JPH06310398A - Aligner - Google Patents
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- JPH06310398A JPH06310398A JP9801893A JP9801893A JPH06310398A JP H06310398 A JPH06310398 A JP H06310398A JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP H06310398 A JPH06310398 A JP H06310398A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子や液晶表示基
板等の製造に用いられる投影露光装置に関するものであ
り、特に露光すべきパターンを形成したマスクを収納場
所から露光位置に搬送する搬送装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a projection exposure apparatus used for manufacturing semiconductor devices, liquid crystal display substrates and the like, and more particularly to a transfer apparatus for transferring a mask having a pattern to be exposed from a storage place to an exposure position. It is about.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の装置は、図４に示すよう
な構成であった。即ち、不図示の照明光学系からの光束
によってレチクルステージ５上に載置されたレチクル
（不図示）を照明し、レチクル上のパターンの像が、投
影光学系ＰＬを介してプレートステージ７上のプレート
Ｐに投影される。この露光装置は不図示のアライメント
光学系によってレチクルの位置を検出する構成となって
いる。また、投影光学系ＰＬの光軸に対してレチクルを
位置決めするため、アライメント光学系の検出結果に基
づいて、レチクルステージ５を位置決めする。2. Description of the Related Art A conventional device of this type has a structure as shown in FIG. That is, a light beam from an illumination optical system (not shown) illuminates a reticle (not shown) placed on the reticle stage 5, and an image of the pattern on the reticle is projected on the plate stage 7 via the projection optical system PL. It is projected on the plate P. This exposure apparatus is configured to detect the position of the reticle by an alignment optical system (not shown). Further, in order to position the reticle with respect to the optical axis of the projection optical system PL, the reticle stage 5 is positioned based on the detection result of the alignment optical system.
【０００３】一方、露光に用いられる複数のレチクル
（不図示）は、それぞれ個別のケースに入れられてレチ
クルライブラリ１に保管されている。レチクルライブラ
リ１内に進入可能に配置されたフォーク２は、レチクル
ライブラリ１のケースから必要なレチクルを取り出し、
または不要なレチクルをレチクルライブラリ１に収納す
る。レチクルライブラリ１からレチクルステージ５まで
の搬送経路中には、レチクルの大まかな位置合わせを行
うプリアライメント機構３が備えられている。その他、
レチクルステージ５上にレチクルを搬入するロードアー
ム４Ａと、図のＹ方向にロードアーム４Ａと独立に、ま
た図のＺ方向にはロードアーム４Ａと一体に移動する構
成で、レチクルステージ５上からレチクルを搬出するア
ンロードアーム４Ｂとを備えている。On the other hand, a plurality of reticles (not shown) used for exposure are stored in the reticle library 1 in individual cases. The fork 2 arranged so that it can enter the reticle library 1 takes out a necessary reticle from the case of the reticle library 1,
Alternatively, an unnecessary reticle is stored in the reticle library 1. A pre-alignment mechanism 3 for roughly aligning the reticle is provided in the transport path from the reticle library 1 to the reticle stage 5. Other,
The load arm 4A for loading the reticle onto the reticle stage 5 is configured to move independently of the load arm 4A in the Y direction in the figure and integrally with the load arm 4A in the Z direction in the figure. And an unload arm 4B for unloading.
【０００４】尚、フォーク２はレチクルライブラリ１か
らプリアライメント機構３までの間のレチクルの搬送を
担当し、プリアライメント機構３からレチクルステージ
５への搬送（搬入）はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５からレチクルライブラリ１への搬送（搬
出）はアンロードアーム４Ｂとフォーク２とが、それぞ
れ受け持つ。The fork 2 is in charge of transporting the reticle between the reticle library 1 and the pre-alignment mechanism 3, and the transport (loading) from the pre-alignment mechanism 3 to the reticle stage 5 is performed by the load arm 4A and the reticle stage. The unload arm 4 </ b> B and the fork 2 are in charge of transporting (transporting) from the reticle library 1 to the reticle library 1.
【０００５】先ず、レチクルライブラリ１内のレチクル
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し、
プリアライメント機構３まで搬送する。プリアライメン
ト機構３は、フォーク２上のレチクルを所定の位置に大
まかに整合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ
１を受け取る。次に、ロードアーム４Ａがプリアライメ
ント機構３よりレチクルを受け取り、レチクルをレチク
ルステージ５に受け渡す。レチクルステージ５にレチク
ルが載置されると不図示のアライメント光学系に基づい
てアライメントし、プレートＰに対して露光を行う。First, the reticle in the reticle library 1 is taken out from the reticle library 1 with a fork 2.
