JPH06326006A - 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置 - Google Patents

多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置

Info

Publication number
JPH06326006A
JPH06326006A JP5135186A JP13518693A JPH06326006A JP H06326006 A JPH06326006 A JP H06326006A JP 5135186 A JP5135186 A JP 5135186A JP 13518693 A JP13518693 A JP 13518693A JP H06326006 A JPH06326006 A JP H06326006A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lfzp
alignment mark
wavelength
zone plate
coherent light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5135186A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2791735B2 (ja
Inventor
Tsutomu Miyatake
勤 宮武
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP5135186A priority Critical patent/JP2791735B2/ja
Publication of JPH06326006A publication Critical patent/JPH06326006A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2791735B2 publication Critical patent/JP2791735B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折
を利用した新規な斜方結像光学系をもつ位置検出装置を
提供する。 【構成】 X線露光光の光軸方向に微小距離離間した第
1の物体と第2の物体の光軸に直交する方向の相対位置
を検出する位置換出装置において、各物体上にリニアフ
レネルゾーンプレートからなるアライメントマークを設
け、これらリニアフレネルゾーンプレートを同時に複数
の波長の光により照明するように照明装置を構成し、上
記リニアフレネルゾーンプレートの波長毎に焦点の異な
る回折焦点像と、その焦点の円弧が交差するような対物
レンズを傾け、この対物レンズによって同一結像面上に
結像した波長毎の回折焦点像を一次元CCDカメラある
いは二次元CCDカメラに結像させ、電気信号に変換し
た信号を処理して上記各アライメントマークの相対位置
を検出する手段を有する多波長,コヒーレント光による
フレネル回折を利用した斜方位置検出装置である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、近接露光におけるX
線マスクとウエハーの相対位置を検出する際、X線マス
クとウエハー上にリニアフレネルゾーンプレート(以
下、LFZPと称す)からなるアライメントマークを設
け、これらのマークを多波長,コヒーレント光により照
明し、上記アライメントマークをX線露光領域外から斜
方検出する光学検出系により複数のリニアセンサで検出
するようにしたアライメント装置に関する。
【0002】
【従来の技術】本件発明者は、近接露光におけるX線マ
スクとウエハーの相対位置の検出装置として、「複波長
照明を用いたダブルリニアフレネルゾーンプレートによ
る位置検出装置」の名称で特願昭63−162915号
(特開平2−10202号公報参照)および「複波長照
明を用いた扇形フレネルゾーンプレートによる位置検出
装置」の名称で特願昭63−202857号(特開平2
−51217号公報参照)をすでに提案している。以
下、これらの先行技術を簡単に説明する。なお、本件出
願に関連する上記2件以外の技術については、上記2件
の明細書中において説明しているものと一致しているの
で、ここでは再度それらの説明は省くとにする。
【0003】前者は、図5に検出装置の該略図に示すよ
うに、斜めに配置した対物レンズ9,リレーレンズ8か
らなる色収差を利用した2重焦点検出光学系12および
シリンドリカルレンズ7,リニアセンサー6からなる高
速検出系からなる検出光学系10を用い、垂直方向に微
小距離隔てて配置されたマスク14およびウエハー15
のアライメントマーク16,17をX線露光領域13外
の斜方から検出するものである。このアライメントマー
ク16,17は、図6(a),(b)に示されるよう
に、検出光学系10の光軸A´に直交する直線状の縞
(回折格子)から形成されている。
【0004】一方、上記光軸A´とアライメントマーク
16,17に垂直な軸に対して対称な光軸Aから照明光
が照射される。この照明光学装置5は、波長λ1 のレー
ザー1と波長λ2 のレーザー2とからなり、これらの光
をビームスプリッター2で合成してミラー4を介して複
数のコヒーレント光としてアライメントマーク16,1
7を照明するものである。
【0005】従って、波長λ1 と波長λ2 の光で照明さ
れたマスク14,ウエハー15のアライメントマーク1
