JPH06336482A - 三環式化合物 - Google Patents
三環式化合物Info
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- JPH06336482A JPH06336482A JP12630493A JP12630493A JPH06336482A JP H06336482 A JPH06336482 A JP H06336482A JP 12630493 A JP12630493 A JP 12630493A JP 12630493 A JP12630493 A JP 12630493A JP H06336482 A JPH06336482 A JP H06336482A
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- oxo
- fluorophenyl
- ester
- benzodiazepine
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 コレシストキニン拮抗作用を有する新規な三
環式化合物を提供する。 【構成】 下記一般式で示される化合物。 【化１】 Ｘは−Ｏ−等、Ａは−ＣＨ2 −等、Ｒ1 はハロゲンで置
換されたフェニル等、Ｒ2 は水素、Ｒ3 はアルキルチオ
で置換されたフェニル等。
環式化合物を提供する。 【構成】 下記一般式で示される化合物。 【化１】 Ｘは−Ｏ−等、Ａは−ＣＨ2 −等、Ｒ1 はハロゲンで置
換されたフェニル等、Ｒ2 は水素、Ｒ3 はアルキルチオ
で置換されたフェニル等。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、コレシストキニン
（ＣＣＫ）拮抗作用を有する新規三環式化合物に関する
ものであり医療の分野で利用される。
（ＣＣＫ）拮抗作用を有する新規三環式化合物に関する
ものであり医療の分野で利用される。
【０００２】
【従来の技術】三環式化合物は知られているが、この発
明の下記一般式（１）で示される三環式化合物は知られ
ていない。
明の下記一般式（１）で示される三環式化合物は知られ
ていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ＣＣＫ拮抗作用を有し
医薬として有用な化合物は知られているが、この発明は
さらに優れた医薬品の開発を意図してなされたものであ
る。
医薬として有用な化合物は知られているが、この発明は
さらに優れた医薬品の開発を意図してなされたものであ
る。
【０００４】
【発明の構成】この発明は新規三環式化合物および医薬
として許容されるその塩類に関するものである。さらに
詳細には、この発明は下記一般式（１）で示されるコレ
シストキニン（ＣＣＫ）拮抗物質であり、従って膵炎、
胆のう障害（例えば、急性胆のう炎、結石など）、胃不
全麻痺、膵癌、インスリノーマ、悪心、嘔吐、食欲調
節、痛み、腸管平滑筋活性亢進に伴う障害（例えば、過
敏性腸症候群、括約筋れん縮など）、高インスリン血
症、消化不良などのための予防および／または治療薬と
して有用な新規三環式化合物および医薬として許容され
るその塩類に関するものである。この発明の三環式化合
物は下記一般式（１）で示すことができる。
として許容されるその塩類に関するものである。さらに
詳細には、この発明は下記一般式（１）で示されるコレ
シストキニン（ＣＣＫ）拮抗物質であり、従って膵炎、
胆のう障害（例えば、急性胆のう炎、結石など）、胃不
全麻痺、膵癌、インスリノーマ、悪心、嘔吐、食欲調
節、痛み、腸管平滑筋活性亢進に伴う障害（例えば、過
敏性腸症候群、括約筋れん縮など）、高インスリン血
症、消化不良などのための予防および／または治療薬と
して有用な新規三環式化合物および医薬として許容され
るその塩類に関するものである。この発明の三環式化合
物は下記一般式（１）で示すことができる。
【０００５】
【化６】 ［式中Ｘは−Ｏ−，一般式
【０００６】
【化７】
【０００７】（Ｒ4 は低級アルキル基を意味する）で示
される基または−ＣＨ2 −、Ａは−ＣＨ2 −または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 −、Ｒ1 は１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいアリール基、Ｒ2 は水素、Ｒ3 はハロゲン、
低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、モ
ノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル、スル
ホ、ハロスルホニル、低級アルキルスルホニル、低級ア
ルキルピペラジニルスルホニル、およびオキソを有する
ピロリジニル（低級）アルキルアミノスルホニルよりな
る群から選択された１個または２個の置換基を有してい
てもよいフェニル基；インダニル基；ピリジル基；モル
ホリニル基；インドリル基；ジヒドロベンゾジオキシニ
ル基；アダマンチル基；１個以上の適当な置換基を有し
ていてもよいアリールアミノ基；１個以上の適当な置換
基を有していてもよいアリールカルバモイル（低級）ア
ルキル基；低級アルキルチオ、アリール、カルボキシ、
保護されたカルボキシ、アミノ、および保護されたアミ
ノよりなる群から選択された１個または２個の置換基を
有する低級アルキル基；または一般式
される基または−ＣＨ2 −、Ａは−ＣＨ2 −または−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 −、Ｒ1 は１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいアリール基、Ｒ2 は水素、Ｒ3 はハロゲン、
低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、モ
ノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル、スル
ホ、ハロスルホニル、低級アルキルスルホニル、低級ア
ルキルピペラジニルスルホニル、およびオキソを有する
ピロリジニル（低級）アルキルアミノスルホニルよりな
る群から選択された１個または２個の置換基を有してい
てもよいフェニル基；インダニル基；ピリジル基；モル
ホリニル基；インドリル基；ジヒドロベンゾジオキシニ
ル基；アダマンチル基；１個以上の適当な置換基を有し
ていてもよいアリールアミノ基；１個以上の適当な置換
基を有していてもよいアリールカルバモイル（低級）ア
ルキル基；低級アルキルチオ、アリール、カルボキシ、
保護されたカルボキシ、アミノ、および保護されたアミ
ノよりなる群から選択された１個または２個の置換基を
有する低級アルキル基；または一般式
【０００８】
【化８】 （Ｒ5 は低級アルキル基、Ｙはハロゲンを夫々意味す
る）で示される基；のいずれかを意味するか、または式
る）で示される基；のいずれかを意味するか、または式
【０００９】
【化９】 で示される基が一般式
【００１０】
【化１０】 （Ｒ6 はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基）
で示される基を意味する］この発明の三環式化合物
（１）は下記反応式によって示される製造法１〜９の方
法に従って製造することができる。
で示される基を意味する］この発明の三環式化合物
（１）は下記反応式によって示される製造法１〜９の方
法に従って製造することができる。
【００１１】製造法１
【００１２】
【化１１】 製造法２
【００１３】
【化１２】 製造法３
【００１４】
【化１３】 製造法４
【００１５】
【化１４】 製造法５
【００１６】
【化１５】 製造法６
【００１７】
【化１６】 製造法７
【００１８】
【化１７】 製造法８
【００１９】
【化１８】 製造法９
【００２０】
【化１９】
【００２１】製造法１〜９における各記号の意味は下記
の通りである。Ｘ，Ａ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ5 および
Ｙは夫々前と同じ意味である。Ｒ7 は低級アルキル基、
Ａ1 ，Ａ2 は低級アルキレン基、Ｒ8 はオキソを有する
ピロリジニル基、Ｒ3aはハロスルホニル基、Ｒ3bは低級
アルキルチオ基、Ｒ3cは低級アルキルスルホニル基 Ｒ9 はアリール基、またＲ10，Ｒ11はアミノ保護基、を
夫々意味する。
の通りである。Ｘ，Ａ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ5 および
Ｙは夫々前と同じ意味である。Ｒ7 は低級アルキル基、
Ａ1 ，Ａ2 は低級アルキレン基、Ｒ8 はオキソを有する
ピロリジニル基、Ｒ3aはハロスルホニル基、Ｒ3bは低級
アルキルチオ基、Ｒ3cは低級アルキルスルホニル基 Ｒ9 はアリール基、またＲ10，Ｒ11はアミノ保護基、を
夫々意味する。
【００２２】製造法２で用いられる原料化合物（８）は
新規化合物であり、例えばカルボキシ基におけるその反
応性誘導体は、後記実施例に示す様に前記原料化合物
（６）に例えばカルボニルジイミダゾール等の活性尿素
化合物を反応させて原料化合物（８）のカルボキシ基に
おける活性アミド誘導体へ導くことによって製造でき
る。また原料化合物（８）を遊離のカルボン酸化合物と
して得たい場合は、前記原料化合物（６）に例えばホス
ゲンを作用させて対応のイソシアネート化合物に導いた
後、加水分解することによって製造できる。
新規化合物であり、例えばカルボキシ基におけるその反
応性誘導体は、後記実施例に示す様に前記原料化合物
（６）に例えばカルボニルジイミダゾール等の活性尿素
化合物を反応させて原料化合物（８）のカルボキシ基に
おける活性アミド誘導体へ導くことによって製造でき
る。また原料化合物（８）を遊離のカルボン酸化合物と
して得たい場合は、前記原料化合物（６）に例えばホス
ゲンを作用させて対応のイソシアネート化合物に導いた
後、加水分解することによって製造できる。
【００２３】三環式化合物（１）における医薬として許
容される好適な塩類とは常用の無毒性塩類であり、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、およ
び例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土
類金属塩の様な金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメ
チルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコ
リン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベン
ジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、酢酸塩、トルエンスルホン酸塩、
トリフルオロ酢酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばアルギ
ニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との
塩等が挙げられる。
容される好適な塩類とは常用の無毒性塩類であり、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、およ
び例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土
類金属塩の様な金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメ
チルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコ
リン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベン
ジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、酢酸塩、トルエンスルホン酸塩、
トリフルオロ酢酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばアルギ
ニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との
塩等が挙げられる。
【００２４】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に述べる。「低級」とは、特に
指示がなければ、炭素原子１個ないし６個を意味するも
のとする。「高級」とは、特に指示がなければ、炭素原
子７個ないし２０個を意味するものとする。
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に述べる。「低級」とは、特に
指示がなければ、炭素原子１個ないし６個を意味するも
のとする。「高級」とは、特に指示がなければ、炭素原
子７個ないし２０個を意味するものとする。
【００２５】Ｘで示される基のうち一般式（２）におけ
るＲ4 の低級アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二級ブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、第三級ペンチル、ヘキ
シル等の炭素原子１個ないし６個、好ましくは炭素原子
１個ないし４個を有する直鎖または分岐鎖アルキル基が
好適なものとして例示される。
るＲ4 の低級アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二級ブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、第三級ペンチル、ヘキ
シル等の炭素原子１個ないし６個、好ましくは炭素原子
１個ないし４個を有する直鎖または分岐鎖アルキル基が
好適なものとして例示される。
【００２６】Ｒ1 の好適な「アリール基」としては、フ
ェニル、ナフチル等が挙げられ、上記アリール基はハロ
ゲン、アミノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル等の適当
な置換基１個以上、好ましくは１個ないし３個を有して
いてもよい。
ェニル、ナフチル等が挙げられ、上記アリール基はハロ
ゲン、アミノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル等の適当
な置換基１個以上、好ましくは１個ないし３個を有して
いてもよい。
【００２７】好適な「ハロゲン」および「モノ（または
ジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル」における好適な
「ハロゲン部分」としては塩素、臭素、フッ素および沃
素が挙げられる。好適な「低級アルキル」および「モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル」におけ
る好適な「低級アルキル部分」としては、先にＲ4 の低
級アルキル基として例示したものが同様の趣旨で再掲さ
れる。
ジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル」における好適な
「ハロゲン部分」としては塩素、臭素、フッ素および沃
素が挙げられる。好適な「低級アルキル」および「モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル」におけ
る好適な「低級アルキル部分」としては、先にＲ4 の低
級アルキル基として例示したものが同様の趣旨で再掲さ
れる。
【００２８】従って好適な「モノ（またはジまたはト
リ）ハロ（低級）アルキル」としては、２−クロロエチ
ル、２−フルオロエチル、１，２−ジクロロエチル、
１，２−ジフルオロエチル、３−フルオロプロピル、
３，４−ジクロロブチル等が挙げられる。好適な「低級
アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、第三級
ブトキシ、ペンチルオキシ、第三級ペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシ等が挙げられる。
リ）ハロ（低級）アルキル」としては、２−クロロエチ
ル、２−フルオロエチル、１，２−ジクロロエチル、
１，２−ジフルオロエチル、３−フルオロプロピル、
３，４−ジクロロブチル等が挙げられる。好適な「低級
アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、第三級
ブトキシ、ペンチルオキシ、第三級ペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシ等が挙げられる。
【００２９】Ｒ3 における「フェニル基」に置換され得
る基について以下説明する。ハロゲン、モノ（またはジ
またはトリ）ハロ（低級）アルキル、ハロスルホニルに
おける「ハロゲン部分」としては前記と同様、塩素、臭
素、フッ素および沃素等が挙げられる。「低級アルキ
ル」、「低級アルキルチオ」、「モノ（またはジまたは
トリ）ハロ（低級）アルキル」、「低級アルキルスルホ
ニル」、「低級アルキルピペラジニルスルホニル」、
「オキソを有するピロリジニル（低級）アルキルアミノ
スルホニル」における「低級アルキル部分」としては、
前記と同様メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第二級ブチル、第三級ブチル、ペ
ンチル、第三級ペンチル、ヘキシル等が同様の趣旨で例
示される。尚これらの「低級アルキル」に対する「ハロ
ゲン」や「ピロリジニル」の置換位置、更には「ピペラ
ジニル」に対する「低級アルキル」の置換位置等は特に
限定されるものではない。
る基について以下説明する。ハロゲン、モノ（またはジ
またはトリ）ハロ（低級）アルキル、ハロスルホニルに
おける「ハロゲン部分」としては前記と同様、塩素、臭
素、フッ素および沃素等が挙げられる。「低級アルキ
ル」、「低級アルキルチオ」、「モノ（またはジまたは
トリ）ハロ（低級）アルキル」、「低級アルキルスルホ
ニル」、「低級アルキルピペラジニルスルホニル」、
「オキソを有するピロリジニル（低級）アルキルアミノ
スルホニル」における「低級アルキル部分」としては、
前記と同様メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第二級ブチル、第三級ブチル、ペ
ンチル、第三級ペンチル、ヘキシル等が同様の趣旨で例
示される。尚これらの「低級アルキル」に対する「ハロ
ゲン」や「ピロリジニル」の置換位置、更には「ピペラ
ジニル」に対する「低級アルキル」の置換位置等は特に
限定されるものではない。
【００３０】従ってＲ3 における「フェニル基」に置換
され得る基を更に具体的に例示すると、クロロ、フルオ
ロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、２−クロロエチル、２−ブロモエチ
ル、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、
トリフルオロメチル、スルホ、クロロスルホニル、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、４−メチルピペラジ
ニルスルホニル、（４−メチルピペラジン−１−イル）
スルホニル、（４−エチルピペラジン−１−イル）スル
ホニル、３−（２−オキソピロリジン−１−イル）プロ
ピルアミノスルホニル、２−（３−オキソピロリジン−
１−イル）エチルアミノスルホニル等を挙げることがで
きる。
され得る基を更に具体的に例示すると、クロロ、フルオ
ロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、２−クロロエチル、２−ブロモエチ
ル、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、
トリフルオロメチル、スルホ、クロロスルホニル、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、４−メチルピペラジ
ニルスルホニル、（４−メチルピペラジン−１−イル）
スルホニル、（４−エチルピペラジン−１−イル）スル
ホニル、３−（２−オキソピロリジン−１−イル）プロ
ピルアミノスルホニル、２−（３−オキソピロリジン−
１−イル）エチルアミノスルホニル等を挙げることがで
きる。
【００３１】Ｒ3 で示されるインダニル基、ピリジル
基、モルホリニル基、インドリル基、ジヒドロベンゾジ
オキシニル基、アダマンチル基は、それらが置換基とな
る場合における結合手の位置は特に限定されない。Ｒ3
におけるアリールアミノ基やアリールカルバモイル（低
級）アルキル基における「アリール部分」や「低級アル
キル部分」としては先に例示した様なものを同様の趣旨
で再掲することができ、これらの基に置換され得る１個
以上の適当な置換基としては、前記Ｒ1 の説明において
例示した様な好適な置換基を同様の趣旨で再掲すること
ができる。
基、モルホリニル基、インドリル基、ジヒドロベンゾジ
オキシニル基、アダマンチル基は、それらが置換基とな
る場合における結合手の位置は特に限定されない。Ｒ3
におけるアリールアミノ基やアリールカルバモイル（低
級）アルキル基における「アリール部分」や「低級アル
キル部分」としては先に例示した様なものを同様の趣旨
で再掲することができ、これらの基に置換され得る１個
以上の適当な置換基としては、前記Ｒ1 の説明において
例示した様な好適な置換基を同様の趣旨で再掲すること
ができる。
【００３２】更にＲ3 で示される基のうち、低級アルキ
ルチオ、アリール、カルボキシ、保護されたカルボキ
シ、アミノ、および保護されたアミノよりなる群から選
択された１個または２個の置換基を有する低級アルキル
基における「低級アルキルチオ」，「アリール」，「低
級アルキル」としてはこれまでに例示したものが同様の
趣旨で再掲される。またここにおいて「保護されたカル
ボキシ」としては、エステル化されたカルボキシ基等が
挙げられ、そのエステル部分の好適な例としては、適当
な置換基少なくとも１個を有していてもよい例えばメチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル、例えばアセトキ
シメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルエステル、１（または２）−アセ
トキシエチルエステル、１（または２または３）−アセ
トキシプロピルエステル、１（または２または３または
４）−アセトキシブチルエステル、１（または２）−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、１（または２または
３）−プロピオニルオキシプロピルエステル、１（また
は２）−ブチリルオキシエチルエステル、１（または
２）−イソブチリルオキシエチルエステル、１（または
２）−ピバロイルオキシエチルエステル、１（または
２）−ヘキサノイルオキシエチルエステル、イソブチリ
ルオキシメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメ
チルエステル、３，３−ジメチルブチリルオキシメチル
エステル、１（または２）−ペンタノイルオキシエチル
エステル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキル
エステル、例えば２−メシルエチルエステル等の低級ア
ルカンスルホニル（低級）アルキルエステル、例えば２
−ヨードエチルエステル、２，２，２−トリクロロエチ
ルエステル等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低
級）アルキルエステル、例えばメトキシカルボニルオキ
シメチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチルエ
ステル、２−メトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、１−エトキシカルボニルオキシエチルエステル、１
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル等の
低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アルキルエス
テル、フタリジリデン（低級）アルキルエステル、また
は例えば（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ール−４−イル）メチルエステル、（５−エチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチルエス
テル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ール−４−イル）エチルエステル等の（５−低級アルキ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）
（低級）アルキルエステル；例えばビニルエステル、ア
リルエステル等の低級アルケニルエステル；例えばエチ
ニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニル
エステル；例えばベンジルエステル、４−メトキシベン
ジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチ
ルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステ
ル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３，４
−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，
５−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基
少なくとも１個を有していてもよいモノ（またはジまた
はトリ）フェニル（低級）アルキルエステルのような適
当な置換基少なくとも１個を有していてもよいアル（低
級）アルキルエステル；例えばフェニルエステル、４−
クロロフェニルエステル、トリルエステル、第三級ブチ
ルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の適当な置換少なくとも１個
を有していてもよいアリールエステル；フタリジルエス
テル等のようなものが挙げられる。
ルチオ、アリール、カルボキシ、保護されたカルボキ
シ、アミノ、および保護されたアミノよりなる群から選
択された１個または２個の置換基を有する低級アルキル
基における「低級アルキルチオ」，「アリール」，「低
級アルキル」としてはこれまでに例示したものが同様の
趣旨で再掲される。またここにおいて「保護されたカル
ボキシ」としては、エステル化されたカルボキシ基等が
挙げられ、そのエステル部分の好適な例としては、適当
な置換基少なくとも１個を有していてもよい例えばメチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル、例えばアセトキ
シメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルエステル、１（または２）−アセ
トキシエチルエステル、１（または２または３）−アセ
トキシプロピルエステル、１（または２または３または
４）−アセトキシブチルエステル、１（または２）−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、１（または２または
３）−プロピオニルオキシプロピルエステル、１（また
は２）−ブチリルオキシエチルエステル、１（または
２）−イソブチリルオキシエチルエステル、１（または
２）−ピバロイルオキシエチルエステル、１（または
２）−ヘキサノイルオキシエチルエステル、イソブチリ
ルオキシメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメ
チルエステル、３，３−ジメチルブチリルオキシメチル
エステル、１（または２）−ペンタノイルオキシエチル
エステル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキル
エステル、例えば２−メシルエチルエステル等の低級ア
ルカンスルホニル（低級）アルキルエステル、例えば２
−ヨードエチルエステル、２，２，２−トリクロロエチ
ルエステル等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低
級）アルキルエステル、例えばメトキシカルボニルオキ
シメチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチルエ
ステル、２−メトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、１−エトキシカルボニルオキシエチルエステル、１
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル等の
低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アルキルエス
テル、フタリジリデン（低級）アルキルエステル、また
は例えば（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ール−４−イル）メチルエステル、（５−エチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチルエス
テル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ール−４−イル）エチルエステル等の（５−低級アルキ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）
（低級）アルキルエステル；例えばビニルエステル、ア
リルエステル等の低級アルケニルエステル；例えばエチ
ニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニル
エステル；例えばベンジルエステル、４−メトキシベン
ジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチ
ルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステ
ル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３，４
−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，
５−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基
少なくとも１個を有していてもよいモノ（またはジまた
はトリ）フェニル（低級）アルキルエステルのような適
当な置換基少なくとも１個を有していてもよいアル（低
級）アルキルエステル；例えばフェニルエステル、４−
クロロフェニルエステル、トリルエステル、第三級ブチ
ルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の適当な置換少なくとも１個
を有していてもよいアリールエステル；フタリジルエス
テル等のようなものが挙げられる。
【００３３】更にＲ3 における前記「保護されたアミノ
