JPH06349055A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 水素含有カーボン保護膜を有する磁気記録媒
体において、媒体表面粗さに関してはその形成方法（テ
クスチャー処理法）及び中心線平均粗さＲａから、カー
ボン膜質に関してはラマン光から定量的に捉えて規定す
ることにより、浮上量を低下できて高密度記録を保証す
ると共に、硬質スライダーを用いたヘッドに対して高い
ＣＣＳ耐久性を実現すること。 【構成】 カーボン保護膜６としては２０ａｔ％以上４
０ａｔ％以下の水素を含有する膜質であり、且つ非磁性
基体２の表面を先端曲率０．５μｍのダイヤモンド触針
で測定したときの中心線平均粗さＲａが４０Å以上８０
Å以下に設定した。非磁性基体のテクスチャリング処理
は、平均粒径２μｍ以下の白色アルミナ砥粒を用いたス
ラリー加工工程で行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク記録
装置等に用いられる磁気記録媒体に関し、特に、磁気記
録媒体の磁性膜を保護するために形成される保護層に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータなどの情報処理装置の外部
記録装置として固定磁気ディスク装置が多く用いられて
いる。固定磁気ディスク装置においては、一般にモータ
回転時にヘッドが浮上し、停止時にはヘッドが磁気記録
媒体に接触するＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
プ）方式が採用されているため、回転の開始時と停止時
にヘッドと磁気記録媒体が接触し摺動状態となる。この
サイクルが繰り返されると、媒体の耐磨耗性，潤滑特性
が不充分な場合、媒体表面に形成された保護膜の磨耗が
進行し、程度がひどいときには磁性層も損傷を受けクラ
ッシュ状態となる。

【０００３】図３に、この固定磁気ディスク装置に用い
られている一般的な磁気記録媒体の構成を示してある。
この磁気記録媒体は、非磁性基板１ａ上に非磁性金属層
（硬化層）１ｂを形成して非磁性の基体２とし、この基
体２の上に非磁性の金属下地層３を積層してある。そし
て、この金属下地層３上に強磁性合金体であるＣｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ（コバルト−クロム−タンタル）、またはＣｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ（コバルト−クロム−白金）などにより磁
性層４を薄膜状に積層形成し、さらに、これらの磁性層
上に保護層５を形成する。そして、この保護層４の上
に、必要に応じて液体潤滑剤からなる潤滑層６を設けて
磁気ディスクを形成している。非磁性の基体２として
は、例えばＡｌ−Ｍｇ合金の非磁性基板１ａに無電解メ
ッキによりＮｉ−Ｐメッキ層１ｂを形成したもの、アル
マイト基体、ガラス基体、セラミック基体、などが用い
られる。そして、この基体１を必要に応じて研磨し、テ
クスチャーなどによりある程度の粗面（テクスチャー加
工面）２ａを形成する場合もある。この非磁性の基体１
を〜２００°Ｃに加熱しながらＡｒ雰囲気下のスパッタ
リングによりＣｒからなる非磁性金属下地層３、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｔａなどからなる磁性層４、およびアモルファス
カーボンからなる保護膜５を順次スパッタ法により積層
成形する。そして、保護層４上に、フロロカーボン系の
液体潤滑剤を塗布して潤滑層６を形成し、金属薄膜ディ
スクを製造する。

【０００４】スパッタ法で形成される金属薄膜媒体で
は、磁性層の上の保護膜５には一般にカーボンターゲッ
トをスパッタ成膜して作製するアモルファスカーボン膜
（ａ−Ｃ）が広く用いられる。この他にも酸化物系、例
えば、酸化ジルコニアなどが使用されることもある。保
護膜としてカーボンが採用される理由の一つとして、ス
パッタリングにより形成されるアモルファスカーボン層
は、比較的グラファイト性が強いため、グラファイト特
有の水を含んだ大気下において低い摩擦係数を示すとい
う特徴を有する点がある。

