 [α]D 28 43.15°(c=1.13, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 1744.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.03-1.07(m, 2H), 1.31-1.39(m, 2
H), 1.77(dd, 1H, J=15.3Hz, 12.0Hz), 2.15(ddd, J=1
5.3Hz, 3.1Hz, 3.1Hz), 2.34-2.36(m, 1H), 3.59(d, 1
H, J=4.5Hz), 3.65(dd, 1H, J=4.5Hz, 3.1Hz), 4.96(dd
d, 1H, J=12.0Hz,7.3Hz, 3.1Hz), 5.55(dd, 1H, J=16.5
Hz, 7.3Hz), 6.70(d, 1H, J=16.5Hz), 7.17-7.35(m, 6
H, aromatic), 7.59-7.63(m, 1H, aromatic), 7.96(d,
1H, J=7.9Hz, aromatic). MS m/e : 401(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H20NO3F; 401.1
427, Found; 401.1454.mp 170-171℃( ベンゼン−ｎ−
ヘキサンから再結晶)
【０２４１】（ｒ工程）
【０２４２】
【化１１２】
【０２４３】(PhSe)2(18mg, 0.06mmol) のTHF(1ml)溶液
に氷冷撹拌下、NaBH4(7.6mg, 0.2mmol) を加えた。直ち
に40℃に昇温後10分間撹拌した。再び氷冷撹拌下酢酸
(1.4μl)を滴下し、次いで化合物(Ia-2)(20mg, 0.05mmo
l)のTHF(4ml)溶液を滴下し、同温下20分間撹拌した。ジ
エチルエーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー (シリカゲル12g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(4:1, V/V)溶出部より無色結晶の化合
物(XIXa-2)(13.6mg, 0.03mmol, 67%) を得た。
に氷冷撹拌下、NaBH4(7.6mg, 0.2mmol) を加えた。直ち
に40℃に昇温後10分間撹拌した。再び氷冷撹拌下酢酸
(1.4μl)を滴下し、次いで化合物(Ia-2)(20mg, 0.05mmo
l)のTHF(4ml)溶液を滴下し、同温下20分間撹拌した。ジ
エチルエーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマ
トグラフィー (シリカゲル12g)に付し、ジエチルエーテ
ル−ｎ−ヘキサン(4:1, V/V)溶出部より無色結晶の化合
物(XIXa-2)(13.6mg, 0.03mmol, 67%) を得た。
【０２４４】[α]D 32 8.84°(c=0.92, CHCl3). IR νmax (film) cm-1 : 3386(-OH), 1718.1 H-NMR(CDCl3)δ : 1.00-1.08(m, 2H), 1.30-1.41(m, 2
H), 1.56-1.61(m, 1H),1.75-1.79(m, 1H), 1.93(bs, 1
H, exchangeable with D2O), 2.36-2.39(m, 1H), 2.60
(ddd, 1H, J=17.7Hz, 4.5Hz, 3.4Hz), 2.70(dd, 1H, J=
17.7Hz, 4.5Hz),4.24-4.25(m, 1H), 5.15-5.19(m, 1H),
5.62(dd, 1H, J=16.5Hz, 6.7Hz), 6.72(d, 1H, J=16.5
Hz), 7.17-7.35(m, 6H, aromatic), 7.59-7.64(m, 1H,
aromatic), 7.96(d, 1H, J=7.9Hz). MS m/e : 403(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H22NO3F; 403.1
584, Found; 403.1597.mp 138-139℃( ベンゼン−ｎ−
ヘキサンから再結晶)
H), 1.56-1.61(m, 1H),1.75-1.79(m, 1H), 1.93(bs, 1