基」としては、アシルアミノ基等が挙げられ、ここにお
ける好適な「アシル部分」としてはカルバモイル、脂肪
族アシル、ならびに芳香族アシルと呼ばれる芳香環を含
むアシル等が挙げられる。
基」としては、アシルアミノ基等が挙げられ、ここにお
ける好適な「アシル部分」としてはカルバモイル、脂肪
族アシル、ならびに芳香族アシルと呼ばれる芳香環を含
むアシル等が挙げられる。
【００３４】上記アシルの好適な例としては、カルバモ
イル；例えばホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタ
ノイル、２−メチルプロパノイル、ペンタノイル、２，
２−ジメチルプロパノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカ
ノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノ
イル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、ヘプタデ
カノイル、オクタデカノイル、ノナデカノイル、イコサ
ノイル等の低級または高級アルカノイル；例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、第三級ブトキシカ
ルボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘプチル
オキシカルボニル等の低級または高級アルコキシカルボ
ニル；例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等の
低級または高級アルカンスルホニル；例えばメトキシス
ルホニル、エトキシスルホニル等の低級または高級アル
コキシスルホニル等のような脂肪族アシル；例えばベン
ゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイル；例えば
フェニルアセチル、フェニルプロパノイル、フェニルブ
タノイル、フェニルイソブタノイル、フェニルペンタノ
イル、フェニルヘキサノイル等のフェニル（低級）アル
カノイル基、例えばナフチルアセチル、ナフチルプロパ
ノイル、ナフチルブタノイル等のナフチル（低級）アル
カノイル等が代表例として挙げられるアル（低級）アル
カノイル；例えばフェニルプロペノイル、フェニルブテ
ノイル、フェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイ
ル、フェニルヘキセノイル等のフェニル（低級）アルケ
ノイル、例えばナフチルプロペノイル、ナフチルブテノ
イル、ナフチルペンテノイル等のナフチル（低級）アル
ケノイル等が代表例として挙げられるアル（低級）アル
ケノイル；例えばベンジルオキシカルボニル等のフェニ
ル（低級）アルコキシカルボニル等が代表例として挙げ
られるアル（低級）アルコキシカルボニル基；例えばフ
ェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等のア
リールオキシカルボニル；例えばフェノキシアセチル、
フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低級）ア
ルカノイル；例えばフェニルカルバモイル等のアリール
カルバモイル；例えばフェニルチオカルバモイル等のア
リールチオカルバモイル；例えばフェニルグリオキシロ
イル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキ
シロイル；例えばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンス
ルホニル等のアレーンスルホニル等のような芳香族アシ
ル；複素環カルボニル；例えばチエニルアセチル、チエ
ニルプロパノイル、チエニルブタノイル、チエニルペン
タノイル、チエニルヘキサノイル、チアゾリルアセチ
ル、チアジアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル等
の複素環（低級）アルカノイル；例えば複素環プロペノ
イル、複素環ブテノイル、複素環ペンテノイル、複素環
ヘキセノイル等の複素環（低級）アルケノイル；例えば
チアゾリルグリオキシロイル、チエニルグリオキシロイ
ル等の複素環グリオキシロイル等のような複素環アシル
基が挙げられ、上記のような「複素環カルボニル」、
「複素環（低級）アルカノイル」、「複素環（低級）ア
ルケノイル」および「複素環グリオキシロイル」の好適
な複素環部分は、さらに詳細には酸素原子、イオウ原
子、窒素原子等のようなヘテロ原子少なくとも１個を含
む飽和または不飽和単環式または多環式複素環を意味す
る。
イル；例えばホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタ
ノイル、２−メチルプロパノイル、ペンタノイル、２，
２−ジメチルプロパノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカ
ノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノ
イル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、ヘプタデ
カノイル、オクタデカノイル、ノナデカノイル、イコサ
ノイル等の低級または高級アルカノイル；例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、第三級ブトキシカ
ルボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘプチル
オキシカルボニル等の低級または高級アルコキシカルボ
ニル；例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等の
低級または高級アルカンスルホニル；例えばメトキシス
ルホニル、エトキシスルホニル等の低級または高級アル
コキシスルホニル等のような脂肪族アシル；例えばベン
ゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイル；例えば
フェニルアセチル、フェニルプロパノイル、フェニルブ
タノイル、フェニルイソブタノイル、フェニルペンタノ
イル、フェニルヘキサノイル等のフェニル（低級）アル
カノイル基、例えばナフチルアセチル、ナフチルプロパ
ノイル、ナフチルブタノイル等のナフチル（低級）アル
カノイル等が代表例として挙げられるアル（低級）アル
カノイル；例えばフェニルプロペノイル、フェニルブテ
ノイル、フェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイ
ル、フェニルヘキセノイル等のフェニル（低級）アルケ
ノイル、例えばナフチルプロペノイル、ナフチルブテノ
イル、ナフチルペンテノイル等のナフチル（低級）アル
ケノイル等が代表例として挙げられるアル（低級）アル
ケノイル；例えばベンジルオキシカルボニル等のフェニ
ル（低級）アルコキシカルボニル等が代表例として挙げ
られるアル（低級）アルコキシカルボニル基；例えばフ
ェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等のア
リールオキシカルボニル；例えばフェノキシアセチル、
フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低級）ア
ルカノイル；例えばフェニルカルバモイル等のアリール
カルバモイル；例えばフェニルチオカルバモイル等のア
リールチオカルバモイル；例えばフェニルグリオキシロ
イル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキ
シロイル；例えばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンス
ルホニル等のアレーンスルホニル等のような芳香族アシ
ル；複素環カルボニル；例えばチエニルアセチル、チエ
ニルプロパノイル、チエニルブタノイル、チエニルペン
タノイル、チエニルヘキサノイル、チアゾリルアセチ
ル、チアジアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル等
の複素環（低級）アルカノイル；例えば複素環プロペノ
イル、複素環ブテノイル、複素環ペンテノイル、複素環
ヘキセノイル等の複素環（低級）アルケノイル；例えば
チアゾリルグリオキシロイル、チエニルグリオキシロイ
ル等の複素環グリオキシロイル等のような複素環アシル
基が挙げられ、上記のような「複素環カルボニル」、
「複素環（低級）アルカノイル」、「複素環（低級）ア
ルケノイル」および「複素環グリオキシロイル」の好適
な複素環部分は、さらに詳細には酸素原子、イオウ原
子、窒素原子等のようなヘテロ原子少なくとも１個を含
む飽和または不飽和単環式または多環式複素環を意味す
る。
【００３５】そしてそのとりわけ好ましい複素環として
は、例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ジヒドロ
ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、例
えば４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等
のトリアゾリル、例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テ
トラゾリル等のテトラゾリル等の窒素原子１個ないし４
個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５また
は６員複素単環；例えば、ピロリジニル、イミダゾリジ
ニル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素原子１個ない
し４個を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５ま
たは６員複素単環；例えば、ピロリジニル、イミダゾリ
ジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素原子１個な
いし４個を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５
または６員複素単環；例えば、インドリル、イソインド
リル、インドリニル、インドリジニル、ベンズイミダゾ
イル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾ
トリアゾリル等の窒素原子１個ないし４個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、オキサゾリル、イソオキサゾリ
ル、例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４
−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル等
のオキサジアゾリル等の酸素原子１個ないし２個および
窒素原子１個ないし３個を含む不飽和３ないし８員、さ
らに好ましくは５または６員複素単環；例えば、モルホ
リニル、シドノニル等の酸素原子１個ないし２個および
窒素原子１個ないし３個を含む飽和３ないし８員、さら
に好ましくは５または６員複素単環；例えば、ベンゾオ
キサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル等の酸素原子１個
ないし２個および窒素原子１個ないし３個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、チアゾリル、イソチアゾリル、例
えば１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジ
アゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−
チアジアゾリル等のチアジアゾリル、ジヒドロチアジニ
ル等のイオウ原子１個ないし２個および窒素原子１個な
いし３個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは
５または６員複素単環；例えば、チアゾリジニル等のイ
オウ原子１個ないし２個および窒素原子１個ないし３個
を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５または６
員複素単環；例えば、チエニル、ジヒドロジチイニル、
ジヒドロジチオニル等のイオウ原子１個ないし２個を含
む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５または６員
複素単環；例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジア
ゾリル等のイオウ原子１個ないし２個および窒素原子１
個ないし３個を含む不飽和縮合複素環；例えば、フリル
等の酸素原子１個を含む不飽和３ないし８員、さらに好
ましくは５ないし６員複素単環；例えば、ジヒドロオキ
サチイニル等の酸素原子１個およびイオウ原子１個ない
し２個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５
または６員複素単環；例えば、ベンゾチエニル、ベンゾ
ジチイニル等のイオウ原子１個ないし２個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、ベンゾオキサチイニル等の酸素原
子１個およびイオウ原子１個ないし２個を含む不飽和縮
合複素環等のような複素環が挙げられる。
は、例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジルおよびそのＮ−オキシド、ジヒドロ
ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、例
えば４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等
のトリアゾリル、例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テ
トラゾリル等のテトラゾリル等の窒素原子１個ないし４
個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５また
は６員複素単環；例えば、ピロリジニル、イミダゾリジ
ニル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素原子１個ない
し４個を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５ま
たは６員複素単環；例えば、ピロリジニル、イミダゾリ
ジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素原子１個な
いし４個を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５
または６員複素単環；例えば、インドリル、イソインド
リル、インドリニル、インドリジニル、ベンズイミダゾ
イル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾ
トリアゾリル等の窒素原子１個ないし４個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、オキサゾリル、イソオキサゾリ
ル、例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４
−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル等
のオキサジアゾリル等の酸素原子１個ないし２個および
窒素原子１個ないし３個を含む不飽和３ないし８員、さ
らに好ましくは５または６員複素単環；例えば、モルホ
リニル、シドノニル等の酸素原子１個ないし２個および
窒素原子１個ないし３個を含む飽和３ないし８員、さら
に好ましくは５または６員複素単環；例えば、ベンゾオ
キサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル等の酸素原子１個
ないし２個および窒素原子１個ないし３個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、チアゾリル、イソチアゾリル、例
えば１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジ
アゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−
チアジアゾリル等のチアジアゾリル、ジヒドロチアジニ
ル等のイオウ原子１個ないし２個および窒素原子１個な
いし３個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは
５または６員複素単環；例えば、チアゾリジニル等のイ
オウ原子１個ないし２個および窒素原子１個ないし３個
を含む飽和３ないし８員、さらに好ましくは５または６
員複素単環；例えば、チエニル、ジヒドロジチイニル、
ジヒドロジチオニル等のイオウ原子１個ないし２個を含
む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５または６員
複素単環；例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジア
ゾリル等のイオウ原子１個ないし２個および窒素原子１
個ないし３個を含む不飽和縮合複素環；例えば、フリル
等の酸素原子１個を含む不飽和３ないし８員、さらに好
ましくは５ないし６員複素単環；例えば、ジヒドロオキ
サチイニル等の酸素原子１個およびイオウ原子１個ない
し２個を含む不飽和３ないし８員、さらに好ましくは５
または６員複素単環；例えば、ベンゾチエニル、ベンゾ
ジチイニル等のイオウ原子１個ないし２個を含む不飽和
縮合複素環；例えば、ベンゾオキサチイニル等の酸素原
子１個およびイオウ原子１個ないし２個を含む不飽和縮
合複素環等のような複素環が挙げられる。
【００３６】前記アシル部分は、例えばフッ素、塩素、
臭素または沃素のようなハロゲン、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の低級アルキル、アミノ基、保護されたアミ
ノ、複素環部分と低級アルキル部分が前記のものを参照
すればよい複素環（低級）アルキルアミノ、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコキ
シ、カルボキシ、保護されたカルボキシ、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル、Ｎ，
Ｎ−ジプロピルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
プロピル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル、Ｎ，Ｎ−
ジプロピルアミノプロピル、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノメ
チル、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジヘ
キシルアミノメチル等のＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルキル、例えばヒドロキシイミノメチ
ル、ヒドロキシイミノエチル、ヒドロキシイミノプロピ
ル、ヒドロキシイミノブチル、ヒドロキシイミノペンチ
ル、ヒドロキシイミノヘキシル等のヒドロキシイミノ
（低級）アルキル、例えばフェニルイミノメチル、フェ
ニルイミノエチル、フェニルイミノプロピル、フェニル
イミノブチル、フェニルイミノペンチル、フェニルイミ
ノヘキシル等のフェニルイミノ（低級）アルキル等が代
表例として挙げられるアリールイミノ（低級）アルキル
基、例えばホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタノ
イル、ペンタノイル、ブタノイル、ヘキサノイル等の低
級アルカノイルのようなアシル、低級アルキル部分と複
素環部分とが前記のものを参照すればよいようなヒドロ
キシ（低級）アルキル複素環（低級）アルキル、モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル、例えば
フェニルアミノ等のアリールアミノ等のような１個ない
し１０個の同じであるかまたは異なる適当な置換基を有
していてもよい。
臭素または沃素のようなハロゲン、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の低級アルキル、アミノ基、保護されたアミ
ノ、複素環部分と低級アルキル部分が前記のものを参照
すればよい複素環（低級）アルキルアミノ、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコキ
シ、カルボキシ、保護されたカルボキシ、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル、Ｎ，
Ｎ−ジプロピルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
プロピル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル、Ｎ，Ｎ−
ジプロピルアミノプロピル、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノメ
チル、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノメチル、Ｎ，Ｎ−ジヘ
キシルアミノメチル等のＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルキル、例えばヒドロキシイミノメチ
ル、ヒドロキシイミノエチル、ヒドロキシイミノプロピ
ル、ヒドロキシイミノブチル、ヒドロキシイミノペンチ
ル、ヒドロキシイミノヘキシル等のヒドロキシイミノ
（低級）アルキル、例えばフェニルイミノメチル、フェ
ニルイミノエチル、フェニルイミノプロピル、フェニル
イミノブチル、フェニルイミノペンチル、フェニルイミ
ノヘキシル等のフェニルイミノ（低級）アルキル等が代
表例として挙げられるアリールイミノ（低級）アルキル
基、例えばホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタノ
イル、ペンタノイル、ブタノイル、ヘキサノイル等の低
級アルカノイルのようなアシル、低級アルキル部分と複
素環部分とが前記のものを参照すればよいようなヒドロ
キシ（低級）アルキル複素環（低級）アルキル、モノ
（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル、例えば
フェニルアミノ等のアリールアミノ等のような１個ない
し１０個の同じであるかまたは異なる適当な置換基を有
していてもよい。
【００３７】更にＲ3 が式（３）で示される基を意味す
る場合におけるＲ5 の好適な低級アルキル基としては、
Ｒ4 で示される低級アルキル基の好適例として掲げたも
のを同様の趣旨で示すことができる。またＹで示される
ハロゲンとしては塩素、臭素、フッ素および沃素が挙げ
られる。尚式（３）で示される基のピリジン骨格におけ
る結合手の位置は特に限定されるものではない。
る場合におけるＲ5 の好適な低級アルキル基としては、
Ｒ4 で示される低級アルキル基の好適例として掲げたも
のを同様の趣旨で示すことができる。またＹで示される
ハロゲンとしては塩素、臭素、フッ素および沃素が挙げ
られる。尚式（３）で示される基のピリジン骨格におけ
る結合手の位置は特に限定されるものではない。
【００３８】Ｒ2 ，Ｒ3 に関する上記説明にもかかわら
ず、Ｒ2 ，Ｒ3 が窒素原子と結合してなる一般式（４）
で示される部分が一般式（５）で示される基を意味する
場合も本発明に含まれる。この場合にＲ6 で示される基
のうち「保護されたカルボキシ基」としては、Ｒ3 に関
して先に説明した様なエステル化されたカルボキシ基の
各種例示が同様の趣旨で示される。
ず、Ｒ2 ，Ｒ3 が窒素原子と結合してなる一般式（４）
で示される部分が一般式（５）で示される基を意味する
場合も本発明に含まれる。この場合にＲ6 で示される基
のうち「保護されたカルボキシ基」としては、Ｒ3 に関
して先に説明した様なエステル化されたカルボキシ基の
各種例示が同様の趣旨で示される。
【００３９】また製法１〜９において使用した記号のう
ち、Ｒ7 で示される低級アルキル基、Ｒ3bの低級アルキ
ルチオ基の低級アルキル部分、Ｒ3cの低級アルキルスル
ホニル基の低級アルキル部分、Ｒ10，Ｒ11のアミノ保護
基のアミノ保護基等についてはＲ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 の説明
として述べたところを参照すればよい。Ａ1 ，Ａ2 で示
される低級アルキレン基としては、メチレン，エチレ
ン，プロピレン，トリメチレン等が挙げられる。目的化
合物（１）の好ましい実施態様は下記の通りである。
ち、Ｒ7 で示される低級アルキル基、Ｒ3bの低級アルキ
ルチオ基の低級アルキル部分、Ｒ3cの低級アルキルスル
ホニル基の低級アルキル部分、Ｒ10，Ｒ11のアミノ保護
基のアミノ保護基等についてはＲ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 の説明
として述べたところを参照すればよい。Ａ1 ，Ａ2 で示
される低級アルキレン基としては、メチレン，エチレ
ン，プロピレン，トリメチレン等が挙げられる。目的化
合物（１）の好ましい実施態様は下記の通りである。
【００４０】
【化２０】
【００４１】Ａは−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ1 はハロフェニル Ｒ2 は水素 Ｒ3 はハロフェニル、低級アルキルフェニル、モノ（ま
たはジ）低級アルコキシフェニル、（低級）アルキルチ
オフェニル、トリハロ（低級）アルキルフェニル、ハロ
ゲンおよびトリハロ（低級）アルキルで置換されたフェ
ニル、スルホフェニル、ハロスルホニルフェニル、低級
アルキルスルホニルフェニル、低級アルキルピペラジニ
ルスルホニルフェニル、２−オキソピロリジニル（低
級）アルキルアミノスルホニルフェニル、インダニル、
ピリジル、モルホリニル、インドリル、ジヒドロベンゾ
ジオキシニル、アダマンチル、ハロフェニルアミノ、低
級アルキルフェニルカルバモイル（低級）アルキル、低
級アルキルチオおよび低級アルコキシカルボニルで置換
された低級アルキル、フェニル（低級）アルキル、フェ
ニルおよびアミノで置換された低級アルキル、フェニル
およびアシルアミノで置換された低級アルキル、 式
たはジ）低級アルコキシフェニル、（低級）アルキルチ
オフェニル、トリハロ（低級）アルキルフェニル、ハロ
ゲンおよびトリハロ（低級）アルキルで置換されたフェ
ニル、スルホフェニル、ハロスルホニルフェニル、低級
アルキルスルホニルフェニル、低級アルキルピペラジニ
ルスルホニルフェニル、２−オキソピロリジニル（低
級）アルキルアミノスルホニルフェニル、インダニル、
ピリジル、モルホリニル、インドリル、ジヒドロベンゾ
ジオキシニル、アダマンチル、ハロフェニルアミノ、低
級アルキルフェニルカルバモイル（低級）アルキル、低
級アルキルチオおよび低級アルコキシカルボニルで置換
された低級アルキル、フェニル（低級）アルキル、フェ
ニルおよびアミノで置換された低級アルキル、フェニル
およびアシルアミノで置換された低級アルキル、 式
【００４２】
【化２１】 （Ｒ5 ：低級アルキル、Ｙ：ハロゲン）で示される基、
更には式
更には式
【００４３】
【化２２】 で示される基が、式
【００４４】
【化２３】 （Ｒ6 ：カルボキシ）を意味するもの等を例示すること
ができる。この発明の目的化合物（１）の製造法を以下
説明する。
ができる。この発明の目的化合物（１）の製造法を以下
説明する。
【００４５】製造法１ 化合物（１）またはその塩は、化合物（６）もしくはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、化合
物（７）もしくはカルボキシ基におけるその反応性誘導
体またはその塩を反応させることによって製造すること
ができる。化合物（６）のアミノ基における好適な反応
性誘導体としては、化合物（６）とアルデヒド、ケトン
等のようなカルボニル化合物との反応によって生成する
シッフの塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性
体；化合物（６）とＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
アセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド等の
ようなシリル化合物との反応によって生成するシリル誘
導体；化合物（６）と三塩化燐またはホスゲンとの反応
によって生成する誘導体等が挙げられる。
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、化合
物（７）もしくはカルボキシ基におけるその反応性誘導
体またはその塩を反応させることによって製造すること
ができる。化合物（６）のアミノ基における好適な反応
性誘導体としては、化合物（６）とアルデヒド、ケトン
等のようなカルボニル化合物との反応によって生成する
シッフの塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性
体；化合物（６）とＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
アセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド等の
ようなシリル化合物との反応によって生成するシリル誘
導体；化合物（６）と三塩化燐またはホスゲンとの反応
によって生成する誘導体等が挙げられる。
【００４６】化合物（６）および（７）の好適な塩類に
ついては、化合物（１）について例示したものを参照す
ればよい。化合物（７）のカルボキシ基における好適な
反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活
性化アミド、活性化エステル、イソシアナート（Ｒ2 が
水素の場合であって、且つ該水素原子とカルボキシ基が
共同してイソシアナート基を形成する）等が挙げられ
る。好適な例としては、酸塩化物；酸アジ化物；例えば
ジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベ
ンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジア
ルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、例えばメタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、硫
酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、イ
ソペンタン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；