【０００５】しかしながら、このようなアモルファスカ
ーボン保護膜は、従来のＭｎ−Ｚｎフェライトヘッド
（ビッカース硬度約６５０）に対しては十分な耐磨耗性
を有し、良好な耐ＣＳＳ特性を示すが、最近になり固定
磁気ディスク装置に採用される薄膜ヘッドやＭＩＧヘッ
ドのスライダー材料であるＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣやＣａＴ
ｉＯ₃ といった硬質のセラミック材料（ビッカース硬度
約２０００）と比較すると硬度が低いため、これら硬質
スライダーに対しては磨耗を引き起こし易く、場合によ
っては、ヘッドがクラッシュするという問題があり、耐
磨耗性が不充分で、充分なＣＣＳ耐久性が得られない。
これに対し、硬度の高い酸化物系の保護層を用いた場合
は、磨耗は起こし難いが、その硬すぎる性質と、摩擦係
数が高い点が問題となる。すなわち、シーク動作に伴う
浮上動作中、あるいはＣＳＳ動作中にディスク表面の異
物や突起物によって起きる瞬間的なエネルギーの高い状
態でのヘッドタッチにより、瞬時にヘッドがクラッシュ
してしまうのである。このような問題を解決するため
に、近年ではカーボン保護層の性質のうち、硬度の高い
ダイアモンド的な性質を増長させ、ダイアモンド結合状
態の比率がグラファイト結合状態の比率に比して高いダ
イアモンド状炭素膜を磁性層上に保護層として形成する
方法が示されている。このダイアモンド状炭素膜は、炭
素の優れた摺動特性に加えて、ダイアモンド構造を取る
ため硬度が高く、高硬度のＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣスライダ
ーやＣａＴｉＯ₃ スライダーに対しての耐磨耗特性を改
善することができ、既に様々な提案がなされている。例
えば、特開昭６１−１２６６２７には不活性ガスと炭化
水素ガスとの混合雰囲気中でのスパッタリング法または
ＣＶＤ法で形成した硬質カーボン層と含フッ素潤滑層と
の複合層が示されている。また、特開平２−７１４２２
には膜中結合水素とラマンスペクトルから規定された膜
質のカーボン層が示され、特開平２−２９９１９にはラ
マンスペクトルにより規定されたカーボン層の例があ
る。また、特開平２−８７３２２には水素を含む炭素膜
とその上に潤滑剤が塗布された磁気記録媒体の例があ
り、特開平１−２５８２２０では高硬度スライダー用保
護層として、水素含有量２〜７×１０²²原子個数／ｃｃ
のダイアモンド状炭素膜が高硬度スライダーと同程度の
硬度を有し、耐ＣＳＳ特性に優れることが示されてい
る。さらに、特開平２−２８２４７０では、炭化水素ガ
ス中でスパッタして形成し、カーボンをＡｒのみでスパ
ッタリング成膜した従来のグラファイト保護膜と同程度
の硬度を持つこととその表面が疎水性を持つことを規定
したカーボン保護膜が提案されている。

【０００６】我々は上記の提案について各々検討を試み
たが、いずれの提案もＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣやＣａＴｉＯ
₃ の硬質スライダーに対する摺動特性を十分満足する結
果は得られなかった。上記構成のカーボン保護層におい
て、ダイアモンド的な性質を増長させてダイアモンド結
合状態の比率が高い高硬度な層を形成すれば、硬質スラ
イダーに対しての耐磨耗性を向上させることができる
が、硬すぎると、かえって磁気ヘッドを傷つけ、その磨
耗粉が磁気ヘッドおよび磁気ディスクをさらに傷つけて
磨耗を促進させるという問題がある。逆に、軟らかすぎ
ると、アモルファスカーボン層の場合と同じく、硬質ス
ライダーによって磨耗されてしまう。このように、上記
従来技術では、低摩擦係数と耐磨耗性とを具備する優れ
た摺動特性を有し、最適な耐ＣＳＳ特性を示す膜質を見
出すには至っていない。

【０００７】そこで、本出願人は、先に特願平４−３１
９８０４号を以て、グラファイト的なカーボンの摩擦係
数が低いという性質を残しながら、硬度の高いＡｌ₂ Ｏ
₃ ・ＴｉＣスライダーやＣａＴｉＯ₃ スライダーに対応
するために、スパッタリングにより形成されるカーボン
保護膜の性質のうち、硬度の高いダイアモンド的な性質
を増長させながら、一方で、ポリマー的な結合を導入
し、硬度を低下させた（靱性を高めた）カーボン保護膜
を提案した。すなわち、カーボン保護膜の主成分である
炭素のラマンスペクトル解析（波長５１４．５ｎｍのア
ルゴンイオンレーザー励起による）により、ポリマー性
結合状態と、グラファイト結合状態に比して高い比率の
ダイアモンド結合状態とを示すカーボン保護膜であれ
ば、硬度の高いスライダー材料が用いられたヘッドに対
して優れたＣＣＳ耐久性を得ることができることが判明
した。

