JPH064032B2 - 燃焼用ガスの製造法 - Google Patents
燃焼用ガスの製造法Info
- Publication number
- JPH064032B2 JPH064032B2 JP60048852A JP4885285A JPH064032B2 JP H064032 B2 JPH064032 B2 JP H064032B2 JP 60048852 A JP60048852 A JP 60048852A JP 4885285 A JP4885285 A JP 4885285A JP H064032 B2 JPH064032 B2 JP H064032B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- anaerobic
- aerobic
- large amount
- liquid
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E50/00—Technologies for the production of fuel of non-fossil origin
- Y02E50/30—Fuel from waste, e.g. synthetic alcohol or diesel
Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
- Treatment Of Sludge (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は燃焼用ガスの製造法に関するものである。
更に詳しく述べれば、本発明は好気性菌体が大量に増殖
した液から大量の水素ガスとメタンガスを発生させる燃
焼用ガスの製造法に関するものである。
した液から大量の水素ガスとメタンガスを発生させる燃
焼用ガスの製造法に関するものである。
そして、本発明は廃水の処理に応用することができると
いう特徴を有する。また燃焼用ガスの製造過程でできる
菌体の沈殿物はそのまゝで資源として再活用できるとい
う特徴を有する。
いう特徴を有する。また燃焼用ガスの製造過程でできる
菌体の沈殿物はそのまゝで資源として再活用できるとい
う特徴を有する。
光合成細菌その他の微生物に水素ガスを発生する能力の
あることは公知の事実であり、この方面の基礎研究は余
りにも多い。しかし、これ迄基礎研究が多数にのぼつた
にも拘らず、その実用化に成功しなかつたのは、水素ガ
スの発生条件の設定が困難であり、また発生量も少な
く、とても経済的生産には結びつかなかつたことに原因
があつた。
あることは公知の事実であり、この方面の基礎研究は余
りにも多い。しかし、これ迄基礎研究が多数にのぼつた
にも拘らず、その実用化に成功しなかつたのは、水素ガ
スの発生条件の設定が困難であり、また発生量も少な
く、とても経済的生産には結びつかなかつたことに原因
があつた。
本発明者は上記原因を取り除くために、水素ガスの発生
条件の設定が容易であり、且つ水素ガスの発生量が大量
に得られるような水素ガスの製造法をいろいろと研究
し、以下に説明する本発明に到達した。
条件の設定が容易であり、且つ水素ガスの発生量が大量
に得られるような水素ガスの製造法をいろいろと研究
し、以下に説明する本発明に到達した。
本発明は次の３発明からなる。
(1)好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態
下におき、水素ガスを発生させることを特徴とする燃焼
用ガスの製造法。
下におき、水素ガスを発生させることを特徴とする燃焼
用ガスの製造法。
(2)好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態
下におき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌
を共存させることを特徴とする燃焼用ガスの製造法。
下におき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌
を共存させることを特徴とする燃焼用ガスの製造法。
(3)好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態
下におき、前記液に光合成細菌を共存させ、水素ガスを
発生させた後、さらに嫌気性状態下におき、メタンガス
を発生させることを特徴とする燃焼用ガスの製造法。
下におき、前記液に光合成細菌を共存させ、水素ガスを
発生させた後、さらに嫌気性状態下におき、メタンガス
を発生させることを特徴とする燃焼用ガスの製造法。
好気性菌体としてはバチルス メガテリウム、アゾトバ
クタービネランディー、サッカロミセスセレビシアエ、
アスペルギルス オリーゼ、カンディダユーテイリス、
ロドトリラ ルブラ シウドモナス エルギノサ、スト
レプトミセス グリセウス、大腸菌等でその種類は問題
でなく、上記の例記した好気性菌体は通常各種の廃水中
に含まれている。
クタービネランディー、サッカロミセスセレビシアエ、
アスペルギルス オリーゼ、カンディダユーテイリス、
ロドトリラ ルブラ シウドモナス エルギノサ、スト
