JPH06327902A - 含浸液洗浄廃水の処理方法および装置 - Google Patents
含浸液洗浄廃水の処理方法および装置Info
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- JPH06327902A JPH06327902A JP14421093A JP14421093A JPH06327902A JP H06327902 A JPH06327902 A JP H06327902A JP 14421093 A JP14421093 A JP 14421093A JP 14421093 A JP14421093 A JP 14421093A JP H06327902 A JPH06327902 A JP H06327902A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理した
後、付着した余剰の含浸液を水で洗浄したことにより生
じた洗浄廃水を貯槽１１に供給して静置分離し、水層３
３と水不溶性含浸液層３１とに分離する。センサＳ２で
水の存在を確認して水層３３を回収する。貯槽１１内の
水不溶性含浸液層３１が増加しセンサＳ１で検知された
ときは、バルブＶ１から含浸液層３１を回収したのち、
水層３３を回収する。 【効果】 含浸液層の層厚を検知することにより、含浸
液の回収頻度を減少させて効率的に水を回収でき、セン
サによる自動化で短時間処理が可能となり、分離用貯槽
を小型化できる。
後、付着した余剰の含浸液を水で洗浄したことにより生
じた洗浄廃水を貯槽１１に供給して静置分離し、水層３
３と水不溶性含浸液層３１とに分離する。センサＳ２で
水の存在を確認して水層３３を回収する。貯槽１１内の
水不溶性含浸液層３１が増加しセンサＳ１で検知された
ときは、バルブＶ１から含浸液層３１を回収したのち、
水層３３を回収する。 【効果】 含浸液層の層厚を検知することにより、含浸
液の回収頻度を減少させて効率的に水を回収でき、セン
サによる自動化で短時間処理が可能となり、分離用貯槽
を小型化できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、孔質物品の含浸液洗浄
廃水から水および含浸液を分離・回収する処理方法およ
び装置に関する。
廃水から水および含浸液を分離・回収する処理方法およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属鋳物、粉末冶金製品、あるいはセラ
ミックス、コンクリート製品、プラスチックス、木、紙
などの“巣”や孔質部分を含浸液で封孔処理することは
従来から行なわれている。封孔処理により、漏れ止め効
果が得られるのは勿論のこと、メッキや塗装時の曇り、
膨れ、剥離防止の前処理として、また、プラスチックや
セラミックスの電気絶縁性、焼結体の切削加工性の向
上、木や紙の製品の強度付与等に利用でき、広範な分野
で応用されている。
ミックス、コンクリート製品、プラスチックス、木、紙
などの“巣”や孔質部分を含浸液で封孔処理することは
従来から行なわれている。封孔処理により、漏れ止め効
果が得られるのは勿論のこと、メッキや塗装時の曇り、
膨れ、剥離防止の前処理として、また、プラスチックや
セラミックスの電気絶縁性、焼結体の切削加工性の向
上、木や紙の製品の強度付与等に利用でき、広範な分野
で応用されている。
【０００３】含浸液としては、例えばアクリル系モノマ
ー等の硬化性モノマーを主剤とし、これに重合開始剤を
添加したものが用いられている。含浸処理は、例えば、
金属鋳物等の孔質物品を含浸槽に入れ、含浸槽を真空に
し、含浸槽に含浸液を導入して孔質物品を浸漬し、含浸
槽を大気に開放して、もしくは大気に開放し更に含浸槽
を加圧して、孔中への含浸液の充填を完全とすることに
より行なわれる。
ー等の硬化性モノマーを主剤とし、これに重合開始剤を
添加したものが用いられている。含浸処理は、例えば、
金属鋳物等の孔質物品を含浸槽に入れ、含浸槽を真空に
し、含浸槽に含浸液を導入して孔質物品を浸漬し、含浸
槽を大気に開放して、もしくは大気に開放し更に含浸槽
を加圧して、孔中への含浸液の充填を完全とすることに
より行なわれる。
【０００４】その後、孔中に含浸液が充填された孔質物
品を水洗し、孔質物品の表面に付着した余分な含浸液を
除いたのち、湯で加熱する湯浸硬化、オーブン等で加熱
する気相硬化などにより孔中の含浸液を硬化せしめ、封
孔処理が終了する。しかしこの場合、含浸後の洗浄時に
多量の洗浄廃水を生じるという問題があった。洗浄廃水
中には含浸液のモノマーが含まれているため、廃水をそ
のまま廃棄することができず、この処理に多大な費用が
必要であった。
品を水洗し、孔質物品の表面に付着した余分な含浸液を
除いたのち、湯で加熱する湯浸硬化、オーブン等で加熱
する気相硬化などにより孔中の含浸液を硬化せしめ、封
孔処理が終了する。しかしこの場合、含浸後の洗浄時に
多量の洗浄廃水を生じるという問題があった。洗浄廃水
中には含浸液のモノマーが含まれているため、廃水をそ
