JPH0634092B2 - 排ガス冷却装置の制御方法及びその装置 - Google Patents

排ガス冷却装置の制御方法及びその装置

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JPH0634092B2
JPH0634092B2 JP1051296A JP5129689A JPH0634092B2 JP H0634092 B2 JPH0634092 B2 JP H0634092B2 JP 1051296 A JP1051296 A JP 1051296A JP 5129689 A JP5129689 A JP 5129689A JP H0634092 B2 JPH0634092 B2 JP H0634092B2
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弘道 前川
久 石川
靖志 池上
仁志 金沢
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Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
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Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、各種加熱処理施設の排ガス出口部に設置した
排ガス冷却装置を制御する方法及び装置に関するもので
ある。更に詳しく述べると本発明は、排ガス冷却装置を
通る高温排ガスの温度と、供給する冷却気体の流量とを
制御することにより、配管等に付着する粉塵量を低減す
る方法及びその方法を実施するための装置に関するもの
である。
この技術は、高レベル放射性廃液のガラス溶融炉、放射
性廃棄物溶融炉や放射性廃棄物焼却炉、その他一般産業
における加熱処理設備等で用いる排ガス冷却装置の制御
に適用できる。
[従来の技術] 以下、第4図に示す高レベル放射性廃棄物のガラス溶融
炉を例にとって説明する。このガラス溶融炉10は10
00℃以上に加熱される高温ガラス12を内蔵し、その
高温ガラス12の上にガラス原料及び廃液14を供給し
溶融する装置である。ガラス溶融炉は高温で廃液を処理
することから、排ガスは0.1g/Nm3程度の高濃度の
粉塵を含み、排ガス温度は運転条件により200〜10
00℃程度まで変化する。排ガスは排ガス配管19によ
り排ガス処理系20に導かれ、そこで除塵、洗浄され
る。しかし排ガス配管19は排ガス中の高濃度の粉塵に
よってしばしば閉塞する。
このためガラス溶融炉10の排ガス出口部16に排ガス
冷却装置18を設置し、冷却した排ガスを排ガス処理系
20に送っている。
排ガス冷却装置18は例えば第5図に示すような構成で
ある。即ち、排ガス流通管(内管)22と外管24との
二重管構造をなし、排ガス流通管22の管壁に冷却気体
流入穴26を形成し、排ガス流通管22と外管24とか
らなる円筒状の空間27と連通するように冷却気体入口
配管28を設けてなる。冷却気体流入穴26は冷却気体
が排ガスの流れ方向に吹き出すような向きで多数形成さ
れる。
ガラス溶融炉10で発生した排ガスは排ガス流通管22
を通る。このとき冷却気体30が冷却気体入口配管28
から入り、排ガス流通管22と外管24との間の空間2
7を通って冷却気体流入穴26から排ガス流通管22の
内壁に沿って吹き出し、流通する高温排ガスを冷却する
と共に、排ガス流通管22の内壁に沿って冷却気体の薄
い層を形成し、粉塵の付着を防止するのである。
[発明が解決しようとする課題] 従来技術では排ガス温度を排ガス中の低融点粉塵の溶融
温度以下に冷却することだけを目的として運転してお
り、冷却気体をそのまま(温度調節することなく)、ま
た流量も特に考慮することなくほぼ一定量で供給してい
た。そのためガラス原料及び廃液14の供給速度が大き
くなった場合などにはガラス溶融炉10の排ガス出口部
16での排ガス温度が低くなり、排ガス中に含まれるホ
ウ酸、硝酸あるいは水蒸気が凝縮・析出し、あるいは排
ガス中に含まれる粉塵を同伴して排ガス流通管22の内
面に付着し、それを閉塞させることがあった。
排ガス流量はガラス溶融炉の廃液供給速度及び運転温度
等の運転条件によって大きく変動する。しかし、従来技
術では冷却気体流量を一定に保って運転していたため
に、排ガス流量変動に対して冷却気体の流量が不適当に
なり、そのため安定な冷却気体の層が形成されず、排ガ