レプトミセス グリセウス、大腸菌等でその種類は問題
でなく、上記の例記した好気性菌体は通常各種の廃水中
に含まれている。
好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態下に
おくと、好気性菌体が自己消化をする。すると液面から
ぶくぶく泡が出る。この泡の多くが水素ガスである。
おくと、好気性菌体が自己消化をする。すると液面から
ぶくぶく泡が出る。この泡の多くが水素ガスである。
好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態下に
おくと、大量の水素ガスが発生するという知見は、本発
明者により見出された新知見である。
おくと、大量の水素ガスが発生するという知見は、本発
明者により見出された新知見である。
また好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態
下におき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌
を共存させると、一段と水素ガスの発生が増加する。な
お、光合成細菌自体が少量の水素ガスを発生することは
公知であるが、上記において、光合成細菌を共存させる
と一段と水素ガスの発生が増加する時の発生量とは問題
にならない程の大差がある。光合成細菌を共存させると
一段と水素ガスの発生が増加するその理由の詳細は明ら
かではないが、本発明者は自己消化した好気性菌体が光
合成細菌の基質となり、それが何らかの理由で光合成細
菌の水素発生能力を向上させるのではないかと考えてい
る。
下におき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌
を共存させると、一段と水素ガスの発生が増加する。な
お、光合成細菌自体が少量の水素ガスを発生することは
公知であるが、上記において、光合成細菌を共存させる
と一段と水素ガスの発生が増加する時の発生量とは問題
にならない程の大差がある。光合成細菌を共存させると
一段と水素ガスの発生が増加するその理由の詳細は明ら
かではないが、本発明者は自己消化した好気性菌体が光
合成細菌の基質となり、それが何らかの理由で光合成細
菌の水素発生能力を向上させるのではないかと考えてい
る。
好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態下に
おき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌を共
存させると、一段と水素ガスの発生が増加するという知
見も、本発明者により見出された新知見である。
おき、水素ガスを発生させるに際して、光合成細菌を共
存させると、一段と水素ガスの発生が増加するという知
見も、本発明者により見出された新知見である。
光合成細菌としては、ロドスピリリウム ルブラム（Rh
odospirillum rubrum----微工研菌寄第878号）、ロドシ
ウドモナス カプシュラタ（Rhodopseudomonas capsula
ta----微工研菌寄第879号）、クロマチューム ビノサ
ム（chromatium vinosum----微工研菌寄第890号）その
他の公知公用のものが使用できる。
odospirillum rubrum----微工研菌寄第878号）、ロドシ
ウドモナス カプシュラタ（Rhodopseudomonas capsula
ta----微工研菌寄第879号）、クロマチューム ビノサ
ム（chromatium vinosum----微工研菌寄第890号）その
他の公知公用のものが使用できる。
なお、本発明の内、光合成細菌を共存させた発明の実施
後、即ち、嫌気槽の液から水素ガスの発生がほゞ完了し
た後も嫌気状態を維持していると、今度は大量のメタン
ガスが発生する。例えば後記した実施例２、４、７、９
及び11の場合で、水素ガスを発生させた後、次の嫌気槽
へ廃水を移行（連続処理のため第１嫌気槽、第２嫌気槽
を設けた場合）させ、更に72時間ゆるやかに撹拌しなが
ら嫌気状態においた場合のメタンガスの発生量は後記し
た表１の通りであつた。
後、即ち、嫌気槽の液から水素ガスの発生がほゞ完了し
た後も嫌気状態を維持していると、今度は大量のメタン
ガスが発生する。例えば後記した実施例２、４、７、９
及び11の場合で、水素ガスを発生させた後、次の嫌気槽
へ廃水を移行（連続処理のため第１嫌気槽、第２嫌気槽
を設けた場合）させ、更に72時間ゆるやかに撹拌しなが
ら嫌気状態においた場合のメタンガスの発生量は後記し
た表１の通りであつた。
この際のメタン菌の液への接種はもちろん積極的に行な
つてもよいが、好気性菌体の大量増殖過程の中で自然に
混入されるメタン菌の存在で十分である。
つてもよいが、好気性菌体の大量増殖過程の中で自然に
混入されるメタン菌の存在で十分である。
本発明の実施例２、４、７、９及び11でメタンガスを採
取した後の廃水はBOD値数100ppm程度にまで浄化されて
おり、この後通常の廃水浄化処理工程、即ち沈殿槽、曝
気槽、沈殿槽へ順次移行して放流可能な清水とすること