ベンジルアミン、フェネチルアミン、イミダゾール、４
−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ルまたはテトラゾールとの活性化アミド；または例えば
シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメ
チルイミノメチル［（ＣＨ3 ）2 Ｎ+ ＝ＣＨ−］エステ
ル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、フェニル
エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジル
チオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニ
ルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、
８−キノリルチオエステル等の活性化エステル、または
例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒド
ロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスク
シンイミド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合物
とのエステル；置換または非置換アリールイソシアナー
ト；置換または非置換アリールイソチオシアナート等が
挙げられる。これらの反応性誘導体は使用する化合物
（７）の種類によってそれらの中から任意に選択するこ
とができる。
ついては、化合物（１）について例示したものを参照す
ればよい。化合物（７）のカルボキシ基における好適な
反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活
性化アミド、活性化エステル、イソシアナート（Ｒ2 が
水素の場合であって、且つ該水素原子とカルボキシ基が
共同してイソシアナート基を形成する）等が挙げられ
る。好適な例としては、酸塩化物；酸アジ化物；例えば
ジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベ
ンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジア
ルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、例えばメタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、硫
酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、イ
ソペンタン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；
ベンジルアミン、フェネチルアミン、イミダゾール、４
−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ルまたはテトラゾールとの活性化アミド；または例えば
シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメ
チルイミノメチル［（ＣＨ3 ）2 Ｎ+ ＝ＣＨ−］エステ
ル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、フェニル
エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジル
チオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニ
ルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、
８−キノリルチオエステル等の活性化エステル、または
例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒド
ロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスク
シンイミド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合物
とのエステル；置換または非置換アリールイソシアナー
ト；置換または非置換アリールイソチオシアナート等が
挙げられる。これらの反応性誘導体は使用する化合物
（７）の種類によってそれらの中から任意に選択するこ
とができる。
【００４７】化合物（６）および（７）の好適な塩類に
ついては、化合物（１）について例示したものを参照す
ればよい。反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行
われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその
他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる。
これらの常用の溶媒は水との混合物としても使用するこ
とができる。
ついては、化合物（１）について例示したものを参照す
ればよい。反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行
われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその
他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる。
これらの常用の溶媒は水との混合物としても使用するこ
とができる。
【００４８】化合物（７）を遊離酸またはその塩の形で
反応に使用する場合には、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル
カルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−モルホリ
ノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−
（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ’−ジエチルカルボジイミド；Ｎ，Ｎ’−ジ
イソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ’−３−
（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ−
カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）；ペンタメ
チレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、ジフェニル
ケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレ
ン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；亜燐酸トリ
アルキル；ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプロピル；オ
キシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；塩化チオニ
ル；塩化オキサリル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化燐等との反応によって調製し
たいわゆるビルスマイヤー試薬等のような常用の縮合剤
の存在下に反応を行うのが好ましい。
反応に使用する場合には、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル
カルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−モルホリ
ノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−
（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ’−ジエチルカルボジイミド；Ｎ，Ｎ’−ジ
イソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ’−３−
（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ−
カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）；ペンタメ
チレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、ジフェニル
ケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレ
ン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；亜燐酸トリ
アルキル；ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプロピル；オ
キシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；塩化チオニ
ル；塩化オキサリル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化燐等との反応によって調製し
たいわゆるビルスマイヤー試薬等のような常用の縮合剤
の存在下に反応を行うのが好ましい。
【００４９】反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、ト
リ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）ア
ルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジ
ルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に
行ってもよい。反応温度は特に限定されず、通常冷却下
ないし加熱下に反応が行われる。
リ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）ア
ルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジ
ルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に
行ってもよい。反応温度は特に限定されず、通常冷却下
ないし加熱下に反応が行われる。
【００５０】製造法２ 化合物（１）またはその塩は、化合物（８）もしくはカ
ルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（９）またはその塩を反応させることによって製
造することができる。化合物（８）のカルボキシ基にお
ける好適な反応性誘導体としては、化合物（７）のカル
ボキシ基における好適な反応性誘導体として掲げたもの
を同様に挙げることができる。
ルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（９）またはその塩を反応させることによって製
造することができる。化合物（８）のカルボキシ基にお
ける好適な反応性誘導体としては、化合物（７）のカル
ボキシ基における好適な反応性誘導体として掲げたもの
を同様に挙げることができる。
【００５１】化合物（８）を遊離酸またはその塩の形で
反応に使用する場合は、化合物（６化合物（７）を遊離
酸またはその塩の形で反応に使用する場合の前記説明を
参照すればよい。化合物（８），（９）の好適な塩類に
ついては化合物（１）について例示したものを参照すれ
ばよい。反応のその他の条件は製造法１で述べたところ
に準ずればよい。
反応に使用する場合は、化合物（６化合物（７）を遊離
酸またはその塩の形で反応に使用する場合の前記説明を
参照すればよい。化合物（８），（９）の好適な塩類に
ついては化合物（１）について例示したものを参照すれ
ばよい。反応のその他の条件は製造法１で述べたところ
に準ずればよい。
【００５２】製造法３ 化合物（１ｂ）またはその塩は、化合物（１ａ）または
その塩に化合物（１０）を反応させることによって製造
することができる。化合物（１ａ），（１ｂ）の好適な
塩類としては化合物（１）について例示したものを参照
すればよい。反応はメタノール、エタノール、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ベンゼン等の有機溶媒を用
い、前記化合物（１ａ），（１０），またはその塩を溶
解もしくは懸濁させた状態で室温乃至加熱下に撹拌する
ことによって行なわれる。
その塩に化合物（１０）を反応させることによって製造
することができる。化合物（１ａ），（１ｂ）の好適な
塩類としては化合物（１）について例示したものを参照
すればよい。反応はメタノール、エタノール、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ベンゼン等の有機溶媒を用
い、前記化合物（１ａ），（１０），またはその塩を溶
解もしくは懸濁させた状態で室温乃至加熱下に撹拌する
ことによって行なわれる。
【００５３】製造法４ 化合物（１ｄ）またはその塩は、化合物（１ｃ）もしく
はスルホ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（１１）もしくはイミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（１ｄ）のスルホ基における反応性
誘導体としては、ハライド、混合酸無水物、活性アミ
ド、活性エステル等を例示することができる。化合物
（１１）のイミノ基における反応性誘導体としては、化
合物（６）のアミノ基における反応性誘導体として挙げ
たものが再掲される。化合物（１ｃ），（１１），（１
ｄ）の塩類については化合物（１）の好適な塩として例
示したものを参照すれば良い。反応はメタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレン
等の反応に悪影響を与えない有機溶媒中で、室温乃至加
熱下に行うことができる。
はスルホ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（１１）もしくはイミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（１ｄ）のスルホ基における反応性
誘導体としては、ハライド、混合酸無水物、活性アミ
ド、活性エステル等を例示することができる。化合物
（１１）のイミノ基における反応性誘導体としては、化
合物（６）のアミノ基における反応性誘導体として挙げ
たものが再掲される。化合物（１ｃ），（１１），（１
ｄ）の塩類については化合物（１）の好適な塩として例
示したものを参照すれば良い。反応はメタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレン
等の反応に悪影響を与えない有機溶媒中で、室温乃至加
熱下に行うことができる。
【００５４】製造法５ 化合物（１ｅ）またはその塩は、化合物（１ｃ）もしく
はスルホ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（１２）もしくはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を反応させることによって製造するこ
とができる。反応についての説明は、製造法４において
述べたところを再掲することができる。
はスルホ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、
化合物（１２）もしくはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を反応させることによって製造するこ
とができる。反応についての説明は、製造法４において
述べたところを再掲することができる。
【００５５】製造法６ 化合物（１ｃ）またはその塩は、化合物（１ｆ）または
その塩を加水分解することによって製造することができ
る。加水分解は塩基または酸の存在下に行うのが好まし
い。好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、それらの金属の水酸化物または炭酸
塩または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，
４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン等の
ような無機塩基および有機塩基が挙げられる。
その塩を加水分解することによって製造することができ
る。加水分解は塩基または酸の存在下に行うのが好まし
い。好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、それらの金属の水酸化物または炭酸
塩または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，
４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン等の
ような無機塩基および有機塩基が挙げられる。
【００５６】好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有
機酸、および例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸
が挙げられる。例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等のトリハロ酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離
は、例えばアニソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤
の存在下に行うのが好ましい。化合物（１ｃ），（１
ｆ）の塩類については、化合物（１）の好適な塩類とし
て例示したものを参照すればよい。
ロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有
機酸、および例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸
が挙げられる。例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等のトリハロ酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離
は、例えばアニソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤
の存在下に行うのが好ましい。化合物（１ｃ），（１
ｆ）の塩類については、化合物（１）の好適な塩類とし
て例示したものを参照すればよい。
【００５７】反応は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール等のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフ
ラン、それらの混合物のような溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。液状の塩基または
酸も溶媒として使用することができる。反応温度は特に
限定されないが、通常は冷却下ないし加温下に反応が行
なわれる。
ノール等のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフ
ラン、それらの混合物のような溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。液状の塩基または
酸も溶媒として使用することができる。反応温度は特に
限定されないが、通常は冷却下ないし加温下に反応が行
なわれる。
【００５８】製造法７ 化合物（１ｈ）またはその塩は、化合物（１ｇ）または
その塩を酸化反応に付すことによって製造することがで
きる。酸化反応は過酸化水素、過酢酸、過安息香酸等で
代表される過酸の存在下に行う方法が推奨される。化合
物（１ｈ），（１ｇ）の塩類については、化合物（１）
の好適な塩類として例示したものを参照すればよい。反
応はメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、塩化メチレン等の如く反応の進行に悪
影響を与えない有機溶媒中、溶液状態または懸濁状態で
行う。反応温度は特に制限されないが、通常は氷冷乃至
加温下に行なわれる。
その塩を酸化反応に付すことによって製造することがで
きる。酸化反応は過酸化水素、過酢酸、過安息香酸等で
代表される過酸の存在下に行う方法が推奨される。化合
物（１ｈ），（１ｇ）の塩類については、化合物（１）
の好適な塩類として例示したものを参照すればよい。反
応はメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、塩化メチレン等の如く反応の進行に悪
影響を与えない有機溶媒中、溶液状態または懸濁状態で
行う。反応温度は特に制限されないが、通常は氷冷乃至
加温下に行なわれる。
【００５９】製造法８ 化合物（１ｊ）またはその塩は、化合物（１ｉ）または
その塩を、アミノ保護基の脱離反応に付すことによって
製造することができる。この反応の好適な方法として
は、加水分解や還元等のような常用の方法が挙げられ
る。加水分解は製造法６の説明において述べた様な方法
に従って行う。還元は化学的還元および接触還元を含む
常法によって行われる。化学的還元に使用される好適な
還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例えば
塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無
機酸との組合わせである。
その塩を、アミノ保護基の脱離反応に付すことによって
製造することができる。この反応の好適な方法として
は、加水分解や還元等のような常用の方法が挙げられ
る。加水分解は製造法６の説明において述べた様な方法
に従って行う。還元は化学的還元および接触還元を含む
常法によって行われる。化学的還元に使用される好適な
還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または例えば
塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無
機酸との組合わせである。
【００６０】接触還元に使用される好適な触媒は、例え
ば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白
金、白金線等の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラ
ジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイ
ドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム
−炭酸バリウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケ
ル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケル等のニッケル触媒、
例えば還元コバルト、ラネ−コバルト等のコバルト触
媒、例えば還元鉄、ラネ−鉄等の鉄触媒、例えば還元
銅、ラネ−銅、ウルマン銅等の銅触媒等のような常用の
ものである。
ば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白
金、白金線等の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラ
ジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイ
ドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム
−炭酸バリウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケ
ル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケル等のニッケル触媒、
例えば還元コバルト、ラネ−コバルト等のコバルト触
媒、例えば還元鉄、ラネ−鉄等の鉄触媒、例えば還元
銅、ラネ−銅、ウルマン銅等の銅触媒等のような常用の
ものである。
【００６１】化合物（１ｉ），（１ｊ）の塩類について
は、化合物（１）の好適な塩類として例示したものを参
照すればよい。還元は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフランのような反応に悪影響を及ぼさない常
用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。さら
に、化学的還元に使用する上記酸が液体である場合には
それらも溶媒として使用することができる。還元反応の
温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加温下
に反応が行われる。
は、化合物（１）の好適な塩類として例示したものを参
照すればよい。還元は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフランのような反応に悪影響を及ぼさない常
用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。さら
に、化学的還元に使用する上記酸が液体である場合には
それらも溶媒として使用することができる。還元反応の
温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加温下
に反応が行われる。
【００６２】製造法９ 化合物（１ｋ）またはその塩は、化合物（１ｊ）または
その塩を、アミノ保護基の導入反応に付すことによって
製造することができる。アミノ保護基の導入反応の代表
例としてはアシル基の導入反応が示され、例えば有機カ
ルボン酸またはその反応性誘導体を化合物（１ｊ）また
はその塩に反応させる。このようなアシル化反応は前記
製造法１に関する説明で述べたところを参照して実施す
ればよい。化合物（１ｊ），（１ｋ）の塩については化
合物（１）の好適な塩類として例示したものを参照すれ
ばよい。
その塩を、アミノ保護基の導入反応に付すことによって
製造することができる。アミノ保護基の導入反応の代表
例としてはアシル基の導入反応が示され、例えば有機カ
ルボン酸またはその反応性誘導体を化合物（１ｊ）また
はその塩に反応させる。このようなアシル化反応は前記
製造法１に関する説明で述べたところを参照して実施す
ればよい。化合物（１ｊ），（１ｋ）の塩については化
合物（１）の好適な塩類として例示したものを参照すれ
ばよい。
【００６３】目的化合物（１），（１ａ），（１ｂ），
（１ｃ），（１ｄ），（１ｅ），（１ｆ），（１ｇ），
（１ｈ），（１ｉ），（１ｊ），（１ｋ）［以下（１）
で代表する］および医薬として許容されるその塩類はＣ
ＣＫ拮抗物質であり、従って前記した様に嘔吐、膵炎等
の予防および／または治療薬として有用である。また神
経遮断障害、遅発性ジスキネシア、パーキンソン病、精
神病、ジル・ド・ラ・ツレット症候群等の予防および／
または治療薬としても有用であると期待される。
（１ｃ），（１ｄ），（１ｅ），（１ｆ），（１ｇ），
（１ｈ），（１ｉ），（１ｊ），（１ｋ）［以下（１）
で代表する］および医薬として許容されるその塩類はＣ
ＣＫ拮抗物質であり、従って前記した様に嘔吐、膵炎等
の予防および／または治療薬として有用である。また神
経遮断障害、遅発性ジスキネシア、パーキンソン病、精
神病、ジル・ド・ラ・ツレット症候群等の予防および／
または治療薬としても有用であると期待される。
【００６４】さらに、目的化合物（１）および医薬とし
て許容されるその塩類はガストリン拮抗作用を有するこ
とが期待され、潰瘍、過剰胃液分泌、幽門洞Ｇ細胞増
殖、ゾーリンガー−エリソン（Zollinger-Ellison ）症
候群等の治療および／または予防薬としても有用である
と期待される。
て許容されるその塩類はガストリン拮抗作用を有するこ
とが期待され、潰瘍、過剰胃液分泌、幽門洞Ｇ細胞増
殖、ゾーリンガー−エリソン（Zollinger-Ellison ）症
候群等の治療および／または予防薬としても有用である
と期待される。
【００６５】目的化合物（１）の有用性を示すために、
その代表的化合物の薬理作用例を以下に示す。 ［Ｉ］試験化合物： （１）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
その代表的化合物の薬理作用例を以下に示す。 ［Ｉ］試験化合物： （１）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
【００６６】［II］試験： ［ 125Ｉ］ＣＣＫ−８のラット膵臓膜への結合 （ｉ）膜の製造 ラットを断頭して殺し、膵臓全体（約０．７ｇ）を取り
出し、少量の５０ｍＭトリス塩酸緩衝液（ｐＨ７．４）
に入れて細かく切り刻んだ後、３０容量の緩衝液に入れ
てポリトロンホモゲナイザーによりホモゲナイズした。
ホモゲナイズしたものを１０分間３００００×ｇ（１６
０００ｒｐｍ）で遠心分離した。ペレットを、再び同じ
緩衝液中にガラス−テフロンホモゲナイザーによって懸
濁させ、１０分間３００００×ｇで遠心分離した。この
手順（洗浄）を更に２回繰り返した。最終のペレット
（膜）はインキュベーション液（下記参照）中に最終た
んぱく質濃度が２ｍｇ／ｍｌとなるように懸濁させた。
すべての操作は０〜４℃で行なった。
出し、少量の５０ｍＭトリス塩酸緩衝液（ｐＨ７．４）
に入れて細かく切り刻んだ後、３０容量の緩衝液に入れ
てポリトロンホモゲナイザーによりホモゲナイズした。
ホモゲナイズしたものを１０分間３００００×ｇ（１６
０００ｒｐｍ）で遠心分離した。ペレットを、再び同じ
緩衝液中にガラス−テフロンホモゲナイザーによって懸
濁させ、１０分間３００００×ｇで遠心分離した。この
手順（洗浄）を更に２回繰り返した。最終のペレット
（膜）はインキュベーション液（下記参照）中に最終た
んぱく質濃度が２ｍｇ／ｍｌとなるように懸濁させた。
すべての操作は０〜４℃で行なった。
【００６７】（ii）レセプター結合検定 インキュベーション液の組成は次の通りである：５０ｍ
Ｍトリス塩酸（ｐＨ７．４）、５ｍＭ ＭｇＣｌ2 、５
ｍＭジチオスレイトール（ＤＴＴ）、０．１４ｍｇ／ｍ
ｌバシトラシン、および０．２％牛血清アルブミン（Ｂ
ＳＡ）。新しく製造した膜（２００μｇたんぱく質）は
試験化合物（１×１０-6Ｍ）が入ったあるいは入ってい
ない、５０ｐＭ 125Ｉ−ＣＣＫ−８を含んだ５００μｌ
のインキュベーション入りのプラスチックの試験管内で
３７℃で振蘯しながら３０分間インキュベートした。非
特異的結合を測定するために、１μＭのＣＣＫ−８を加
えた。夫々の測定はデュプリケートで行なった。反応混
合物をワットマンＧＦ／Ｂガラスフィルターで濾過する
ことにより反応を止めた。フィルターを０．１％ＢＳＡ
を含んだ５０ｍＭトリス塩酸（ｐＨ７．４）緩衝液で洗
浄した後、フィルターの放射能をカウントした。全結合
量から非特異的結合量を差し引いて特異的結合量を求め