のまま廃棄することができず、この処理に多大な費用が
必要であった。
【０００５】従来は、水溶性のアクリル系モノマーを主
体とした含浸液を用い、水で洗浄する際の洗浄効果を良
好にするために、含浸液および洗浄水の一方または両方
に界面活性剤を含有せしめ、回収された洗浄廃水をモノ
マーの重合温度以上に加熱し、水中でモノマーを硬化さ
せて除去していた。しかし、この従来法では、加熱処理
した洗浄廃水から硬化物粒子を分離することが困難であ
り、さらに、洗浄廃水中のモノマーは、水溶性のため容
易に分離して分取できず、再利用は不可能であった。
体とした含浸液を用い、水で洗浄する際の洗浄効果を良
好にするために、含浸液および洗浄水の一方または両方
に界面活性剤を含有せしめ、回収された洗浄廃水をモノ
マーの重合温度以上に加熱し、水中でモノマーを硬化さ
せて除去していた。しかし、この従来法では、加熱処理
した洗浄廃水から硬化物粒子を分離することが困難であ
り、さらに、洗浄廃水中のモノマーは、水溶性のため容
易に分離して分取できず、再利用は不可能であった。
【０００６】そこで本出願人は先に、含浸液として水不
溶性モノマーを用い、比重差により洗浄廃水を含浸液層
と水層とに分離することを提案した（特開平４−１５４
８２２号公報）。
溶性モノマーを用い、比重差により洗浄廃水を含浸液層
と水層とに分離することを提案した（特開平４−１５４
８２２号公報）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、静置分
離であるため大きな分離貯槽を必要とし、分離効率が悪
かった。本発明は、比較的小さな貯槽で効率よく、洗浄
廃水から水と含浸液とを分離・回収することを目的とす
る。
離であるため大きな分離貯槽を必要とし、分離効率が悪
かった。本発明は、比較的小さな貯槽で効率よく、洗浄
廃水から水と含浸液とを分離・回収することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の含浸液洗浄廃水
の処理方法は、孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理し
た後、該物品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄するこ
とにより生じる、水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水
を処理するに際し、貯槽内に洗浄廃水を貯留、静置し、
比重差により水層と水不溶性含浸液層とに静置分離し、
センサにより水不溶性含浸液層の厚さを検知し、該厚さ
が予め決められた設定値以下の場合には水層のみを分取
し、一方、該厚さが設定値を超える場合には水不溶性含
浸液層と水層とをそれぞれ分取することを特徴とする。
の処理方法は、孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理し
た後、該物品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄するこ
とにより生じる、水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水
を処理するに際し、貯槽内に洗浄廃水を貯留、静置し、
比重差により水層と水不溶性含浸液層とに静置分離し、
センサにより水不溶性含浸液層の厚さを検知し、該厚さ
が予め決められた設定値以下の場合には水層のみを分取
し、一方、該厚さが設定値を超える場合には水不溶性含
浸液層と水層とをそれぞれ分取することを特徴とする。
【０００９】また、本発明の含浸液洗浄廃水の処理装置
は、孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理した後、該物
品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄することにより生
じる水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水を貯留し、比
重差により洗浄廃水を水層と水不溶性含浸液層とに静置
分離する貯槽と、水不溶性含浸液層の厚さを検知する第
１のセンサと、該厚さが設定値を超えた場合に、水不溶
性含浸液層を貯槽から分取する第１の取出口と、水不溶
性含浸液層の存在位置を検知する第２のセンサと、水層
を貯槽から分取する第２の取出口とを有することを特徴
とする。
は、孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理した後、該物
品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄することにより生
じる水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水を貯留し、比
重差により洗浄廃水を水層と水不溶性含浸液層とに静置
分離する貯槽と、水不溶性含浸液層の厚さを検知する第
１のセンサと、該厚さが設定値を超えた場合に、水不溶
