JPH06326144A - Manufacture of resin-sealed semiconductor device - Google Patents

Manufacture of resin-sealed semiconductor device

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JPH06326144A
JPH06326144A JP5113494A JP11349493A JPH06326144A JP H06326144 A JPH06326144 A JP H06326144A JP 5113494 A JP5113494 A JP 5113494A JP 11349493 A JP11349493 A JP 11349493A JP H06326144 A JPH06326144 A JP H06326144A
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JP
Japan
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resin
semiconductor chip
uncured resin
resin sheet
semiconductor device
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Application number
JP5113494A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinetsu Fujieda
新悦 藤枝
Hideo Ota
英男 太田
Akira Yoshizumi
章 善積
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To eliminate the defect of an element due to the deformation of a TAB lead or a wire which is connected to a semiconductor chip and to manufac ture the subject semiconductor device in a short time by a method wherein the semiconductor chip and an unhardened resin sheet are pressurized, an unhardened resin is hardened and the semicodnuctor chip is resin-sealed. CONSTITUTION:Unhardened resin sheets 1 are arranged on the inside of a pad part at the side of an active face of a semiconductor chip 2 and on the back side of the semiconductor chip 2, they are pressurized and heated by using a press-type metal mold, and an unhardened resin is hardened. At this time, the unhardened resin sheet 1 which has been arranged on the inside of the pad part is heater and melted. Then, the resin sheet is brought into contact with wires 3a or TAB leads 3b in a state that its viscosity has been lowered sufficiently. At this time, the unhardened resin sheet 1 flows to the outer circumferential direction from the inside of the pad part of the semiconductor chip 2, a force which is applied to the wires 3a or the TAB leads 3b is reduced, and it is possible to prevent the wires 3a or the TAB leads 36 from being deformed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は超薄型の樹脂封止型半導
体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an ultrathin resin-sealed semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂封止型半導体装置はトランス
ファ成形法によって封止されていた。この方法は、エポ
キシ樹脂および充填剤などを主体としたエポキシ成形材
料などの未硬化樹脂を加熱して溶融させ、トランスファ
成形機を用いて金型に注入し、高温高圧状態で成形し
て、硬化することにより、例えばリードフレームに搭載
された半導体チップを封止する方法である。この方法で
製造される樹脂封止型半導体装置は、半導体チップをエ
ポキシ樹脂組成物の硬化物が完全に覆うために信頼性に
優れており、また金型で緻密に成形するためのパッケー
ジの外観も良好であることから、現在ではほとんどの樹
脂封止型半導体装置はこの方法で製造されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, resin-sealed semiconductor devices have been sealed by a transfer molding method. This method heats and melts uncured resin such as epoxy molding material mainly composed of epoxy resin and filler, injects it into a mold using a transfer molding machine, molds it at high temperature and high pressure, and cures it. This is a method of sealing a semiconductor chip mounted on a lead frame, for example. The resin-encapsulated semiconductor device manufactured by this method is excellent in reliability because the semiconductor chip is completely covered with the cured product of the epoxy resin composition, and the external appearance of the package for dense molding with a mold. Most of the resin-encapsulated semiconductor devices are currently manufactured by this method because they are also good.

【0003】しかしながら、近年半導体装置の高集積化
に伴う半導体チップの大型化によって、樹脂封止型半導
体装置のパッケージの大型化が進む一方、実装スペース
の微細化にともない薄型化、多ピン化の傾向を強めてお
り、この傾向は今後益々強くなっていくと考えられる。
またパッケージの種類も今後益々多様化し、従来のトラ
ンスファ成形法で十分対応できなくなることが予想され
る。このような状況の中で、多品種少量生産ができるフ
レキシブルな生産様式の開発が望まれている。さらに、
生産工程のインライン化の問題がある。すなわち半導体
装置の製造工程では全自動化が進んでおり、一本の生産
ラインで自動化して無人化されているものである。しか
し従来のトランスファ成形では半導体デバイスの封止工
程のインライン化は困難であり、ラインを外しバッチ処
理で製造が行われており、封止工程をインライン化する
ことが可能な新たな生産様式が求められている。
However, as the size of semiconductor chips has increased in recent years due to the increase in size of semiconductor chips and the package size of resin-encapsulated semiconductor devices has increased, thinning of the package and the increase in the number of pins have been accompanied by the miniaturization of the mounting space. The trend is strengthening, and this trend is expected to become stronger and stronger in the future.
In addition, the types of packages will become more diverse in the future, and it is expected that conventional transfer molding methods will not be able to adequately support them. Under such circumstances, there is a demand for development of a flexible production mode capable of high-mix low-volume production. further,
There is a problem of in-line production process. That is, the semiconductor device manufacturing process is fully automated, and is automated by a single production line. However, it is difficult to inline the encapsulation process of semiconductor devices by conventional transfer molding, and manufacturing is performed by batch processing with the line removed, and a new production mode that allows inline encapsulation process is required. Has been.