【０００８】図４は同出願の添付図面と同一の図で、カ
ーボン保護膜のビッカース硬さを示す微小硬度と、Ａｒ
を主成分とするスパッタリングガスに含有させたメタン
ガスの混入量との関係を示すグラフである。この図から
判るように、メタン混入量が増加する（水素含有量が増
加する）と、微小硬度は増加し、メタン混入量が略１の
時に微小硬度は最高となる。そして、さらに、メタン混
入量を増加させると、微小硬度は低下することが判っ
た。メタン混入量がそれぞれ０、１、４のものをケース
１、２、３として選択し、各々のカーボン保護膜のラマ
ンスペクトル分析を行なった。ここでまた同出願に添付
した図と同一の図５にその結果を示す。図５（ａ）に示
すケース１の磁気ディスクのカーボン保護膜は、ダイア
モンド結合を示す準位ＳＰ３のピークと、グラファイト
結合を示す準位ＳＰ２のピークの高さが略同じとなって
おり、水素含有量が少ないとグラファイト性が強いカー
ボン保護膜である。図５（ｂ）に示すケース２のカーボ
ン保護膜は、ダイアモンド結合を示すＳＰ３のピークが
グラファイト結合を示すＳＰ２のピークと比較し、非常
に高く、ダイアモンド結合の比率が増加している。この
ため、図４に示す微小硬度が増加していると考えられ
る。さらに、メタン混入量が増えたケース３のカーボン
保護膜のラマンスペクトルは、図５（ｃ）に示してあ
る。ダイアモンド結合を示すＳＰ３のピークはやはりグ
ラファイト結合を示すＳＰ２のピークと比較し、非常に
高く、ダイアモンド結合の比率は高い。さらに、ケース
３においては、各ピークの裾野の部分（蛍光によるバッ
クグラウンド分）が増加しており、ランダムなポリマー
性の結合が増加していることが判る。従って、微小的に
はダイアモンド結合が増加していることから硬度は高い
と考えられるが、微小硬度として得られる値は、ポリマ
ー性の結合が反映されて硬度が低下しするも靱性が強く
なるものと考えられる。そして、微小硬度の低下量は非
常に大きく、微小硬度の値としては、Ａｒのみのスパッ
タリングガスを用いたケース１の場合よりもむしろ低く
なる。

【０００９】このようなカーボン保護層が形成された磁
気ディスクに対しＣＳＳサイクルの繰り返し試験を行っ
ており、ここでまた同出願に添付した図と同一の図６に
その結果を示す。この試験は、Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣの薄
膜ヘッドを用いて１０ｇｆの荷重によりＣＳＳ動作を繰
り返す試験であり、一般には、２５０００〜３００００
回の繰り返し耐力が通常要求される。図６（ａ）に示す
ケース１の磁気ディスク、すなわち、グラファイト性の
高い保護膜の形成された磁気ディスクにおいては、急激
に摩擦係数が増加し、２００００回前においてクラッシ
ュしてしまう。

【００１０】ケース２の磁気ディスク、すなわち、ダイ
アモンド結合の比率が高いカーボン保護膜を有するもの
においては、図６（ｂ）に示すように、全体として摩擦
係数の増加は緩やかであるが、硬すぎるためむしろ脆
く、すぐにクラッシュしてしまう場合もあり、クラッシ
ュが直ぐに発生しないものであっても、２００００回前
後の耐ＣＳＳ性能である。これに対し、ケース３の磁気
ディスク、すなわち、ポリマー性の結合が導入されたカ
ーボン保護膜を有するものは、図６（ｃ）に示すよう
に、摩擦係数の上昇も緩やかであり、また、クラッシュ
の発生もないことから４００００回のＣＳＳサイクルを
繰り返しても性能の劣化は見られない。