6,17は、色収差対物レンズ9およびリレーレンズ8
からなる2重焦点検出光学系12で同一焦点面に結像
し、この像はシリンドリカルレンズ7により光学的圧縮
を行なってリニアセンサー6により検出され、電気信号
となって信号処理して検出するのである。
【0006】この装置による長所は、検出マーク1
6,17としてLFZPを使用し、そのマークの構成が
単純であること、複波長化により実用における性能が
高いこと、(ウエハープロセスに対する性能劣化が少な
い。)が挙げられる。また、その短所は、LFZPの
スポット面とレンズの焦点面が交差している斜方結像系
であるので、像面での結像範囲が極めて狭く、不安定要
素となること、特殊のレンズ系(色収差二重焦点レン
ズ系)を必要とすること、が挙げられる。
【0007】上記の欠点を解消するためになされた後
者の構成を図7および図8に示す。この発明の構成は上
記図5に示すものと全く同一である。ただ違う点は、マ
スク14,ウエハー15のアライメントマーク16,1
7が図8に示すように扇形状の縞(回折格子)のフレネ
ルゾーンプレート(以下、SFZPと称す)25,26
を使用している点である。即ち、SFZP25,26に
複数の波長λ1 ,λ2の光で同時に照明すると、これら
の波長に応じて焦点距離の異なる位置にSFZP25,
26の回折焦点像が形成される。これを色収差を利用し
た2重焦点検出光学系12で結像すると同一位置の結像
面に重ねて結像される。このとき、2重焦点検出光学系
12は斜方結像系であるので、あたかも直線状のLFZ
Pによる像の状態で結像されるので、これを先の例と同
様にシリンドリカルレンズ7により光学的圧縮を行いリ
ニアセンサー6により検出し、電気信号となって信号処
理して検出するのである。
【0008】この後者の装置の特徴は、上記前者の欠点
であるの像面での結像範囲が極めて狭く、不安定要素
となることは解決される。しかしながら、その代わりに
アライメントマークとしてLFZPの代わりに複雑な構
成のSFZPが必要となることが挙げられる。これらの
ことから、長所としては、a.SFZPにより直線結像
となり、広い範囲での結像になる、b.複波長化により
実用面における性能が高いことが挙げられる。また、短
所としては、c.複雑な構成のマークであるSFZPを
必要とすること、d.依然として特殊なレンズ系(色収
差二重焦点レンズ系)を必要とすることである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上述べた二つの装置
から求められる性能を纏めてみると、イ.検出マークが
単純であること、ロ.垂直な結像と同じ像が得られるこ
と、ハ.複数波長化が可能なこと、ニ.特殊なレンズ
(色収差二重焦点レンズ系)を必要としないこと、とな
る。本件出願の発明は、上記イ〜ニの4つの長所を満足
する装置であり、新たな欠点を生じさせないものが必要
条件である。また、本件出願の発明は、当然に先の二つ
の先行技術の最大の特徴であるX線露光光の領域外から
の斜方結像系を構成していることは言うまでもない。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、X線露光光
の光軸方向に微小距離離間した第1の物体と第2の物体
の光軸に直交する方向の相対位置を検出する位置換出装
置において、各物体上にLFZPからなるアライメント
マークを設け、これらLFZPを同時に複数の波長の光
により照明するように照明装置を構成し、上記LFZP
の波長毎に焦点の異なる回折焦点像と、その焦点の円弧
が交差するような対物レンズを傾け、この対物レンズに
よって同一結像面上に結像した波長毎の回折焦点像を一
次元CCDカメラあるいは二次元CCDカメラに結像さ
せ、電気信号に変換した信号を処理して上記各アライメ
ントマークの相対位置を検出する手段を有する多波長,
コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置
検出装置である。また、この発明は、第一の物体のアラ
イメントマークとして単一のLFZPを用い、第二の物
体のアライメントマークとして一対のLFZPを用い、
第一の物体の単一のLFZPの間に入るような配置とす
る。さらに、第一の物体はマスクであり、第二の物体は
ウエハーであり、ウエハーのアライメントマークの回折
光及び入射光が通るマスク部分に透明なウインドウ領域
を設けたことを特徴とする多波長,コヒーレント光によ
るフレネル回折を利用した斜方位置検出装置である。そ
して、この発明は、リニアセンサーから得られた信号を
処理して上記各アライメントマークの位置を検出する手
段が相似性パターンマッチング処理を行う手段であるこ
とを特徴とする多波長,コヒーレント光によるフレネル
回折を利用した斜方位置検出装置である。
【0011】
【作用】X線露光装置における微小距離離間したX線マ
スクとウエハーの相対位置を計測するアライメント装置
として主として適用されるが、X線マスクとウエハーの
近傍にアライメント装置が3チャンネル設けられ、X線
マスクとウエハーの光軸直交方向の相対位置の検出が
0.01μmの精度で検出することが可能である。この
検出値はマスクステージまたはウエハーステージの位置
制御における目標値としてフィードバック信号として使
用される。アライメント装置は露光光であるX線とは干
渉しない場所に置かれ、斜め方向より常時X線マスクと
ウエハーの位置を検出することが可能になる。
【0012】
【実施例】以下、図面に基づいてこの発明の実施例を説