ができる。さらに副産物としての菌体沈殿物はそのまゝ
で資源として再活用できるものである。ところで、メタ
ン発酵により発生したメタンガスで発電する方法は世界
的に実施されてきた技術であるが、この場合にはメタン
発酵後の排出水が非常に不潔なものであり、そのまゝ放
置すれば、再び汚染を引起すことになるので、どうして
も再浄化処理をする必要があつた。しかし折角発生させ
たエネルギーを再びその浄化処理に消費するというので
は、生産という意味からはマイナスになり、メタン発酵
によるエネルギー生産技術はそれ程優れた技術とはいゝ
難いものであつたことに鑑みれば、前記した本発明の水
素ガス発生後に、メタンガスを発生させる技術は大変優
れているといえる。
取した後の廃水はBOD値数100ppm程度にまで浄化されて
おり、この後通常の廃水浄化処理工程、即ち沈殿槽、曝
気槽、沈殿槽へ順次移行して放流可能な清水とすること
ができる。さらに副産物としての菌体沈殿物はそのまゝ
で資源として再活用できるものである。ところで、メタ
ン発酵により発生したメタンガスで発電する方法は世界
的に実施されてきた技術であるが、この場合にはメタン
発酵後の排出水が非常に不潔なものであり、そのまゝ放
置すれば、再び汚染を引起すことになるので、どうして
も再浄化処理をする必要があつた。しかし折角発生させ
たエネルギーを再びその浄化処理に消費するというので
は、生産という意味からはマイナスになり、メタン発酵
によるエネルギー生産技術はそれ程優れた技術とはいゝ
難いものであつたことに鑑みれば、前記した本発明の水
素ガス発生後に、メタンガスを発生させる技術は大変優
れているといえる。
なお、またメタンガスを発生させた後の菌体沈殿物がそ
のまゝ資源として再活用できるという説明をしたが、実
施例２、４、７、９及び11の水素ガスを発生させた後の
菌体沈殿物も、そのまゝ資源として再活用できるもので
ある。
のまゝ資源として再活用できるという説明をしたが、実
施例２、４、７、９及び11の水素ガスを発生させた後の
菌体沈殿物も、そのまゝ資源として再活用できるもので
ある。
実施例 １ 殿粉工場廃水（BOD 10,000ppm）1000を曝気槽に導
き、12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性
菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体が大量に増殖
した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性
状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生した
燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンクに
導き貯溜した。発生したガス量は１気圧0.2m3で、その
内、水素ガスは50％、炭酸ガスは50％であつた。
き、12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性
菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体が大量に増殖
した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性
状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生した
燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンクに
導き貯溜した。発生したガス量は１気圧0.2m3で、その
内、水素ガスは50％、炭酸ガスは50％であつた。
実施例 ２ 殿粉工場廃水（BOD 10,000ppm）1000を曝気槽に導
き、別に大量培養した光合成細菌ロドシュドモナス カ
プシュラタの培養液を20添加して、12時間激しく曝気
して、廃水に含まれていた好気性菌体と別に加えた光合
成細菌を大量に増殖させた。この好気性菌体と光合成細
菌の増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行さ
せ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス
貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.
2m3で、その内、水素ガスは80％、炭酸ガスは20％であ
つた。
き、別に大量培養した光合成細菌ロドシュドモナス カ
プシュラタの培養液を20添加して、12時間激しく曝気
して、廃水に含まれていた好気性菌体と別に加えた光合
成細菌を大量に増殖させた。この好気性菌体と光合成細
菌の増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行さ
せ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス
貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.