It is conveyed to the pre-alignment mechanism 3. The pre-alignment mechanism 3 roughly aligns the reticle on the fork 2 at a predetermined position, and also moves the reticle R from the fork 2 to the reticle R.
Receive 1 Next, the load arm 4A receives the reticle from the pre-alignment mechanism 3, and transfers the reticle to the reticle stage 5. When the reticle is placed on the reticle stage 5, alignment is performed based on an alignment optical system (not shown), and the plate P is exposed.
【０００６】露光が終了すると、アンロードアーム４Ｂ
がレチクルステージ５からレチクルを受け取り、フォー
ク２を介してレチクルライブラリ１に収納する。その
後、新たなレチクルをレチクルライブラリ１から搬出し
て、上述と同様にしてレチクルステージ５上に載置し、
露光を行うことを繰り返す。When the exposure is completed, the unload arm 4B
Receives the reticle from the reticle stage 5 and stores it in the reticle library 1 via the fork 2. Then, a new reticle is unloaded from the reticle library 1 and placed on the reticle stage 5 in the same manner as described above.
Repeat exposure.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、レチクルステージ上に載置されたレチクル
を除いて、レチクルは搬送経路中には１枚しか存在する
ことができない。露光工程では、頻繁にレチクルを交換
しながら露光する場合が多く、従来の装置におけるレチ
クル交換は非効率的であった。また、レチクル交換時間
の短縮を行うためにはフォークやロードアーム等、それ
ぞれの移動速度を大きくすることが考えられるが、その
方法で行える交換時間の短縮には限界があった。In the conventional technique as described above, only one reticle can be present in the transport path except for the reticle placed on the reticle stage. In the exposure step, exposure is often performed while frequently changing the reticle, and the reticle exchange in the conventional apparatus is inefficient. Further, in order to shorten the reticle exchange time, it is conceivable to increase the moving speed of each of the forks and the load arm, but there is a limit to the reduction of the exchange time that can be achieved by that method.
【０００８】本発明は、露光装置のレチクル交換を効率
的に行い、スループットの高い露光装置を提供すること
を目的とする。An object of the present invention is to provide an exposure apparatus that efficiently exchanges reticles of the exposure apparatus and has a high throughput.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記問題点解決のため本
発明では、複数の基板（Ｒ１，Ｒ２，…）を保管する基
板保管手段（１）と、基板を所定の位置に保持する基板
ステージ（５）と、基板保管手段と基板ステージとの間
で基板を搬送する基板搬送手段（２，４Ａ，４Ｂ）と、
基板搬送手段による搬送経路中に設けられ、基板を所定
の位置に対して大まかに位置決めする予備位置決め手段
（３）とを備え、所定の位置に位置決めされた基板の像
を被露光手段（Ｐ）に対して露光する露光装置におい
て、基板の複数（Ｒ１〜Ｒ３、Ｒ４〜Ｒ６）を一体に保
持するとともに、所定の位置に対して移動することによ
って基板ステージに対して基板を受け渡す基板交換手段
（６，９）と；予備位置決め手段によって位置決めされ
た基板（Ｒ４〜Ｒ６）を一時的に保管する一時保管部
（８）とを搬送経路中に備えたこととした。In order to solve the above problems, in the present invention, a substrate storage means (1) for storing a plurality of substrates (R1, R2, ...) And a substrate stage for holding the substrates at a predetermined position. (5), substrate transfer means (2, 4A, 4B) for transferring the substrate between the substrate storage means and the substrate stage,
Preliminary positioning means (3) provided in the transport path of the substrate transport means for roughly positioning the substrate with respect to a predetermined position, and an image of the substrate positioned at the predetermined position is exposed (P). In an exposure apparatus that exposes to a substrate, a substrate exchange unit that holds a plurality of substrates (R1 to R3, R4 to R6) integrally and transfers the substrate to a substrate stage by moving the substrate to a predetermined position. (6, 9); and the temporary storage section (8) for temporarily storing the substrates (R4 to R6) positioned by the preliminary positioning means are provided in the transport path.