た。試験化合物の効果は、特異的な 125Ｉ−ＣＣＫ−
８結合の阻害％として表された。
Ｍトリス塩酸（ｐＨ７．４）、５ｍＭ ＭｇＣｌ2 、５
ｍＭジチオスレイトール（ＤＴＴ）、０．１４ｍｇ／ｍ
ｌバシトラシン、および０．２％牛血清アルブミン（Ｂ
ＳＡ）。新しく製造した膜（２００μｇたんぱく質）は
試験化合物（１×１０-6Ｍ）が入ったあるいは入ってい
ない、５０ｐＭ 125Ｉ−ＣＣＫ−８を含んだ５００μｌ
のインキュベーション入りのプラスチックの試験管内で
３７℃で振蘯しながら３０分間インキュベートした。非
特異的結合を測定するために、１μＭのＣＣＫ−８を加
えた。夫々の測定はデュプリケートで行なった。反応混
合物をワットマンＧＦ／Ｂガラスフィルターで濾過する
ことにより反応を止めた。フィルターを０．１％ＢＳＡ
を含んだ５０ｍＭトリス塩酸（ｐＨ７．４）緩衝液で洗
浄した後、フィルターの放射能をカウントした。全結合
量から非特異的結合量を差し引いて特異的結合量を求め
た。試験化合物の効果は、特異的な 125Ｉ−ＣＣＫ−
８結合の阻害％として表された。
【００６８】[III] 試験結果 阻害（％）：９９．９ この目的化合物（１）または医薬として許容されるその
塩は、カプセル、マイクロカプセル、錠剤、顆粒、粉
末、トローチ、シロップ、エアロゾル、吸入薬、溶液、
注射液、懸濁液、エマルジョン、坐薬などのような慣用
の薬剤組成物の形態で、ヒトを含めた哺乳類に適用する
ことができる。
塩は、カプセル、マイクロカプセル、錠剤、顆粒、粉
末、トローチ、シロップ、エアロゾル、吸入薬、溶液、
注射液、懸濁液、エマルジョン、坐薬などのような慣用
の薬剤組成物の形態で、ヒトを含めた哺乳類に適用する
ことができる。
【００６９】この発明の医薬組成物は、例えばしょ糖、
スターチ、マンニット、ソルビット、乳糖、グルコー
ス、タルク、燐酸カルシウム、炭酸カルシウム等の賦形
剤、例えばセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ポリプロピルピロリドン、ゼラチ
ン、アラビアゴム、ポリエチレングリコール、しょ糖、
スターチ等の結合剤、例えばスターチ、カルボキシメチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースのカルシウ
ム塩、ヒドロキシプロピルスターチ、グリコールスター
チナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カルシウム、
クエン酸カルシウム等の崩解剤、例えばステアリン酸マ
グネシウム、タルク、ラウリル硫酸ナトリウム等の滑
剤、例えばクエン酸、メントール、グリシン、オレンジ
末等の芳香剤、例えば安息香酸ナトリウム、亜硫酸水素
ナトリウム、メチルパラベン、プロピルバラベン等の保
存剤、例えばクエン酸、クエン酸ナトリウム、酢酸等の
安定剤、例えばメチルセルロース、ポリビニルピロリド
ン、ステアリン酸アルミニウム等の懸濁剤、分散剤、例
えば水のような水性希釈剤、例えばカカオ脂、ポリエチ
レングリコール、白灯油等のベースワックスのような医
薬用として常用される種々の有機または無機担体物質を
含んでいることができる。
スターチ、マンニット、ソルビット、乳糖、グルコー
ス、タルク、燐酸カルシウム、炭酸カルシウム等の賦形
剤、例えばセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ポリプロピルピロリドン、ゼラチ
ン、アラビアゴム、ポリエチレングリコール、しょ糖、
スターチ等の結合剤、例えばスターチ、カルボキシメチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースのカルシウ
ム塩、ヒドロキシプロピルスターチ、グリコールスター
チナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カルシウム、
クエン酸カルシウム等の崩解剤、例えばステアリン酸マ
グネシウム、タルク、ラウリル硫酸ナトリウム等の滑
剤、例えばクエン酸、メントール、グリシン、オレンジ
末等の芳香剤、例えば安息香酸ナトリウム、亜硫酸水素
ナトリウム、メチルパラベン、プロピルバラベン等の保
存剤、例えばクエン酸、クエン酸ナトリウム、酢酸等の
安定剤、例えばメチルセルロース、ポリビニルピロリド
ン、ステアリン酸アルミニウム等の懸濁剤、分散剤、例
えば水のような水性希釈剤、例えばカカオ脂、ポリエチ
レングリコール、白灯油等のベースワックスのような医
薬用として常用される種々の有機または無機担体物質を
含んでいることができる。
【００７０】有効成分は通常単位投与量０．０１mg／kg
ないし５０mg／kgを１日１回ないし４回投与すればよ
い。しかしながら、上記投与量は患者の年齢、体重、条
件また投与方法によって増減してもよい。以下この発明
を実施例に従ってさらに詳細に説明する。
ないし５０mg／kgを１日１回ないし４回投与すればよ
い。しかしながら、上記投与量は患者の年齢、体重、条
件また投与方法によって増減してもよい。以下この発明
を実施例に従ってさらに詳細に説明する。
【００７１】
【実施例】実施例１ （６ＲＳ）−６−アミノ−２，３，５，６−テトラヒド
ロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフェニル）−１，
４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］［１，４］ベンゾ
ジアゼピン（１２４．４ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）の乾燥
テトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液に、３−メチルチオ
フェニルイソシアネ−ト（６９．３ｍｇ，０．４２ｍｍ
ｏｌ）を、室温攪拌下に加えた。反応混合物を更に３．
５時間攪拌すると結晶状の粉末が析出し始めた。この混
合物中に、ジイソプロピルエーテル（８ｍｌ）を攪拌下
に加えた。得られた沈殿物を濾取し、ジイソプロピルエ
ーテルで洗浄し乾燥すると、（６ＲＳ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピン（８７．２ｍｇ，収率４
５．７％）が得られた。
ロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフェニル）−１，
４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］［１，４］ベンゾ
ジアゼピン（１２４．４ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）の乾燥
テトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液に、３−メチルチオ
フェニルイソシアネ−ト（６９．３ｍｇ，０．４２ｍｍ
ｏｌ）を、室温攪拌下に加えた。反応混合物を更に３．
５時間攪拌すると結晶状の粉末が析出し始めた。この混
合物中に、ジイソプロピルエーテル（８ｍｌ）を攪拌下
に加えた。得られた沈殿物を濾取し、ジイソプロピルエ
ーテルで洗浄し乾燥すると、（６ＲＳ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピン（８７．２ｍｇ，収率４
５．７％）が得られた。
【００７２】ｍｐ ２６８〜２７０℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２６０，１６
８１，１６５５，１６０９，１２９５，１２２４，８５
９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．１９（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），４．５３
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ，６．７〜７．６（１２Ｈ，
ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
８１，１６５５，１６０９，１２９５，１２２４，８５
９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．１９（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），４．５３
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ， Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ，６．７〜７．６（１２Ｈ，
ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
【００７３】実施例２ 実施例１と同様にして下記の原料化合物から下記の目的
物質を製造した。（１）（６Ｓ）−６−アミノ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フ
ルオロフェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−
ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオ
フェニルイソシアネ−トから、（６Ｓ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率５５．１
％）。 ｍｐ ２６８〜２７１℃ ［α］24 D ＝３７．０°（Ｃ＝１．０，ＤＭＦ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２５０，１６
８１，１６５５，１６０８，１２９５，１２３３，８６
１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．１９（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），４．５３
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９（１
Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７〜７．６（１２Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
物質を製造した。（１）（６Ｓ）−６−アミノ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フ
ルオロフェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−
ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオ
フェニルイソシアネ−トから、（６Ｓ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率５５．１
％）。 ｍｐ ２６８〜２７１℃ ［α］24 D ＝３７．０°（Ｃ＝１．０，ＤＭＦ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２５０，１６
８１，１６５５，１６０８，１２９５，１２３３，８６
１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．１９（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），４．５３
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９（１
Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７〜７．６（１２Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
【００７４】（２）（６Ｒ）−６−アミノ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオ
ロフェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフ
ェニルイソシアネ−トから、（６Ｒ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率５０．２
％）。 ｍｐ ２６８〜２７０℃ ［α］24 D ＝−３９．１°（Ｃ＝１．０，ＤＭＦ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２６０，１６
８２，１６５４，１６０８，１２９５，１２２３，１２
００ ８６０ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，
ｓ），３．２０（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈ
ｚ），４．３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ＝８．４Ｈｚ），４．
５３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７〜７．６（１２
Ｈ，ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
５，６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオ
ロフェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフ
ェニルイソシアネ−トから、（６Ｒ）−６−［Ｎ’−
（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−２，３，５，
６−テトラヒドロ−５−オキソ−８−（２−フルオロフ
ェニル）−１，４−オキサジノ［２，３，４−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率５０．２
％）。 ｍｐ ２６８〜２７０℃ ［α］24 D ＝−３９．１°（Ｃ＝１．０，ＤＭＦ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２６０，１６
８２，１６５４，１６０８，１２９５，１２２３，１２
００ ８６０ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，
ｓ），３．２０（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈ
ｚ），４．３３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ＝８．４Ｈｚ），４．
５３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ），４．７９
（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．４５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７〜７．６（１２
Ｈ，ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋１）
【００７５】（３）（３ＲＳ）−３−アミノ−１−（２
−フルオロフェニル）−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−３−［Ｎ’−（３−メ
チルフェニル）ウレイド］−１−（２−フルオロフェニ
ル）−４−オキソ−３，４，７，８−テトラヒドロ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンを製造した（収率５８．８％）。 ｍｐ ２１４〜２１５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３４０，３２５０，１６
６５，１６４５，１６１０，１５５５，１３７４，１１
９８，７６０，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．７５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），１．８７〜１．９７（１Ｈ，ｍ），２．１４〜
２．２８（１Ｈ，ｍ），２．２８（３Ｈ，ｓ），２．７
５〜３．０５（２Ｈ，ｍ），３．２２〜３．３４（１
Ｈ，ｍ），４．４８〜４．６１（１Ｈ，ｍ），５．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８２〜７．７９
（１２Ｈ，ｍ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４４３（Ｍ＋１）
−フルオロフェニル）−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−３−［Ｎ’−（３−メ
チルフェニル）ウレイド］−１−（２−フルオロフェニ
ル）−４−オキソ−３，４，７，８−テトラヒドロ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンを製造した（収率５８．８％）。 ｍｐ ２１４〜２１５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３４０，３２５０，１６
６５，１６４５，１６１０，１５５５，１３７４，１１
９８，７６０，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．７５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），１．８７〜１．９７（１Ｈ，ｍ），２．１４〜
２．２８（１Ｈ，ｍ），２．２８（３Ｈ，ｓ），２．７
５〜３．０５（２Ｈ，ｍ），３．２２〜３．３４（１
Ｈ，ｍ），４．４８〜４．６１（１Ｈ，ｍ），５．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８２〜７．７９
（１２Ｈ，ｍ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４４３（Ｍ＋１）
【００７６】（４）（３ＲＳ）−３−アミノ−１−（２
−フルオロフェニル）−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニ
ルイソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオ
ロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニ
ル）ウレイド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−
オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンを製造した（収率７５．０％）。 ｍｐ ２４０〜２４１．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，３３００，１６
６６，１６３８，１６００，１５４１，１３７３，１１
９６，７６０，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．８７〜１．９６（１
Ｈ，ｍ），２．１２〜２．２１（１Ｈ，ｍ），２．４３
（３Ｈ，ｓ），２．８２〜３．０２（２Ｈ，ｍ），３．
１８〜３．３０（１Ｈ，ｍ），４．４６〜４．５９（１
Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），
６．７８〜７．７２（１２Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，
ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７５（Ｍ＋１）
−フルオロフェニル）−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニ
ルイソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオ
ロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニ
ル）ウレイド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−
オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンを製造した（収率７５．０％）。 ｍｐ ２４０〜２４１．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，３３００，１６
６６，１６３８，１６００，１５４１，１３７３，１１
９６，７６０，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．８７〜１．９６（１
Ｈ，ｍ），２．１２〜２．２１（１Ｈ，ｍ），２．４３
（３Ｈ，ｓ），２．８２〜３．０２（２Ｈ，ｍ），３．
１８〜３．３０（１Ｈ，ｍ），４．４６〜４．５９（１
Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），
６．７８〜７．７２（１２Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，
ｓ） ＬＣ／ＭＳ：ｍ／ｅ＝４７５（Ｍ＋１）
【００７７】（５）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイ
ド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンを製造した（収率７９．２％）。 ｍｐ ２７５〜２７８℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３２７５，１６
７０，１６５４，１６０１，１５４６，１４９０，１３
９８，１３６８，１３０４，１１９６，８２４，７６
４，７４９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．８〜０．２５（１
Ｈ，ｍ），２．１〜２．３（１Ｈ，ｍ），２．７〜３．
１（２Ｈ，ｍ），３．１〜３．３５（１Ｈ，ｍ）４．４
〜４．６５（１Ｈ，ｍ），５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ），６．９〜７．７（１２Ｈ，ｍ），８．８
７（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ＝４６３（Ｍ＋１）
ェニル）−３−アミノ−３，４，７，８−テトラヒドロ
−４−オキソ−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイ
ド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンを製造した（収率７９．２％）。 ｍｐ ２７５〜２７８℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３２７５，１６
７０，１６５４，１６０１，１５４６，１４９０，１３
９８，１３６８，１３０４，１１９６，８２４，７６
４，７４９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．８〜０．２５（１
Ｈ，ｍ），２．１〜２．３（１Ｈ，ｍ），２．７〜３．
１（２Ｈ，ｍ），３．１〜３．３５（１Ｈ，ｍ）４．４
〜４．６５（１Ｈ，ｍ），５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ），６．９〜７．７（１２Ｈ，ｍ），８．８
７（１Ｈ，ｓ） ＬＣ／ＭＳ＝４６３（Ｍ＋１）
【００７８】（６）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−メチルチ
オフェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチ
ル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニ
ル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率
６２．４％）。 ｍｐ ２３０〜２３２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，３２８０，１６
７４，１６３８，１６００，１５４３，１３７２，１１
８５，７４５，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０１（３Ｈ，ｓ），２．９９〜３．１０（１Ｈ，
ｍ），３．５７〜３．６０（２Ｈ，ｍ），４．７２〜
４．７８（１Ｈ，ｍ），５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），
６．８０〜７．５６（１１Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８９（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−メチルチ
オフェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチ
ル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニ
ル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率
６２．４％）。 ｍｐ ２３０〜２３２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，３２８０，１６
７４，１６３８，１６００，１５４３，１３７２，１１
８５，７４５，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０１（３Ｈ，ｓ），２．９９〜３．１０（１Ｈ，
ｍ），３．５７〜３．６０（２Ｈ，ｍ），４．７２〜
４．７８（１Ｈ，ｍ），５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），
６．８０〜７．５６（１１Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８９（Ｍ+ ）
【００７９】（７）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−メトキシ
フェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチル
−５−オキソ−６−［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）
ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，
５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ
［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率７
３．４％）。 ｍｐ １９８〜２０２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６７３，１６
３５，１６０９，１５５５，１４９４，１３７４，１３
３５，１２８８，１１９０，１１５８，１０４２，７８
０，７４６ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，Ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４６〜３．４８（２
Ｈ，ｍ），３．７０（３Ｈ，Ｓ），４．７２〜４．７８
（１Ｈ，ｍ），５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４
８〜７．５６（１１Ｈ，ｍ），９．０６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７３（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−メトキシ
フェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチル
−５−オキソ−６−［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）
ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，
５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ
［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率７
３．４％）。 ｍｐ １９８〜２０２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６７３，１６
３５，１６０９，１５５５，１４９４，１３７４，１３
３５，１２８８，１１９０，１１５８，１０４２，７８
０，７４６ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，Ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４６〜３．４８（２
Ｈ，ｍ），３．７０（３Ｈ，Ｓ），４．７２〜４．７８
（１Ｈ，ｍ），５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４
８〜７．５６（１１Ｈ，ｍ），９．０６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７３（Ｍ+ ）
【００８０】（８）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−トリフル
オロメチル−４−クロロフェニルイソシアネ−トから、
（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキソ−６−［Ｎ’−
（３−トリフルオロメチル−４−クロロフェニル）ウレ
イド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，５，
６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ［１，
７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率４６．５
％）。 ｍｐ ２３８〜２３９℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４７５，３２８０，３１
６０，１６７０，１６３９，１６０８，１５４０，１３
７４，１３２０，１１８４，１１３８，１０３０，７６
５，７４０，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０２（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ），
５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．９〜７．７（９Ｈ，