2m3で、その内、水素ガスは80％、炭酸ガスは20％であ
つた。
実施例 ３ アルコール工場廃水（BOD 10,000ppm、Ｃ／Ｎ比50）100
0を曝気槽に導き12時間激しく曝気して、廃水に含ま
れていた好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌
体が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧
0.25m3で、その内、水素ガスは65％、炭酸ガスは30％、
窒素ガスは５％であつた。
0を曝気槽に導き12時間激しく曝気して、廃水に含ま
れていた好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌
体が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧
0.25m3で、その内、水素ガスは65％、炭酸ガスは30％、
窒素ガスは５％であつた。
実施例 ４ アルコール工場廃水（BOD 10,000ppm、Ｃ／Ｎ比50）100
0を曝気槽に導き、別に大量培養した光合成細菌ロド
シュドモナス カプシュラタの培養液を20添加して、
12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性菌体
と光合成細菌を大量に増殖させた。この好気性菌体と光
合成細菌の増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧
1.5m3で、その内、水素ガスは70％、炭酸ガスは25％、
窒素ガスは５％であつた。
0を曝気槽に導き、別に大量培養した光合成細菌ロド
シュドモナス カプシュラタの培養液を20添加して、
12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性菌体
と光合成細菌を大量に増殖させた。この好気性菌体と光
合成細菌の増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧
1.5m3で、その内、水素ガスは70％、炭酸ガスは25％、
窒素ガスは５％であつた。
実施例 ５ 豆腐工場廃水（BOD 10,000ppm）1000を曝気槽に導
き、12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性
菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体が大量に増殖
した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性
状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生した
燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンクに
導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3で、その内、水
素ガスは20％、炭酸ガス50％、窒素ガス30％であつた。
き、12時間激しく曝気して、廃水に含まれていた好気性
菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体が大量に増殖
した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性
状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生した
燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンクに
導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3で、その内、水
素ガスは20％、炭酸ガス50％、窒素ガス30％であつた。
実施例 ６ 豆腐工場廃水（BOD 5,000ppm）1000を曝気槽に導き、
豆腐工場廃水の処理工程中に設置されている沈殿槽から
沈殿物を採取し、この沈殿物５kgを前記曝気槽へ投入
し、12時間激しく曝気して、前記廃水及び沈殿物に含ま
れていた好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌
体が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3
で、その内、水素ガスは20％、炭酸ガスは50％、窒素ガ
スは30％であつた。
豆腐工場廃水の処理工程中に設置されている沈殿槽から
沈殿物を採取し、この沈殿物５kgを前記曝気槽へ投入
し、12時間激しく曝気して、前記廃水及び沈殿物に含ま
れていた好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌
体が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移
行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。そ
の間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガ
ス貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3
で、その内、水素ガスは20％、炭酸ガスは50％、窒素ガ
スは30％であつた。
実施例 ７ 豆腐工場廃水（BOD 5,000ppm）1000を曝気槽に導き、
豆腐工場廃水の処理工程中に設置されている沈殿槽から
沈殿物を採取し、この沈殿物５kgを前記曝気槽へ投入
し、別に大量培養した光合成細菌ロドシュドモナス カ
プシュラタの培養液を20添加して、12時間激しく曝気
して、廃水に含まれていた好気性菌体と光合成細菌を大
量に増殖させた。
豆腐工場廃水の処理工程中に設置されている沈殿槽から
沈殿物を採取し、この沈殿物５kgを前記曝気槽へ投入
し、別に大量培養した光合成細菌ロドシュドモナス カ
プシュラタの培養液を20添加して、12時間激しく曝気
して、廃水に含まれていた好気性菌体と光合成細菌を大
量に増殖させた。
この好気性菌体と光合成細菌の増殖した液を急速に（５
分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性状態下で72時間ゆる
やかに撹拌した。その間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽
上方に溜まるのをガス貯溜タンクに導き貯溜した。発生
したガス量は１気圧1.7m3で、その内、水素ガスは65
％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは15％であつた。
分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性状態下で72時間ゆる
やかに撹拌した。その間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽
上方に溜まるのをガス貯溜タンクに導き貯溜した。発生
したガス量は１気圧1.7m3で、その内、水素ガスは65
％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは15％であつた。
実施例 ８ 化学繊維工場廃水（BOD 10,000ppm、有機酸----酢酸が9
0％----）1000を曝気槽に導き、その工場の活性汚泥
を採取し、この活性汚泥５kgを前記曝気槽へ投入し、12
時間激しく曝気して、前記廃水及び活性汚泥に含まれて
いた好気性菌体を大量増殖させた。この好気性菌体が大
量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行さ
せ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス
貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.