【００１０】[0010]
【作用】本発明では、レチクルステージに対して露光に
必要な複数のレチクルを交換可能に保持するレチクルチ
ェンジャを備えた露光装置のレチクル搬送系において、
レチクルチェンジャが保持するレチクルによる露光中に
新たなレチクルを準備して一時的に保管する保管庫を備
える構成としたため、レチクルの交換に要する搬送経路
がレチクルチェンジャと保管庫との間のみとなり、また
レチクルの交換準備を効率的に行うことができることと
なるので、総合的なレチクルの交換を迅速に行うことが
可能となる。According to the present invention, in the reticle transport system of the exposure apparatus provided with the reticle changer for holding a plurality of reticles necessary for exposure on the reticle stage in an exchangeable manner,
Since the reticle changer holds the reticle during exposure by the reticle held by the reticle, the reticle changer has a configuration to temporarily store the reticle, so that the transport path required to replace the reticle is only between the reticle changer and the vault. Since the reticle replacement preparation can be efficiently performed, it becomes possible to quickly perform a comprehensive reticle replacement.
【００１１】[0011]
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例による投影露
光装置の概略的な構成を示す図である。不図示の照明光
学系からの光束によってレチクルステージ５上に載置さ
れたレチクル（不図示）を照明し、レチクル上のパター
ンの像が、投影光学系ＰＬを介してプレートステージ７
上のプレートＰに投影される。この露光装置は不図示の
アライメント光学系によってレチクルの位置を検出する
構成となっている。また、投影光学系ＰＬに対してレチ
クルを位置決めするため、アライメント光学系の検出結
果に基づいて、レチクルステージ５を位置決めする。1 is a diagram showing the schematic construction of a projection exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. A light beam from an illumination optical system (not shown) illuminates a reticle (not shown) placed on the reticle stage 5, and an image of the pattern on the reticle is projected onto the plate stage 7 via the projection optical system PL.
It is projected on the upper plate P. This exposure apparatus is configured to detect the position of the reticle by an alignment optical system (not shown). Further, in order to position the reticle with respect to the projection optical system PL, the reticle stage 5 is positioned based on the detection result of the alignment optical system.
【００１２】一方、露光に用いられる複数のレチクル
（不図示）Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，…は、それぞれ個別のケ
ースに入れられてレチクルライブラリ１に保管されてい
る。レチクルライブラリ１内に進入可能に配置されたフ
ォーク２は、レチクルライブラリ１のケースから必要な
レチクルを取り出し、または不要なレチクルをレチクル
ライブラリ１内に収納する。レチクルライブラリ１から
レチクルステージ５までの搬送経路中には、レチクルの
大まかな位置合わせを行うプリアライメント機構３と、
複数のレチクルを一時的に保管しておく保管庫８が備え
られている。その他、レチクルステージ５上にレチクル
を搬入するロードアーム４Ａと、図のＹ方向にロードア
ーム４Ａと独立に、また図のＺ方向にはロードアーム４
Ａと一体に移動する構成で、レチクルステージ５上から
レチクルを搬出するアンロードアーム４Ｂとを備えてい
る。On the other hand, a plurality of reticles (not shown) R1, R2, R3, ... Used for exposure are stored in the reticle library 1 in individual cases. The fork 2 arranged so as to be able to enter the reticle library 1 takes out a necessary reticle from the case of the reticle library 1 or stores an unnecessary reticle in the reticle library 1. In the transportation path from the reticle library 1 to the reticle stage 5, a pre-alignment mechanism 3 for roughly aligning the reticle,
A storage box 8 for temporarily storing a plurality of reticles is provided. In addition, the load arm 4A for loading the reticle onto the reticle stage 5 is independent of the load arm 4A in the Y direction in the figure, and the load arm 4A in the Z direction in the figure.
It is configured to move integrally with A and has an unload arm 4B that carries out the reticle from the reticle stage 5.
【００１３】尚、フォーク２はレチクルライブラリ１と
プリアライメント機構３との間のレチクルの搬送、及び
保管庫８からレチクルライブラリ１までの搬送を担当
し、プリアライメント機構３からレチクルステージ５、
若しくは保管庫８への搬送、及び保管庫８からレチクル
ステージ５への搬送はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５から保管庫８への搬送はアンロードアーム
４Ｂが、それぞれ受け持つ。また、これらフォーク２、
ロードアーム４Ａ、アンロードアーム４Ｂ、及び上記の
レチクルチェンジャ６の動作はコントローラＣＮＴによ
って制御されている。さらに、コントローラＣＮＴは、
照明光学系のシャッタやステージ７等を制御する不図示
の露光制御装置と接続されており、露光制御装置の出力
する露光指令に応じてレチクルチェンジャ６等を制御す
る構成となっている。The fork 2 is in charge of transporting the reticle between the reticle library 1 and the pre-alignment mechanism 3 and the transport from the storage 8 to the reticle library 1, and includes the pre-alignment mechanism 3 to the reticle stage 5.