ｍ），８．０９（１Ｈ，ｓ），９．５４（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５４５（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、３−トリフル
オロメチル−４−クロロフェニルイソシアネ−トから、
（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキソ−６−［Ｎ’−
（３−トリフルオロメチル−４−クロロフェニル）ウレ
イド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，５，
６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ［１，
７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率４６．５
％）。 ｍｐ ２３８〜２３９℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４７５，３２８０，３１
６０，１６７０，１６３９，１６０８，１５４０，１３
７４，１３２０，１１８４，１１３８，１０３０，７６
５，７４０，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０２（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ），
５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．９〜７．７（９Ｈ，
ｍ），８．０９（１Ｈ，ｓ），９．５４（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５４５（Ｍ+ ）
【００８１】（９）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、４−クロロフ
ェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチル−
５−オキソ−６−［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレ
イド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，５，
６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ［１，
７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率５４．８
％）。 ｍｐ ２６３〜２６４℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３６０，３２５０，１６
７７，１６５４，１６００，１５４４，１４８９，１３
７２，１３４０，１１８５，８２５，７６０，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．５（２Ｈ，
ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），５．
３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．９〜７．６（１１Ｈ，ｍ），
９．１９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７７（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、４−クロロフ
ェニルイソシアネ−トから、（６ＲＳ）−１−メチル−
５−オキソ−６−［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレ
イド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，３，５，
６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピノ［１，
７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率５４．８
％）。 ｍｐ ２６３〜２６４℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３６０，３２５０，１６
７７，１６５４，１６００，１５４４，１４８９，１３
７２，１３４０，１１８５，８２５，７６０，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．５（２Ｈ，
ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），５．
３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．９〜７．６（１１Ｈ，ｍ），
９．１９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７７（Ｍ+ ）
【００８２】（１０）（３Ｒ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシアネ
−トから、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−
３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率７６．５％）。 ｍｐ ２１３〜２１４℃ ［α］30 D ＝１３．３３°（Ｃ＝０．５２５，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３３００，１６
９０，１６７０（Ｓ），１６４０，１６００，１４８
０，１４４６，１２３５，１２１８，１１００，７６
５，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４６（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ） ５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），９．１４（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６０（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシアネ
−トから、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−
３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率７６．５％）。 ｍｐ ２１３〜２１４℃ ［α］30 D ＝１３．３３°（Ｃ＝０．５２５，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３３００，１６
９０，１６７０（Ｓ），１６４０，１６００，１４８
０，１４４６，１２３５，１２１８，１１００，７６
５，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４６（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ） ５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），９．１４（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６０（Ｍ+ ）
【００８３】（１１）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシアネ
−トから、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−
３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率６６．３％）。 ［α］30 D ＝−１４．２０°（Ｃ＝０．５３５，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３３００，１６
９０，１６７０（Ｓ），１６４０，１６００，１４８
０，１４４６，１２３６，１２１９，１１０１，７６
５，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ） ５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）７．０〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６０（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシアネ
−トから、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−
３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率６６．３％）。 ［α］30 D ＝−１４．２０°（Ｃ＝０．５３５，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，３３００，１６
９０，１６７０（Ｓ），１６４０，１６００，１４８
０，１４４６，１２３６，１２１９，１１０１，７６
５，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ） ５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）７．０〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６０（Ｍ+ ）
【００８４】（１２）（３Ｒ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７９．４％）。 ｍｐ ２０７〜２１０℃ ［α］30 D ＝−７．３８°（Ｃ＝０．５９０，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１７０５，１６
９０，１６６９，１６４０，１６１０，１５４９，１５
１４，１２２０，１１０１，８８０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７
Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．
７〜７．６（１２Ｈ，ｍ），８．９７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２８（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７９．４％）。 ｍｐ ２０７〜２１０℃ ［α］30 D ＝−７．３８°（Ｃ＝０．５９０，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１７０５，１６
９０，１６６９，１６４０，１６１０，１５４９，１５
１４，１２２０，１１０１，８８０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７
Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．
７〜７．６（１２Ｈ，ｍ），８．９７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２８（Ｍ+ ）
【００８５】（１３）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７４．８％）。 ｍｐ ２０７〜２１０℃ ［α］30 D ＝７．３５°（Ｃ＝０．５３７，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１７０５，１６
９０，１６６９，１６４０，１６１０，１５４９，１５
１４，１２２１，１１００，８８０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７
〜７．６（１２Ｈ，ｍ），８．９７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２８（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メチルフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７４．８％）。 ｍｐ ２０７〜２１０℃ ［α］30 D ＝７．３５°（Ｃ＝０．５３７，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１７０５，１６
９０，１６６９，１６４０，１６１０，１５４９，１５
１４，１２２１，１１００，８８０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２６（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．７
〜７．６（１２Ｈ，ｍ），８．９７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２８（Ｍ+ ）
【００８６】（１４）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロ
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、４−クロロスルホニルフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニ
ル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピンを製造した（収率９５．７％）。 ｍｐ ２４１〜２４３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６６５
（Ｓ），１６５２，１５９０，１５４０，１３７０，１
２１３，１１８８，１１６５，７５７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），５．２６
（１Ｈ，ｓ），７．０〜７．７（１２Ｈ，ｍ），９．３
３（１Ｈ，ｓ）
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、４−クロロスルホニルフェニルイ
ソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニ
ル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピンを製造した（収率９５．７％）。 ｍｐ ２４１〜２４３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６６５
（Ｓ），１６５２，１５９０，１５４０，１３７０，１
２１３，１１８８，１１６５，７５７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），５．２６
（１Ｈ，ｓ），７．０〜７．７（１２Ｈ，ｍ），９．３
３（１Ｈ，ｓ）
【００８７】（１５）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロ
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、３−トリフルオロメチル−４−ク
ロロフェニルイソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−
（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率８４．４％）。 ｍｐ ２３１〜２３３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２５０
（Ｓ），１６７５，１６３１，１５３３，１４８３，１
３９０，１３２３，１１３８，１１１８，７６６，７５
０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０〜７．７（１０Ｈ，
ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），９．５
５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５１６（Ｍ+ ）
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、３−トリフルオロメチル−４−ク
ロロフェニルイソシアネ−トから、（３ＲＳ）−１−
（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率８４．４％）。 ｍｐ ２３１〜２３３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，３２５０
（Ｓ），１６７５，１６３１，１５３３，１４８３，１
３９０，１３２３，１１３８，１１１８，７６６，７５
０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．
５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０〜７．７（１０Ｈ，
ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），９．５
５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５１６（Ｍ+ ）
【００８８】（１６）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロ
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシア
ネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを
製造した（収率９１．２％）。 ｍｐ ２２３〜２２５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６９０
（Ｓ），１６７４，１６４０，１６０２，１５８５
（Ｓ），１５４７，１４８０，１３８９，１２１５，１
１０４，８９０，７５５，７１８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８〜
７．６（１２Ｈ，ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ＝４６１（Ｍ+ ）
フェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピンと、３−メチルチオフェニルイソシア
ネ−トから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを
製造した（収率９１．２％）。 ｍｐ ２２３〜２２５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６９０
（Ｓ），１６７４，１６４０，１６０２，１５８５
（Ｓ），１５４７，１４８０，１３８９，１２１５，１
１０４，８９０，７５５，７１８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．４３（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８〜
７．６（１２Ｈ，ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ＝４６１（Ｍ+ ）
【００８９】（１７）（３Ｒ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７５．３％）。 ｍｐ １７４〜１７８℃ ［α］30 D ＝−１１．３０°（Ｃ＝０．８４，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６６１，１６
４２，１５８６，１５６５，１４８９，１３７４，１２
９８，１２７３，８２７，８１０，７６８，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），４．９
５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０２〜７．６１（１２Ｈ，
ｍ），９．２０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４８（Ｍ+ ），４４９（Ｍ+ ＋
１），４５０（Ｍ+ ＋２），４５１（Ｍ+ ＋３）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
７５．３％）。 ｍｐ １７４〜１７８℃ ［α］30 D ＝−１１．３０°（Ｃ＝０．８４，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６６１，１６
４２，１５８６，１５６５，１４８９，１３７４，１２
９８，１２７３，８２７，８１０，７６８，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），４．９
５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０２〜７．６１（１２Ｈ，
ｍ），９．２０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４８（Ｍ+ ），４４９（Ｍ+ ＋
１），４５０（Ｍ+ ＋２），４５１（Ｍ+ ＋３）
【００９０】（１８）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
８０．３％）。 ｍｐ １７４〜１７８℃ ［α］30 D ＝１４．６３°（Ｃ＝０．８２７，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６６１，１６
４２，１５８７，１５６５，１４８８，１３７３，１２
９８，１２７３，８２７，８１０，７６９，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），４．９
５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０２−７．６１（１２Ｈ，
ｍ），９．２０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４８（Ｍ+ ），４４９（Ｍ+ ＋
１），４５０（Ｍ+ ＋２），４５１（Ｍ+ ＋３）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、４−クロロフェニルイソシアネ−ト
から、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロフェニル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率
８０．３％）。 ｍｐ １７４〜１７８℃ ［α］30 D ＝１４．６３°（Ｃ＝０．８２７，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６６１，１６
４２，１５８７，１５６５，１４８８，１３７３，１２
９８，１２７３，８２７，８１０，７６９，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），４．９
５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０２−７．６１（１２Ｈ，
ｍ），９．２０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４８（Ｍ+ ），４４９（Ｍ+ ＋
１），４５０（Ｍ+ ＋２），４５１（Ｍ+ ＋３）
【００９１】（１９）（３Ｒ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メトキシフェニルイソシアネ−
トから（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）ウレイド］−４−オ
キソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，
１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収
率９４．９％）。 ｍｐ ２３３〜２３６℃ ［α］30 D ＝−８．７２°（Ｃ＝０．５５，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７０４，１６
６８，１６４１，１６１０，１５５７，１４９０，１２
２１，８３０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
Ｈｚ，７．６Ｈｚ），６．８〜７．６５（１１ Ｈ，
ｍ），９．０７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４４（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メトキシフェニルイソシアネ−
トから（３Ｒ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）ウレイド］−４−オ
キソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，
１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収
率９４．９％）。 ｍｐ ２３３〜２３６℃ ［α］30 D ＝−８．７２°（Ｃ＝０．５５，ＣＨＣｌ
3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７０４，１６
６８，１６４１，１６１０，１５５７，１４９０，１２
２１，８３０，７７１，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
Ｈｚ，７．６Ｈｚ），６．８〜７．６５（１１ Ｈ，
ｍ），９．０７（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４４（Ｍ+ ）
【００９２】（２０）（３Ｓ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メトキシフェニルイソシアネ−
トから、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率８３．６％）。 ｍｐ ２３３〜２３６℃ ［α］30 D ＝８．５７°（Ｃ＝０．５６，ＣＨＣｌ3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７０４，１６
６８，１６４１，１６１０，１５５７，１４９０，１２
２０，８２９，７７０，７４９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ６．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），
６．８〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），９．０７（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４４（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−メトキシフェニルイソシアネ−
トから、（３Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−［Ｎ’−（３−メトキシフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率８３．６％）。 ｍｐ ２３３〜２３６℃ ［α］30 D ＝８．５７°（Ｃ＝０．５６，ＣＨＣｌ3 ） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７０４，１６
６８，１６４１，１６１０，１５５７，１４９０，１２
２０，８２９，７７０，７４９ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ６．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），
６．８〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），９．０７（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４４（Ｍ+ ）
【００９３】実施例３ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−アミ
ノ−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６Ｈ
−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼ
ピン（１００ｍｇ）と５−フェノキシカルボニルアミノ
インダン（８１．８ｍｇ）を無水ジオキサン（２ｍｌ）
に加えた混合物を還流下に１２．５時間攪拌した。反応
混合物から減圧下に溶媒を留去すると、結晶が得られ
た。これにジイソプロピルエーテルを加えて攪拌し、結
晶を濾取すると、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−［Ｎ’−（インダン−５−イル）ウレイ
ド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンの黄色結晶（９３．７ｍｇ，収率６１．９％）が
得られた。 ｍｐ ２４５〜２４６．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３４０，３２６０，１６
６６，１６３９，１５５０，１３７５，１１９５，７４
５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．７３（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），１．８７〜２．０（１Ｈ，ｍ），２．０４（２
Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．１〜２．
３（１Ｈ，ｍ），２．８〜３．０５（６Ｈ，ｍ），３．
２〜３．３３（１Ｈ，ｍ），４．５〜４．６（１Ｈ，
ｍ），５．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９
〜７．８（１１Ｈ，ｍ） ＬＣ／ＭＳ＝４６９（Ｍ＋１）
ノ−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６Ｈ
−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼ
ピン（１００ｍｇ）と５−フェノキシカルボニルアミノ
インダン（８１．８ｍｇ）を無水ジオキサン（２ｍｌ）
に加えた混合物を還流下に１２．５時間攪拌した。反応
混合物から減圧下に溶媒を留去すると、結晶が得られ
た。これにジイソプロピルエーテルを加えて攪拌し、結
晶を濾取すると、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−［Ｎ’−（インダン−５−イル）ウレイ