性含浸液層を貯槽から分取する第１の取出口と、水不溶
性含浸液層の存在位置を検知する第２のセンサと、水層
を貯槽から分取する第２の取出口とを有することを特徴
とする。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の実施例を示す説明図であ
り、水よりも比重が小さい水不溶性含浸液を含む洗浄廃
水が、供給バルブＶ３から貯槽１１内に供給される（バ
ルブＶ１，Ｖ２は共に閉である）。液面センサ１３の上
限位置まで洗浄廃水が満たされると供給バルブＶ３が閉
じられ、貯槽１１内の洗浄廃水の処理が開始される。
り、水よりも比重が小さい水不溶性含浸液を含む洗浄廃
水が、供給バルブＶ３から貯槽１１内に供給される（バ
ルブＶ１，Ｖ２は共に閉である）。液面センサ１３の上
限位置まで洗浄廃水が満たされると供給バルブＶ３が閉
じられ、貯槽１１内の洗浄廃水の処理が開始される。
【００１１】静置分離は速やかに行なわれ、一般に３分
程度で十分であり、上部の含浸液層３１と下部の水層３
３に分離する。所定の静置分離時間経過後に、第１のセ
ンサＳ１で、その深さ位置に水が存在するのか、水不溶
性の含浸液が存在するのかを検知する。一般に洗浄廃水
は多量の水と少量の含浸液とを含むので、液面レベルセ
ンサ１３と第１のセンサＳ１との距離は、１回の静置分
離処理時に新たに貯槽１１内に供給される洗浄廃水中の
含浸液によって形成される含浸液層３１の厚さよりも小
さく設定しておく。図１では、レベルＡよりも上方が含
浸液層３１で下方が水層１１であり、第１のセンサＳ１
では水の存在が検知される。第１のセンサＳ１で水が検
知された場合は、バルブＶ２を開け、貯槽１１中の水層
３３を一次貯水槽２１に放出する。この水層３３の放出
に伴なって貯槽１１内の液面が低下し、ついには含浸液
層３１が第２のセンサＳ２によって検知される。この時
点でバルブＶ２を閉じ水層の回収を終了する。したがっ
て、全量の含浸液層３１が貯槽１１内に残留する。
程度で十分であり、上部の含浸液層３１と下部の水層３
３に分離する。所定の静置分離時間経過後に、第１のセ
ンサＳ１で、その深さ位置に水が存在するのか、水不溶
性の含浸液が存在するのかを検知する。一般に洗浄廃水
は多量の水と少量の含浸液とを含むので、液面レベルセ
ンサ１３と第１のセンサＳ１との距離は、１回の静置分
離処理時に新たに貯槽１１内に供給される洗浄廃水中の
含浸液によって形成される含浸液層３１の厚さよりも小
さく設定しておく。図１では、レベルＡよりも上方が含
浸液層３１で下方が水層１１であり、第１のセンサＳ１
では水の存在が検知される。第１のセンサＳ１で水が検
知された場合は、バルブＶ２を開け、貯槽１１中の水層
３３を一次貯水槽２１に放出する。この水層３３の放出
に伴なって貯槽１１内の液面が低下し、ついには含浸液
層３１が第２のセンサＳ２によって検知される。この時
点でバルブＶ２を閉じ水層の回収を終了する。したがっ
て、全量の含浸液層３１が貯槽１１内に残留する。
【００１２】この処理操作を繰り返すと、新たに貯槽１
１に供給される洗浄廃水中の含浸液により貯槽１１中の
含浸液層３１の厚さが増大し、やがては図１のレベルＢ
にまで達する（なお、図１では説明の便宜上、２回の操
作でレベルＢとなるように示してある）。含浸液層３１
の厚さが液面からレベルＢにまで達すると、第１のセン
サＳ１が含浸液を検知する。
１に供給される洗浄廃水中の含浸液により貯槽１１中の
含浸液層３１の厚さが増大し、やがては図１のレベルＢ
にまで達する（なお、図１では説明の便宜上、２回の操
作でレベルＢとなるように示してある）。含浸液層３１
の厚さが液面からレベルＢにまで達すると、第１のセン
サＳ１が含浸液を検知する。
【００１３】第１のセンサＳ１が含浸液を検知した場合
は、バルブＶ１を開とし、液面が液面センサ１５でＯＦ
Ｆとなるまで含浸液層３１を排出したのち、バルブＶ１
を閉とする。したがって、残存する含浸液層３１の厚さ
は、液面センサ１５とレベルＢとの間の距離となる。
は、バルブＶ１を開とし、液面が液面センサ１５でＯＦ
Ｆとなるまで含浸液層３１を排出したのち、バルブＶ１
を閉とする。したがって、残存する含浸液層３１の厚さ
は、液面センサ１５とレベルＢとの間の距離となる。
【００１４】ついで、バルブＶ２を開とし、前述と同様
にして水層３３を一次貯水槽２１に回収する。この場合
も、含浸液層３１が貯槽１１内に残留することになる。
一次貯水槽２１の回収水はリサイクル水として利用され
る。なお、含浸液として、水不溶性モノマーと水溶性モ
ノマーとの混合物を用いた場合は、水溶性モノマーはリ
サイクル水中に含まれることになる。
にして水層３３を一次貯水槽２１に回収する。この場合
も、含浸液層３１が貯槽１１内に残留することになる。
一次貯水槽２１の回収水はリサイクル水として利用され
る。なお、含浸液として、水不溶性モノマーと水溶性モ
ノマーとの混合物を用いた場合は、水溶性モノマーはリ
サイクル水中に含まれることになる。
【００１５】このように、含浸液層３１の一部を貯槽１
１に残して水を回収することにより、誤って回収水中に