Alternatively, the load arm 4A handles transfer to the storage cabinet 8 and the transfer from the storage cabinet 8 to the reticle stage 5, and the unload arm 4B handles transfer from the reticle stage 5 to the storage cabinet 8. Also, these forks 2,
The operations of the load arm 4A, the unload arm 4B, and the reticle changer 6 are controlled by the controller CNT. Furthermore, the controller CNT is
It is connected to an exposure control device (not shown) that controls the shutter of the illumination optical system, the stage 7, and the like, and is configured to control the reticle changer 6 and the like according to an exposure command output from the exposure control device.
【００１４】レチクルステージ５に載置されたレチクル
は、位置決めされた後に、この位置を維持したままレチ
クルチェンジャ６のレチクル保持部６Ａ〜６Ｃに移替え
られ、必要に応じて再度レチクルステージ５に載置され
る。図１に示す露光装置の例では、レチクルチェンジャ
６上には３枚のレチクルを載置する構成となっており、
レチクル３枚を１組と考える。After the reticle placed on the reticle stage 5 is positioned, it is transferred to the reticle holding portions 6A to 6C of the reticle changer 6 while maintaining this position, and is placed on the reticle stage 5 again if necessary. Placed. In the example of the exposure apparatus shown in FIG. 1, three reticles are mounted on the reticle changer 6.
Think of three reticles as a set.
【００１５】上記の装置におけるレチクルの搬送動作に
ついて図３を用いて説明する。先ず、レチクルライブラ
リ１内のレチクルＲ１をフォーク２にてレチクルライブ
ラリ１から取り出し、プリアライメント機構３まで搬送
する（ステップ１０１）。プリアライメント機構３は、
フォーク２上のレチクルＲ１を所定の位置に大まかに整
合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ１を受け
取る（ステップ１０２）。The reticle carrying operation in the above apparatus will be described with reference to FIG. First, the reticle R1 in the reticle library 1 is taken out of the reticle library 1 by the fork 2 and conveyed to the pre-alignment mechanism 3 (step 101). The pre-alignment mechanism 3 is
The reticle R1 on the fork 2 is roughly aligned with a predetermined position, and the reticle R1 is received from the fork 2 (step 102).
【００１６】次に、ロードアーム４Ａがプリアライメン
ト機構３よりレチクルＲ１を受け取り、レチクルＲ１を
レチクルステージ５に受け渡す（ステップ１０３）。レ
チクルステージ５にレチクルＲ１が載置されると、一
旦、レチクルチェンジャの全てのレチクル保持部上にレ
チクルが載置されているか否かを判断した上で、不図示
のアライメント光学系に基づいて所定位置（露光時に投
影光学系ＰＬに対して位置決めされているべき位置）に
ステージ５上のレチクルＲ１をアライメントする（ステ
ップ１０４）。この時、図のＸ方向及びＺ方向にそれぞ
れ所定のストローク内で移動可能なレチクルチェンジャ
のフォーク６がＺ方向のストロークの下端にあり、レチ
クル保持部６Ａがレチクルステージ５とのアクセス位置
（レチクルの受け渡しが可能な位置）にある。Next, the load arm 4A receives the reticle R1 from the pre-alignment mechanism 3 and transfers the reticle R1 to the reticle stage 5 (step 103). When the reticle R1 is placed on the reticle stage 5, it is first determined whether or not the reticle is placed on all the reticle holders of the reticle changer, and then a predetermined value is determined based on an alignment optical system (not shown). The reticle R1 on the stage 5 is aligned with the position (the position that should be positioned with respect to the projection optical system PL at the time of exposure) (step 104). At this time, the fork 6 of the reticle changer, which is movable in the predetermined strokes in the X direction and the Z direction in the drawing, is at the lower end of the stroke in the Z direction, and the reticle holding portion 6A is located at the access position (the reticle stage) of the reticle stage 5. It is in a position where it can be handed over.