ス流通管22の内面に粉塵が付着し、閉塞することがあ
った。
上記のいずれの場合でも、排ガス流通管22の内面に粉
塵が付着し管の閉塞に至れば運転の中断となり、換気不
能になれば放射能の漏洩につながる可能性がある。例え
閉塞に至らない場合でも、実質的な配管径の減少となる
ため排ガス量が排気系の能力を上回り、運転の中断につ
ながる。
更に排ガス中の硝酸が凝縮し管壁に付着すると配管の腐
食を引き起こす可能性があり、保守・点検コストの増大
をもたらす。
本発明の目的は、上記のような従来技術の欠点を解消
し、配管の閉塞あるいは配管の腐食などの発生を防止
し、長期間にわたる連続運転を可能にすると共に、安全
性の向上、保守・点検頻度の低減を図ることができる排
ガス冷却装置のための制御技術を提供することにある。
[問題を解決するための手段] 本発明は、排ガス流通管の管壁に冷却気体流入穴を形成
し、冷却気体を管内壁に沿って吹き出させることにより
高温排ガスを冷却する排ガス冷却装置を制御する方法で
ある。上記のような目的を達成するため本発明では、排
ガス温度を排ガス中成分の凝縮・析出温度以上で且つ排
ガス成分中の低融点物質の溶融温度以下に保つと共に、
冷却気体流入速度と排ガス流速との比を0.6〜1.4
の範囲内に制御する。
特に、高温排ガスがガラス溶融炉からの排ガスである場
合には、排ガス温度を130〜400℃の範囲内に制御
するのが好ましい。
この方法を実施するための制御装置は、排ガス冷却装置
の出口部に設けた温度計及び流量計と、供給する冷却気
体の温度調節器及び流量調節弁と、前記温度計及び流量
計の測定結果に基づき前記温度調節器及び流量調節弁を
制御する制御部とによって構成できる。
[作用] 各種加熱処理施設における排ガス出口部での粉塵付着や
配管閉塞の発生は、第2図及び第3図に示すように、排
ガスの温度や、排ガスと冷却気体の速度比と相関があ
る。排ガス温度を排ガス中成分の凝縮・析出温度以上で
且つ排ガス成分中の低融点物質の溶融温度以下に保つと
共に排ガス流速に合わせた冷却気体流入速度を設定する
と、排ガス流通管の内面に安定な冷却気体の層が形成さ
れ、排ガス出口部への粉塵付着・配管閉塞が生じ難くな
る。
排ガス温度の制御は供給する冷却気体の温度調整によっ
て行われ、冷却気体流入速度の制御は供給する冷却気体
の流量調整によって行なわれる。
[実施例] 本発明に係る制御装置を高レベル放射性廃液のガラス溶
融炉に適用した例を第1図に示す。ガラス溶融炉10自
体の基本的な構成は前記第4図に示すものと同様であっ
てよい。そこで説明を簡略化するため対応する部分には
同一符号を付し、それらについての詳細な説明は省略す
る。また排ガス冷却装置18の構成は前記第5図に示す
ものと同様であってよいため、それを参照しながら説明
する。
ガラス溶融炉10からの高温の排ガスは排ガス出口部1
6を通り排ガス冷却装置18に導入され、排ガス流通管
22内を流れる。冷却気体30は排ガス冷却装置18の
冷却気体入口配管28から入り、排ガス流通管22と外
管24とからなる空間27を通り、冷却気体流入穴26
から下流側に向かって(排ガスの流通方向に)吹き出
す。これによって高温排ガスを冷却する。そして冷却さ
れた排ガスは排ガス配管19を通って排ガス処理系20
に至り、そこで除塵、洗浄される。
本発明では排ガス冷却装置18の出口部に温度計32と
流量計34を設けると共に、冷却気体の供給路42に冷
却気体の温度調節器36と流量調節弁38を設ける。ま
た前記温度計32と流量計34で測定した値に基づき温
度調節器36及び流量調節弁38を制御する制御部40
を設ける。
ここで制御部40では、排ガスの温度が排ガス中の成分
の凝縮・析出温度以上で、且つ付着粉塵の溶融温度以下
となるように制御する。ガラス溶融炉の場合、低温側の
析出成分はホウ酸が主成分である。ホウ酸析出温度の測
定結果を第2図に示す。このグラフから、供給する空気
(冷却気体)流量が大きい場合には排ガス温度を130
℃以上に設定すれば凝縮・析出は生じない。また高温側
に関しては排ガス流通管22内面への付着粉塵の溶融温
度の測定結果から、400℃以下に設定すれば粉塵の固
着防止が可能である。冷却気体としては、空気のほか水
蒸気などであってもよい。冷却気体の温度は、排ガス冷
却装置18の排ガス出口部の温度を温度計32で測定
し、それが所定の温度になるように制御部40によって
温度調節器36を制御することにより行う。
また排ガス中の粉塵の排ガス流通管22への付着を抑制