【0004】このような観点から、プリプレグと指称さ
れるガラス織布に樹脂を含浸させた未硬化樹脂シートを
用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法(以下FOC法
と呼ぶ)が提案されている。(特開平2−257662
号)。この方法は例えばTABリードにバンプを介して
接続された半導体チップまたはリードフレームにワイヤ
を介して接続された半導体チップを未硬化樹脂シートで
挟み、凹部を有する金型を用いて加圧しながら加熱する
ことで、前記未硬化樹脂を硬化させるもので、この方法
によれば従来のトランスファ成形法に比べてパッケージ
の大型化、薄型化に対応でき、樹脂封止型半導体装置の
多品種少量生産に適している。しかしこの未硬化樹脂シ
ートの粘度が高い状態でTABリードまたはワイヤに接
触するために、このワイヤまたはTABリードの変形が
発生するという問題がある。図7は半導体チップに接続
されたTABリードの変形を示す縦断面図である。この
場合、パッケージ10の成形に当たって未硬化樹脂が粘
度の高い状態でTABリード6上で加圧されるために、
半導体チップ2端部に、バンプ5によって接続されたT
ABリード3bが接触し素子不良となる。また図8はリ
ードフレームと半導体チップを接続しているワイヤの変
形を示す縦断面図である。この場合においてもTABリ
ードと同様に、パッケージリードフレーム7に半導体チ
ップを接続するワイヤ3aが半導体チップ2の端部に接
触し素子不良となる。
From this point of view, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device (hereinafter referred to as FOC method) using an uncured resin sheet obtained by impregnating a glass woven cloth called resin with a resin has been proposed. There is. (JP-A-2-257662
issue). In this method, for example, a semiconductor chip connected to a TAB lead via a bump or a semiconductor chip connected to a lead frame via a wire is sandwiched between uncured resin sheets and heated with pressure using a mold having a recess. In this way, the uncured resin is cured, and this method can be used for larger and thinner packages compared to conventional transfer molding methods, and is suitable for high-mix low-volume production of resin-encapsulated semiconductor devices. ing. However, since the uncured resin sheet comes into contact with the TAB lead or the wire in a state where the viscosity of the uncured resin sheet is high, there is a problem that the wire or the TAB lead is deformed. FIG. 7 is a vertical sectional view showing a modification of the TAB lead connected to the semiconductor chip. In this case, when the package 10 is molded, the uncured resin is pressed on the TAB lead 6 in a high viscosity state.
The T connected to the end of the semiconductor chip 2 by the bump 5.
The AB leads 3b come into contact with each other, resulting in a defective element. FIG. 8 is a vertical cross-sectional view showing a modification of the wire connecting the lead frame and the semiconductor chip. In this case as well, similarly to the TAB lead, the wire 3a connecting the semiconductor chip to the package lead frame 7 comes into contact with the end portion of the semiconductor chip 2 and an element failure occurs.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したようにトラン
スファ成形法においてはパッケージの大型化、薄型化ま
たは多品種少量生産に不適であり、またFOC法におい
てもワイヤまたはTABリードが変形し半導体チップ端
部にリードが接触し素子不良を起こすという問題があっ
た。本発明のこのような問題を解決して、半導体チップ
端部にワイヤまたはTABリードが接触することがなく
信頼性の高い超薄型の樹脂封止型半導体装置の製造方法
を提供することを目的とする。
As described above, the transfer molding method is unsuitable for making the package large, thin, or producing a large number of various products in small quantities. Also, in the FOC method, the wire or TAB lead is deformed and the semiconductor chip end is deformed. There is a problem that the lead comes into contact with the part to cause an element failure. It is an object of the present invention to solve the above problems of the present invention and to provide a highly reliable method of manufacturing an ultrathin resin-sealed semiconductor device in which a wire or a TAB lead does not come into contact with an end portion of a semiconductor chip. And

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、リー
ド構成体に接続された半導体チップと、この半導体チッ
プのパッド部の内側に配置された未硬化樹脂シートとを
加圧するとともに未硬化樹脂を硬化させ、前記半導体チ
ップを樹脂封止する工程を有することを特徴とする樹脂
封止型半導体装置の製造方法である(第一の製法)。
According to the first aspect of the present invention, a semiconductor chip connected to a lead structure and an uncured resin sheet arranged inside a pad portion of the semiconductor chip are pressed and uncured. It is a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, which comprises a step of curing a resin and sealing the semiconductor chip with a resin (first manufacturing method).

【0007】本願第二の発明は、リード構成体に接続さ
れた半導体チップと、この半導体チップの能動面側に配
置された金型内の溶融未硬化樹脂または液状未硬化樹脂
とを加圧するとともに未硬化樹脂を硬化させ、前記半導
体チップを樹脂封止する工程を有することを特徴とする
樹脂封止型半導体装置の製造方法である(第二の製
法)。
In the second invention of the present application, the semiconductor chip connected to the lead structure and the molten uncured resin or liquid uncured resin in the mold disposed on the active surface side of the semiconductor chip are pressed and It is a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device, which comprises a step of hardening an uncured resin and sealing the semiconductor chip with a resin (second manufacturing method).

【0008】本願第三の発明は、リード構成体に接続さ
れた半導体チップと、この半導体チップの能動面側に少
なくとも接触面を溶融し仮止した未硬化樹脂シートとを
加圧するとともに未硬化樹脂を硬化させ、前記半導体チ
ップを樹脂封止する工程を有することを特徴とする樹脂
封止型半導体装置の製造方法である(第三の製法)。
According to a third aspect of the present invention, a semiconductor chip connected to the lead structure and an uncured resin sheet having at least the contact surface melted and temporarily fixed to the active surface side of the semiconductor chip are pressed together with the uncured resin. And a step of resin-sealing the semiconductor chip, which is a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device (third manufacturing method).

【0009】図1および図2は、本願第一の発明の樹脂
封止型半導体装置の製造方法において、未硬化樹脂シー
トを半導体チップのパッドの内側に配置したときの縦断
面図である。以下図1及び図2を適宜参照しながら本発
明の樹脂封止型半導体装置の製造方法をより詳細に説明
する。
FIGS. 1 and 2 are longitudinal sectional views when an uncured resin sheet is placed inside a pad of a semiconductor chip in the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the first aspect of the present invention. Hereinafter, the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 and 2 as appropriate.

【0010】本発明においてリード構成体と半導体チッ
プ2との接続は、ワイヤーボンディングによっても、T
ABなどのワイヤレスボンディングによってもよい。本
発明において、リード構成体および半導体チップ2の種
類については特に制限されない。なお本発明においてリ
ード構成体とは、リードフレーム7、TABリード3b
を有するTABテープ6、外部ピンを有する回路基板お
よびこれらと半導体チップ2を接続するためのワイヤ3
aまたはバンプ5などを含むものとする。
In the present invention, the connection between the lead structure and the semiconductor chip 2 can be achieved by wire bonding as well as T
Alternatively, wireless bonding such as AB may be used. In the present invention, the types of the lead structure and the semiconductor chip 2 are not particularly limited. In the present invention, the lead structure means the lead frame 7, the TAB lead 3b.
TAB tape 6 having a pin, a circuit board having external pins, and a wire 3 for connecting these to the semiconductor chip 2.
a or bump 5 and the like.

【0011】また未硬化樹脂シート1を構成する未硬化
樹脂の材質については、熱硬化性樹脂、エンジニアリン
グプラスチックなどがあげられるが、一体成形時の樹脂
粘度が低いほど緻密な封止ができるので未硬化の熱硬化
性樹脂の適用が好ましい。具体的に本発明で使用され得
る熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、マレイミド樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹
脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂
は単独で用いても、組み合わせてもよく、またこれらの
樹脂の中に硬化剤、触媒、可塑剤、着色剤、離燃化剤、
充填剤、その他各種添加剤を含有したものでもよい。な
お本願第二の発明においては、また液状未硬化樹脂とし
て、未硬化樹脂を溶媒に溶かした溶媒タイプおよび液状
の未硬化樹脂を主体とする無溶媒タイプのいずれを用い
ることもできる。
Examples of the material of the uncured resin forming the uncured resin sheet 1 include thermosetting resins and engineering plastics. However, since the resin viscosity at the time of integral molding is low, a dense sealing can be achieved. The application of a thermosetting resin for curing is preferred. Specific examples of the thermosetting resin that can be used in the present invention include epoxy resin, polyimide resin, maleimide resin, silicone resin, phenol resin, polyurethane resin and the like. These resins may be used alone or in combination, and in these resins, a curing agent, a catalyst, a plasticizer, a colorant, a flame retardant,
It may contain a filler and other various additives. In the second invention of the present application, as the liquid uncured resin, either a solvent type in which the uncured resin is dissolved in a solvent or a solventless type mainly composed of a liquid uncured resin can be used.