H, exchangeable with D2O), 2.36-2.39(m, 1H), 2.60
(ddd, 1H, J=17.7Hz, 4.5Hz, 3.4Hz), 2.70(dd, 1H, J=
17.7Hz, 4.5Hz),4.24-4.25(m, 1H), 5.15-5.19(m, 1H),
5.62(dd, 1H, J=16.5Hz, 6.7Hz), 6.72(d, 1H, J=16.5
Hz), 7.17-7.35(m, 6H, aromatic), 7.59-7.64(m, 1H,
aromatic), 7.96(d, 1H, J=7.9Hz). MS m/e : 403(M+), 288(100%). High-resolution MS m/e Calcd for C25H22NO3F; 403.1
584, Found; 403.1597.mp 138-139℃( ベンゼン−ｎ−
ヘキサンから再結晶)
【０２４５】（ｓ，ｔ工程）
【０２４６】
【化１１３】
【０２４７】フェニルスルフィド(XVIII-2)(511mg, 1.3
2mmol)のTHF(35ml) 溶液に-78 ℃撹拌下 tBuLi(1.57Mペ
ンタン溶液, 1.00ml, 1.58mmol) を滴下した。１時間後
(R)-エピクロルヒドリン(0.155ml, 1.98mmol) を滴下し
たのち同温下出20分間撹拌した。同温下で水を加えたの
ち室温まで昇温した。ジエチルエーテルを用いて希釈し
たのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去し
た。残留物のTHF(12ml)溶液に氷冷撹拌下KOH(72mg, 1.2
8mmol) を加え、室温に昇温後3.5 時間撹拌した。ジエ
チルエーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で
乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマト
グラフィー (シリカゲル 60g) に付し、酢酸エチル−ｎ
−ヘキサン(1:8, V/V)溶出部より無色油状の化合物(XXI
a-2)(231mg, 0.52mmol, 49%)を得た。
2mmol)のTHF(35ml) 溶液に-78 ℃撹拌下 tBuLi(1.57Mペ
ンタン溶液, 1.00ml, 1.58mmol) を滴下した。１時間後
(R)-エピクロルヒドリン(0.155ml, 1.98mmol) を滴下し
たのち同温下出20分間撹拌した。同温下で水を加えたの
ち室温まで昇温した。ジエチルエーテルを用いて希釈し
たのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去し
た。残留物のTHF(12ml)溶液に氷冷撹拌下KOH(72mg, 1.2
8mmol) を加え、室温に昇温後3.5 時間撹拌した。ジエ
チルエーテルを用いて希釈したのち水で洗浄、MgSO4 で
乾燥後、減圧下溶媒留去した。残留物をカラムクロマト
グラフィー (シリカゲル 60g) に付し、酢酸エチル−ｎ
−ヘキサン(1:8, V/V)溶出部より無色油状の化合物(XXI
a-2)(231mg, 0.52mmol, 49%)を得た。
【０２４８】1H-NMR(CDCl3)δ : 1.02-1.32(m, 4H), 1.
62-3.28(m, 6H), 4.49-4.78(m, 1H),6.29-6.58(m, 1H,
aromatic), 6.79-7.70(m, 11H, aromatic), 7.93(d, 1
H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 441(M+), 332, 288(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C28H24NOFS; 441.1
563, Found; 441.1575.
62-3.28(m, 6H), 4.49-4.78(m, 1H),6.29-6.58(m, 1H,
aromatic), 6.79-7.70(m, 11H, aromatic), 7.93(d, 1
H, J=8.3Hz, aromatic). MS m/e : 441(M+), 332, 288(100%), 274. High-resolution MS m/e Calcd for C28H24NOFS; 441.1
563, Found; 441.1575.