【００１７】ここで、現在ステージ５上に載置されてい
るレチクルＲ１がレチクルチェンジャに対する最後のレ
チクルかどうか判断する（ステップ１０５）。この場合
は、まだ１枚目のレチクルなのでステップ１０６に移っ
てレチクルをレチクルチェンジャ上の保持部に載置す
る。つまり、フォーク６がＺ方向に上昇することにより
レチクルステージ５よりレチクル保持部６Ａ上にレチク
ルＲ１を受け取り、ストロークの上端で停止する。次に
フォーク６は、Ｘ方向に移動してレチクル保持部６Ｂが
レチクルステージ５とのアクセス位置に来た位置で停止
する。その後、Ｚ方向のストロークの下端まで下降し、
次に受け取るべきレチクルＲ２の受け取り準備が完了す
る。Here, it is determined whether the reticle R1 currently mounted on the stage 5 is the last reticle for the reticle changer (step 105). In this case, since it is the first reticle, the process proceeds to step 106 and the reticle is placed on the holding part on the reticle changer. That is, as the fork 6 moves upward in the Z direction, the reticle R1 is received from the reticle stage 5 on the reticle holding portion 6A and stopped at the upper end of the stroke. Next, the fork 6 moves in the X direction and stops at the position where the reticle holding portion 6B has reached the access position for the reticle stage 5. After that, descend to the lower end of the Z-direction stroke,
Preparation for receiving the reticle R2 to be received next is completed.
【００１８】以上のように、レチクルチェンジャに対す
る最後のレチクルをステージ上に載置するまで上記と同
様にしてレチクルチェンジャ上にレチクルを載置する。
即ち、１枚目のレチクルＲ１と同様の手順で２枚目のレ
チクルＲ２をレチクル保持部６Ｂに収納する。但し、図
のステップ１０１からステップ１０２の動作は、ステッ
プ１０３以降の動作と並行して行うほうが効率的であ
る。そうすれば、ステップ１０５で否定された後、直ち
にステップ１０３の動作を行うことが可能となる。As described above, the reticle is placed on the reticle changer in the same manner as above until the final reticle for the reticle changer is placed on the stage.
That is, the second reticle R2 is stored in the reticle holding portion 6B in the same procedure as the first reticle R1. However, it is more efficient to perform the operations from step 101 to step 102 in the figure in parallel with the operations after step 103. By doing so, it becomes possible to immediately perform the operation of step 103 after the determination in step 105 is negative.
【００１９】一方、ステップ１０５で最後のレチクルで
あると判断されれば、ステップ１０７に移って露光を行
う。露光の際には、必要なレチクルをレチクル保持部６
Ａ〜６Ｃからレチクルステージ５に移替えることによっ
てプレートＰに対する露光を行うが、上記の場合、ステ
ージ５上にレチクルＲ３が載置されているので、このレ
チクルＲ３から露光を行えば効率的である。On the other hand, if it is determined in step 105 that the reticle is the last reticle, the process proceeds to step 107 to perform exposure. At the time of exposure, the reticle holding unit 6
The plate P is exposed by transferring from A to 6C to the reticle stage 5. In the above case, since the reticle R3 is placed on the stage 5, it is efficient to perform the exposure from the reticle R3. .
【００２０】さて、レチクルＲ１〜Ｒ３を用いて露光を
行っている間に、後の露光に使用する予定の（準備すべ
き）レチクルが有るか否かを判断し（ステップ１０
８）、有ればそのレチクル（この場合、レチクルＲ４〜
Ｒ６）を保管庫８内に準備する。つまり、レチクルＲ４
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し
（ステップ１０９）、プリアライメント機構３まで搬送
する。プリアライメント機構３は、フォーク２上のレチ
クルＲ４を所定の位置に整合させるとともに（ステップ
１１０）、フォーク２からレチクルＲ４を受け取る。Now, while performing exposure using the reticles R1 to R3, it is judged whether or not there is a reticle to be used (prepared) for later exposure (step 10).
8), if any, the reticle (in this case, reticle R4 ...
R6) is prepared in the storage 8. That is, reticle R4
Is taken out from the reticle library 1 by the fork 2 (step 109) and is conveyed to the pre-alignment mechanism 3. The pre-alignment mechanism 3 aligns the reticle R4 on the fork 2 at a predetermined position (step 110) and receives the reticle R4 from the fork 2.