【0012】このような樹脂を硬化させる具体的な方法
としては、一体成形時に使用される金型を加熱する方
法、誘導加熱により未硬化樹脂のみを選択的に加熱する
方法などがあげられる。
Specific methods for curing such a resin include a method of heating a mold used in integral molding, a method of selectively heating only an uncured resin by induction heating, and the like.

【0013】また、本発明では上記未硬化樹脂を各種の
織布で強化してもよい。織布の材質としては無機系では
ガラス、石英、炭素繊維、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒
化アルミニウム、アルミナ、ジルコニア、チタン酸カリ
ウム繊維などがあり、有機系ではナイロン系、アクリル
系、ビニロン系、ポリ塩化ビニル系、ポリエステル系、
アラミド系、フェノール系、レーヨン系、アセテート
系、綿、麻、絹、羊毛などがある。これらを単独で用い
ても、組み合わせて用いてもよい。
Further, in the present invention, the uncured resin may be reinforced with various woven fabrics. As the material of the woven fabric, there are glass, quartz, carbon fiber, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, alumina, zirconia, potassium titanate fiber, etc. in the inorganic type, and nylon type, acrylic type, vinylon type, poly type in the organic type. Vinyl chloride type, polyester type,
There are aramid-based, phenol-based, rayon-based, acetate-based, cotton, hemp, silk, and wool. These may be used alone or in combination.

【0014】さらに本発明では上述したような未硬化樹
脂に、金属材が積層されてなる未硬化樹脂シートを用い
ることもできる。この場合、未硬化樹脂シートの未硬化
樹脂側と半導体チップの能動面側とが対向するように未
硬化樹脂シートが配置される。さらにこのとき未硬化樹
脂、金属材および絶縁樹脂層が積層された未硬化樹脂シ
ートを用いるのが望ましい。また半導体チップの能動面
側にのみ未硬化樹脂シートを用い裏面側には金属材のみ
を用いることも可能である。このときの金属材の形状は
特に限定されず、金属箔、金属板、金属ブロック等の中
から、パッケージの種類に応じて適宜選択されるが、好
ましくは厚さ100μm以下の金属箔が用いられる。
Further, in the present invention, an uncured resin sheet obtained by laminating a metal material on the above-mentioned uncured resin may be used. In this case, the uncured resin sheet is arranged so that the uncured resin side of the uncured resin sheet and the active surface side of the semiconductor chip face each other. Further, at this time, it is desirable to use an uncured resin sheet in which an uncured resin, a metal material and an insulating resin layer are laminated. It is also possible to use the uncured resin sheet only on the active surface side of the semiconductor chip and use only the metal material on the back surface side. The shape of the metal material at this time is not particularly limited and may be appropriately selected from metal foil, metal plate, metal block and the like according to the type of package, but a metal foil having a thickness of 100 μm or less is preferably used. .

【0015】前記金属材の材質としては、熱伝導性の高
く樹脂との接着性に優れる金属が好ましく、使用が好ま
しい金属の一例としては、例えば、鉄、銅、アルミニウ
ム、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀、金、鉛、マグ
ネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブ
デン、コバルト、ステンレス、42ニッケル−鉄合金、
真鍮、ジュラルミンやこれらの合金などが挙げられる。
ただしパッケージの薄型化を指向する場合は、特に薄型
に加工でき、かつ軽量の材料を用いることが望ましい。
The material of the metal material is preferably a metal having high thermal conductivity and excellent adhesiveness to a resin, and examples of metals preferably used include, for example, iron, copper, aluminum, nickel, chromium, zinc, Tin, silver, gold, lead, magnesium, titanium, zirconia, tungsten, molybdenum, cobalt, stainless steel, 42 nickel-iron alloy,
Examples include brass, duralumin, and alloys of these.
However, when aiming to make the package thinner, it is desirable to use a material that can be processed particularly thin and is lightweight.

【0016】本発明において用いられる未硬化樹脂シー
トは、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、触媒、充填剤、
その他の材料を粉砕、混合、溶融してロールにかけるこ
とにより、容易に作製することができる。また、ガラス
繊維等の織布で強化したプリプレグを使用する場合は、
樹脂、硬化剤、触媒、充填剤、その他の材料をアセトン
などの溶剤に溶解して適当な濃度の溶液を調製し、この
溶液を織布に塗布するか、溶液中に織布を含浸させ、放
置する、加熱する、又は減圧下におくなどの方法によ
り、溶剤を揮発させればよい。
The uncured resin sheet used in the present invention is, for example, an epoxy resin, a curing agent, a catalyst, a filler,
It can be easily produced by crushing, mixing, melting and rolling other materials. When using a prepreg reinforced with a woven fabric such as glass fiber,
Resin, curing agent, catalyst, filler, and other materials are dissolved in a solvent such as acetone to prepare a solution having an appropriate concentration, and this solution is applied to a woven cloth, or a woven cloth is impregnated into the solution, The solvent may be volatilized by a method such as leaving it, heating it, or placing it under reduced pressure.

【0017】また本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法では、前記未硬化樹脂シートを図2のように1枚使
用し半導体チップを片側から封止する場合と、図1のよ
うに未硬化樹脂シートで半導体チップを両側から封止す
る場合とがある。これらはリード構成体と半導体チップ
との接続の形態などに応じて適宜選択される。例えば半
導体チップをリードフレームにワイヤボンディングした
形態では、これらが2枚の未硬化樹脂シートで両側から
封止される。また、半導体チップをTABテープのTA
Bリードと接続した形態では、半導体チップの能動面側
のみに未硬化樹脂シートを配置するかこれらが2枚の未
硬化樹脂シートの間に挟持された状態で封止が行われ
る。さらに半導体チップが回路基板上に実装された形態
では、1枚の未硬化樹脂シートで半導体チップが片側か
ら封止される。
In the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention, one uncured resin sheet is used as shown in FIG. 2 to seal a semiconductor chip from one side, and one is not sealed as shown in FIG. The semiconductor chip may be sealed from both sides with a cured resin sheet. These are appropriately selected depending on the form of connection between the lead structure and the semiconductor chip. For example, in a form in which a semiconductor chip is wire-bonded to a lead frame, these are sealed from both sides with two uncured resin sheets. In addition, the semiconductor chip is the TA of the TAB tape.
In the form of connection with the B lead, the uncured resin sheet is arranged only on the active surface side of the semiconductor chip, or the uncured resin sheet is sandwiched between two uncured resin sheets for sealing. Further, in the form in which the semiconductor chip is mounted on the circuit board, the semiconductor chip is sealed from one side with one uncured resin sheet.