明する。図1は、普通の対物レンズを使用したアライメ
ント装置の概略構成図である。この装置は先行技術であ
る図5および図7に示す装置とその構成が殆ど同じであ
るが、検出光学装置10の軸上色収差対物レンズ9が普
通の対物レンズ31を使用している点が大きく相違して
いる。即ち、SFZPであるマスクアライメントマーク
27を有するX線マスク14とSFZPの二つからなる
ウエハーアライメントマーク28を有するウエハー15
は、上下に微小間隔であるギャップ18だけ離間して図
示しない三次元ステージ上に水平に相対して載置され
る。そして、照明光学装置5から例えば4つのレーザ光
源1a,1b,1cおよび1dからの波長λ1 ,波長λ
2 ,波長λ3 および波長λ4 のレーザー光がビームスプ
リッター2a,2b,2cで合わさりミラー4を介して
X線露光領域13の外から光軸Aに沿って入射角19で
斜めに照明する。X線マスク14とウエハー15上のア
ライメントマーク27,28は,X線露光領域13の外
に斜めに反射角20に設置された光軸A´を有する検出
光学装置30の対物レンズ31の物点位置にアライメン
トマーク27,28の4つの回折像S1 ,S2 ,S3 お
よびS4 を形成する。そして、対物レンズ31の同一像
面Iに4つの異なる波長の光による回折像I1 ,I2 ,
I3 およびI4 を結像し、これらの像をリレーレンズ
8,シルンドリカルレンズ7を介して光学的圧縮を行
い、それをリニアセンサー6の受像面に結像し、電気信
号に変換されるように構成されている。
【0013】図2(a)にX線マスク14のLFZP2
7とウエハ15上のウエハマークのLFZP28の上面
図を、図2(b)にその側面図を示す。即ち、中央のX
線マスク14のアライメントマーク27であるLFZP
の両側にウエハ15のアライメントマーク28である二
つのLFZPが設けられ、このLFZP28は上に配置
されたX線マスク14の透明なウインドウ22を通して
観察するのである。従って、このマスクマークとウエハ
ーマークは先行技術の図6に示すものとその構成は全く
同一である。そのため、複数のコヒーレント光による照
明光を利用する点、および単焦点の対物レンズ31を傾
けて斜め検出を行う点で、斜方結像の欠点が克服され
る。以下、その詳細な理由を説明する。
【0014】図3は、X−Z面(座標は図2参照)でマ
スク14(ウエハー15)上のLFZP27(28)に
左側の斜め方向からθ1 の角度で4つの波長(λ1 ,λ
2 ,λ3 ,λ4 )のコヒーレント光を光軸Aに沿って照
射した状態を示している。即ち、LFZP27(28)
による回折像S1 ,S2 ,S3 およびS4 は波長に対応
して4か所に離れて生じることになる。即ち、入射波長
をλ,回折像の距離をf,LFZPのm次のゾーンエッ
ジの中心からの距離をr,次数をm(=1)とすると、
次の式で表される。
【0015】
【数1】
【0016】上記(1)式から計算される4つの波長毎
の回折像S1 ,S2 ,S3 およびS4 までの距離をそれ
ぞれf1 ,f2 ,f3 ,f4 とし、拡大して示すと図3
に示すようになる。また、ここで示す回折像の距離は零
次の回折像の距離を示している。一般式は次式で示され
る。ただし、n=1,2,3,・・・の位置に生じるこ
とになる。 fn =f/(2n+1)
【0017】一方、単焦点の対物レンズ31の光軸A´
をθ2 だけ傾けて上記4つの位置の異なる回折像S1 ,
S2 ,S3 ,S4 を観察したとすると、単焦点対物レン
ズ31の物点距離をsとして4つの回折像S1 ,S2 ,
S3 ,S4 の同一焦点深度(±δ)内にある部分の回折
像O1 ,O2 ,O3 およびO4 の像はその同一像面Iに
I1 ,I2 ,I3 およびI4 として結像される。ここ
に、単焦点の対物レンズ31の焦点を円弧Lで焦点深度
±δを点線で示している。ここで、単焦点対物レンズ3
1の開口数をNA,波長をλとすると、焦点深度は次の
ように示される。 δ=λ/NA2
【0018】円弧Lは4つの回折像S1 ,S2 ,S3 ,
S4 とそれぞれ交差している。また、円弧Lの内側と外
側にはそれぞれ焦点深度(±δ1 ,±δ2 ,±δ3 ,±
δ4)の範囲が存在している。従って、各焦点深度内に
ある回折像O1 ,O2 ,O3およびO4 は同じ像面Iに
結像することになる。この図中における回折像O1 ,O
2 ,O3 およびO4 とその像I1 ,I2 ,I3 およびI
4 との関係を次表に纏めて示す。
【0019】
【表1】
【0020】そして、像面Iに図4に示すように4つの
イメージセンサー6a,6b,6cおよび6dを配置す
れば、それぞれの像I1 ,I2 ,I3 ,I4 を検出する
ことが可能である。従って、この場合、明らかに斜方結
像であるものの4つの波長(λ1 ,λ2 ,λ3 ,λ4 )
のコヒーレント光の回折像の単焦点対物レンズ31によ
り拡大し、この単焦点対物レンズ31の同一結像面Iの
上下に亘り結像している。この像を連続した1本の像と
するには、レンズの斜め角度θ2 を適当に調整する。
入射波長の数を増やす。入射波長の入射角度を変え
る。のいずれかの方法で実現できる。また、いずれも容
易に対応することができることは言うまでもない。
【0021】そして、像面Iの各像I1 ,I2 ,I3 ,
I4 をリレーレンズ8およびシリンドリカルレンズ7に
より圧縮してリニアセンサー6上に結像させることは、
先行技術のものと全く同様であり、この場合は光学的圧
縮を行っている。
【0022】図4において、各波長の光の像を重ね合わ