【００１１】ここで、また同出願に添付した図と同一の
図７を示す。図７（ａ）はカーボン保護膜のラマンスペ
クトルである。図において、１３５０ｃｍ^-1付近にグラ
ファイト結合を示す準位ＳＰ２のピークと、１５６０ｃ
ｍ^-1付近（１５６２ｃｍ^-1）にダイアモンド結合を示す
準位ＳＰ３のピークとがあり、主ピークであるＳＰ３の
ピークの両側方の裾野を結ぶ直線２０の下方側の領域Ｓ
がこのラマンスペクトルにおける蛍光分である。従っ
て、カーボン保護層の蛍光強度比は、ＳＰ３のピークに
おける蛍光分を除いた実質的なピーク強度Ａと、蛍光分
を含んだ全体的なピーク強度Ｂとの比率（Ｂ／Ａ）であ
る。蛍光分として示されるラマンスペクトルのバックグ
ラウンド（領域Ｓ）は、カーボン保護膜のポリマー性結
合を示すものであるので、比率（Ｂ／Ａ）が１．５以上
であれば、良好なＣＣＳ耐久性のあるカーボン保護膜を
得ることができると判明した。また図７（ｂ）は、図７
（ａ）に示すラマンスペクトルに対して蛍光によるバッ
クグラウンド（領域Ｓ）を直線近似で除去して、ガウス
関数によりＳＰ２とＳＰ３との２つのピークに波形分離
した波形図である。図において、カーボン保護膜のピー
ク強度比は、ＳＰ３のピーク強度ＤとＳＰ２のピーク強
度Ｇとの比率（Ｄ／Ｇ）である。比率（Ｄ／Ｇ）が１．
３〜３．５の範囲内にあれば、良好なＣＣＳ耐久性のあ
るカーボン保護膜を得ることができると判明した。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】他方、ヘッド・媒体の
間の摩擦係数を低下させるためには、一般にテクスチャ
ー処理により基体２の表面を粗面化し、それが保護膜５
の表面粗さに反映するようにするが、表面粗さが大きく
なると、ディスク回転中の媒体とヘッドの距離（浮上
量）も大きくなる。浮上量が大きすぎると、電磁変換特
性が悪化し、高密度記録化の障害となる。従って、最近
では浮上量を０．０７μｍかそれ以下に抑えるようにし
ている。そのため、テクスチャー処理後の媒体表面粗さ
も、従来は中心線平均粗さＲａが１００Å以上（先端曲
率０．５μｍのダイヤモンド触針による測定）であった
が、最近では中心線平均粗さＲａが８０Åかそれ以下の
ものが要求されている。しかしながら、表面粗さを小さ
くする程ヘッドと媒体間の実接触面積が増すため、摩擦
係数は高い値を示し、充分なＣＳＳ耐久性が得られな
い。我々の検討では、同量の水素含有のダイヤモンド状
カーボン保護膜であっても、媒体表面粗さが異なるとＣ
ＳＳ耐久性は変化することを見出した。高密度記録を保
証する表面粗さの上限値が８０Åであるとしても、ＣＳ
Ｓ耐久性の面からむやみに表面粗さを小さくする訳には
いかず、膜質を左右する水素含有量との関係で媒体表面
粗さの下限値を見出す必要がある。

【００１３】そこで上記問題点に鑑み、本発明の課題
は、媒体表面粗さ及びカーボン膜の膜質を詳細に検討
し、表面粗さに関してはその形成方法（テクスチャー処
理法）及び中心線平均粗さＲａから、カーボン膜質に関
してはラマン光，水素濃度，硬度から定量的に捉えて規
定することにより、浮上量を低下できて高密度記録を保
証すると共に、硬質スライダーを用いたヘッドに対して
高いＣＣＳ耐久性を発揮可能な磁気記録媒体を提供する
ことにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、テクスチャリング処理を施して表面粗面化した非磁
性基体の上に、磁性層、保護膜が積層形成されてなる磁
気記録媒体において、本発明は、保護膜としては２０ａ
ｔ％以上４０ａｔ％以下の水素を含有するカーボン膜と
すると共に、非磁性基体の表面を先端曲率０．５μｍの
ダイヤモンド触針で測定したときの中心線平均粗さＲａ
が４０Å以上８０Å以下になるように設定した点を特徴
とする。このような水素含有量範囲は、波長５１４．５
ｎｍのアルゴンイオンレーザー励起によるラマンスペク
トル解析により得られるラマンスペクトルから蛍光によ
るバックグラウンド分を除き、当該ラマンスペクトルを
ガウス関数で２つのピークに分離して、１５４５〜１５
７５ｃｍ^-1領域のピークの面積強度（ガウス関数の積分
値）をＤとし、１３４０〜１４４０ｃｍ^-1領域のピーク
の面積強度（ガウス関数の積分値）をＧとしたときに、
これらの比率（Ｄ／Ｇ）が１．２〜２．５の範囲に相当
することが判明した。また、保護膜の硬度は好ましくは
６５ＧＰａ以上とする。