【0018】次に本発明で用いられる好ましい金型を具
体的に説明する。図3はFOC法に用いられるプレス式
の金型の一例の縦断面図である。この金型は、枠状金型
の8およびこの枠状金型8と嵌合するプレス金型9から
なる。
Next, a preferable mold used in the present invention will be specifically described. FIG. 3 is a vertical sectional view of an example of a press-type die used in the FOC method. This mold is composed of a frame-shaped mold 8 and a press mold 9 that fits with the frame-shaped mold 8.

【0019】本発明では、このようなプレス式の金型に
前述したようなリード構成体に接続された半導体チップ
および未硬化樹脂シートを配置し、前記枠状金型8をリ
ード構成体に当接し、内側のプレス金型9を用いて未硬
化樹脂シートを加圧および加熱することにより本発明に
係わる樹脂封止型半導体装置を製造する。
In the present invention, the semiconductor chip and the uncured resin sheet connected to the lead structure as described above are arranged in such a press type mold, and the frame-shaped mold 8 is applied to the lead structure. The resin-sealed semiconductor device according to the present invention is manufactured by contacting and pressing and heating the uncured resin sheet using the inner press die 9.

【0020】さらに、本発明に係わる樹脂封止型半導体
製造装置の一例を説明する。図4は本発明に係わる樹脂
封止型半導体製造装置の一例を示す概略図である。図示
するようにこの製造装置は、リードフレームに接続され
た半導体チップを封止する際には例えば長尺状の金属フ
ィルムなどからなるリードフレームを、TABリードに
接続された半導体チップを封止する際には例えばポリイ
ミドからなるTABテープをテープ基材として、テープ
搬送用リール100aおよびテープ巻取用リール100
bでこのテープ基材を搬送するものである。まずテープ
搬送用リール100aから搬送された半導体チップ搭載
のテープ基材は、加熱槽200を通り樹脂シート仮止部
300において適宜半導体チップの能動面側および裏面
側に樹脂シートが仮止される。次いで枠状金型およびプ
レス金型からなるプレス式の金型500a、500bを
具備するプレス部400において所定のパッケージに樹
脂封止される。樹脂封止が終了した半導体チップ搭載の
テープ基材はテープ巻取用リール100bによって巻き
取られる。なお、この半導体装置のプレス部400とテ
ープ巻取用リール100bの間に樹脂のアフターキュア
ーをするための加熱槽を設けることもできる。また仮止
部300は位置決めセンサーを有しており、半導体チッ
プの封止エリア内の所定の位置に真空チャック方式で樹
脂シートが搬送され加熱された半導体チップに仮止され
る。このような製造装置を用いることによって、本発明
では樹脂封止型半導体装置を連続的に生産することが可
能となる。
Further, an example of the resin-sealed semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic view showing an example of a resin-sealed semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention. As shown in the figure, this manufacturing apparatus seals a semiconductor chip connected to a TAB lead with a lead frame made of, for example, a long metal film when sealing a semiconductor chip connected to a lead frame. At this time, for example, a TAB tape made of polyimide is used as a tape base material, and a tape transport reel 100a and a tape winding reel 100 are used.
The tape base material is conveyed by b. First, the tape base material on which the semiconductor chips are mounted is transported from the tape transport reel 100a, and the resin sheet is temporarily fixed to the active surface side and the back surface side of the semiconductor chip in the resin sheet temporary fixing portion 300 through the heating tank 200. Next, a predetermined package is resin-sealed in a press unit 400 including press-type dies 500a and 500b including a frame-shaped die and a press die. The tape base material on which the semiconductor chip is mounted after the resin sealing is wound up by the tape winding reel 100b. A heating bath for after-curing the resin may be provided between the press section 400 of this semiconductor device and the tape winding reel 100b. Further, the temporary fixing unit 300 has a positioning sensor, and the resin sheet is transported to a predetermined position in the sealing area of the semiconductor chip by a vacuum chuck method and temporarily fixed to the heated semiconductor chip. By using such a manufacturing apparatus, according to the present invention, the resin-sealed semiconductor device can be continuously manufactured.

【0021】[0021]

【作用】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法で
は、以上のように構成したことにより封止樹脂の粘度が
十分に低下した状態でワイヤまたはTABリードと接触
するために、TABリードまたはワイヤの変形を防ぐこ
とが可能となる。
In the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, the TAB lead or the TAB lead is contacted with the wire or the TAB lead while the viscosity of the encapsulating resin is sufficiently reduced by the above-mentioned structure. It is possible to prevent deformation of the wire.

【0022】以下に、より具体的に説明する。第一の製
法では、図1に示すように、未硬化樹脂シート1を半導
体チップ2の能動面側のパッド部の内側及び半導体チッ
プ2の裏面側に配置し、前述したようなプレス式の金型
を用い加圧及び加熱することにより未硬化樹脂を硬化さ
せる。このときパッド部の内側に配置された未硬化樹脂
シート1は加熱することにより溶融し、粘度の低下した
状態で半導体チップ2のパッド部内側より外周方向へ流
動するために、ワイヤ3aにかかる力が減少し、ワイヤ
3aの変形を防ぐことが可能となる。また図2に示すよ
うにTABテープ6を用いた形態においても同様の作用
によりTABリード3bの変形を防ぐことが可能とな
る。さらにTABテープ6を用いた場合においては、前
述したように未硬化樹脂シート1を半導体チップ2の能
動面側のみに配置することが可能である。
A more specific description will be given below. In the first manufacturing method, as shown in FIG. 1, the uncured resin sheet 1 is arranged inside the pad portion on the active surface side of the semiconductor chip 2 and on the back surface side of the semiconductor chip 2, and the press-type gold sheet as described above is used. The uncured resin is cured by applying pressure and heating using a mold. At this time, the uncured resin sheet 1 arranged inside the pad portion is melted by heating and flows in the outer peripheral direction from the inside of the pad portion of the semiconductor chip 2 in a state where the viscosity is reduced. Is reduced and the wire 3a can be prevented from being deformed. Further, as shown in FIG. 2, even in the case of using the TAB tape 6, it is possible to prevent the TAB lead 3b from being deformed by the same action. Further, when the TAB tape 6 is used, it is possible to dispose the uncured resin sheet 1 only on the active surface side of the semiconductor chip 2 as described above.