含浸液が混入してくることを確実に防止できる。また、
含浸液層３１の厚さ（量）を検知することにより、貯槽
１１からの含浸液層３１の回収は処理操作ごとに行なう
必要がないので効率的に水層を回収できる。含浸液層３
１の回収頻度は、第１のセンサＳ１の設置位置（検知部
位）を調整することにより制御できる。
１に残して水を回収することにより、誤って回収水中に
含浸液が混入してくることを確実に防止できる。また、
含浸液層３１の厚さ（量）を検知することにより、貯槽
１１からの含浸液層３１の回収は処理操作ごとに行なう
必要がないので効率的に水層を回収できる。含浸液層３
１の回収頻度は、第１のセンサＳ１の設置位置（検知部
位）を調整することにより制御できる。
【００１６】図２は本発明の他の実施例を示す説明図で
あり、含浸液の比重が水より大きい場合を示している。
バルブＶ３により洗浄廃水が、液面センサ１３で検知さ
れるまで貯槽１１に供給され、静置分離される。このと
き、レベルＡよりも下方が含浸液層３１を、上方が水層
３３を形成する。第１のセンサＳ１は水の存在を検知
し、この検知信号を受けてバルブＶ２が開となり水層３
３を貯槽１１外に回収する。液面レベルセンサ１５がＯ
ＦＦとなった時点で、バルブＶ２を閉とし水層３３の回
収を終了し、再度バルブＶ３を開とし洗浄廃水を貯槽１
１内に導入する。この洗浄廃水中に含まれる含浸液によ
り、貯槽１１中の含浸液量が増加し、静置分離後、含浸
液層３１の厚さはレベルＢに達する。この結果、第１の
センサＳ１では含浸液の存在が検知され、この検知信号
によりバルブＶ１が開となり、含浸液層３１が貯槽１１
外に排出される。この排出に伴ない含浸液層３１のレベ
ル面が低下し、ついには第２のセンサＳ２で水層３３が
検知されるに至る。この時点でバルブＶ１を閉じ、第１
のセンサＳ１で水層３３の存在を確認したのちバルブＶ
２を開けて水層３３を回収する。
あり、含浸液の比重が水より大きい場合を示している。
バルブＶ３により洗浄廃水が、液面センサ１３で検知さ
れるまで貯槽１１に供給され、静置分離される。このと
き、レベルＡよりも下方が含浸液層３１を、上方が水層
３３を形成する。第１のセンサＳ１は水の存在を検知
し、この検知信号を受けてバルブＶ２が開となり水層３
３を貯槽１１外に回収する。液面レベルセンサ１５がＯ
ＦＦとなった時点で、バルブＶ２を閉とし水層３３の回
収を終了し、再度バルブＶ３を開とし洗浄廃水を貯槽１
１内に導入する。この洗浄廃水中に含まれる含浸液によ
り、貯槽１１中の含浸液量が増加し、静置分離後、含浸
液層３１の厚さはレベルＢに達する。この結果、第１の
センサＳ１では含浸液の存在が検知され、この検知信号
によりバルブＶ１が開となり、含浸液層３１が貯槽１１
外に排出される。この排出に伴ない含浸液層３１のレベ
ル面が低下し、ついには第２のセンサＳ２で水層３３が
検知されるに至る。この時点でバルブＶ１を閉じ、第１
のセンサＳ１で水層３３の存在を確認したのちバルブＶ
２を開けて水層３３を回収する。
【００１７】図２に示した実施例でも、図１の場合と同
様の作用効果が得られ、第１のセンサＳ１の設置高さを
調整することにより、含浸液層３１の回収頻度を制御で
きる。第１および第２のセンサとしては、静電容量セン
サ、電気電導度センサ、屈折率センサ、比重センサ、吸
光度センサなど、水と含浸液とを識別できるものであれ
ばいずれでもよい。
様の作用効果が得られ、第１のセンサＳ１の設置高さを
調整することにより、含浸液層３１の回収頻度を制御で
きる。第１および第２のセンサとしては、静電容量セン
サ、電気電導度センサ、屈折率センサ、比重センサ、吸
光度センサなど、水と含浸液とを識別できるものであれ
ばいずれでもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、以下の作用効果が得ら
れる。 洗浄廃水中に少量含まれる含浸液の静置分離の層厚
を検知することにより、含浸液の回収頻度を減少させる
ことができ、効率的に水を回収できる。 一回の静置分離時に形成される含浸液層が回収不能
なほど薄くてもよく、また、センサによる自動化により
短時間処理が可能なので、静置分離用の貯槽を小型化す
ることができる。
れる。 洗浄廃水中に少量含まれる含浸液の静置分離の層厚
を検知することにより、含浸液の回収頻度を減少させる
ことができ、効率的に水を回収できる。 一回の静置分離時に形成される含浸液層が回収不能
なほど薄くてもよく、また、センサによる自動化により
短時間処理が可能なので、静置分離用の貯槽を小型化す
ることができる。
【図１】本発明の実施例を示す説明図である。
【図２】本発明の実施例を示す説明図である。
１１ 貯槽 １３ 液面センサ １５ 液面センサ ２１ 一次貯水槽 ２３ ポンプ Ｓ１ 第１のセンサ Ｓ２ 第２のセンサ Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３ バルブ ３１ 含浸液層 ３３ 水層
Claims (4)
- 【請求項１】 孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理し
