JPH0636193B2 - パターン検査方法 - Google Patents

パターン検査方法

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JPH0636193B2
JPH0636193B2 JP62271069A JP27106987A JPH0636193B2 JP H0636193 B2 JPH0636193 B2 JP H0636193B2 JP 62271069 A JP62271069 A JP 62271069A JP 27106987 A JP27106987 A JP 27106987A JP H0636193 B2 JPH0636193 B2 JP H0636193B2
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聰 山竹
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Matsushita Electric Works Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は配線パターン、ＩＣリードパターン、文字パタ
ーン等のパターン検査方法に関するものである。
［背景技術］ 従来パターンの２値化画像に対してマッチング等の手法
を用いてパターンの良否を判定する検査方法があるが、
２値化ノイズにより精度良く欠陥が検出できなかった。
［発明の目的］ 本発明は上述の問題点に鑑みて為されたもので、その目
的とするところはパターンの輪郭である線画像を用いて
精度良くパターンの欠陥を検出することができるパター
ン検査方法を提供するにある。
［発明の開示］ 本発明は被検査パターンの線画像上のプロットされた３
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、線画像のトラッキングの開始点から終了点までの
間で逐次演算してメモリに記憶し、予め標準パターンで
求めメモリに記憶されていた設定値と上記２次差分の合
成値との差をとる演算を行い、この演算値が所定の閾値
を越えるか否かを比較判定して欠陥検出を行うことを特
徴とする。
第１図は線画像を得るための公知の画像処理装置のブロ
ック図を示しており、本発明では標準パターンや、被検
査パターンをＴＶカメラ１により撮像して、画像信号を
得、この画像信号を微分回路２により微分して縁点の微
分値を得ると共にその縁点の方向値を得、これら値に基
づいて細線化回路３により、縁点の追跡を行って線画像
を得る。
第２図は本発明パターン検査方法を用いたパターン検査
装置の回路構成を示しており、この回路構成と第４図
(a)(b)に示すフローチャートに基づいて本発明パターン
検査方法について説明する。
而して本発明パターン検査方法ではまず画像処理装置で
第３図に示す標準パターンの線画像Ａを得て、標準線画
像メモリ４に記憶させる。次に追跡回路５により線画像
Ａ上の任意の点を開始点Stとし、この点Stから終了点En
までトラッキングを行う。そしてこのトラッキングを行
う区間において該線画像Ａ上の任意の２次元座標点Ｐ
(x,y)を着目点とし、この着目点から一定画素数mだけ進
んだ点Ｑ(x,y)と、更にこの点Ｑ(x,y)から画素数mだけ
進んだ点Ｒ(x,y)をプロットし、この３点Ｐ(x,y)、Ｑ
(x,y)、Ｒ(x,y)のアドレス値の２次差分を１次微分回路
６、２次微分回路７により求める。
まず１次差分値は これより２次差分値は となる。一般には と書ける。
更にｘ，ｙの２次差分の合成値を Ｓｎ＝∂２xn＋∂２yn とおく。この合成値Snをトラッキングの開始点から終了
点まで逐次求めバッファメモリに記憶する。このように
記憶した合成値Snを標準パターン設定値とする。
次に検査時においてはまず被検査パターンの線画像を第
１図の画像処理装置で作成して被検査線画像メモリ８に
記憶して、この線画像上において上記標準パターンと対
応するように開始点と、終了点とを設定し、上述と同様
被検査パターンの２次差分の合成値Sn′を追跡回路９、
１次微分回路１０、２次微分回路１１を用いて演算し、
この合成値Sn′と、標準パターンの設定合成値Snとの差
dnを比較回路１２で求め、更に良否判定回路１３により
この差dnの値が予め定めた閾値dxよりも大きければ、そ
の部分では被検査パターンは標準パターンからずれて凹
凸や細り、太りが存在すると判定できる。したがって、
被検査パターンの合成値Sn′と標準パターンの設定合成
値Snとの差dnを閾値dxと比較するという簡単なプロセス
で被検査パターン上に存在する欠陥部を精度良く検出で
きるのである。
尚欠陥部の大きさの限度設定はパラメータdxを調節すれ
ば良い。
［発明の効果］ 本発明は被検査パターンの線画像上のプロットされた３
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、線画像のトラッキングの開始点から終了点までの
間で逐次演算してメモリに記憶し、予め標準パターンで
求めメモリに記憶されていた設定値と上記２次差分の合
成値との差をとる演算を行い、この演算値が所定の閾値
を越えるか否かを比較判定して欠陥検出を行うので、簡
単なプロセスで任意の形状を持つ標準パターンに対して
被検査パターンに存在する凹凸、細り、太り、異形等の
欠陥を精度良く検出することが可能となるという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明方法に用いる画像処理装置のブロック
図、第２図は本発明方法を用いたパターン検査装置の回
路構成図、第３図は本発明方法の説明図、第４図は実施
例の検査過程のフローチャートである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】被検査パターンの線画像上のプロットされ
    た３点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の
    合成値を、線画像のトラッキングの開始点から終了点ま
    での間で逐次演算してメモリに記憶し、予め標準パター
    ンで求めメモリに記憶されていた設定値と上記２次差分
    の合成値との差をとる演算を行い、この演算値が所定の
    閾値を越えるか否かを比較判定して欠陥検出を行うこと
    を特徴とするパターン検査方法。
JP62271069A 1987-10-27 1987-10-27 パターン検査方法 Expired - Lifetime JPH0636193B2 (ja)

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JPH01112470A JPH01112470A (ja) 1989-05-01
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5627914A (en) * 1979-08-15 1981-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrical double layer capacitor

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JPH01112470A (ja) 1989-05-01

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