【0023】また第二の製法として、半導体チップの能
動面側について前述したような液状未硬化樹脂を配置し
たときの縦断面図を図5に示す。図示するように、第二
の製法では裏面に未硬化樹脂シート1を配置した半導体
チップ2を液状未硬化樹脂4a中に浸漬した後、枠状金
型8およびプレス金型9からなるプレス式の金型で加圧
及び加熱することにより液状未硬化樹脂4bを硬化させ
るのでワイヤ3aにかかる力が減少し、ワイヤ3aの変
形を防ぐことが可能となる。また前記第一の製法と同様
に、TABテープを用いた形態においても同様の作用に
よりTABリードの変形を防ぐことが可能となる。さら
にTABテープを用いた場合においては、裏面側の未硬
化樹脂シート1を用いることなく半導体チップ2を封止
することも可能である。また液状未硬化樹脂の代わり
に、熱溶融した未硬化樹脂を用いても同様の効果が得ら
れる。
As a second manufacturing method, FIG. 5 shows a vertical cross-sectional view when the liquid uncured resin as described above is arranged on the active surface side of the semiconductor chip. As shown in the figure, in the second manufacturing method, after the semiconductor chip 2 having the uncured resin sheet 1 arranged on the back surface is dipped in the liquid uncured resin 4a, a press type of a frame-shaped die 8 and a press die 9 is used. Since the liquid uncured resin 4b is cured by pressing and heating with a mold, the force applied to the wire 3a is reduced, and the deformation of the wire 3a can be prevented. Further, as in the case of the first manufacturing method, the TAB lead can be prevented from being deformed by the same action even in the form using the TAB tape. Furthermore, when the TAB tape is used, it is possible to seal the semiconductor chip 2 without using the uncured resin sheet 1 on the back surface side. The same effect can be obtained by using a heat-melted uncured resin instead of the liquid uncured resin.

【0024】さらも第三の製法として、未硬化樹脂シー
トの一部を溶融し、半導体チップに仮止したときの縦断
面図を図6に示す。図示するように、第三の製法ではワ
イヤ3aに接続された半導体チップ2を加熱した後、こ
の半導体チップ2の能動面および裏面に未硬化樹脂シー
ト1を接触させる。このとき半導体チップ能動面側の未
硬化樹脂シート1は、加熱された半導体チップ2および
ワイヤ3aとの接触部付近で溶融し粘度が低下するた
め、ワイヤ3aを変形させることなく仮止できる。さら
に、接触部付近で溶融した未硬化樹脂4bの粘度を充分
低下させるために、仮止時の仮止速度を調整することが
望ましい。また未硬化樹脂シート1の一部を加熱溶融し
た後に溶融部分を半導体チップ2に接触させることによ
り同様に仮止することもできる。この後未硬化樹脂シー
トを加圧及び加熱し硬化させることにより、ワイヤ3a
を変形させることなく樹脂封止することが可能となる。
また第一の製法と同様にTABテープを用いた形態にお
いても同様の作用によりTABリードの変形を防ぐこと
が可能となる。さらにTABテープを用いた場合におい
ては、前述したように未硬化樹脂シートは半導体チップ
の能動面側のみに配置することも可能である。
Further, as a third manufacturing method, FIG. 6 shows a vertical sectional view when a part of an uncured resin sheet is melted and temporarily fixed to a semiconductor chip. As shown in the figure, in the third manufacturing method, after heating the semiconductor chip 2 connected to the wire 3a, the uncured resin sheet 1 is brought into contact with the active surface and the back surface of the semiconductor chip 2. At this time, the uncured resin sheet 1 on the active surface side of the semiconductor chip is melted in the vicinity of the contact portion between the heated semiconductor chip 2 and the wire 3a and its viscosity is lowered, so that the wire 3a can be temporarily fixed without being deformed. Furthermore, in order to sufficiently reduce the viscosity of the uncured resin 4b melted near the contact portion, it is desirable to adjust the temporary fixing speed during temporary fixing. It is also possible to temporarily fix the uncured resin sheet 1 by heating and melting a part of the uncured resin sheet 1 and then bringing the melted part into contact with the semiconductor chip 2. Then, the uncured resin sheet is pressed and heated to be cured, whereby the wire 3a
It is possible to perform resin sealing without deforming the resin.
Further, similarly to the first manufacturing method, even in the form using the TAB tape, it is possible to prevent the deformation of the TAB lead by the same action. Further, when the TAB tape is used, the uncured resin sheet can be arranged only on the active surface side of the semiconductor chip as described above.

【0025】また上述したような第一、第二、第三の製
法において、ワイヤまたはTABリードを変形させない
ための粘度は好ましくは800ポイズ以下であり、ワイ
ヤまたはTABリードとの接触時には未硬化樹脂がこの
状態になる温度に加熱されることが望ましい。
In the first, second and third manufacturing methods as described above, the viscosity for not deforming the wire or the TAB lead is preferably 800 poise or less, and the uncured resin when contacting with the wire or the TAB lead is used. Is preferably heated to a temperature at which this occurs.

【0026】なお第二の製法で溶融未硬化樹脂を用いる
場合のその加熱温度および第三の製法での仮止時の加熱
温度は、溶融時に樹脂を硬化させないために150℃以
下の熱処理で行うことが望ましい。また前記仮止には搬
送時の位置ずれを防ぐ効果もあるため、前記第三の製法
に限らず未硬化樹脂シートを配置する際に仮止を行うこ
とによって搬送時の位置ずれを防ぐこともできる。
The heating temperature when the molten uncured resin is used in the second manufacturing method and the heating temperature at the time of temporary fixing in the third manufacturing method are heat treatment at 150 ° C. or lower so as not to cure the resin during melting. Is desirable. Further, since the temporary fixing also has an effect of preventing positional deviation during transportation, it is possible to prevent positional deviation during transportation by performing temporary fixing when disposing the uncured resin sheet, not limited to the third manufacturing method. it can.

【0027】[0027]

【実施例】実施例1 前述した本発明の第一の製法でTQFP(Thin Quad Fl
at Package)184pinの表2に示すサイズの樹脂封
止型半導体装置を作成した。
EXAMPLE 1 TQFP (Thin Quad Fl) according to the first manufacturing method of the present invention described above.
A resin-encapsulated semiconductor device having a size shown in Table 2 of 184 pins was prepared.

【0028】このときリード構成体とワイヤーボンディ
ングにより接続された表2に示すサイズのテスト用半導
体チップと、表1に示す未硬化樹脂を用い、前述した図
4の半導体製造装置および図3に示す金型を使用した。
At this time, using the test semiconductor chip of the size shown in Table 2 connected to the lead structure by wire bonding and the uncured resin shown in Table 1, the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 4 and the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. A mold was used.