た後、該物品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄するこ
とにより生じる、水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水
を処理するに際し、 貯槽内に洗浄廃水を貯留、静置し、比重差により水層と
水不溶性含浸液層とに静置分離し、 センサにより水不溶性含浸液層の厚さを検知し、 該厚さが予め決められた設定値以下の場合には水層のみ
を分取し、 一方、該厚さが設定値を超える場合には水不溶性含浸液
層と水層とをそれぞれ分取することを特徴とする含浸液
洗浄廃水の処理方法。 - 【請求項２】 水不溶性含浸液層を分取する場合は、先
ず、水不溶性含浸液層を分取し、水不溶性含浸液層の厚
さが設定値以下となった後、水層を分取する請求項１に
記載の含浸液洗浄廃水の処理方法。 - 【請求項３】 水不溶性含浸液層の一部を常に貯槽内に
残すようにして水不溶性含浸液層と水層とをそれぞれ分
取する請求項１〜３のいずれか一項に記載の含浸液洗浄
廃水の処理方法。 - 【請求項４】 孔質物品を水不溶性含浸液で封孔処理し
た後、該物品に付着した余剰の含浸液を水で洗浄するこ
とにより生じる水不溶性含浸液が分散された洗浄廃水を
貯留し、比重差により洗浄廃水を水層と水不溶性含浸液
層とに静置分離する貯槽と、 水不溶性含浸液層の厚さを検知する第１のセンサと、 該厚さが設定値を超えた場合に、水不溶性含浸液層を貯
槽から分取する第１の取出口と、 水不溶性含浸液層の存在位置を検知する第２のセンサ
と、 水層を貯槽から分取する第２の取出口とを有することを
特徴とする含浸液洗浄廃水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14421093A JPH06327902A (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 含浸液洗浄廃水の処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14421093A JPH06327902A (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 含浸液洗浄廃水の処理方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06327902A true JPH06327902A (ja) | 1994-11-29 |
Family
ID=15356799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14421093A Pending JPH06327902A (ja) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | 含浸液洗浄廃水の処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06327902A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989012855A1 (en) * | 1988-06-17 | 1989-12-28 | Fanuc Ltd | Profile/shape definition method |
| JP2010279871A (ja) * | 2009-06-03 | 2010-12-16 | Aisin Aw Co Ltd | 溶液成分の回収方法、溶液成分の回収装置及び含浸処理・含浸成分回収システム |
| CN108862742A (zh) * | 2018-09-06 | 2018-11-23 | 江苏申炬环保科技有限公司 | 一种皮革制造过程产生的制革残液处理系统 |
Citations (3)
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| JPS5334172A (en) * | 1976-09-11 | 1978-03-30 | Idemitsu Petrochemical Co | Method of recovering oil from oil containing water |
| JPS5858803B2 (ja) * | 1977-02-01 | 1983-12-27 | マルコン電子株式会社 | 焼結形タンタル固体電解コンデンサの製造方法 |
| JPS61139704A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-27 | Fujitsu Ltd | 光学式位置決め方法 |
-
1993
- 1993-05-24 JP JP14421093A patent/JPH06327902A/ja active Pending
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