【００１５】上記の磁気記録媒体の製造方法において、
非磁性基体のテクスチャリング処理は、平均粒径２μｍ
以下の白色アルミナ砥粒を用いたスラリー加工工程を少
なくとも含むことが好ましい。

【００１６】

【作用】本発明の非磁性体基体は、平均粒径２μｍ以下
の白色アルミナ砥粒を用いたスラリー加工を少なくとも
用いたテクスチャリング処理により、先端曲率０．５μ
ｍのダイヤモンド触針で測定した場合の中心線平均粗さ
Ｒａが４０Å以上８０Å以下に粗面化されており、且つ
本発明のカーボン膜は膜中の水素量が２０ａｔ％以上４
０ａｔ％以下である。このような水素含有のカーボン膜
の硬度はアルゴンガスのみでスパッタ成膜したカーボン
膜に比較して高い硬度を有する。また、上記粗面範囲の
非磁性基体の上に、金属下地層、磁性層、上記カーボン
膜を積層形成し、そのカーボン膜上にパーフルオポリエ
ーテル系の潤滑剤を塗布した媒体は、浮上量が低下させ
ることができる上に、Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣやＣａＴｉＯ
₃ の硬質スライダーに対し優れたＣＳＳ耐久性を示すこ
とが実験の結果見出された。

【００１７】しかし、テクスチャリング処理にスラリー
加工を用いない場合、及び白色アルミナ以外の例えばダ
イヤモンド砥粒を用いたスラリー加工を用いた場合に
は、当該表面粗さの基体で上記範囲の水素含有のカーボ
ン膜を形成し、潤滑剤を塗布した媒体でも、ＣＳＳ耐久
性は著しく劣り、ヘッドクラッシュを起こした。

【００１８】また本発明のスラリー加工を行い、且つ本
発明のカーボン膜を形成し、潤滑剤を塗布した場合で
も、中心線平均粗さＲａが４０Å以下のときには、ヘッ
ドと媒体の間の摩擦係数が大きくなりすぎてＣＣＳ耐久
性が劣化し、一方、Ｒａが８０Å以上のときにはヘッド
浮上量を低下させることができず、高密度記録化に対応
できる磁気記録媒体が得られえない。

【００１９】また、水素濃度が２０ａｔ％以下、あるい
は４０ａｔ％以上のカーボン膜は硬度が低く、そのカー
ボン膜上に潤滑剤を塗布した媒体であっても、本発明の
表面粗さを有する非磁性基体を用いた場合には、硬質ヘ
ッドに対し高い摩擦係数を有し、ＣＳＳ耐久性は悪かっ
た。

【００２０】上記のように、所定の表面粗さを有する非
磁性基体を用い、かつ所定の水素量を有するカーボン膜
を組み合わせることにより、浮上量が低下でき、かつ硬
質ヘッド材料に対して優れたＣＳＳ耐久性が得られた。
本発明の非磁性基体の表面は、白色アルミナを用いたス
リラー加工により形成されており、かつ４０Åから８０
Åという従来の媒体よりも小さな表面粗さを有すること
から、鋭い突起がなく先端の丸い数多くの山から成り立
っているため、硬度の高いカーボン膜を保護膜とした場
合にヘッドから受ける衝撃が、鋭い突起を有する表面か
ら受ける衝撃よりも小さく、そのため優れたＣＳＳ耐久
性を有すると考えられる。また、４０Åから８０Åとい
う従来の媒体よりも小さな表面粗さを有することからヘ
ッド浮上量が低下できる。

【００２１】

【実施例】次に本発明の実施例を説明する。

【００２２】Ｎｉ−Ｐのメッキ下地層（非磁性金属層）
を形成したＡｌ基板にテクスチャー処理を行い、小坂研
究所製サーフコーダET-30HK により、先端曲率０．５μ
ｍのダイアモンド触針を用いて、テクスチャー処理後の
Ｎｉ−Ｐ表面の中心線平均粗さＲａを測定した。その
後、第３図に示した層構成の磁気ディスク媒体を作製
し、荷重９．５ｇｆのＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣスライダーの
薄膜ヘッドを用い、ＣＳＳ試験を行って摺動特性を評価
した。また保護膜中の水素濃度をＨＦＳ（HydrogenForw
ard Scattering)により、薄膜の微小硬度を日本電気製
薄膜微小高度計HMA-400 により、さらに波長５１４．５
ｎｍのアルゴンイオンレーザー励起のラマンスペクトル
測定を行った。また、グライドハイトテスターにより、
媒体上でのヘッドの浮上量を測定した。