【０２４９】（ｕ工程）
【０２５０】
【化１１４】
【０２５１】エポキシド(XXIa-2)(85mg, 0.19mmol)のDM
SO(15ml)溶液に氷冷撹拌下リチウムアセチリドエチレン
ジアミンコンプレックス(77mg, 0.84mmol)を加えた。直
ちに室温に昇温して30分間撹拌した。再び氷冷撹拌下ジ
エチルエーテルを用いて希釈したのちNH4Cl 水溶液を加
え室温まで昇温した。再びジエチルエーテルを用いて希
釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
12g) に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:6, V/V)溶
出部より無色油状の化合物(VIIa-2)(88mg, 0.19mmol, 1
00%)を得た。
SO(15ml)溶液に氷冷撹拌下リチウムアセチリドエチレン
ジアミンコンプレックス(77mg, 0.84mmol)を加えた。直
ちに室温に昇温して30分間撹拌した。再び氷冷撹拌下ジ
エチルエーテルを用いて希釈したのちNH4Cl 水溶液を加
え室温まで昇温した。再びジエチルエーテルを用いて希
釈したのち水で洗浄、MgSO4 で乾燥後、減圧下溶媒留去
した。残留物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル
12g) に付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン(1:6, V/V)溶
出部より無色油状の化合物(VIIa-2)(88mg, 0.19mmol, 1
00%)を得た。
【０２５２】
【発明の効果】本発明化合物は、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵
素阻害剤の合成中間体として有用であり、又、ＨＭＧ−
ＣｏＡ還元酵素阻害剤の効率的な製造が可能となった。
素阻害剤の合成中間体として有用であり、又、ＨＭＧ−
ＣｏＡ還元酵素阻害剤の効率的な製造が可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 405/14 8829−4Ｃ 471/04 １０６ Ｃ 8829−4Ｃ 495/04 １０５ Ａ 9165−4Ｃ 519/00 8415−4Ｃ ３０１ 8415−4Ｃ //(Ｃ０７Ｄ 405/14 215:00 309:00 317:00） (Ｃ０７Ｄ 519/00 471:00 493:00） (Ｃ０７Ｄ 519/00 493:00 495:00）
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式(I) 【化１】 ｛式中、Rα、Rβは一緒になって結合を表すか又は酸素
原子を表す。Arは 【化２】 〔R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7
シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-(R20、R21
はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意味す
る。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリ
メチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アルキル
を意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味する
か；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒になっ
て-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化３】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化４】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味する。〕を意味する
か、 【化５】 〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R4a、R5a及びR6aは
それぞれ独立に水素、C1-C6アルキル、C3-C7シクロアル
キル、C1-C8アルコキシ、R26R27N-(R26、R27はそれぞれ
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメト
キシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェニル、フェノキ
シ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメチルシリルオ
キシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキシ、ジフェニル
-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシメチルまたは-O
(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを意味し、m
は１、２または３を意味する。)を意味するか；R4aとR
5aが一緒になって-CH=CH-CH=CH-を意味するか； お互いにオルソ位にある場合のR4aとR5aが一緒になって
-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素またはC1-C3ア
ルキルを意味する。)を意味する。〕を意味するか、 【化６】 〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R4bは、水素原子、C
1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C3-C7シクロアルキ
ル、C2-C6アルケニル、αもしくはβ−ナフチル、２，
３ もしくは４−ピリジル、２もしくは３−チエニル、
２もしくは３−フリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、 【化７】 (R6b、R7b、R8bはそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルキルチオ、クロロ、ブ
ロモ、フルオロ、-NR31R32(R31、R32はそれぞれ独立にC
1-C3アルキルを意味する。) 、クロロメチル、トリクロ
ロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキシ、フェノ
キシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメチルシリル
オキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキシ、ジフェニ
ル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシメチルまたは
-O(CH2)nOR33(R33は水素またはC1-C3アルキルを意味
し、ｎは１、２又は３を意味する。)を意味し、 R8bが水素の時、お互いにオルソ位にある場合のR6b、R
7b、が一緒になって-OC(R34)(R35)O-(R34、R35は独立に
水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味すること