【００２１】次に、ロードアーム４Ａがプリアライメン
ト機構３よりレチクルＲ４を受け取るとともに、現在ロ
ードアーム４Ａ上に載置されているレチクルＲ４が準備
すべき最後のレチクルかどうか判断する（ステップ１１
１）。この場合は、まだ１枚目のレチクルなのでステッ
プ１１２に移ってレチクルを保管庫８内の１段目の収納
場所８ＡにレチクルＲ４を収納する。同様の動作にてＲ
５を２段目の収納場所８Ｂに収納する。一方、ステップ
１１１で最後のレチクルと判断された場合は、そのレチ
クルをロードアーム４Ａ上に保持したまま待機する（ス
テップ１１３）。即ち、レチクル３枚を１組とした場合
の残りであるレチクルＲ６は、上述のようにプリアライ
メント機構３で整合された後は、ロードアーム４Ａが受
け取ったままでレチクルＲ１〜Ｒ３の露光が終了するま
で待機する。Next, the load arm 4A receives the reticle R4 from the pre-alignment mechanism 3 and determines whether the reticle R4 currently mounted on the load arm 4A is the final reticle to be prepared (step 11).
1). In this case, since the reticle is the first reticle, the process proceeds to step 112 and the reticle R4 is stored in the first-stage storage location 8A in the storage 8. R in the same operation
5 is stored in the second storage place 8B. On the other hand, if the reticle is determined to be the last reticle in step 111, the reticle is held on the load arm 4A and stands by (step 113). That is, the reticle R6, which is the rest of the set of three reticles as one set, is aligned by the pre-alignment mechanism 3 as described above, and then the exposure of the reticles R1 to R3 is completed while being received by the load arm 4A. Wait until.
【００２２】次のステップ１１４で露光が終了したと判
断すると、その時点でレチクルステージ５上に載置され
ているレチクル（例えばレチクルＲ１）をアンロードア
ーム４Ｂで取り出してＹ方向に移動し、レチクルライブ
ラリ１側の基準位置（図に破線で示す位置）で停止する
（ステップ１１５）。レチクルステージ５からレチクル
Ｒ１が搬出された後は、レチクルＲ６を保持したロード
アーム４ＡがＹ方向にレチクルステージ５まで移動して
レチクルＲ６をレチクルステージ５に受け渡し、上記基
準位置まで戻る（ステップ１１６）。その後、アンロー
ドアーム４Ｂはロードアーム４ＡとともにＺ方向に移動
して保管庫８の３段目の収納場所への受け渡し高さで停
止し、保管庫８内に進入して３段目の収納場所８Ｃにレ
チクルＲ１を収納する。When it is judged in the next step 114 that the exposure has been completed, the reticle (for example, reticle R1) placed on the reticle stage 5 at that time is taken out by the unload arm 4B and moved in the Y direction to move the reticle. It stops at the reference position on the library 1 side (the position shown by the broken line in the figure) (step 115). After the reticle R1 is carried out from the reticle stage 5, the load arm 4A holding the reticle R6 moves to the reticle stage 5 in the Y direction, transfers the reticle R6 to the reticle stage 5, and returns to the reference position (step 116). . After that, the unload arm 4B moves in the Z direction together with the load arm 4A and stops at the transfer height of the storage 8 to the storage location of the third stage, and enters the storage 8 and enters the storage location of the third stage. Store reticle R1 in 8C.
【００２３】レチクルを保持していないロードアーム４
Ａは２段目の収納場所８Ｂに対するレチクル受け渡し高
さまでＺ方向の移動をし、保管庫８内に進入してレチク
ルＲ５を受け取る。ここでアンロードアーム４Ｂはロー
ドアーム４ＡとともにＺ方向に上昇し、レチクルステー
ジ５に対する受け渡し高さで停止する。この時、既にレ
チクルステージ５上にはレチクル保持部６Ｂ上に保持さ
れていたレチクルＲ２が載置されている。この後は、上
述と同様にしてレチクルＲ２，Ｒ３をそれぞれ収納場所
８Ｂ，収納場所８Ａへ収納するとともに、収納場所８
Ｂ、収納場所８Ａに収納されていたレチクルＲ５，Ｒ４
をレチクル保持部６Ｂ，６Ｃに移す。以上の動作によ
り、露光の終了したレチクルＲ１〜Ｒ３と次回の露光に
使用するレチクルＲ４〜Ｒ６の交換が完了する。Road arm 4 not holding a reticle
A moves in the Z direction to the reticle delivery height for the second-stage storage location 8B, enters the storage box 8 and receives the reticle R5. Here, the unload arm 4B ascends in the Z direction together with the load arm 4A and stops at the transfer height with respect to the reticle stage 5. At this time, the reticle R2 held on the reticle holding portion 6B has already been placed on the reticle stage 5. After that, the reticles R2 and R3 are stored in the storage locations 8B and 8A, respectively, in the same manner as described above, and the storage location 8 is stored.