ド］−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６
Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジア
ゼピンの黄色結晶（９３．７ｍｇ，収率６１．９％）が
得られた。 ｍｐ ２４５〜２４６．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３４０，３２６０，１６
６６，１６３９，１５５０，１３７５，１１９５，７４
５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．７３（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），１．８７〜２．０（１Ｈ，ｍ），２．０４（２
Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．１〜２．
３（１Ｈ，ｍ），２．８〜３．０５（６Ｈ，ｍ），３．
２〜３．３３（１Ｈ，ｍ），４．５〜４．６（１Ｈ，
ｍ），５．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９
〜７．８（１１Ｈ，ｍ） ＬＣ／ＭＳ＝４６９（Ｍ＋１）
【００９４】実施例４ 実施例３と同様にして下記の原料化合物から下記の目的
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ
−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾ
ジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノインド
ールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）
−３−［Ｎ’−（インドール−５−イル）ウレイド］−
３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６Ｈ−ピ
リド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
を製造した（収率４０．８％）。 ｍｐ ２５４〜２５７℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２８０，１６６８，１６
５０，１６２９，１３７２，１３２０，１１９６，１１
００，７５２，７２０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．８５〜１．９５（１Ｈ，
ｍ），２．１６〜２．２３（１Ｈ，ｍ），２．８３〜
３．０２（２Ｈ，ｍ），３．１９〜３．３１（１Ｈ，
ｍ），４．４７〜４．６０（１Ｈ，ｍ），５．５５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．３８（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．９５〜７．７５（１１Ｈ，ｍ），８．３１
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．８０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） ＬＣ／ＭＳ＝４６８（Ｍ＋１）
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ
−６Ｈ−ピリド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾ
ジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノインド
ールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）
−３−［Ｎ’−（インドール−５−イル）ウレイド］−
３，４，７，８−テトラヒドロ−４−オキソ−６Ｈ−ピ
リド［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
を製造した（収率４０．８％）。 ｍｐ ２５４〜２５７℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２８０，１６６８，１６
５０，１６２９，１３７２，１３２０，１１９６，１１
００，７５２，７２０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．８５〜１．９５（１Ｈ，
ｍ），２．１６〜２．２３（１Ｈ，ｍ），２．８３〜
３．０２（２Ｈ，ｍ），３．１９〜３．３１（１Ｈ，
ｍ），４．４７〜４．６０（１Ｈ，ｍ），５．５５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．３８（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．９５〜７．７５（１１Ｈ，ｍ），８．３１
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．８０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） ＬＣ／ＭＳ＝４６８（Ｍ＋１）
【００９５】（２）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、５−フェノキ
シカルボニルアミノインダンから、（６ＲＳ）−１−メ
チル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（インダン−５−イ
ル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率
９３．８％）。 ｍｐ １９２〜１９５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４８０，３２５０，１６
７８，１６１０，１６００，１５４５，１４９９，１３
７２，１３４０，１１８４，７６８，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．９８（２Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．７７（４Ｈ，Ａ2 Ｂ
2 ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１２．８Ｈｚ），３．０１（３
Ｈ，ｓ），３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．
５（２Ｈ，ｍ），４．７〜４．８（１Ｈ，ｍ），５．３
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．９０〜７．５９（１０Ｈ，
ｍ），８．８９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８３（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、５−フェノキ
シカルボニルアミノインダンから、（６ＲＳ）−１−メ
チル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（インダン−５−イ
ル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した（収率
９３．８％）。 ｍｐ １９２〜１９５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４８０，３２５０，１６
７８，１６１０，１６００，１５４５，１４９９，１３
７２，１３４０，１１８４，７６８，７４５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．９８（２Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．７７（４Ｈ，Ａ2 Ｂ
2 ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１２．８Ｈｚ），３．０１（３
Ｈ，ｓ），３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．
５（２Ｈ，ｍ），４．７〜４．８（１Ｈ，ｍ），５．３
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．９０〜７．５９（１０Ｈ，
ｍ），８．８９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８３（Ｍ+ ）
【００９６】（３）（６ＲＳ）−１−メチル−５−オキ
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、５−フェノキ
シカルボニルアミノインドールから、（６ＲＳ）−１−
メチル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（インドール−５−
イル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−
２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジア
ゼピノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した
（収率５９．４％）。 ｍｐ １８０〜１９２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６５５，１６
０８，１５５５，１４９４，１３７４，１３３６，１２
０８，１１８６，８８０，７５５，７３６，７２２ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．５（２Ｈ，
ｍ），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ），５．
３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．
９〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），８．７７（１Ｈ，ｓ），
１０．９１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８２（Ｍ+ ）
ソ−６−アミノ−８−（２−フルオロフェニル）−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジアゼピ
ノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンと、５−フェノキ
シカルボニルアミノインドールから、（６ＲＳ）−１−
メチル−５−オキソ−６−［Ｎ’−（インドール−５−
イル）ウレイド］−８−（２−フルオロフェニル）−
２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ−［１，４］ジア
ゼピノ［１，７，６−ｄｅ］キノキサリンを製造した
（収率５９．４％）。 ｍｐ １８０〜１９２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３１０，１６５５，１６
０８，１５５５，１４９４，１３７４，１３３６，１２
０８，１１８６，８８０，７５５，７３６，７２２ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０１（３Ｈ，ｓ），
３．０〜３．１（１Ｈ，ｍ），３．４〜３．５（２Ｈ，
ｍ），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ），５．
３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．
９〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），８．７７（１Ｈ，ｓ），
１０．９１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８２（Ｍ+ ）
【００９７】（４）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、６−フェノキシカルボニルアミノ−
２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシンから、
（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシ
ン−６−イル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，
７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，
４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率６８．９％）。 ｍｐ ２２８〜２３０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６６７，１６
３４，１６０６，１５５８，１４９９，１３７２，７４
０，７１８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）
４．１８（４Ｈ，ｓ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜
７．６（１１Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７２（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、６−フェノキシカルボニルアミノ−
２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシンから、
（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシ
ン−６−イル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，
７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，
４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率６８．９％）。 ｍｐ ２２８〜２３０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６６７，１６
３４，１６０６，１５５８，１４９９，１３７２，７４
０，７１８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）
４．１８（４Ｈ，ｓ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜
７．６（１１Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７２（Ｍ+ ）
【００９８】（５）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３，４−ジメトキシ−Ｎ−フェノキ
シカルボニルアニリンから、（３ＲＳ）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（３，４−ジメトキシ
フェニル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンを製造した（収率 ５９．３％）。 ｍｐ ２３２〜２３５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３５８０，３３６０，１６
７１，１６３４，１６０４，１５６３，１５１０，１３
９１，１３７２，１３４０，１２５８，１２４０，１２
１８，１０２４，８４３，８００，７５８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．６９，３．７０（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｅａ
ｃｈ ｓ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈ
ｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），５．
１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７〜７．６
（１１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７４（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３，４−ジメトキシ−Ｎ−フェノキ
シカルボニルアニリンから、（３ＲＳ）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（３，４−ジメトキシ
フェニル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンを製造した（収率 ５９．３％）。 ｍｐ ２３２〜２３５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３５８０，３３６０，１６
７１，１６３４，１６０４，１５６３，１５１０，１３
９１，１３７２，１３４０，１２５８，１２４０，１２
１８，１０２４，８４３，８００，７５８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．６９，３．７０（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｅａ
ｃｈ ｓ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈ
ｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），５．
１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７〜７．６
（１１Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７４（Ｍ+ ）
【００９９】（６）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノイ
ンドールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（インドール−５−イル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを
製造した（収率４１．３％）。 ｍｐ ２５１〜２５５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２７５，１６７２，１６
２８，１５９９，１５８４，１５７０，１４８３，１３
９０，１３７２，１２１４，１１９５，７９５，７５
６，７２２ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４２（２
Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．２０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．３２（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），７．０〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），８．７８（１
Ｈ，ｓ），１０．９１（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５３（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノイ
ンドールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（インドール−５−イル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを
製造した（収率４１．３％）。 ｍｐ ２５１〜２５５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２７５，１６７２，１６
２８，１５９９，１５８４，１５７０，１４８３，１３
９０，１３７２，１２１４，１１９５，７９５，７５
６，７２２ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４２（２
Ｈ，ｍ），３．９６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），
４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．２０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．３２（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），７．０〜７．６５（１１Ｈ，ｍ），８．７８（１
Ｈ，ｓ），１０．９１（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５３（Ｍ+ ）
【０１００】（７）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノイ
ンダンから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（インダン−５−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率５４．７％）。 ｍｐ ２５３〜２５４℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６７０，１６
３７，１６０１，１５５０，１４８５，１３９０，１２
１２，１１２０，８７３，７９６，７５８，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．９８（２Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．７９（４Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．２Ｈｚ），３．０５〜３．４６（２Ｈ，ｍ），
３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．４９
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．６（１１Ｈ，ｍ），８．９
０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５４（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、５−フェノキシカルボニルアミノイ
ンダンから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（インダン−５−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率５４．７％）。 ｍｐ ２５３〜２５４℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６７０，１６
３７，１６０１，１５５０，１４８５，１３９０，１２
１２，１１２０，８７３，７９６，７５８，７２０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．９８（２Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．７９（４Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．２Ｈｚ），３．０５〜３．４６（２Ｈ，ｍ），
３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．４９
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．６（１１Ｈ，ｍ），８．９
０（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５４（Ｍ+ ）
【０１０１】（８）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−フェノキシカルボニルアミノピ
リジンから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（ピリジン−３−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率８９．６％）。 ｍｐ ２４０〜２４３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６６９，１６
４５，１５９６，１５５０，１４８０，１３７２，１３
０２，１２１８，１１１８，８６８，８００，７５５，
７１０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５７（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），
４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０〜７．７（９Ｈ，
ｍ），７．８９（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，４Ｈ
ｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，４．６
Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），９．
２５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４１５（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピンと、３−フェノキシカルボニルアミノピ
リジンから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−［Ｎ’−（ピリジン−３−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率８９．６％）。 ｍｐ ２４０〜２４３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２０，１６６９，１６
４５，１５９６，１５５０，１４８０，１３７２，１３
０２，１２１８，１１１８，８６８，８００，７５５，
７１０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．５７（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），
４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０〜７．７（９Ｈ，
ｍ），７．８９（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，４Ｈ
ｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，４．６
Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），９．
２５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４１５（Ｍ+ ）
【０１０２】実施例５ テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）中にフェネチルアミン
（０．２５ｇ）を溶解させた溶液に、攪拌下カルボニル
ジイミダゾール（０．３４ｇ）を加え、氷浴中で冷却し
た。この混合物を同温度で１時間攪拌し、この反応液
に、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピ
ロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
（０．５９ｇ）を加えた。得られた混合物を室温で一夜
攪拌した後、反応液からテトラヒドロフランを減圧下に
留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗（２回）し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥し、半量になるまで濃縮
した。これを数時間放置すると結晶が析出し、これを濾
取した。この結晶を冷酢酸エチルで洗浄した後減圧下に
乾燥すると、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−（Ｎ’−フェネチルウレイド）−４−オキソ
−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−
ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンの結晶が得られた
（５０６．３ｍｇ，収率５７．３％）。 ｍｐ １８３〜１８３．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２７５，１６６６，１６
０８，１５６０，１３７２，７５７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），３．０〜３．５（４Ｈ，ｍ），３．９３
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）７．
０〜７．６５（１３Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４２（Ｍ+ ）
（０．２５ｇ）を溶解させた溶液に、攪拌下カルボニル
ジイミダゾール（０．３４ｇ）を加え、氷浴中で冷却し
た。この混合物を同温度で１時間攪拌し、この反応液
に、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピ
ロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
（０．５９ｇ）を加えた。得られた混合物を室温で一夜
攪拌した後、反応液からテトラヒドロフランを減圧下に
留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗（２回）し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥し、半量になるまで濃縮
した。これを数時間放置すると結晶が析出し、これを濾
取した。この結晶を冷酢酸エチルで洗浄した後減圧下に
乾燥すると、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−（Ｎ’−フェネチルウレイド）−４−オキソ