【0029】以下図4を用いて実施例を説明する。まず
前記半導体チップの能動面側が上向きになるようにテー
プ基材となるリードフレームをセットし、加熱槽200
でこの半導体チップを150℃に加熱した後、仮止部3
00で表2に示すサイズの未硬化樹脂シートを表2に示
す仮止速度で仮止した。このとき半導体チップの能動面
側では、パッド部の内側に収まるように未硬化樹脂シー
トを仮止した。次に175℃に加熱した金型500a、
bを用いて圧力15kg/cm2 で20秒間加圧し、未
硬化樹脂を硬化させ樹脂封止した。このようにして、2
0個の樹脂封止型半導体装置を連続生産した。
An embodiment will be described below with reference to FIG. First, the lead frame serving as the tape base material is set so that the active surface side of the semiconductor chip faces upward, and the heating bath 200
After heating this semiconductor chip to 150 ° C with
An uncured resin sheet of the size shown in Table 2 was temporarily fixed at 00 at the temporary fixing speed shown in Table 2. At this time, on the active surface side of the semiconductor chip, the uncured resin sheet was temporarily fixed so as to fit inside the pad portion. Next, the mold 500a heated to 175 ° C.,
Using b, pressure was applied for 20 seconds at a pressure of 15 kg / cm 2 to cure the uncured resin and seal the resin. In this way, 2
0 resin-sealed semiconductor devices were continuously produced.

【0030】得られた樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジの厚さを測定した後、超音波探傷装置の画像によるボ
イドチェックと、X線撮影によるワイヤ変形有無を観察
し、ついでテスタによる初期不良チェック128℃/
2.5気圧、水蒸気中での耐湿信頼性テスト(プレッシ
ャークッカテスト)を実施した。結果を表2に示す。
After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, a void check by an image of an ultrasonic flaw detector and a wire deformation presence or absence by X-ray photography are observed, and then an initial defect check by a tester. 128 ° C /
A moisture resistance reliability test (pressure cooker test) in water vapor at 2.5 atmospheric pressure was performed. The results are shown in Table 2.

【0031】実施例2 前述した本発明の第二の製法でTQFP(Thin Quad Fl
at Package)184pinの表2に示すサイズの樹脂封
止型半導体装置を作成した。
Embodiment 2 TQFP (Thin Quad Fl) is applied by the second manufacturing method of the present invention described above.
A resin-encapsulated semiconductor device having a size shown in Table 2 of 184 pins was prepared.

【0032】このとき、リード構成体とワイヤボンディ
ングにより接続された表2に示すサイズのテスト用半導
体チップと、表1に示す未硬化樹脂を用い、前述した図
4の半導体製造装置および図3に示す金型を使用した。
At this time, using the test semiconductor chip of the size shown in Table 2 connected to the lead structure by wire bonding and the uncured resin shown in Table 1, the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. The mold shown was used.

【0033】以下図4を用いて実施例を説明する。まず
前記半導体チップの裏面側が上向きになるようにテープ
基材となるリードフレームをセットし、加熱槽200で
この半導体チップを150℃に加熱した後、仮止部30
0で前記半導体チップ裏面側に表2に示すサイズの前記
未硬化樹脂シートを表2に示す仮止速度で仮止し、さら
に金型500bの凹部に表2に示すサイズの未硬化樹脂
シートを配置し150℃で溶融させた。次に金型500
aおよび凹部で未硬化樹脂を溶融させた金型500bを
175℃に加熱し圧力15kg/cm2 で20秒間加圧
し未硬化樹脂を硬化させ、樹脂封止した。このようにし
て、20個の樹脂封止型半導体装置を連続生産した。
An embodiment will be described below with reference to FIG. First, a lead frame serving as a tape base material is set so that the back surface side of the semiconductor chip faces upward, the semiconductor chip is heated to 150 ° C. in a heating tank 200, and then the temporary fixing portion 30.
At 0, the uncured resin sheet of the size shown in Table 2 is temporarily fixed on the back surface side of the semiconductor chip at the temporary fixing speed shown in Table 2, and the uncured resin sheet of the size shown in Table 2 is further placed in the recess of the mold 500b. It was placed and melted at 150 ° C. Next mold 500
The mold 500b in which the uncured resin was melted in a and the concave portion was heated to 175 ° C. and pressed at a pressure of 15 kg / cm 2 for 20 seconds to cure the uncured resin, and the resin was sealed. In this way, 20 resin-sealed semiconductor devices were continuously produced.

【0034】得られた樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジの厚さを測定した後、超音波探傷装置の画像によるボ
イドチェックと、X線撮影によるワイヤ変形有無を観察
し、ついでテスタによる初期不良チェックから128℃
/2.5気圧、水蒸気中での耐湿信頼性テスト(プレッ
シャークッカテスト)を実施した。結果を表2に示す。
After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, a void check by an image of an ultrasonic flaw detector and the presence or absence of wire deformation by X-ray photography are observed, and then an initial defect check by a tester. To 128 ° C
A moisture resistance reliability test (pressure cooker test) in water vapor at /2.5 atm was performed. The results are shown in Table 2.

【0035】実施例3 前述した本発明の第三の製法でTQFP(Thin Quad Fl
at Package)184pinの表2に示すサイズの樹脂封
止型半導体装置を作成した。
Embodiment 3 In the third manufacturing method of the present invention described above, TQFP (Thin Quad Fl)
A resin-encapsulated semiconductor device having a size shown in Table 2 of 184 pins was prepared.

【0036】このとき、リード構成体とワイヤボンディ
ングにより接続された表2に示すサイズのテスト用半導
体チップと、表1に示す未硬化樹脂を用い、前述した図
4の半導体製造装置および図3に示す金型を使用した。
At this time, using the test semiconductor chip of the size shown in Table 2 connected to the lead structure by wire bonding and the uncured resin shown in Table 1, the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. The mold shown was used.

【0037】以下図4を用いて実施例を説明する。まず
前記半導体チップの能動面側が上向きになるようにテー
プ基材となるリードフレームをセットし、加熱槽200
で前記半導体チップを150℃に加熱した後、仮止部3
00で表2に示すサイズの前記未硬化樹脂シートを表2
に示す仮止速度で仮止した。次に175℃に加熱した金
型500a、bを用いて圧力15kg/cm2 で20秒
間加圧し未硬化樹脂を硬化させ、樹脂封止させ、このよ
うにして、20個の樹脂封止型半導体装置を連続生産し
た。
An embodiment will be described below with reference to FIG. First, the lead frame serving as the tape base material is set so that the active surface side of the semiconductor chip faces upward, and the heating bath 200
After heating the semiconductor chip to 150 ° C. with
The uncured resin sheet having a size of 00 shown in Table 2 is shown in Table 2.
The temporary stop was performed at the temporary stop speed shown in. Next, using the molds 500a and 500b heated to 175 ° C., pressure of 15 kg / cm 2 was applied for 20 seconds to cure the uncured resin, and the resin was sealed. In this way, 20 resin-sealed semiconductors were obtained. The device was serially produced.