もあり、 R7b、R8bが共に水素の時、R6bは 【化８】 (R36は水素、C1-C4アルキル、C1-C3アルコキシ、トリフ
ルオロメチル、クロロ、ブロモまたはフルオロであ
る。)を意味するか、フェニル基がC1-C4アルキル、C1-C
3アルコキシ、弗素、塩素もしくは臭素によって置換さ
れていてもよいフェニル-C2-C3アルケニルを意味する
か、またはC1-C3アルコキシ、ナフチルもしくは 【化９】 から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの０、１もしくは
２ヶによって置換されたC 1-C3アルキルを意味する；R5b
は、ピラゾロピリジン環の１位または２位の窒素原子と
結合しており、この55bは水素、C1-C8アルキル、１ない
し３ヶの弗素原子によって置換されたC1-C 3アルキル、C
3-C7シクロアルキル、αもしくはβ−ナフチル、2,3 も
しくは4-ピリジル、２もしくは３−チエニル、２もしく
は３−フリルまたは 【化１０】 を意味するか；またはC1-C3アルコキシ、ヒドロキシ、
ナフチルもしくは 【化１１】 から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの０、１もしくは
２ヶによって置換されたC 1-C3アルキルを意味する。〕
を意味するか、 【化１２】 〔式中、R1、R2、R3は前記に同じ。R4c、R5cはそれぞれ
独立に水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7
シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、フルオロ、クロ
ロ、ブロモ、 【化１３】 (R6c、R7c、R8cはそれぞれ独立に水素、C1-C4アルキ
ル、C1-C3アルコキシ、C3-C7シクロアルキル、トリフル
オロメチル、フルオロ、クロロ及びブロモを意味す
る。)、２，３若しくは４−ピリジル、２若しくは５−
ピリミジル、２若しくは３−チエニル、２若しくは３−
フリル、 【化１４】 、-NR37R38(R37、R38はそれぞれ独立に水素、C1-C4アル
キル、 【化１５】 (ｊは１、２又は３を意味する。)若しくは R37、R38が
一緒になって-(CH2)k-(ｋは３、４又は５を意味す
る。))を意味するか； 【化１６】 及びC1-C8アルキルの０、１若しくは２ケによって置換
されたC1-C3アルキル又はα若しくはβナフチルを意味
するか；R4cとR5cが一緒になってC1-C4アルキル、C3-C7
シクロアルキル、フルオロ、クロロ又はブロモの０から
３ケ、及び 【化１７】 の０から１ケで置換されたC2-C6アルキレンを意味する
か；-(CHR39)p-A-(CHR40)q-(ｐ、ｑはそれぞれ０、１、
２又は３を意味し、Ａは-C(R 41)=C(R42)-(R41、R42は水
素又はC1-C3アルキルを意味する。)、−Ｏ−、−Ｓ−又
は-N(R43)-(R43は水素、C1-C4アルキル、 【化１８】 )を意味し、R39、R40はそれぞれ独立に水素またはC1-C4
アルキルを意味する。)又は-CH=CH-CH=CH-を意味す
る。〕を意味するか、 【化１９】 〔R1、R2、R3は前記に同じ。R4、R5はそれぞれ独立に水
素、C1-C8アルキル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アル
コキシ、C1-C3アルコキシメチル、R26R27N-(R26、R27
はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキルを意味す
る。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリ
メチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチル、C1-C3アルコキシメチルまたは-O(CH2)mOR28(R
28は水素またはC1-C3アルキルを意味し、mは１、２また
は３を意味する。)を意味するか；R4とR5が一緒になっ
て-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立に水素またはC1-C3
アルキルを意味する。)を意味する。〕を意味するか、 【化２０】 〔R1、R2、R3、R4、R5は前記に同じ。〕を意味するか、 【化２１】 〔R1、R2、R4、R5は前記に同じ。〕を表す。｝で表され
る光学活性なメバロノラクトン化合物。 - 【請求項２】 Arが 【化２２】 〔R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7
シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-(R20、R21
はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意味す
る。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリ
メチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキ
シ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシ
メチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アルキル
を意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味する
か；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒になっ
て-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、R3は
水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シクロ
アルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化２３】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化２４】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味する。〕である請求
項１記載の化合物。 - 【請求項３】 Arが 【化２５】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化２６】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化２７】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味し、 R4a、R5a及びR6aはそれぞれ独立に水素、C1-C6アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R26R27N-
(R26、R27はそれぞれ独立に水素またはC1-C3アルキルを
意味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロ
モ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキ
シ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシ
リルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒ
ドロキシメチルまたは-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1
-C3アルキルを意味し、mは１、２または３を意味す
る。)を意味するか；R4aとR5aが一緒になって-CH=CH-CH
=CH-を意味するか；お互いにオルソ位にある場合のR4a
とR5aが一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は独立
に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
る。〕である請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】 Arが 【化２８】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化２９】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化３０】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味し、 R4bは、水素原子、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C
3-C7シクロアルキル、C2-C6アルケニル、αもしくはβ
−ナフチル、2,3 もしくは4-ピリジル、２もしくは３−
チエニル、２もしくは３−フリル、フルオロ、クロロ、
ブロモ、 【化３１】 (R6b、R7b、R8bはそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルキルチオ、クロロ、ブ
ロモ、フルオロ、-NR31R32(R31、R32はそれぞれ独立にC
1-C3アルキルを意味する。) 、クロロメチル、トリクロ
ロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキシ、フェノ
キシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメチルシリル
オキシ、ジメチル-tert-ブチルシリルオキシ、ジフェニ
ル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロキシメチルまたは
-O(CH2)nOR33(R33は水素またはC1-C3アルキルを意味
し、ｎは１、２又は３を意味する。)を意味し、 R8bが水素の時、お互いにオルソ位にある場合のR6b、R
7b、が一緒になって-OC(R34)(R35)O-(R34、R35は独立に
水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味すること
もあり、 R7b、R8bが共に水素の時、R6bは 【化３２】 (R36は水素、C1-C4アルキル、C1-C3アルコキシ、トリフ
ルオロメチル、クロロ、ブロモまたはフルオロであ
る。)を意味するか、フェニル基がC1-C4アルキル、C1-C
3アルコキシ、弗素、塩素もしくは臭素によって置換さ
れていてもよいフェニル-C2-C3アルケニルを意味する
か、またはC1-C3アルコキシ、ナフチルもしくは 【化３３】 から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの０、１もしくは
２ヶによって置換されたC 1-C3アルキルを意味する；R5b
は、ピラゾロピリジン環の１位または２位の窒素原子と
結合しており、この55bは水素、C1-C8アルキル、１ない
し３ヶの弗素原子によって置換されたC1-C 3アルキル、C
3-C7シクロアルキル、αもしくはβ−ナフチル、2,3 も
しくは4-ピリジル、２もしくは３−チエニル、２もしく
は３−フリルまたは 【化３４】 を意味するか；またはC1-C3アルコキシ、ヒドロキシ、
ナフチルもしくは 【化３５】 から選ばれた１ヶ及びC1-C8アルキルの０、１もしくは
２ヶによって置換されたC 1-C3アルキルを意味する。〕
である請求項１記載の化合物。 - 【請求項５】 Arが 【化３６】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化３７】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化３８】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味し、R4c、R5cはそれ
ぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3
-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、フルオロ、クロ
ロ、ブロモ、 【化３９】 (R6c、R7c、R8cはそれぞれ独立に水素、C1-C4アルキ
ル、C1-C3アルコキシ、C3-C7シクロアルキル、トリフル
オロメチル、フルオロ、クロロ及びブロモを意味す
る。)、２，３若しくは４−ピリジル、２若しくは５−
ピリミジル、２若しくは３−チエニル、２若しくは３−
フリル、 【化４０】 、-NR37R38(R37、R38はそれぞれ独立に水素、C1-C4アル
キル、 【化４１】 (ｊは１、２又は３を意味する。)若しくは R37、R38が
一緒になって-(CH2)k-(ｋは３、４又は５を意味す
る。))を意味するか； 【化４２】 及びＣ1-8アルキルの０、１若しくは２ケによって置換
されたＣ1-3アルキル又はα若しくはβナフチルを意味
するか；Ｒ4cとＲ5cが一緒になってＣ1-4アルキル、Ｃ
3-7シクロアルキル、フルオロ、クロロ又はブロモの０
から３ケ、及び 【化４３】 の０から１ケで置換されたＣ2-6アルキレンを意味する
か；-(CHR39)p-A-(CHR40)q-(ｐ、ｑはそれぞれ０、１、
２又は３を意味し、Ａは-C(R41)=C(R42)-(R41、R42は水
素又はC1-C3アルキルを意味する。)、−Ｏ−、−Ｓ−又
は -N(R43)-(R43は水素、C1-C4アルキル、 【化４４】 )を意味し、R39、R40はそれぞれ独立に水素またはC1-C4
アルキルを意味する。)又は-CH=CH-CH=CH-を意味す
る。〕である請求項１記載の化合物。 - 【請求項６】 Arが 【化４５】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化４６】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化４７】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味し、 R4、R5はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7シ
クロアルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルコキシメチ
ル、R26R27N-(R26、R27 はそれぞれ独立に水素またはC1
-C3アルキルを意味する。)、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、ク
ロロ、ブロモ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキ
シ、ヒドロキシ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-t
ert-ブチルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリ
ルオキシ、ヒドロキシメチル、C1-C3アルコキシメチル
または-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを
意味し、mは１、２または３を意味する。)を意味する
か；R4とR5が一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
る。〕である請求項１記載の化合物。 - 【請求項７】 Arが 【化４８】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R3は水素、C1-C8アルキル、C2-C6アルケニル、C3-C7シ
クロアルキル、C5-C7シクロアルケニル又は 【化４９】 (R9は水素、C1-C8アルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3ア
ルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、クロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメトキシ、ジフルオロメトキ
シ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、トリメ
チルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキ
シ、又はヒドロキシメチルを意味する。)を意味する
か； 【化５０】 の１ケ及びC1-C3アルキルの０、１若しくは２ケによっ
て置換されたC1-C3アルキルを意味し、 R4、R5はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7シ
クロアルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルコキシメチ
ル、R26R27N-(R26、R27 はそれぞれ独立に水素またはC1
-C3アルキルを意味する。)、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、ク
ロロ、ブロモ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキ
シ、ヒドロキシ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-t
ert-ブチルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリ
ルオキシ、ヒドロキシメチル、C1-C3アルコキシメチル
または-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを
意味し、mは１、２または３を意味する。)を意味する
か；R4とR5が一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
る。〕である請求項１記載の化合物。 - 【請求項８】 Arが 【化５１】 〔式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキ
ル、C3-C7シクロアルキル、C1-C8アルコキシ、R20R21N-
(R20、R21はそれぞれ独立に水素又はC1-C3アルキルを意
味する。)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、
フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、
トリメチルシリルオキシ、ジメチル-tert-ブチルシリル
オキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリルオキシ、ヒドロ
キシメチル又は-O(CH2)lOR22(R22は水素又はC1-C3アル
キルを意味し、l は１、２又は３を意味する。)を意味
するか；お互いにオルソ位にある場合のR1とR2が一緒に
なって-CH=CH-CH=CH-又はメチレンジオキシを意味し、 R4、R5はそれぞれ独立に水素、C1-C8アルキル、C3-C7シ
クロアルキル、C1-C8アルコキシ、C1-C3アルコキシメチ
ル、R26R27N-(R26、R27 はそれぞれ独立に水素またはC1
-C3アルキルを意味する。)、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、フルオロ、ク
ロロ、ブロモ、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキ
シ、ヒドロキシ、トリメチルシリルオキシ、ジメチル-t
ert-ブチルシリルオキシ、ジフェニル-tert-ブチルシリ
ルオキシ、ヒドロキシメチル、C1-C3アルコキシメチル
または-O(CH2)mOR28(R28は水素またはC1-C3アルキルを
意味し、mは１、２または３を意味する。)を意味する
か；R4とR5が一緒になって-OC(R29)(R30)O-(R29、R30は
独立に水素またはC1-C3アルキルを意味する。)を意味す
る。〕である請求項１記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21621092A JPH0641114A (ja) | 1992-05-25 | 1992-08-13 | 新規メバロノラクトン類とその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-132818 | 1992-05-25 | ||
| JP13281892 | 1992-05-25 | ||
| JP21621092A JPH0641114A (ja) | 1992-05-25 | 1992-08-13 | 新規メバロノラクトン類とその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0641114A true JPH0641114A (ja) | 1994-02-15 |
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ID=26467296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21621092A Pending JPH0641114A (ja) | 1992-05-25 | 1992-08-13 | 新規メバロノラクトン類とその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0641114A (ja) |
Cited By (8)
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| US8404841B2 (en) | 2006-10-09 | 2013-03-26 | Msn Laboratories Limited | Process for the preparation of statins and their pharmaceutically acceptable salts thereof |
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-
1992
- 1992-08-13 JP JP21621092A patent/JPH0641114A/ja active Pending
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