するためには、冷却気体の流量を制御する。冷却気体流
入速度(冷却気体流入穴26から流入する速度)と排ガ
ス速度との比に対する粉塵付着量の測定結果を第3図に
示す。同図から判るように冷却気体流入速度は排ガス速
度に近いことが望ましい。具体的には、速度比(冷却気
体流入速度/排ガス速度)が0.6〜1.4の範囲が好
ましく、特に1.0近傍に設定するのがよい。このよう
な値に設定すると、粉塵付着量を最小限度にできる。そ
のためには排ガス冷却装置18の排ガス出口部の排ガス
流量を流量計34で測定し、速度比がほぼ1.0になる
ように制御部40によって流量調節弁38の開閉状態を
調節し冷却気体の流量を制御すればよい。
本発明においては排ガス温度が低下した場合は、それを
温度計32で検知し、温度調節器36により昇温した冷
却気体(排ガスに対しては冷却となる)を冷却気体流入
穴26から流入させる。それによって排ガス温度を制御
し排ガス中の成分の凝縮・析出を防止することが可能で
ある。また排ガス流量を増加した場合には、それを流量
計34によって検知し、流量調節弁38により冷却気体
流量を増加させ冷却気体流入速度を排ガス速度に合わせ
る。これらによって排ガス流通管22内面への粉塵付着
を抑制でき、安定した運転を継続できる。
実験結果によれば、排ガス冷却装置18への粉塵付着量
は、従来約110mg/hであったものが、本発明によっ
て7mg/hと約1/16に低減できた。また粉塵の付着
状態は、従来の場合と異なり容易に剥離できるものであ
った。
なおガラス溶融炉の排ガス流量を安定している場合は、
冷却気体の流量調節弁を設けず温度調節器のみでも所期
の目的を達しうる。本発明は高レベル放射性廃液のガラ
ス溶融炉のみならず、粉塵を多量に含む排ガスが発生す
る各種加熱処理設備に適用できる。
[発明の効果] 本発明は上記のように、排ガス冷却装置の出口部の温度
及び流量を測定し、排ガス温度を所定の温度になるよう
に供給する冷却気体の温度を制御し、更に冷却気体流入
速度を排ガス速度に合わせるように制御するようにした
から、排ガス冷却装置内部への粉塵付着速度が十分に遅
くなり、付着粉塵量を従来技術に比べて大幅に低減でき
る。
また付着粉塵は容易に除去できる状態であるために、仮
に粉塵の累積付着量が多くなった場合でも、通常の運転
停止時に簡単な粉塵除去装置により十分除去できる。こ
れらの結果、常時安定した運転性が得られ、保守・点検
の頻度も低下する。更に排ガス中の硝酸等の凝縮も防止
できるため、配管の腐食が生じ難く、配管の交換を行う
必要はほとんど無くなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る制御装置をガラス溶融炉に適用し
た一例を示す説明図、第2図はホウ酸析出温度の測定結
果を示すグラフ、第3図は速度比と粉塵付着量との関係
の測定結果を示すグラフである。 第4図は従来のガラス溶融炉の一例を示す説明図、第5
図は排ガス冷却装置の一例を示す断面図である。 10……ガラス溶融炉、16……排ガス出口部、18…
…排ガス冷却装置、22……排ガス流通管、24……外
管、26……冷却気体流入穴、30……冷却気体、32
……温度計、34……流量計、36……温度調節器、3
8……流量調節弁、40……制御部。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】排ガス流通管の管壁に冷却気体流入穴を形
    成し、排ガス流通管の内壁に沿って冷却気体を吹き出さ
    せることにより高温排ガスを冷却する排ガス冷却装置を
    制御する方法であって、排ガス温度を排ガス中成分の凝
    縮・析出温度以上で且つ排ガス成分中の低融点物質の溶
    融温度以下に制御すると共に、冷却気体流入速度と排ガ
    ス流速との比を0.6〜1.4の範囲内に制御すること
    を特徴とする排ガス冷却装置の制御方法。
  2. 【請求項2】高温排ガスがガラス溶融炉からの排ガスで
    あり、排ガス温度を130〜400℃の範囲内に制御す
    る請求項1記載の制御方法。
  3. 【請求項3】排ガス冷却装置の出口部に設けた温度計及
    び流量計と、供給する冷却気体の温度調節器及び流量調
    節弁と、前記温度計及び流量計の測定結果に基づき前記
    温度調節器及び流量調節弁を制御する制御部を備えてい
    る排ガス冷却装置の制御装置。
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