【0038】得られた樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジの厚さを測定した後、超音波探傷装置の画像によるボ
イドチェックと、X線撮影によるワイヤ変形有無を観察
し、ついでテスタによる初期不良チェックから128℃
/2.5気圧、水蒸気中での耐湿信頼性テスト(プレッ
シャークッカテスト)を実施した。結果を表2に示す。
After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, a void check by an image of an ultrasonic flaw detector and a wire deformation presence or absence by X-ray photography are observed, and then an initial defect check by a tester. To 128 ° C
A moisture resistance reliability test (pressure cooker test) in water vapor at /2.5 atm was performed. The results are shown in Table 2.

【0039】実施例4 前述した本発明の第二の製法でTQFP(Thin Quad Fl
at Package)184pinの表2に示すサイズの樹脂封
止型半導体装置を作成した。
Embodiment 4 The TQFP (Thin Quad Fl) is applied by the second manufacturing method of the present invention described above.
A resin-encapsulated semiconductor device having a size shown in Table 2 of 184 pins was prepared.

【0040】このとき、リード構成体とTABにより接
続された表2に示すサイズのテスト用半導体チップと、
表1に示す未硬化樹脂を用い、前述した図4の半導体製
造装置および図3に示す金型を使用した。
At this time, a test semiconductor chip of the size shown in Table 2 connected to the lead structure by TAB,
The uncured resin shown in Table 1 was used, and the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG. 4 and the mold shown in FIG. 3 were used.

【0041】以下実施例2と全く同様にして20個のT
ABタイプの樹脂封止型半導体装置を連続生産した。得
られた樹脂封止型半導体装置のパッケージの厚さを測定
した後、超音波探傷装置の画像によるボイドチェック
と、X線撮影によるTABリードの変形有無を観察し、
ついでテスタによる初期不良チェックから128℃/
2.5気圧、水蒸気中での耐湿信頼性テスト(プレッシ
ャークッカテスト)を実施した。結果を表2に示す。
Twenty Ts are processed in the same manner as in the second embodiment.
AB type resin-sealed semiconductor devices were continuously produced. After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, the void check by the image of the ultrasonic flaw detector and the presence or absence of deformation of the TAB lead by X-ray imaging are observed,
Then, from the initial defect check by the tester, 128 ° C /
A moisture resistance reliability test (pressure cooker test) in water vapor at 2.5 atmospheric pressure was performed. The results are shown in Table 2.

【0042】実施例5 前述した本発明の第一の製法でTQFP(Thin Quad Fl
at Package)184pinの表2に示すサイズの樹脂封
止型半導体装置を作成した。
Embodiment 5 The TQFP (Thin Quad Fl) is applied by the first manufacturing method of the present invention described above.
A resin-encapsulated semiconductor device having a size shown in Table 2 of 184 pins was prepared.

【0043】このとき、リード構成体とTABにより接
続された表2に示すサイズのテスト用半導体チップと、
表1に示す未硬化樹脂を用い、前述した図4の半導体製
造装置および図3に示す金型を使用した。
At this time, a test semiconductor chip having a size shown in Table 2 connected to the lead structure by TAB,
The uncured resin shown in Table 1 was used, and the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG. 4 and the mold shown in FIG. 3 were used.

【0044】以下実施例1と全く同様にして20個のT
ABタイプの樹脂封止型半導体装置を連続生産した。得
られた樹脂封止型半導体装置のパッケージの厚さを測定
した後、超音波探傷装置の画像によるボイドチェック
と、X線撮影によるワイヤ変形有無を観察し、ついでテ
スタによる初期不良チェックから128℃/2.5気
圧、水蒸気中での耐湿信頼性テスト(プッシャークッカ
テスト)を実施した。結果を表2に示す。
Twenty Ts are processed in the same manner as in the first embodiment.
AB type resin-sealed semiconductor devices were continuously produced. After measuring the package thickness of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, the ultrasonic flaw detector image was used to check for voids and the presence or absence of wire deformation by X-ray imaging. A moisture resistance reliability test (Pusher-Cooker test) in /2.5 atm and steam was performed. The results are shown in Table 2.

【0045】比較例1 実施例3と同様のチップ、未硬化樹脂シートおよび金型
を使用し、TQFP(Thin Quad Flat Package)184
pinの表2に示すサイズの樹脂封止型半導体装置を作
成した。
Comparative Example 1 A TQFP (Thin Quad Flat Package) 184 using the same chip, uncured resin sheet and mold as in Example 3 was used.
A resin-encapsulated semiconductor device having the size shown in Table 2 of pin was created.

【0046】まず前記半導体チップの能動面側が上向き
になるようにテープ基材となるリードフレームをセット
し、加熱槽200でこの半導体チップを150℃に加熱
した後、仮止部300で裏面側に表2に示すサイズの未
硬化樹脂シートを仮止した。この半導体チップが室温に
なるまで放置した後同様の未硬化樹脂シートを前記半導
体チップ能動面側にセットした。次に175℃に加熱し
た金型500a、bを用いて表2に示す速度、圧力10
kg/cm2 で20秒間加圧し硬化させ、樹脂封止し
た。このようにして、20個の樹脂封止型半導体装置を
作成した。
First, a lead frame serving as a tape base material is set so that the active surface side of the semiconductor chip faces upward, the semiconductor chip is heated to 150 ° C. in a heating tank 200, and then the temporary fixing portion 300 is applied to the back surface side. The uncured resin sheet having the size shown in Table 2 was temporarily fixed. After leaving this semiconductor chip to reach room temperature, the same uncured resin sheet was set on the active surface side of the semiconductor chip. Next, using the molds 500a and 500b heated to 175 ° C., the speed and pressure shown in Table 2 were set to 10
A pressure of 20 kg / cm 2 was applied for 20 seconds for curing, and resin sealing was performed. In this way, 20 resin-sealed semiconductor devices were created.

【0047】得られた樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジの厚さを測定した後、超音波探傷装置の画像によるボ
イドチェックと、X線撮影によるワイヤ変形有無を観察
し、さらにテスタによる初期不良チェックを実施した。
結果を表2に示す。
After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, a void check by an image of an ultrasonic flaw detector and the presence or absence of wire deformation by X-ray photography are observed, and an initial defect check by a tester. Was carried out.
The results are shown in Table 2.

【0048】比較例2 実施例4と同様のチップ、未硬化樹脂および金型を使用
し、TQFP(Thin Quad Flat Package)184pin
の表2に示すサイズの樹脂封止型半導体装置を作成し
た。
Comparative Example 2 TQFP (Thin Quad Flat Package) 184pin using the same chip, uncured resin and mold as in Example 4.
The resin-sealed semiconductor device having the size shown in Table 2 was prepared.