【００２３】（実施例１）第３図に示したように、Ａｌ
基板１ａの上にＮｉ−Ｐのメッキ下地層１ｂを形成し、
その表面に平均砥粒径２μｍの白色アルミナからなるテ
クスチャー加工用研磨テープをゴムローラによって押し
つけながら、ディスクを回転させて第一のテクスチャー
加工を行い、さらにその後に平均粒径１μｍの白色アル
ミナからなるスラリーを、ゴムローラによって押しつけ
た植毛テープに滴下しながら、ディスクを回転させて第
二のテクスチャー加工を行う。その上にスパッタ法によ
りＣｒ下地層３とＣｏＣｒＴａ磁性層４を形成し、さら
にチャンバー内の圧力５ｍＴｏｒｒ，８％モル濃度のＣ
Ｈ₄ を混合したアルゴンガス雰囲気下で混合ガスの流量
３０ＳＣＣＭで、カーボンをターゲットとした搬送式の
ＤＣマグネトロンスパッタによりカーボン膜５を２５０
Å成膜し、次にそのカーボン保護膜上にパーフルオロポ
リエーテル系液体潤滑剤６を塗布して２０〜２３Åの潤
滑層を形成して磁気ディスク媒体を作製した。

【００２４】

【表１】

【００２５】テクスチャー処理後のＮｉ−Ｐメッキ表面
粗さ、カーボン膜の評価結果、及び媒体のＣＳＳ結果と
浮上量試験の結果を第１表の実施例１に示した。テクス
チャー処理後のＮｉ−Ｐメッキ表面粗さは６２Åであっ
た。またカーボン膜の膜中全水素量は２７ａｔ％であ
り、ラマンスペクトルのピークの積分（面積）強度比Ｄ
／Ｇは１．９であった。なお、ピークの積分強度Ｄ，Ｇ
は図７（ｂ）のピークＳＰ３，ＳＰ２のガウス関数の積
分値である。また微小硬度は８３ＧＰａと測定された。

【００２６】この媒体のＣＳＳ繰り返し20000 回後の摩
擦係数は０．３４と良好であり、ヘッド浮上量は平均で
０．０４５μｍであった。

【００２７】（実施例２）テクスチャー処理を、平均粒
径１μｍの白色アルミナからなるスラリーを用いた唯一
回のテクスチャー処理のみで行った他は実施例１と全く
同じにして磁気ディスク媒体を作製した。種々の評価結
果を第１表の実施例２に示す。テクスチャー処理後のＮ
ｉ−Ｐメッキ表面粗さは４８Åであり、またこの媒体の
ＣＳＳ繰り返し20000 回後の摩擦係数は０．３８と良好
であり、ヘッド浮上量は平均で０．０３９μｍであっ
た。

【００２８】（比較例１）カーボン膜の成膜をアルゴン
ガスのみの雰囲気下で、ガス流量２０ＳＣＣＭで行った
他は実施例１と全く同様にして磁気ディスク媒体を作製
した。種々の評価結果を第１表の比較例１に示す。この
カーボン膜の微小硬度は５４ＧＰａであった。この媒体
は、ＣＳＳ繰り返し試験で著しい磨耗を生じ、1000回未
満でクラッシュした。

【００２９】（比較例２）カーボン膜の成膜を、３０％
モル濃度のＣＨ₄ を混合したアルゴンガス雰囲気下で混
合ガスの流量３０ＳＣＣＭで行った他は実施例１と全く
同様にして磁気ディスク媒体を作製した。種々の評価結
果を第１表の比較例２に示す。このカーボン膜の膜中水
素量は４２ａｔ％であり、微小硬度は３０ＧＰａであっ
た。この媒体は、ＣＳＳ繰り返し20000 回後の摩擦係数
は０．６８であり、媒体表面にはスライダーの摺動によ
る傷が認められた。

【００３０】（比較例３）第一のテクスチャー処理にも
ちいる研磨テープを平均砥粒径３μｍの白色アルミナか
らなるもので行った他は実施例１と全く同様にして磁気
ディスク媒体を作製した。種々の評価結果を第１表の比
較例３に示す。テクスチャー処理後のＮｉＰメッキ表面
粗さは９８Åであり、またこの媒体のＣＳＳ繰り返し20
000 回後の摩擦係数は０．２８と良好であったが、ヘッ
ド浮上量は平均で０．０８６μｍであった。