B, reticles R5 and R4 stored in storage area 8A
Are transferred to the reticle holding units 6B and 6C. With the above operation, the exchange of the reticles R1 to R3 that have been exposed and the reticles R4 to R6 used for the next exposure is completed.
【００２４】次のステップ１１７でレチクルの交換が終
了したと判断した後はレチクルＲ４〜Ｒ６で露光を行
い、その間にレチクルＲ１〜Ｒ３をレチクルライブラリ
１に収納する（ステップ１１８）。また、さらに準備す
べきレチクルが有る場合は（ステップ１１９）、レチク
ルＲ４〜Ｒ６の露光中に上記と同様にして準備すればよ
い。尚、レチクルＲ１〜Ｒ３による露光中に保管庫８に
準備するレチクルをＲ４〜Ｒ６としたが、時間的な余裕
があれば、さらに次のレチクルを保管庫内に準備するよ
うにしても構わない。After it is judged in the next step 117 that the reticle has been exchanged, exposure is performed with the reticles R4 to R6, and during that time, the reticles R1 to R3 are stored in the reticle library 1 (step 118). If there is a reticle to be further prepared (step 119), it may be prepared in the same manner as described above during exposure of the reticles R4 to R6. Although the reticles prepared in the storage 8 during exposure by the reticles R1 to R3 are R4 to R6, the next reticle may be further prepared in the storage if there is a time margin. .
【００２５】図２は、本発明の第２の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、レチクル
チェンジャとレチクルステージとが一体に構成されてい
るものであり、レチクルチェンジャ９上のレチクル保持
部１０Ａ〜１０Ｃの夫々にレチクルが載置されたまま図
のＸ方向にレチクルステージ９が移動する。つまり、図
１に示す装置のようにレチクルチェンジャとレチクルス
テージとの間でレチクルの受け渡しを行う必要がない構
成である。レチクルは、レチクル保持部１０Ａ〜１０Ｃ
とロードアーム４Ａ，アンロードアーム４Ｂとの間で受
け渡すようになっており、それ以外は図１に示す装置と
同様の構成である。第２の実施例では、第１の実施例に
あるレチクルチェンジャ６とレチクルステージ５の間で
の受け渡しが省略できた分、レチクル交換に要する時間
がさらに短縮する。FIG. 2 is a view showing the schematic arrangement of an exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention. This is one in which the reticle changer and the reticle stage are integrally formed, and the reticle stage 9 is moved in the X direction in the figure with the reticle placed on each of the reticle holding portions 10A to 10C on the reticle changer 9. Moving. That is, unlike the apparatus shown in FIG. 1, it is not necessary to transfer the reticle between the reticle changer and the reticle stage. The reticle is a reticle holding unit 10A to 10C.
And the load arm 4A and the unload arm 4B, and the other configurations are the same as those of the device shown in FIG. In the second embodiment, since the transfer between the reticle changer 6 and the reticle stage 5 in the first embodiment can be omitted, the time required for reticle exchange is further shortened.
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、レチクル
の搬送経路中のプリアライメント機構とレチクルステー
ジとの間にプリアライメントされたレチクルを一時的に
保管する保管庫を設けたため、レチクル交換時のレチク
ル搬送経路が短くなり、レチクル交換時間が短縮でき
る。また、次の露光に必要なレチクルを露光中に準備で
きるため、効率的なレチクルの搬送を行うことができ
る。As described above, according to the present invention, the reticle is exchanged because the storage box for temporarily storing the pre-aligned reticle is provided between the reticle stage and the pre-alignment mechanism in the reticle transport path. In this case, the reticle transport path is shortened and the reticle exchange time can be shortened. Further, since the reticle required for the next exposure can be prepared during the exposure, the reticle can be efficiently transported.