−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−
ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンの結晶が得られた
（５０６．３ｍｇ，収率５７．３％）。 ｍｐ １８３〜１８３．５℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３２７５，１６６６，１６
０８，１５６０，１３７２，７５７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），３．０〜３．５（４Ｈ，ｍ），３．９３
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）７．
０〜７．６５（１３Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４４２（Ｍ+ ）
【０１０３】実施例６ 実施例５と同様にして下記の原料化合物から下記の目的
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロ
ピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピ
ン、２−アミノアダマンタン及びカルボニルジイミダゾ
ールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）
−３−［Ｎ’−（アダマンタン−２−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率７６．５％）。 ｍｐ ２７１〜２７３℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５（Ｓ），３２７
０，１６８３，１６１５，１５５０，１３８２，１３７
１，１１２０，８０９，７４１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．５〜２．０（１４
Ｈ，ｍ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．７１（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９３（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ） ４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ），５．１０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．７〜７．６５（９Ｈ，
ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７２（Ｍ+ ＋２）
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロ
ピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピ
ン、２−アミノアダマンタン及びカルボニルジイミダゾ
ールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）
−３−［Ｎ’−（アダマンタン−２−イル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率７６．５％）。 ｍｐ ２７１〜２７３℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５（Ｓ），３２７
０，１６８３，１６１５，１５５０，１３８２，１３７
１，１１２０，８０９，７４１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．５〜２．０（１４
Ｈ，ｍ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．７１（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９３（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ） ４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ），５．１０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．７〜７．６５（９Ｈ，
ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４７２（Ｍ+ ＋２）
【０１０４】（２）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、［（１Ｒ）−１−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−２−アミノエチル］ベンゼン及びカルボ
ニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フル
オロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−２−フェニルエチル］ウレ
イド｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピ
ロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
を製造した（収率８１．３％）。 ｍｐ １２０〜１２６℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，１６９０
（Ｓ），１６４５，１５５０，１３７４，１２３９，７
５０，６９７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（３
Ｈ，ｍ），３．９８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），
４．４〜４．７（２Ｈ，ｍ），５．００（２Ｈ，ｓ），
５．１２（１Ｈ，ｄ×２，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．６
（１Ｈ，ｍ），７．０〜７．５１（１３Ｈ，ｍ），７．
８５〜７．９５（１Ｈ，ｄ×２，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、［（１Ｒ）−１−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−２−アミノエチル］ベンゼン及びカルボ
ニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フル
オロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−２−フェニルエチル］ウレ
イド｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピ
ロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
を製造した（収率８１．３％）。 ｍｐ １２０〜１２６℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，１６９０
（Ｓ），１６４５，１５５０，１３７４，１２３９，７
５０，６９７ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．４５（３
Ｈ，ｍ），３．９８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），
４．４〜４．７（２Ｈ，ｍ），５．００（２Ｈ，ｓ），
５．１２（１Ｈ，ｄ×２，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．６
（１Ｈ，ｍ），７．０〜７．５１（１３Ｈ，ｍ），７．
８５〜７．９５（１Ｈ，ｄ×２，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
【０１０５】（３）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、メチオニンメチルエステル及びカルボ
ニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フル
オロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（１Ｓ）−１−メトキ
シカルボニル−３−メチルチオプロピル］ウレイド｝−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率 ５１．１％）。 ｍｐ ２００〜２０２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７３５，１６
７８，１６２５，１５６４，１３８０，１２７０，１２
１５，１１２５，７６５，７４５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．８〜２．３（２Ｈ，
ｍ），２．０５，２．１０（３Ｈ，ｅａｃｈ ｓ），
２．５３，２．６０（２Ｈ，ｅａｃｈ ｔ，Ｊ＝７．６
Ｈｚ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．７３，３．
７６（３Ｈ，ｅａｃｈ ｓ），３．９〜４．１（１Ｈ，
ｍ），４．５５〜４．７５（２Ｈ，ｍ），５．３７，
５．４１（１Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
５．９０，５．９３（１Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝７．８
Ｈｚ），６．８〜７．８（８Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８４（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、メチオニンメチルエステル及びカルボ
ニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フル
オロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（１Ｓ）−１−メトキ
シカルボニル−３−メチルチオプロピル］ウレイド｝−
４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製
造した（収率 ５１．１％）。 ｍｐ ２００〜２０２℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１７３５，１６
７８，１６２５，１５６４，１３８０，１２７０，１２
１５，１１２５，７６５，７４５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．８〜２．３（２Ｈ，
ｍ），２．０５，２．１０（３Ｈ，ｅａｃｈ ｓ），
２．５３，２．６０（２Ｈ，ｅａｃｈ ｔ，Ｊ＝７．６
Ｈｚ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．７３，３．
７６（３Ｈ，ｅａｃｈ ｓ），３．９〜４．１（１Ｈ，
ｍ），４．５５〜４．７５（２Ｈ，ｍ），５．３７，
５．４１（１Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
５．９０，５．９３（１Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝７．８
Ｈｚ），６．８〜７．８（８Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８４（Ｍ+ ）
【０１０６】実施例７ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−アミ
ノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
５９．３ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を
氷浴中で冷却しておき、これにカルボニルジイミダゾー
ル（１７０．５ｍｇ）を攪拌下に加え、更に１時間同温
度で攪拌を継続した。次いでこの攪拌を続けながらＮ−
アミノモルホリンを加え、室温に戻して３時間、更に加
熱還流下に１０時間攪拌を行った。反応終了後テトラヒ
ドロフランを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチルに溶解
した。有機溶媒層を水洗（２回）し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、溶媒を減圧留去すると、非晶質固体が得
られた。本品をシリカゲル充填のカラムクロマトグラフ
ィに展開し、クロロホルムで溶出した。目的物質を含む
画分を合し、溶媒を減圧留去すると、黄色非晶質の（３
ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−
（モルホリン−４−イル）ウレイド］−４−オキソ−
３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２６０．８ｍｇ，収
率 ７０．１％）が得られた。 ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３７０，３２００，１６
９０（Ｓ），１６６７，１６０９，１５１０，１３７
３，１１１０，８７２，７５０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．９５〜３．４５（６Ｈ，
ｍ），３．８３（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０２（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），４．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
２．４Ｈｚ，９．６Ｈｚ），５．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９Ｈｚ），５．４４（１Ｈ，ｓ），６．９〜７．８５
（８Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２３（Ｍ+ ）
ノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
５９．３ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を
氷浴中で冷却しておき、これにカルボニルジイミダゾー
ル（１７０．５ｍｇ）を攪拌下に加え、更に１時間同温
度で攪拌を継続した。次いでこの攪拌を続けながらＮ−
アミノモルホリンを加え、室温に戻して３時間、更に加
熱還流下に１０時間攪拌を行った。反応終了後テトラヒ
ドロフランを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチルに溶解
した。有機溶媒層を水洗（２回）し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、溶媒を減圧留去すると、非晶質固体が得
られた。本品をシリカゲル充填のカラムクロマトグラフ
ィに展開し、クロロホルムで溶出した。目的物質を含む
画分を合し、溶媒を減圧留去すると、黄色非晶質の（３
ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−
（モルホリン−４−イル）ウレイド］−４−オキソ−
３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２６０．８ｍｇ，収
率 ７０．１％）が得られた。 ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３７０，３２００，１６
９０（Ｓ），１６６７，１６０９，１５１０，１３７
３，１１１０，８７２，７５０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．９５〜３．４５（６Ｈ，
ｍ），３．８３（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０２（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），４．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
２．４Ｈｚ，９．６Ｈｚ），５．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９Ｈｚ），５．４４（１Ｈ，ｓ），６．９〜７．８５
（８Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４２３（Ｍ+ ）
【０１０７】実施例８ 実施例７と同様にして下記の原料化合物から下記の目的
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロ
ピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピ
ン、４−クロロフェニルヒドラジン及びカルボニルジイ
ミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−｛［３−（４−クロロフェニル）カルバゾ
イル］アミノ｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピンを製造した（収率３６．７％）。 ｍｐ １４５℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，３３００，３２
００，１６７０，１６０９，１５２７，１４８４，１３
７２，１３４４，１２４０，８２３，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．
４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），７．９６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．３３（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６３（Ｍ+ ），４６４（Ｍ+ ＋
１），４６６（Ｍ+ ＋２），４６７（Ｍ+ ＋３）
物質を製造した。 （１）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロ
ピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピ
ン、４−クロロフェニルヒドラジン及びカルボニルジイ
ミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−｛［３−（４−クロロフェニル）カルバゾ
イル］アミノ｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピンを製造した（収率３６．７％）。 ｍｐ １４５℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，３３００，３２
００，１６７０，１６０９，１５２７，１４８４，１３
７２，１３４４，１２４０，８２３，７５０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．
４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７〜７．６（１１Ｈ，
ｍ），７．９６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．３３（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６３（Ｍ+ ），４６４（Ｍ+ ＋
１），４６６（Ｍ+ ＋２），４６７（Ｍ+ ＋３）
【０１０８】（２）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、グリシン（３−メチルフェニル）アミ
ド及びカルボニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１
−（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（３−メ
チルフェニル）カルバモイルメチル］ウレイド｝−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率 ９０．６％）。 ｍｐ １７９〜１８３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，１６９０
（Ｓ），１６６５，１６４０，１６１０，１５４４，１
４８５，１３７４，１２１４，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２７（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４５（２Ｈ，ｍ），３．３５〜４．０
（３Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．５Ｈ
ｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８
〜７．６（１３Ｈ，ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８５（Ｍ+ ）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、グリシン（３−メチルフェニル）アミ
ド及びカルボニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１
−（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（３−メ
チルフェニル）カルバモイルメチル］ウレイド｝−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した
（収率 ９０．６％）。 ｍｐ １７９〜１８３℃ ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３５０，１６９０
（Ｓ），１６６５，１６４０，１６１０，１５４４，１
４８５，１３７４，１２１４，７４８ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．２７（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．４５（２Ｈ，ｍ），３．３５〜４．０
（３Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．５Ｈ
ｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８
〜７．６（１３Ｈ，ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４８５（Ｍ+ ）
【０１０９】（３）（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフ
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、インドリン−２−カルボン酸及びカル
ボニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−３−［（２−カルボキシインドリン
−１−イル）カルボニルアミノ］−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率 ２９．
９％）。 ｍｐ ２１８〜２２２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３６０，１６５５，１６
００，１３７２， ７４５ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５
（４Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈ
ｚ），４．２〜４．６（１Ｈ，ｂｒ．ｍ），４．８５〜
４．９（１Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），６．８〜７．７（１１Ｈ，ｍ），８．９（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６６（Ｍ+ −１８）
ェニル）−３−アミノ−４−オキソ−３，４，６，７−
テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベ
ンゾジアゼピン、インドリン−２−カルボン酸及びカル
ボニルジイミダゾールから、（３ＲＳ）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−３−［（２−カルボキシインドリン
−１−イル）カルボニルアミノ］−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンを製造した（収率 ２９．
９％）。 ｍｐ ２１８〜２２２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３６０，１６５５，１６
００，１３７２， ７４５ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５
（４Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．８Ｈ
ｚ），４．２〜４．６（１Ｈ，ｂｒ．ｍ），４．８５〜
４．９（１Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），６．８〜７．７（１１Ｈ，ｍ），８．９（１Ｈ，
ｂｒ．ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４６６（Ｍ+ −１８）
【０１１０】実施例９ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（ピリジン−３−イル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１３６．２ｍ
ｇ）のメタノール（１５ｍｌ）溶液に、沃化メチル（３
６０ｍｇ）を加えた。反応混合物を加熱還流下に１０時
間攪拌した後、反応混合物から溶媒を留去した。残渣を
シリカゲル充填のカラムクロマトグラフィに展開し、ク
ロロホルムとメタノールの混合溶媒（５：１）で溶出し
た。目的物質を含む画分を合し、溶媒を減圧留去する
と、結晶状固形物が得られた。本品を酢酸エチルで処理
し、結晶を濾取すると、黄色結晶状粉末の（３ＲＳ）−
１−（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（１−メ
チル−３−ピリジニオ）ウレイド］−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンヨージドが得られた（１６
１．０ｍｇ、収率 ８８．８％）。 ｍｐ １３０℃〜（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００（ｂｒ），３０７
０，１７００（Ｓ），１６７０，１６０５，１５９５，
１５４５，１４９８，１３９５，１３７１，１３２５，
１２１５，１０５１，１０２５，８８０，８０５，７５
０，７２０ ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），
４．３４（３Ｈ，ｓ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．
４Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
７．０〜７．６５（７Ｈ，ｍ），７．９５〜８．１０
（２Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），９．１７
（１Ｈ，ｓ），１０．０５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５５６（Ｍ+ −１），５５７（Ｍ
+ ），５５８（Ｍ+ ＋１）
［Ｎ’−（ピリジン−３−イル）ウレイド］−４−オキ
ソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１
−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１３６．２ｍ
ｇ）のメタノール（１５ｍｌ）溶液に、沃化メチル（３
６０ｍｇ）を加えた。反応混合物を加熱還流下に１０時
間攪拌した後、反応混合物から溶媒を留去した。残渣を
シリカゲル充填のカラムクロマトグラフィに展開し、ク
ロロホルムとメタノールの混合溶媒（５：１）で溶出し
た。目的物質を含む画分を合し、溶媒を減圧留去する
と、結晶状固形物が得られた。本品を酢酸エチルで処理
し、結晶を濾取すると、黄色結晶状粉末の（３ＲＳ）−
１−（２−フルオロフェニル）−３−［Ｎ’−（１−メ
チル−３−ピリジニオ）ウレイド］−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピンヨージドが得られた（１６
１．０ｍｇ、収率 ８８．８％）。 ｍｐ １３０℃〜（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００（ｂｒ），３０７
０，１７００（Ｓ），１６７０，１６０５，１５９５，
１５４５，１４９８，１３９５，１３７１，１３２５，
１２１５，１０５１，１０２５，８８０，８０５，７５
０，７２０ ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０５〜３．４５（２
Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），
４．３４（３Ｈ，ｓ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．
４Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
７．０〜７．６５（７Ｈ，ｍ），７．９５〜８．１０
（２Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），９．１７
（１Ｈ，ｓ），１０．０５（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５５６（Ｍ+ −１），５５７（Ｍ
+ ），５５８（Ｍ+ ＋１）
【０１１１】実施例１０ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
００ｍｇ）と１−メチルピペラジン（１００ｍｇ）をテ
トラヒドロフラン（１０ｍｌ）に加えてなる混合物を室
温で一夜攪拌した。反応終了後テトラヒドロフランを減
圧留去し、残渣に水を加えた。析出沈殿物を濾取、水洗
し、４０℃に加温しながら減圧下に乾燥すると、黄色粉