【００３１】（比較例４）第二のテクスチャー処理を、
平均砥粒径１μｍの白色アルミナからなる研磨テープを
用いて行った実施例１と全く同様にして磁気ディスク媒
体を作製した。種々の評価結果を第１表の比較例４に示
す。テクスチャー処理後のＮｉＰメッキ表面粗さは６５
Åであった。この媒体は、ＣＳＳ繰り返し試験で著しい
磨耗を生じ、1000回未満でクラッシュした。

【００３２】

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明は、非磁
性体の表面に関しては先端曲率０．５μｍのダイヤモン
ド触針で測定した場合の中心線平均粗さＲａが４０Å以
上８０Å以下に粗面化されており、且つカーボン膜に関
しては膜中の水素量が２０ａｔ％以上４０ａｔ％以下の
ように設定されてなることに特徴と有する。このような
磁気記録媒体によれば、硬質スライダーに対し、摩擦係
数を低減し対磨耗性を向上させ、ＣＳＳ耐久性を大幅に
向上させるとができると共に、ヘッドの媒体からの浮上
量を大幅に低下させることができるので高密度記録化を
実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施例１と比較例２及び４に係る
磁気ディスク媒体のＣＳＳ試験結果を示すグラフ図であ
る。

【図２】本発明に係る実施例１と比較例３に係る磁気デ
ィスク媒体でのヘッド浮上試験の結果を示すグラフであ
る。

【図３】磁気記録媒体の層構成を示す断面模式図であ
る。

【図４】水素含有のカーボン膜を有する磁気記録媒体に
おいて、スパッタリングガスへのメタン混入量に対する
カーボン膜の微小高度の変化を示すグラフである。

【図５】図４におけるメタン混入量の異なる３つのケー
ス（ケース１〜３）のカーボン膜のラマンスペクトルを
示すグラフである。

【図６】上記３つのケースのＣＳＳサイクルと摩擦係数
の変化を示すグラフである。

【図７】（ａ）はカーボン保護層の蛍光分を含むラマン
スペクトルを示す波形図、（ｂ）は（ａ）に示すラマン
スペクトルから蛍光分を除去したラマンシフトを示す波
形図である。

【符号の説明】

１ａ・・・非磁性基板１ａ １ｂ・・・非磁性金属層（硬化層） ２ ・・・ 金属下地層 ３ ・・・ 磁性層 ４ ・・・ 保護膜 ５ ・・・ 潤滑層 １１・・・ 非磁性基板 １２・・・ 非磁性金属層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 テクスチャリング処理を施して表面粗面
   化した非磁性基体の上に、磁性層、保護膜が積層形成さ
   れてなる磁気記録媒体において、 前記保護膜は２０ａｔ％以上４０ａｔ％以下の水素を含
   有するカーボン膜であり、且つ前記非磁性基体の表面を
   先端曲率０．５μｍのダイヤモンド触針で測定したとき
   の中心線平均粗さＲａが４０Å以上８０Å以下であるこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 テクスチャリング処理を施して表面粗面
   化した非磁性基体の上に、磁性層、保護膜が積層形成さ
   れてなる磁気記録媒体において、 前記保護膜は、波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレ
   ーザー励起によるラマンスペクトル解析により得られる
   ラマンスペクトルから蛍光によるバックグラウンド分を
   除き、当該ラマンスペクトルをガウス関数で２つのピー
   クに分離して、１５４５〜１５７５ｃｍ^-1領域のピーク
   の面積強度をＤとし、１３４０〜１４４０ｃｍ^-1領域の
   ピークの面積強度をＧとしたときに、これらの比率（Ｄ
   ／Ｇ）が１．２〜２．５の範囲内にあり、且つ前記非磁
   性基体の表面を先端曲率０．５μｍのダイヤモンド触針
   で測定したときの中心線平均粗さＲａが４０Å以上８０
   Å以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の磁気記録
   媒体において、前記保護膜の硬度が６５ＧＰａ以上であ
   ることを特徴とする磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に
   記載の磁気記録媒体の製造方法において、前記非磁性基
   体のテクスチャリング処理は、平均粒径２μｍ以下の白
   色アルミナ砥粒を用いたスラリー加工工程を少なくとも
   含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。