【図１】本発明の第１の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１の実施例による露光装置の動作を
表すフローチャートFIG. 3 is a flowchart showing the operation of the exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention.
【図４】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to a conventional technique.
１ レチクルライブラリ ２ フォーク ３ プリアライメント機構 ４Ａ ロードアーム ４Ｂ アンロードアーム ５ レチクルステージ ６，９ レチクルチェンジャ ８ 保管庫 ＣＮＴ 制御装置 1 reticle library 2 fork 3 pre-alignment mechanism 4A load arm 4B unload arm 5 reticle stage 6, 9 reticle changer 8 storage CNT controller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 9/00 Ｈ 7316−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ 8418−4Ｍ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI Technical display location G03F 9/00 H 7316-2H H01L 21/68 A 8418-4M
Claims (3)
前記基板を所定の位置に保持する基板ステージと、前記
基板保管手段と前記基板ステージとの間で前記基板を搬
送する基板搬送手段と、該基板搬送手段による搬送経路
中に設けられ、前記基板を前記所定の位置に対して大ま
かに位置決めする予備位置決め手段とを備え、前記所定
の位置に位置決めされた前記基板の像を被露光手段に対
して露光する露光装置において、 前記基板の複数を一体に保持するとともに、前記所定の
位置に対して移動することによって前記基板ステージに
対して前記基板を受け渡す基板交換手段と；前記予備位
置決め手段によって位置決めされた前記基板を一時的に
保管する一時保管部とを前記搬送経路中に備えたことを
特徴とする露光装置。1. A substrate storage means for storing a plurality of substrates,
A substrate stage that holds the substrate at a predetermined position, a substrate transfer unit that transfers the substrate between the substrate storage unit and the substrate stage, and a substrate transfer unit that is provided in a transfer path by the substrate transfer unit. An exposure apparatus, comprising: preliminary positioning means for roughly positioning with respect to the predetermined position, and exposing an image of the substrate positioned at the predetermined position to exposed means, wherein a plurality of the substrates are integrally formed. A substrate exchanging means for holding and moving the substrate to the predetermined position to transfer the substrate to the substrate stage; a temporary storage section for temporarily storing the substrate positioned by the preliminary positioning means And an exposure apparatus provided in the transport path.
って保持された複数の前記基板から成る第１の組による
露光中に、他の複数の前記基板から成る第２の組を前記
基板保管手段から搬出し、前記予備位置決め手段を介し
て前記一時保管部に保管し、前記第１の組による露光が
終了した際に該第１の組と前記第２の組とを前記基板搬
送手段によって入れ換える搬送制御手段をさらに備えた
ことを特徴とする露光装置。2. The exposure apparatus, during exposure by a first set of a plurality of the substrates held by the substrate exchanging unit, stores a second set of a plurality of the other substrates in the substrate storage unit. The first set and the second set when the exposure by the first set is completed, and the first set and the second set are exchanged by the substrate transfer unit. An exposure apparatus further comprising a conveyance control unit.
それぞれを個別に前記所定の位置に対して精密に位置決
めする精密位置決め手段を備えていることを特徴とする
請求項１、または２に記載の露光装置。3. The substrate exchanging device is provided with a precision positioning device for individually precisely positioning each of the plurality of substrates with respect to the predetermined position. The exposure apparatus described.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9801893A JP3287058B2 (en) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | Exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9801893A JP3287058B2 (en) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | Exposure equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06310398A true JPH06310398A (en) | 1994-11-04 |
| JP3287058B2 JP3287058B2 (en) | 2002-05-27 |
Family
ID=14208118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9801893A Expired - Lifetime JP3287058B2 (en) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | Exposure equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287058B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100530676B1 (en) * | 1995-06-19 | 2006-04-20 | 가부시키가이샤 니콘 | Projection Exposure Method |
| JP2006178471A (en) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple substrate carrier for flat panel display substrate |
| EP1801654A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-27 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9801893A patent/JP3287058B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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| JP4496165B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-07-07 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | Lithographic apparatus and device manufacturing method using a plurality of substrate carriers for flat panel display substrates |
| EP1801654A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-27 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2007189217A (en) * | 2005-12-23 | 2007-07-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for manufacturing device |
| KR100832079B1 (en) * | 2005-12-23 | 2008-05-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7961291B2 (en) | 2005-12-23 | 2011-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3287058B2 (en) | 2002-05-27 |
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