【0049】まず前記半導体チップの能動面側が上向き
になるようにTABテープをセットし、加熱槽200で
この半導体チップを150℃に加熱した後、仮止部30
0で裏面側に表2に示すサイズの未硬化樹脂シートを仮
止した。この半導体チップが室温になるまで放置した後
同様の未硬化樹脂シートを前記半導体チップ能動面側に
セットした。次に175℃に加熱した金型500a、b
を用いて表2に示す速度、圧力10kg/cm2 で20
秒間加圧し硬化させ、樹脂封止した。このようにして2
0個のTABタイプの樹脂封止型半導体装置を作成し
た。
First, the TAB tape is set so that the active surface side of the semiconductor chip faces upward, the semiconductor chip is heated to 150 ° C. in the heating tank 200, and then the temporary fixing portion 30 is formed.
At 0, an uncured resin sheet of the size shown in Table 2 was temporarily attached to the back side. After leaving this semiconductor chip to reach room temperature, the same uncured resin sheet was set on the active surface side of the semiconductor chip. Next, the molds 500a, b heated to 175 ° C.
20 at the speed and pressure of 10 kg / cm 2 shown in Table 2.
It was pressed for 2 seconds to be cured and resin-sealed. 2 in this way
0 TAB type resin-sealed semiconductor devices were created.

【0050】得られた樹脂封止型半導体装置のパッケー
ジの厚さを測定した後、超音波探傷装置の画像によるボ
イドチェックと、X線撮影によるTABリードの変形有
無を観察し、さらにテスタによる初期不良チェックを実
施した。結果を表2に示す。
After measuring the thickness of the package of the obtained resin-encapsulated semiconductor device, a void check is performed by an image of an ultrasonic flaw detector, and the presence or absence of deformation of the TAB lead is observed by X-ray photography. A defect check was performed. The results are shown in Table 2.

【0051】これらの結果から本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造法を用いたとき、パッケージの厚さを0.
6mmにすることができ、さらにパッケージが薄いため
に加熱し硬化する時間が20秒と短くなる。また、ボイ
ドの発生およびワイヤやTABリードの変形を防ぐこと
が可能であるために、初期不良についても少ないことが
分かる。
From these results, when the resin-encapsulated semiconductor device manufacturing method of the present invention was used, the package thickness was reduced to 0.
The length can be set to 6 mm, and since the package is thin, the heating and curing time is as short as 20 seconds. Further, since it is possible to prevent the generation of voids and the deformation of the wires and the TAB leads, it can be seen that there are few initial defects.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】[0053]

【表2】 [Table 2]

【0054】[0054]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればT
ABリードやワイヤと半導体チップとの接触がなく、信
頼性の高い超薄型の樹脂封止型半導体装置を製造するこ
とが可能となる。
As described above in detail, according to the present invention, T
Since there is no contact between the AB lead or wire and the semiconductor chip, it is possible to manufacture a highly reliable ultrathin resin-sealed semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法に
おいて未硬化樹脂シートを半導体チップのパッド部の内
側に配置したときの縦断面図。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view when an uncured resin sheet is arranged inside a pad portion of a semiconductor chip in a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention.

【図2】 本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法に
おいて未硬化樹脂シートを半導体チップのパッド部の内
側に配置したときの別の縦断面図。
FIG. 2 is another vertical cross-sectional view when the uncured resin sheet is arranged inside the pad portion of the semiconductor chip in the method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention.

【図3】 本発明に用いられるプレス式の金型の縦断面
図。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a press-type die used in the present invention.

【図4】 本発明に用いられる樹脂封止型半導体製造装
置の概略図。
FIG. 4 is a schematic diagram of a resin-sealed semiconductor manufacturing apparatus used in the present invention.

【図5】 本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法に
おいて半導体チップの能動面側に、金型内で溶融した未
硬化樹脂を配置したときの縦断面図。
FIG. 5 is a vertical cross-sectional view when an uncured resin melted in a mold is arranged on the active surface side of a semiconductor chip in the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention.

【図6】 本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法に
おいて未硬化樹脂シートの一部を溶融し、半導体チップ
に仮止したときの縦断面図。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view when a part of an uncured resin sheet is melted and temporarily fixed to a semiconductor chip in the method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention.

【図7】 従来の樹脂封止型半導体装置におけるTAB
リードの変形を示す縦断面図。
FIG. 7: TAB in a conventional resin-sealed semiconductor device
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing deformation of the lead.

【図8】 従来の樹脂封止型半導体装置におけるワイヤ
の変形を示す縦断面図。
FIG. 8 is a vertical cross-sectional view showing a deformation of a wire in a conventional resin-sealed semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 未硬化樹脂シート 2 半導体チップ 3a ワイヤ 3b TABリード 4a 液状未硬化樹脂 4b 未硬化樹脂 5 バンプ 6 TABテープ 7 リードフレーム 8 枠状金型 9 プレス金型 10 パッケージ 100a テープ搬送用リール 100b テープ巻取用リール 200 加熱槽 300 仮止部 400 プレス部 500a、500b 金型 1 uncured resin sheet 2 semiconductor chip 3a wire 3b TAB lead 4a liquid uncured resin 4b uncured resin 5 bump 6 TAB tape 7 lead frame 8 frame die 9 press die 10 package 100a tape transport reel 100b tape winding Reel 200 Heating tank 300 Temporary fixing part 400 Press part 500a, 500b Mold

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リード構成体に接続された半導体チップ
と、この半導体チップのパッド部の内側に配置された未
硬化樹脂シートとを加圧するとともに未硬化樹脂を硬化
させ、前記半導体チップを樹脂封止する工程を有するこ
とを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
1. A semiconductor chip connected to a lead structure and an uncured resin sheet arranged inside a pad portion of the semiconductor chip are pressed and the uncured resin is cured to seal the semiconductor chip with a resin. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising a step of stopping.
【請求項2】 リード構成体に接続された半導体チップ
と、この半導体チップの能動面側に配置された金型内の
溶融未硬化樹脂または液状未硬化樹脂とを加圧するとと
もに未硬化樹脂を硬化させ、前記半導体チップを樹脂封
止する工程を有することを特徴とする樹脂封止型半導体
装置の製造方法。
2. The semiconductor chip connected to the lead structure and the molten uncured resin or liquid uncured resin in the mold disposed on the active surface side of the semiconductor chip are pressed and the uncured resin is cured. And a step of sealing the semiconductor chip with a resin, the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
【請求項3】 リード構成体に接続された半導体チップ
と、この半導体チップの能動面側に少なくとも接触面を
溶融し仮止した未硬化樹脂シートとを加圧するとともに
未硬化樹脂を硬化させ、前記半導体チップを樹脂封止す
る工程を有することを特徴とする樹脂封止型半導体装置
の製造方法。
3. A semiconductor chip connected to a lead structure and an uncured resin sheet, which has at least a contact surface melted and temporarily fixed to the active surface side of the semiconductor chip, is pressed and the uncured resin is cured, A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising a step of resin-encapsulating a semiconductor chip.
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