2m3で、その内、水素ガス40％、炭酸ガスは45％、窒素
ガスは15％であつた。
0％----）1000を曝気槽に導き、その工場の活性汚泥
を採取し、この活性汚泥５kgを前記曝気槽へ投入し、12
時間激しく曝気して、前記廃水及び活性汚泥に含まれて
いた好気性菌体を大量増殖させた。この好気性菌体が大
量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行さ
せ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス
貯溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.
2m3で、その内、水素ガス40％、炭酸ガスは45％、窒素
ガスは15％であつた。
実施例 ９ 化学繊維工場廃水（BOD 10,000ppm、有機酸-----酢酸が
90％----）1000を曝気槽に導き、その工場の活性汚泥
を採取し、この活性汚泥５kgを前記曝気槽へ投入し、更
に別に大量培養した光合成細菌ロドスプリラムの培養液
を20添加して、12時間激しく曝気して、廃水に含まれ
ていた好気性菌体と光合成細菌を大量に増殖させた。こ
の好気性菌体と光合成細菌の増殖した液を急速に（５分
間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるや
かに撹拌した。その間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上
方に溜まるのをガス貯溜タンクに導き貯溜した。発生し
たガスの量は１気圧1.2m3で、その内、水素ガスは70
％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは10％であつた。
90％----）1000を曝気槽に導き、その工場の活性汚泥
を採取し、この活性汚泥５kgを前記曝気槽へ投入し、更
に別に大量培養した光合成細菌ロドスプリラムの培養液
を20添加して、12時間激しく曝気して、廃水に含まれ
ていた好気性菌体と光合成細菌を大量に増殖させた。こ
の好気性菌体と光合成細菌の増殖した液を急速に（５分
間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気性状態下で72時間ゆるや
かに撹拌した。その間、発生した燃焼用ガスが嫌気槽上
方に溜まるのをガス貯溜タンクに導き貯溜した。発生し
たガスの量は１気圧1.2m3で、その内、水素ガスは70
％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは10％であつた。
実施例 １０ 水産加工（魚類解体）工場廃水で、熱処理直後の濃厚廃
水（BOD 10,000ppm、80℃）を熱交換器に通して水温を30
℃まで下げる。上記廃水に好気性菌バチルス・メガテリ
ウム、アゾトバクター ビネランディ、サッカロミセス
・セレ ビシアエを接種し、12時間激しく曝気して、接
種した好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体
が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行
させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯
溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3で、
その内、水素ガスは20％、炭酸ガスは50％、窒素ガスは
30％であつた。
水（BOD 10,000ppm、80℃）を熱交換器に通して水温を30
℃まで下げる。上記廃水に好気性菌バチルス・メガテリ
ウム、アゾトバクター ビネランディ、サッカロミセス
・セレ ビシアエを接種し、12時間激しく曝気して、接
種した好気性菌体を大量に増殖させた。この好気性菌体
が大量に増殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行
させ、嫌気性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その
間発生した燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯
溜タンクに導き貯溜した。発生したガス量は1.5m3で、
その内、水素ガスは20％、炭酸ガスは50％、窒素ガスは
30％であつた。
実施例 １１ 水産加工（魚類解体）工場廃水で、熱処理直後の濃厚廃
水（BOD 10,000ppm、80℃）を熱交換器に通して水温を30
℃まで下げる。上記廃水に好気性菌バチルス・メガテリ
ウム、アゾトバクター ビネランディ、サッカロミセス
・セレビシアエを接種し、更に別に大量培養した光合成
細菌 クロマチュウの培養液を20添加して、12時間激
しく曝気して、廃水に接種した好気性菌体と光合成細菌
を大量に増殖させた。この好気性菌体と光合成細菌の増
殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気
性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生し
た燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンク
に導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.7m3で、そ
の内、水素ガスは65％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは15
％であつた。
水（BOD 10,000ppm、80℃）を熱交換器に通して水温を30
℃まで下げる。上記廃水に好気性菌バチルス・メガテリ
ウム、アゾトバクター ビネランディ、サッカロミセス
・セレビシアエを接種し、更に別に大量培養した光合成
細菌 クロマチュウの培養液を20添加して、12時間激
しく曝気して、廃水に接種した好気性菌体と光合成細菌
を大量に増殖させた。この好気性菌体と光合成細菌の増
殖した液を急速に（５分間で）嫌気槽へ移行させ、嫌気
性状態下で72時間ゆるやかに撹拌した。その間、発生し
た燃焼用ガスが嫌気槽上方に溜まるのをガス貯溜タンク
に導き貯溜した。発生したガス量は１気圧1.7m3で、そ
の内、水素ガスは65％、炭酸ガスは20％、窒素ガスは15
％であつた。
〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明に係る燃焼用ガスの製造法
によれば簡単な方法で、大量の水素ガス、メタンガスが
製造でき、エネルギー源の減少著しい今日にあつて見れ
ば、優れたエネルギー生産手段として産業利用価値が高
い。
によれば簡単な方法で、大量の水素ガス、メタンガスが
製造でき、エネルギー源の減少著しい今日にあつて見れ
ば、優れたエネルギー生産手段として産業利用価値が高
い。
また本発明に係る燃焼用ガスの製造法を実施すれば廃水
の浄化が同時に進行しているので、この廃水の浄化効果
に着眼すれば、廃水の浄化施設の運転エネルギーを生産
しながら廃水の浄化を実施できるという優れた効果があ
り、この点からも本発明は産業利用価値が高いといえ
る。
の浄化が同時に進行しているので、この廃水の浄化効果
に着眼すれば、廃水の浄化施設の運転エネルギーを生産
しながら廃水の浄化を実施できるという優れた効果があ
り、この点からも本発明は産業利用価値が高いといえ
る。
さらに、また燃焼用ガスの製造過程でできる副産物とし
ての菌体沈殿物はそのまゝで資源として再活用できる利
点があり、この点からも本発明は産業利用価値が高いと
いえる。
ての菌体沈殿物はそのまゝで資源として再活用できる利
点があり、この点からも本発明は産業利用価値が高いと
いえる。
Claims (3)
- 【請求項１】好気性条件下で増殖し得る、細菌若しくは
黴又は酵母に属する微生物（以下「好気性菌体」とい
う）が大量に増殖した液を急速に嫌気性状態下におき、
水素ガスを発生させることを特徴とする燃焼用ガスの製
造法。 - 【請求項２】好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌
気性状態下におき、水素ガスを発生させるに際して、明
所嫌気条件下で増殖する細菌（以下、「光合成細菌」と
いう）を共存させることを特徴とする燃焼用ガスの製造
法。 - 【請求項３】好気性菌体が大量に増殖した液を急速に嫌
気性状態下におき、前記液に光合成細菌を共存させ、水
素ガスを発生させた後、さらに嫌気性状態下におき、メ
タンガスを発生させることを特徴とする燃焼用ガスの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60048852A JPH064032B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 燃焼用ガスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60048852A JPH064032B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 燃焼用ガスの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61205492A JPS61205492A (ja) | 1986-09-11 |
| JPH064032B2 true JPH064032B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=12814794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60048852A Expired - Lifetime JPH064032B2 (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 燃焼用ガスの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064032B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0763379B2 (ja) * | 1990-11-02 | 1995-07-12 | 文章 田口 | 微生物を利用して水素ガスを製造する方法 |
| JP3898454B2 (ja) | 2001-03-06 | 2007-03-28 | シャープ株式会社 | 固体高分子型燃料電池 |
| WO2004074495A1 (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-02 | Research Institute Of Innovative Technology For The Earth | 微生物による高効率水素製造方法 |
| WO2005087911A1 (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 微生物の培養装置、それを用いる水素生産装置および燃料電池システム |
| JP4860659B2 (ja) | 2008-05-12 | 2012-01-25 | シャープ株式会社 | 水素生成方法および水素生成装置 |
| JP5159710B2 (ja) * | 2009-06-19 | 2013-03-13 | 公益財団法人地球環境産業技術研究機構 | 微生物の培養方法ならびに培養装置、生物的水素製造方法および燃料電池システム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624514A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-09 | Toshiba Corp | Automatic selector for optimum gain in measuring system |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP60048852A patent/JPH064032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624514A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-09 | Toshiba Corp | Automatic selector for optimum gain in measuring system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61205492A (ja) | 1986-09-11 |
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