せる方法としては、電気的なラスターの圧縮、光学
的なラスターの圧縮の二つの方法がある。の利点は図
1に示す構成から、シリンドリカルレンズが不要になる
ため、検出光学系の構成が極めて簡単になることであ
る。この反面、信号処理に時間がかかるため、応答性が
低下することが挙げられる。上記の利点は、図1の構
成と同一でシリンドリカルレンズ7による光学的な圧縮
が可能となり、従って、受光器に1次元ラインセンサー
が使用可能になり、応答性が高くなることである。この
反面、シリンドリカルレンズを検出光学系に適用する煩
わしさが生じる欠点がある。
【0023】このように、本件の発明は、色収差二重焦
点レンズ系のような特殊な構成要素を必要とせず、二つ
の先行出願の発明の長所を兼ね備えた斜方検出装置が実
現可能となる。最後に、リニアセンサー6から得られた
信号から、物体の相対位置を計算する方法として、本件
出願人がすでに提案している特願昭62−243194
号に示されている相関演算が有効である。この演算によ
れば、極めて短時間に相関対象となっている信号間の距
離を求めることができる。その処理を相似性パターンマ
ッチングと呼んでいる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したとおり、この発明の多波
長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用したアラ
イメント装置は、2つの先行出願の長所を合わせもった
アライメント装置を提供することができる。即ち、検
出マークの構成が単純である。斜方結像系に係らず、
垂直な結像と同等の像が得られる。複波長化が可能で
ある。色収差二重焦点レンズ系等の特殊レンズを使用
しない。等である。そして新たな欠点を伴わない検出系
となる。そして斜方検出を可能とし、X線マスクとウエ
ハーの常時相対位置合わせが精度良くできることであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例の多波長,コヒーレント光に
よるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置を示す光
路図、
【図2】(a),(b)は、マスクマーク,ウエハーマ
ークの構成を示す上面図および側面図、
【図3】この発明の原理を説明するためのマスクマーク
(ウエハーマーク)部分の拡大光路図、
【図4】リニアセンサーの上面図、
【図5】先行技術のアライメント装置の構成を示す光路
図、
【図6】(a),(b)は、図5のマスクマークおよび
アライメントマークの構成を示す上面図および側面図、
【図7】他の先行技術のアライメント装置の構成を示す
光路図、
【図8】(a),(b)は、図7のマスクマークおよび
アライメントマークの構成を示す上面図および側面図で
ある。
【符号の説明】
1a,1b,1c,1d レーザ光源 2a,2b,2c ビームスプリッタ 4 ミラー 5 照明光学装置 6,6a,6b,6c,6d リニアセンサー 7 シリンドリカルレンズ 10,30 検出光学系 13 X線露光光領域 14 X線マスク 15 ウエハー 16 マスクアライメントマーク(LFZP) 17 ウエハーアライメントマーク(LFZP) 18 微小間隔 19 照明光入射角 20 検出光学系光軸 22 ウインドウ 25 マスクマーク(SFZP) 26 ウエハーアライメントマーク(SFZP) 27 マスクアライメントマーク(LFZP) 28 ウエハーアライメントマーク(LFZP) 31 単焦点対物レンズ S1 ,S2 ,S3 ,S4 回折像 O1 ,O2 ,O3 ,O4 焦点深度内の回折像 I1 ,I2 ,I3 ,I4 単焦点対物レンズによるO1
,O2 ,O3 ,O4 の像

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線露光光の光軸方向に微小距離離間し
    た第1の物体と第2の物体の光軸に直交する方向の相対
    位置を検出する位置換出装置において、 各物体上にリニアフレネルゾーンプレート(LFZP)
    からなるアライメントマークを設け、これらリニアフレ
    ネルゾーンプレート(LFZP)を同時に複数の波長の
    光により照明するように照明装置を構成し、上記リニア
    フレネルゾーンプレート(LFZP)の波長毎に焦点の
    異なる回折焦点像と、その焦点の円弧が交差するような
    対物レンズを傾け、この対物レンズによって同一結像面
    上に結像した波長毎の回折焦点像を一次元CCDカメラ
    あるいは二次元CCDカメラに結像させ、電気信号に変
    換した信号を処理して上記各アライメントマークの相対
    位置を検出する手段を有する多波長,コヒーレント光に
    よるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置。
  2. 【請求項2】 第一の物体のアライメントマークとして
    単一のリニアフレネルゾーンプレート(LFZP)を用
    い、第二の物体のアライメントマークとして一対のリニ
    アフレネルゾーンプレート(LFZP)を用い、第一の
    物体の単一のリニアフレネルゾーンプレート(LFZ
    P)の間に入るような配置とすることを特徴とする請求
    項1記載の多波長,コヒーレント光によるフレネル回折
    を利用した斜方位置検出装置。
  3. 【請求項3】 第一の物体はマスクであり、第二の物体