末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−｛Ｎ’−［４−（４−メチルピペラジン−１−イル）
スルホニルフェニル］ウレイド｝−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピン（２１４．３ｍｇ，収率
８８．５％）が得られた。 ｍｐ １７３〜１７５℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，１６５２，１５
９０，１５４０，１３９８，１３７２，１３４２，１２
８２，１２２０，１１６５，１１５０，１０９５，９４
５，７５０，７３４ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．１３（３Ｈ，ｓ），
２．３５（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．８５（４Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
０Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
７．０〜７．７５（１２Ｈ，ｍ），９．６０（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５７４（Ｍ+ −２）
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
００ｍｇ）と１−メチルピペラジン（１００ｍｇ）をテ
トラヒドロフラン（１０ｍｌ）に加えてなる混合物を室
温で一夜攪拌した。反応終了後テトラヒドロフランを減
圧留去し、残渣に水を加えた。析出沈殿物を濾取、水洗
し、４０℃に加温しながら減圧下に乾燥すると、黄色粉
末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３
−｛Ｎ’−［４−（４−メチルピペラジン−１−イル）
スルホニルフェニル］ウレイド｝−４−オキソ−３，
４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］
［１，４］ベンゾジアゼピン（２１４．３ｍｇ，収率
８８．５％）が得られた。 ｍｐ １７３〜１７５℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３２５，１６５２，１５
９０，１５４０，１３９８，１３７２，１３４２，１２
８２，１２２０，１１６５，１１５０，１０９５，９４
５，７５０，７３４ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．１３（３Ｈ，ｓ），
２．３５（４Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．８５（４Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．０〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
０Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
７．０〜７．７５（１２Ｈ，ｍ），９．６０（１Ｈ，
ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５７４（Ｍ+ −２）
【０１１２】実施例１１ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
３８ｍｇ）と１−（３−アミノプロピル）−２−ピロリ
ドン（１５６ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）
に加えてなる混合物を室温で２４時間攪拌した。反応終
了後テトラヒドロフランを減圧留去し、残渣に水を加え
た。析出沈殿物を濾取、水洗し、減圧下に乾燥した。結
晶状粉末をメタノールとジイソプロピルエーテルの混合
液に懸濁させ、２時間攪拌した。固形物を濾取しジイソ
プロピルエーテルで洗浄すると、白色粉末状の（３Ｒ
Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−
［４−（３−（２−オキソピロリジン−１−イル）プロ
ピル）アミノスルホニルフェニル］ウレイド｝−４−オ
キソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，
１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２４６．０ｍ
ｇ，収率 ７９．５％）が得られた。 ｍｐ １８５〜１８７℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６９０
（Ｓ），１６７０（Ｓ），１６５８，１６３７，１５８
５，１４５０，１３２５，１１５４，８３０，７５６ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．５４（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．８３（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ），２．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．６７
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．０７〜３．３３
（６Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ），５．１８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．８（１２Ｈ，
ｍ），９．５６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝６１９（Ｍ＋１）
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
３８ｍｇ）と１−（３−アミノプロピル）−２−ピロリ
ドン（１５６ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）
に加えてなる混合物を室温で２４時間攪拌した。反応終
了後テトラヒドロフランを減圧留去し、残渣に水を加え
た。析出沈殿物を濾取、水洗し、減圧下に乾燥した。結
晶状粉末をメタノールとジイソプロピルエーテルの混合
液に懸濁させ、２時間攪拌した。固形物を濾取しジイソ
プロピルエーテルで洗浄すると、白色粉末状の（３Ｒ
Ｓ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−
［４−（３−（２−オキソピロリジン−１−イル）プロ
ピル）アミノスルホニルフェニル］ウレイド｝−４−オ
キソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，
１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２４６．０ｍ
ｇ，収率 ７９．５％）が得られた。 ｍｐ １８５〜１８７℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，１６９０
（Ｓ），１６７０（Ｓ），１６５８，１６３７，１５８
５，１４５０，１３２５，１１５４，８３０，７５６ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．５４（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．８３（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ），２．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．６７
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．０７〜３．３３
（６Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ），４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ），５．１８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜７．８（１２Ｈ，
ｍ），９．５６（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝６１９（Ｍ＋１）
【０１１３】実施例１２ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
００ｍｇ）に、０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１
０ｍｌ）およびテトラヒドロフラン（２ｍｌ）を加えて
なる混合物を室温で一夜攪拌した。反応混合物を酢酸エ
チルで洗浄し、水層に６Ｎ−塩酸を加えて酸性とした。
この水層を酢酸エチルで洗浄した後、減圧下に溶媒を留
去して乾燥した。残渣にメタノールとクロロホルムの混
液（１：２，１５０ｍｌ）を加え一夜攪拌した。不溶物
を濾去した後、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をジイソ
プロピルエーテルで処理して結晶化し、これを濾取する
と、黄色粉末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−［Ｎ’−（４−スルホフェニル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
（２００．７ｍｇ，収率９６．６％）が得られた。 ｍｐ １３０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，１６８０，１６
１０，１５４０，１３７４，１１２５，１１０８，８３
０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．４９
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．４Ｈｚ），７．０〜７．７（１２Ｈ，ｍ），９．５
７（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ・ＭＳ＝４９５（Ｍ+ ＋１）
［Ｎ’−（４−クロロスルホニルフェニル）ウレイド］
−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ
［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（２
００ｍｇ）に、０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１
０ｍｌ）およびテトラヒドロフラン（２ｍｌ）を加えて
なる混合物を室温で一夜攪拌した。反応混合物を酢酸エ
チルで洗浄し、水層に６Ｎ−塩酸を加えて酸性とした。
この水層を酢酸エチルで洗浄した後、減圧下に溶媒を留
去して乾燥した。残渣にメタノールとクロロホルムの混
液（１：２，１５０ｍｌ）を加え一夜攪拌した。不溶物
を濾去した後、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をジイソ
プロピルエーテルで処理して結晶化し、これを濾取する
と、黄色粉末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェ
ニル）−３−［Ｎ’−（４−スルホフェニル）ウレイ
ド］−４−オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロ
ロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン
（２００．７ｍｇ，収率９６．６％）が得られた。 ｍｐ １３０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３４００，１６８０，１６
１０，１５４０，１３７４，１１２５，１１０８，８３
０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．０〜３．５（２Ｈ，
ｍ），３．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ），４．４９
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．４Ｈｚ），７．０〜７．７（１２Ｈ，ｍ），９．５
７（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ・ＭＳ＝４９５（Ｍ+ ＋１）
【０１１４】実施例１３ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１８５．
０ｍｇ）を塩化メチレン（２０ｍｌ）に溶解させた懸濁
液を氷浴中で冷却し、これに、３−クロロ過安息香酸
（１５２．７ｍｇ）を攪拌下に加えた。得られた澄明溶
液を同温度で２時間攪拌した。この反応液から塩化メチ
レンを減圧下に留去し、残渣に酢酸エチルを加えた。こ
の溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し
た。この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下に留去すると油状残渣が得られ、これを放置する
と結晶化した。これをメタノール、酢酸エチル及びジイ
ソプロピルエーテルの混液で処理し、得られた白色結晶
を濾取してシリカゲル充填のカラムクロマトグラフィに
展開し、クロロホルムとメタノールの混液（５０：１）
で溶出した。目的物質を含む画分を合して溶媒を留去す
ると、白色結晶状粉末の（３ＲＳ）−１−（２−フルオ
ロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−メチルスルホニルフ
ェニル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−テ
トラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベン
ゾジアゼピン（１１２．２ｍｇ，収率５６．７％）が得
られた。 ｍｐ ２１５〜２２０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，３１７０，１６
６７，１６４４，１５９６，１５４８，１３７１，１３
１５，１３００，１１４５，９５２，７５４ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．１８（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０
〜７．７（１１Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｓ），９．
４９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４９２（Ｍ+ ）
［Ｎ’−（３−メチルチオフェニル）ウレイド］−４−
オキソ−３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，
２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１８５．
０ｍｇ）を塩化メチレン（２０ｍｌ）に溶解させた懸濁
液を氷浴中で冷却し、これに、３−クロロ過安息香酸
（１５２．７ｍｇ）を攪拌下に加えた。得られた澄明溶
液を同温度で２時間攪拌した。この反応液から塩化メチ
レンを減圧下に留去し、残渣に酢酸エチルを加えた。こ
の溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し
た。この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下に留去すると油状残渣が得られ、これを放置する
と結晶化した。これをメタノール、酢酸エチル及びジイ
ソプロピルエーテルの混液で処理し、得られた白色結晶
を濾取してシリカゲル充填のカラムクロマトグラフィに
展開し、クロロホルムとメタノールの混液（５０：１）
で溶出した。目的物質を含む画分を合して溶媒を留去す
ると、白色結晶状粉末の（３ＲＳ）−１−（２−フルオ
ロフェニル）−３−［Ｎ’−（３−メチルスルホニルフ
ェニル）ウレイド］−４−オキソ−３，４，６，７−テ
トラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベン
ゾジアゼピン（１１２．２ｍｇ，収率５６．７％）が得
られた。 ｍｐ ２１５〜２２０℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３００，３１７０，１６
６７，１６４４，１５９６，１５４８，１３７１，１３
１５，１３００，１１４５，９５２，７５４ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．１８（３Ｈ，ｓ），
３．０５〜３．５（２Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝１０．８Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０
〜７．７（１１Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｓ），９．
４９（１Ｈ，ｓ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４９２（Ｍ+ ）
【０１１５】実施例１４ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−２−フェニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−
３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１．２４ｇ）をエタ
ノール（２０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）
の混液に溶解させ、常圧の水素気流中で１０％パラジウ
ム−炭素上で水素化した。触媒を濾去し、濾液を減圧濃
縮すると油状残渣が得られた。これをシリカゲル充填の
カラムクロマトグラフィに展開し、クロロホルムとメタ
ノールの混液（２０：１）で溶出した。目的物質を含む
画分を合して溶媒を留去すると非晶質固体が得られ、こ
れをジイソプロピルエーテルで処理した後濾取すると、
白色粉末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−アミノ−２−フェ
ニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピン（０．９０ｇ，収率９３．９％）が得
られた。 ｍｐ １００℃（分解） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．２３（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．０〜３．５５（４Ｈ，ｍ），３．８９（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），４．０〜４．１５（１Ｈ，
ｍ），４．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．３
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），５．７４（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９〜
７．７（１３Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５７（Ｍ+ ），４５８（Ｍ+ ＋
１）
｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−２−フェニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−
３，４，６，７−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊ
ｋ］［１，４］ベンゾジアゼピン（１．２４ｇ）をエタ
ノール（２０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）
の混液に溶解させ、常圧の水素気流中で１０％パラジウ
ム−炭素上で水素化した。触媒を濾去し、濾液を減圧濃
縮すると油状残渣が得られた。これをシリカゲル充填の
カラムクロマトグラフィに展開し、クロロホルムとメタ
ノールの混液（２０：１）で溶出した。目的物質を含む
画分を合して溶媒を留去すると非晶質固体が得られ、こ
れをジイソプロピルエーテルで処理した後濾取すると、
白色粉末状の（３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−アミノ−２−フェ
ニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピン（０．９０ｇ，収率９３．９％）が得
られた。 ｍｐ １００℃（分解） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．２３（２Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．０〜３．５５（４Ｈ，ｍ），３．８９（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），４．０〜４．１５（１Ｈ，
ｍ），４．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．３
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），５．７４（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９〜
７．７（１３Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝４５７（Ｍ+ ），４５８（Ｍ+ ＋
１）
【０１１６】実施例１５ （３ＲＳ）−１−（２−フルオロフェニル）−３−
｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−アミノ−２−フェニルエチ
ル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピン（０．７３ｇ）、無水コハク酸（０．１７６
ｇ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２３５
ｇ）を酢酸エチル（５０ｍｌ）に加えてなる混合物を、
加熱還流下に２４時間攪拌した。反応終了後反応混合物
から酢酸エチルを留去し、残渣をクロロホルムに溶解し
た。有機層を水、希塩酸、水の順序で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。これをシリカゲル充填のカラムク
ロマトグラフィに展開し、クロロホルムとメタノールの
混液（５０：１）で溶出した。目的物質を含む画分を合
して溶媒を留去すると、白色粉末状の（３ＲＳ）−１−
（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−
２−（３−カルボキシプロピオニル）アミノ−２−フェ
ニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピン（０．４４ｇ，収率 ４９．３％）が
得られた。 ｍｐ １２０〜１２２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３３０，３０００〜２４
００（ｂｒ），１７１０（Ｓ），１６５０，１５５５，
１３７５，１２４０，２２０，１１１０，１０２８，７
５１，７００ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．２〜２．８５（４Ｈ，
ｍ），３．０〜４．１（５Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，
ｍ），５．１６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．３９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．
９〜７．７（１４Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５５８（Ｍ+ ＋１），５５６（Ｍ
+ −１），５４０（Ｍ+＋１−１８）
｛Ｎ’−［（２Ｒ）−２−アミノ−２−フェニルエチ
ル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７−テトラ
ヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］ベンゾジ
アゼピン（０．７３ｇ）、無水コハク酸（０．１７６
ｇ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２３５
ｇ）を酢酸エチル（５０ｍｌ）に加えてなる混合物を、
加熱還流下に２４時間攪拌した。反応終了後反応混合物
から酢酸エチルを留去し、残渣をクロロホルムに溶解し
た。有機層を水、希塩酸、水の順序で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。これをシリカゲル充填のカラムク
ロマトグラフィに展開し、クロロホルムとメタノールの
混液（５０：１）で溶出した。目的物質を含む画分を合
して溶媒を留去すると、白色粉末状の（３ＲＳ）−１−
（２−フルオロフェニル）−３−｛Ｎ’−［（２Ｒ）−
２−（３−カルボキシプロピオニル）アミノ−２−フェ
ニルエチル］ウレイド｝−４−オキソ−３，４，６，７
−テトラヒドロピロロ［３，２，１−ｊｋ］［１，４］
ベンゾジアゼピン（０．４４ｇ，収率 ４９．３％）が
得られた。 ｍｐ １２０〜１２２℃（分解） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｍ-1：３３３０，３０００〜２４
００（ｂｒ），１７１０（Ｓ），１６５０，１５５５，
１３７５，１２４０，２２０，１１１０，１０２８，７
５１，７００ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：２．２〜２．８５（４Ｈ，
ｍ），３．０〜４．１（５Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，
ｍ），５．１６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．３９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．
９〜７．７（１４Ｈ，ｍ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）＝５５８（Ｍ+ ＋１），５５６（Ｍ
+ −１），５４０（Ｍ+＋１−１８）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/55 ＡＣＬ ＡＣＰ 9454−4Ｃ (Ｃ０７Ｄ 498/06 263:00 243:00） (Ｃ０７Ｄ 498/06 265:00 243:00）
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式で示される三環式化合物また
は医薬として許容されるその塩。 【化１】 ［式中Ｘは−Ｏ−，一般式 【化２】 （Ｒ4 は低級アルキル基を意味する）で示される基また
は−ＣＨ2 −、 Ａは−ＣＨ2 −または−ＣＨ2 ＣＨ2 −、 Ｒ1 は１個以上の適当な置換基を有していてもよいアリ
ール基、 Ｒ2 は水素、 Ｒ3 はハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、低級
アルキルチオ、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低
級）アルキル、スルホ、ハロスルホニル、低級アルキル
スルホニル、低級アルキルピペラジニルスルホニル、お
よびオキソを有するピロリジニル（低級）アルキルアミ
ノスルホニルよりなる群から選択された１個または２個
の置換基を有していてもよいフェニル基；インダニル
基；ピリジル基；モルホリニル基；インドリル基；ジヒ
ドロベンゾジオキシニル基；アダマンチル基；１個以上
の適当な置換基を有していてもよいアリールアミノ基；
１個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールカ
ルバモイル（低級）アルキル基；低級アルキルチオ、ア
リール、カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、
および保護されたアミノよりなる群から選択された１個
または２個の置換基を有する低級アルキル基；または一
般式 【化３】 （Ｒ5 は低級アルキル基、Ｙはハロゲンを夫々意味す
る）で示される基；のいずれかを意味するか、または式 【化４】 で示される基が一般式 【化５】 （Ｒ6 はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基）
で示される基を意味する］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12630493A JPH06336482A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 三環式化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12630493A JPH06336482A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 三環式化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06336482A true JPH06336482A (ja) | 1994-12-06 |
Family
ID=14931889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12630493A Withdrawn JPH06336482A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 三環式化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06336482A (ja) |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP12630493A patent/JPH06336482A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000801 |