    はウエハーであり、ウエハーのアライメントマークの回
    折光及び入射光が通るマスク部分に透明なウインドウ領
    域を設けたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載
    の多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用し
    た斜方位置検出装置。
  4. 【請求項4】 リニアセンサーから得られた信号を処理
    して上記各アライメントマークの位置を検出する手段が
    相似性パターンマッチング処理を行う手段であることを
    特徴とする請求項1から請求項3いずれかに記載の多波
    長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方
    位置検出装置。
JP5135186A 1993-05-14 1993-05-14 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置 Expired - Fee Related JP2791735B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5135186A JP2791735B2 (ja) 1993-05-14 1993-05-14 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5135186A JP2791735B2 (ja) 1993-05-14 1993-05-14 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06326006A true JPH06326006A (ja) 1994-11-25
JP2791735B2 JP2791735B2 (ja) 1998-08-27

Family

ID=15145852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5135186A Expired - Fee Related JP2791735B2 (ja) 1993-05-14 1993-05-14 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2791735B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110308152A (zh) * 2019-07-26 2019-10-08 上海御微半导体技术有限公司 一种光学检测装置和光学检测方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110308152A (zh) * 2019-07-26 2019-10-08 上海御微半导体技术有限公司 一种光学检测装置和光学检测方法
CN110308152B (zh) * 2019-07-26 2020-04-07 上海御微半导体技术有限公司 一种光学检测装置和光学检测方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2791735B2 (ja) 1998-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0785060B2 (ja) 共焦点画像形成システム、ならびに物体の検査及び/又は画像形成の方法
EP0867775A2 (en) Proximity exposure device with distance adjustment device
JPS58113706A (ja) 水平位置検出装置
JPS59172724A (ja) マーク検出装置
EP0458354B1 (en) A compact reticle/wafer alignment system
JPH10239036A (ja) 3次元計測用光学装置
JPS6117905A (ja) 厚さ測定装置
JP3282790B2 (ja) 位相シフトマスクの欠陥検査装置
JP2791735B2 (ja) 多波長,コヒーレント光によるフレネル回折を利用した斜方位置検出装置
JPS6356917A (ja) 投影露光装置
JPS63241407A (ja) 微細凹部の深さ測定方法及びその装置
JPH04273246A (ja) 位置検出装置、露光装置および露光方法
JP3143514B2 (ja) 面位置検出装置及びこれを有する露光装置
JP2709832B2 (ja) 複波長照明を用いた扇形フレネルゾーンプレートによる位置検出装置
JPS6289010A (ja) 顕微鏡自動焦点装置
US11761906B2 (en) Optical device
JP2000097633A (ja) マーク位置検出装置およびこれを用いたマーク位置検出方法
JPS6117907A (ja) 3次元形状測定装置
JP3004303B2 (ja) 露光方法及びその装置
JP2002311388A (ja) 光学系
JPH04115109A (ja) 表面粗さ計測装置
JPH03128409A (ja) 三次元形状センサ
JP2805333B2 (ja) セクターフレネルゾーンプレートによる位置検出装置
JPH1123953A (ja) 焦点検出装置を備えた顕微鏡および変位計測装置
JP2654813B2 (ja) 光切断顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees