JPH10289862A - Carrying device - Google Patents

Carrying device

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Publication number
JPH10289862A
JPH10289862A JP9110099A JP11009997A JPH10289862A JP H10289862 A JPH10289862 A JP H10289862A JP 9110099 A JP9110099 A JP 9110099A JP 11009997 A JP11009997 A JP 11009997A JP H10289862 A JPH10289862 A JP H10289862A
Authority
JP
Japan
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reticle
storage
control device
original plate
transport
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9110099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Kobayashi
光郎 小林
Akio Nishikata
昭雄 西方
Yutaka Endo
豊 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP9110099A priority Critical patent/JPH10289862A/en
Publication of JPH10289862A publication Critical patent/JPH10289862A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To execute independently a readout of information from an original sheet and the like by a control of a second control unit even in such a case that other controls can not be executed by a first control unit by a method wherein the second control unit controls an original sheet housing unit when the first control unit is at least executing a control of a processing unit. SOLUTION: If a first control unit is performing a prescribed processing, reticels R in housing containers 30 and 45 can not be made also the movement to housing and separating units 11 by a vertically moving mechanism 12 during the processing and a readout of the bar codes of another reticles R and the like also can not be executed. Therefore, a second control unit is used so that the reticles R in the containers 30 and 35 are moved to the units 11 by the mechanism 12 on the basis of the instruction of an operator and the readout of the bar codes of the reticles R can be executed. That is, the second control unit carries the reticles R to reticle position correction units 53 by a reticle carrying system 50 and readouts the bar codes of the reticles R carried by first bar code readers 54.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は搬送装置に関し、特
に、露光装置においてレチクル、フォトマスク等の原板
(露光原板)を搬送する搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer apparatus, and more particularly, to a transfer apparatus for transferring an original (exposure original) such as a reticle and a photomask in an exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】露光装置(ステッパ)においては、レチ
クルの表面に形成されたパターンを、フォトレジストが
塗布されたウエハ上に露光してウエハに回路パターンを
形成する作業が行われる。ところで、このような露光装
置においては、ウエハ上に何層にも重ねて回路パターン
が露光形成される場合がしばしばあり、かかる場合に
は、複数種類のレチクルを用いて複数種類のパターンを
形成する必要があり、従って複数種類のレチクルを順次
交換しながら露光を行うようになっている。
2. Description of the Related Art In an exposure apparatus (stepper), a pattern formed on the surface of a reticle is exposed on a wafer coated with a photoresist to form a circuit pattern on the wafer. By the way, in such an exposure apparatus, a circuit pattern is often formed by exposing a plurality of layers on a wafer, and in such a case, a plurality of types of patterns are formed using a plurality of types of reticles. Therefore, the exposure is performed while sequentially changing a plurality of types of reticles.

【0003】このように複数種類のレチクルを効率良く
交換しながら使用するために、従来から原板(レチクル
等)を効率良く搬送する搬送装置が種々提案されてい
る。一例を挙げれば、特開平7−321179号に開示
の搬送装置があり、この搬送装置は、露光装置内に配設
されて一枚もしくは複数枚の原板を収納した収納容器か
らの原板の搬出入を行うとともに、このように搬出入さ
れた原板を露光処理ステージとの間で搬送するようにな
っている。
[0003] In order to use a plurality of types of reticles while efficiently exchanging them as described above, conventionally, there have been proposed various transport apparatuses for efficiently transporting original plates (reticles and the like). As an example, there is a transfer device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-32179. The transfer device is configured to carry in and out an original sheet from a storage container provided in an exposure apparatus and containing one or more original sheets. And transports the original carried in and out to and from the exposure processing stage.

【0004】このような搬送装置においてミスのない露
光を行うためには、どのような原板がどこに保管されて
いるか前もって確認しておく必要がある。一方、原板に
は識別のための情報を含むバーコードが通常形成されて
いる。そこで、読み取り装置を設けて、保管されている
原板のバーコードを読み出すことにより、どのような原
板がどの保管所に保管されているか、制御装置が予め認
識できるようにし、それにより搬送の自動制御が行われ
るようにしている。
In order to perform error-free exposure in such a transport apparatus, it is necessary to check in advance what kind of original plate is stored and where. On the other hand, a bar code including information for identification is usually formed on the original plate. Therefore, a reading device is provided to read the barcode of the stored original plate so that the control device can recognize in advance what type of original plate is stored in which storage place, thereby automatically controlling the transport. Is to be done.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで従来技術にお
いては、作業の便宜を図るため原板の保管所が複数設け
られ、複数枚の原板を収納可能な原板収納容器を各保管
所毎にセットできるようになっている。作業者が、露光
装置の一連の動作を制御する操作盤を用いて、必要な保
管所の指定を行えば、セットされた原板収納容器から原
板が保管所に移動され、読み取り装置により原板のバー
コードが読み出されて、その種類と保管位置とが作業者
に確認されるようになっている。
By the way, in the prior art, a plurality of storages for originals are provided for convenience of operation, and an original storage container capable of storing a plurality of originals can be set for each storage. It has become. When an operator designates a necessary storage location by using an operation panel for controlling a series of operations of the exposure apparatus, the original sheet is moved from the set original sheet storage container to the storage place, and a bar of the original sheet is read by the reading device. The code is read, and the type and storage position are confirmed by the operator.

【0006】更に作業者が、確認した原板の何れを用い
て露光処理を行うか決定し、操作盤を用いて必要な原板
を指定すると、指定された原板が露光位置へと搬送さ
れ、露光動作が行われるようになっている。露光動作が
終了すると、不要となった原板は、元の保管所を介して
原板収納容器へと搬送されるようになっている。
Further, when the operator decides which of the confirmed originals is to be used for the exposure processing and designates the required original using the operation panel, the specified original is transported to the exposure position, and the exposure operation is performed. Is performed. When the exposure operation is completed, the unnecessary original plate is transported to the original container via the original storage.

【0007】ここで、露光動作中においては、操作盤を
露光動作以外の他の用途に用いることはできない。従っ
て、複数ある保管所の一つから原板搬送を行って露光動
作がなされている間は、たとえ他の保管所に原板収納容
器がセットされていても、かかる原板収納容器中の原板
のバーコードを読み出すよう命令することはできなかっ
た。
Here, during the exposure operation, the operation panel cannot be used for any purpose other than the exposure operation. Therefore, while the original is being conveyed from one of the plurality of storages and the exposure operation is being performed, even if the original storage is set in another storage, the bar code of the original in the original storage is stored. Could not be commanded to be read.

【0008】そこで従来においては、露光動作が終了し
た時点で、操作盤を用いて別の保管所を指定することに
より、その保管所にセットされた原板収納容器から新た
な原板を保管所に移動させ、読み取り装置により原板の
バーコードを読み出す必要があった。しかしながら、か
かる手順では、次の露光動作を行うまでに、少なくとも
新たな原板のバーコードを読み出す時間だけ待たねばな
らず、それにより露光動作の作業効率が低下することと
なっていた。
Therefore, conventionally, when an exposure operation is completed, another storage is designated using the operation panel, and a new original is transferred from the original storage container set in the storage to the storage. Then, it was necessary to read the barcode of the original plate by a reading device. However, in such a procedure, it is necessary to wait at least for a time to read a barcode of a new original plate before performing the next exposure operation, thereby reducing the work efficiency of the exposure operation.

【0009】本発明はこのような問題に鑑み、露光動作
中にも関わらず、次の露光動作の準備を予め行うことが
でき、もって露光動作の作業効率を向上させた搬送装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a transport apparatus capable of preparing for the next exposure operation in advance even during the exposure operation, thereby improving the work efficiency of the exposure operation. With the goal.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成すべ
く、本願発明による搬送装置は、第1収納部(30,3
5)と該第1収納部(30,35)の下方に設けられた
第2収納部(11)とを有し原板(R)を収納する原板
収納装置(30,35,11、12)と、原板(R)を
用いて所定の処理を施す処理装置(90)と、原板収納
装置(30,35,11、12)と処理装置(90)と
を制御する第1制御装置(100)とを備え、原板収納
装置(30,35,11、12)と処理装置(90)と
の間で原板(R)を搬送する搬送装置(50)であっ
て、少なくとも第1制御装置(100)が処理装置(9
0)の制御を実行しているときに、原板収納装置(3
0,35,11、12)を制御する第2制御装置(10
1)を設けたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a transport device according to the present invention comprises a first storage section (30, 3).
5) an original plate storage device (30, 35, 11, 12) having an original plate (R) having a second storage portion (11) provided below the first storage portion (30, 35); A processing device (90) for performing a predetermined process using the original plate (R), a first control device (100) for controlling the original plate storage devices (30, 35, 11, 12) and the processing device (90); A transport device (50) for transporting an original plate (R) between an original plate storage device (30, 35, 11, 12) and a processing device (90), wherein at least the first control device (100) is provided. Processing equipment (9
0), the original sheet storage device (3)
0, 35, 11 and 12).
1) is provided.

【0011】本願発明の搬送装置によれば、第2制御装
置(101)は、少なくとも第1制御装置(100)が
処理装置(90)の制御を実行しているときに、原板収
納装置(30,35,11、12)を制御するので、第
1制御装置(100)が処理装置(90)の制御を実行
しているために、他の制御が行えないような場合でも、
第2制御装置(101)により原板収納装置(30,3
5,11,12)が制御され、それにより例えば原板
(R)からの情報の読み取り等を独立して行うことがで
きる。
According to the transfer device of the present invention, the second control device (101) controls the original plate storage device (30) when at least the first control device (100) controls the processing device (90). , 35, 11, and 12), the first control device (100) executes the control of the processing device (90).
The original storage device (30, 3) is operated by the second control device (101).
5, 11, 12) are controlled, whereby, for example, reading of information from the original plate (R) can be performed independently.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施の形態について説明する。図1は、本実施の
形態にかかる搬送装置を使用する露光装置のチャンバの
正面図である。図1において、チャンバ200の内部に
は、後述する露光装置本体が内蔵されている。チャンバ
200の正面には、通常アクリル板から形成された3つ
の扉201,202,203が配置されており、露光装
置の作業者は、各扉を開けることにより、原板としての
レチクルを交換できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a front view of a chamber of an exposure apparatus using the transport device according to the present embodiment. In FIG. 1, an exposure apparatus main body, which will be described later, is built in a chamber 200. At the front of the chamber 200, three doors 201, 202, and 203, which are usually formed of an acrylic plate, are arranged. An operator of the exposure apparatus can replace a reticle as an original plate by opening each door.

【0013】露光装置本体に隣接して、主操作盤204
が配置されている。主操作盤204から、作業者が所定
のデータを入力することにより、露光装置の動作が制御
されるようになっている。チャンバ200の正面には、
副操作盤204aが配置されており、後述するレチクル
の読み取りは、かかる副操作盤204aを用いて行える
ようになっている。
The main operation panel 204 is located adjacent to the main body of the exposure apparatus.
Is arranged. When the operator inputs predetermined data from the main operation panel 204, the operation of the exposure apparatus is controlled. On the front of the chamber 200,
A sub operation panel 204a is provided, and reading of a reticle described later can be performed using the sub operation panel 204a.

【0014】図2は、本発明に係る搬送装置を備えた露
光装置本体の内部構造を示す図であり、ここに示される
装置構成全体が、清浄な雰囲気状態が保持されたチャン
バ200(図1)内に配設されている。なお、この図に
おいて矢印X,Y,Zで示す方向を、それぞれX方向、
Y方向、Z方向として説明する。
FIG. 2 is a view showing the internal structure of an exposure apparatus main body provided with a transfer apparatus according to the present invention. The entire apparatus configuration shown here is a chamber 200 (FIG. 1) in which a clean atmosphere is maintained. ). In this figure, directions indicated by arrows X, Y, and Z are X direction, respectively.
The description will be made as the Y direction and the Z direction.

【0015】この露光装置は、基本的には、べ一ス1の
上に設置されたレチクル収納系10と、レチクル搬送系
50と、露光系90とを、図示しない防振台上に設置し
て構成される。
In this exposure apparatus, basically, a reticle storage system 10, a reticle transport system 50, and an exposure system 90 installed on a base 1 are installed on an anti-vibration table (not shown). It is composed.

【0016】第1制御装置100(図3)は、本露光装
置全体を制御するものであり、特に、露光系90とレチ
クル搬送系50とレチクル収納系10とを制御してい
る。また、レチクル収納系10は、後述の上下移動機構
12とレチクル収納判別センサ15と容器サイズ検出セ
ンサ17a,17bの出力を第1制御装置100に供給
している。
The first controller 100 (FIG. 3) controls the entire exposure apparatus, and particularly controls the exposure system 90, the reticle transport system 50, and the reticle storage system 10. Further, the reticle storage system 10 supplies the outputs of the below-described vertical movement mechanism 12, the reticle storage determination sensor 15, and the container size detection sensors 17a and 17b to the first control device 100.

【0017】図2に戻って、レチクル収納系10は、べ
一ス1の上にX方向に所定間隔を有して並んで配設され
た3個の収納分離ユニット11(図面手前側から、I、
II、IIIとする)と、このユニット11の上にそれ
ぞれ着脱自在に取り付けられた収納容器30,35とを
有する。なお、図において最も手前側の収納分離ユニッ
ト11(I)は、レチクルR上の異物を検出する異物検
査装置40の上に配設されている。収納分離ユニット1
1は、レチクルの一時保管所として機能するものであ
る。
Returning to FIG. 2, the reticle storage system 10 includes three storage separation units 11 (from the front side in the drawing) arranged side by side on the base 1 at predetermined intervals in the X direction. I,
II and III), and storage containers 30 and 35 detachably mounted on the unit 11, respectively. Note that the storage separation unit 11 (I) on the foremost side in the figure is disposed on a foreign substance inspection device 40 that detects a foreign substance on the reticle R. Storage separation unit 1
1 functions as a reticle temporary storage.

【0018】SMIF(Standard Mecha
nical Inter Face)タイプの収納容器
30,35は第1収納部を構成するが、表面に所定パタ
ーンが形成された透明ガラス板からなるレチクルRを一
枚もしくは複数枚収容可能な容器であり、本例では、6
枚のレチクルRを収容可能な収納容器30と、1枚のレ
チクルRを収容可能な収納容器35との2種類の収納容
器を用いている。なお、収納容器30,35は、レチク
ルRを一枚ずつ密封するケース(いわゆるレチクルケー
ス)を介在させることなく、レチクルRをそのまま収納
するものである。また、いずれの収納容器30,35も
全ての収納分離ユニット11に対して着脱自在に取付可
能である。
SMIF (Standard Mecha)
The storage containers 30 and 35 of the first type include a single reticle R made of a transparent glass plate having a predetermined pattern formed on the surface thereof. In the example, 6
Two types of storage containers, a storage container 30 that can store one reticle R and a storage container 35 that can store one reticle R, are used. The storage containers 30 and 35 store the reticle R as it is without interposing a case (so-called reticle case) for sealing the reticle R one by one. In addition, any of the storage containers 30 and 35 can be detachably attached to all the storage separation units 11.

【0019】収納容器30は、底板と、底板の上に配設
された6段の保持棚とを有し、各棚にレチクルRを挿入
保持可能となっている。一方、収納容器35も収納容器
30と同一の構成であるが、この容器の保持棚には一段
の棚が設けられており、1枚のレチクルRのみが保持可
能である。このため、収納容器35の全高は収納容器3
0より低い。なお、本例では1枚用および6枚用の収納
容器のみを使用するが、これ以外の枚数のレチクルを収
容する容器を用いてもよく、その場合には、収容レチク
ル枚数に応じてその全高が異なる。
The storage container 30 has a bottom plate and six-stage holding shelves provided on the bottom plate, and the reticle R can be inserted and held in each shelf. On the other hand, the storage container 35 has the same configuration as the storage container 30, but a single-stage shelf is provided on the holding shelf of this container, and only one reticle R can be held. Therefore, the overall height of the storage container 35 is
Lower than 0. In this example, only one and six storage containers are used. However, a container that stores another number of reticles may be used. Are different.

【0020】インデクサ(登録商標)として一般的に知
られたSMIFタイプのレチクル保管所である収納分離
ユニット11は第2収納部を構成するが、その上面には
収納容器30,35を受容保持する取付部が設けられて
おり、この取付部には収納容器30,35の底板および
保持棚を内部に受容するための開口が設けられている。
取付部は、ここに取り付けられた収納容器におけるカバ
ーと底板とのロックを解除する機構を有している。さら
に、各収納分離ユニット11内には、上下移動機構12
(一つのみ図示)が設けられており、この上下移動機構
12により、収納容器とのロックが解除された底板とそ
の上の保持棚とを支持して、収納分離ユニット11内に
移動(下動)させることができる。なお、この上下移動
機構12の構成・動作については、例えば特願平8−3
11518号に示されている。収納容器30,35,収
納分離ユニット11及び上下移動機構12により原板収
納装置を構成する。
The storage separation unit 11, which is a SMIF type reticle storage generally known as an indexer (registered trademark), constitutes a second storage portion, and receives and holds storage containers 30, 35 on its upper surface. An attachment portion is provided, and the attachment portion is provided with an opening for receiving the bottom plates and holding shelves of the storage containers 30 and 35 therein.
The mounting portion has a mechanism for releasing the lock between the cover and the bottom plate in the storage container mounted here. Further, in each storage separation unit 11, a vertical movement mechanism 12 is provided.
(Only one is shown). The vertical movement mechanism 12 supports the bottom plate unlocked with the storage container and the holding shelf thereon, and moves the storage plate into the storage separation unit 11 (downward). Movement). The configuration and operation of the vertical movement mechanism 12 are described in, for example, Japanese Patent Application No. 8-3.
No. 11518. The storage containers 30 and 35, the storage separation unit 11, and the vertical movement mechanism 12 constitute an original plate storage device.

【0021】収納分離ユニット11の前面側は開放され
ており、図2に示すように、レチクル収納判別センサ1
5が配設されている。レチクル収納判別センサ15は検
出光を照射する照射系と反射光を検出する受光系とを有
して構成され、照射系から対象物に検出光を照射してこ
の対象物から反射する反射光を受光系において受光す
る。第1制御装置100は、受光系からの信号の有無に
基づいて対象物の有無を検出する。
The front side of the storage separation unit 11 is open, and as shown in FIG.
5 are provided. The reticle storage determination sensor 15 includes an irradiation system for irradiating the detection light and a light receiving system for detecting the reflected light, and irradiates the detection light from the irradiation system to the object and reflects the reflected light reflected from the object. Light is received by the light receiving system. The first control device 100 detects the presence or absence of an object based on the presence or absence of a signal from the light receiving system.

【0022】レチクルRは、例えば、5インチサイズの
ものでは約3mm程度の厚さを有しており、6インチサ
イズのものでは約6mm程度の厚さを有している。この
ため、レチクルの端面の厚さを利用して、照射系がレチ
クルRの端面に斜め方向から光を照射し、受光系がレチ
クルRの端面から反射した光を受光している。
The reticle R, for example, has a thickness of about 3 mm for a 5-inch size, and about 6 mm for a 6-inch size. For this reason, using the thickness of the end surface of the reticle, the irradiation system irradiates the end surface of the reticle R with light in an oblique direction, and the light receiving system receives light reflected from the end surface of the reticle R.

【0023】レチクル収納判別センサ15は、上下移動
機構12によりユニット11内に移動される保持棚と対
向する位置に配設されており、前述のように、保持棚に
受容保持されたレチクルRの前端面に検出光を照射して
保持棚にレチクルRが受容されているか否かの検出を行
う。
The reticle storage discrimination sensor 15 is disposed at a position facing the holding shelf moved into the unit 11 by the vertical movement mechanism 12, and as described above, the reticle R received and held by the holding shelf. The front end face is irradiated with detection light to detect whether the reticle R is received on the holding shelf.

【0024】レチクルRは石英ガラス板等からなる透明
な部材であり、光を透過させるため、光透過型センサで
はレチクルの有無を検出するのが難しいのであるが、こ
こでは光反射型センサを用いてレチクル端面からの反射
光の有無を検出するため、透明なレチクルRの有無を確
実に検出できる。なお、このレチクル収納判別センサ1
5は、保持棚の移動経路の途中に配設されており、上下
移動機構12により保持棚が完全に下動されたとき(図
2に示す位置にあるとき)には、レチクル収納判別セン
サ15は保持棚より上側に位置し、保持棚の前面側は完
全に開放した状態となる。
The reticle R is a transparent member made of a quartz glass plate or the like, and transmits light. Therefore, it is difficult to detect the presence or absence of the reticle with a light transmission type sensor. Here, a light reflection type sensor is used. Thus, the presence or absence of the reflected light from the reticle end surface can be detected, so that the presence or absence of the transparent reticle R can be reliably detected. The reticle storage sensor 1
Reference numeral 5 denotes a reticle storage sensor 15 which is disposed in the middle of the movement path of the holding shelf and when the holding shelf is completely moved down by the up-down moving mechanism 12 (at the position shown in FIG. 2). Is located above the holding shelf, and the front side of the holding shelf is completely open.

【0025】露光装置の第1制御装置100は、上下移
動機構12からの上下位置に関する信号と、レチクル収
納判別センサ15からの出力信号とに基づいて、保持棚
33のどの棚にレチクルRが収納されており、どの棚が
空であるかを判別することができる。
The first control device 100 of the exposure apparatus stores a reticle R in any of the holding shelves 33 based on a signal relating to the vertical position from the vertical moving mechanism 12 and an output signal from the reticle storage determining sensor 15. It is possible to determine which shelf is empty.

【0026】なお、各収納容器30,35に対して、一
つのレチクル収納判別センサ15を設けているが、鉛直
(上下)方向に沿って複数のレチクル収納判別センサ1
5を設けてもいい。この場合には、第1制御装置100
は、複数のレチクル収納判別センサ15の出力のみで保
持棚のどの棚にレチクルRが収納されており、どの棚が
空であるかを判別することができる。また、レチクル収
納判別センサ15を可動方式にして、レチクル搬送アー
ム52が保持棚33に入り込むときに、レチクル収納判
別センサ15を邪魔にならない位置に退避させてもい
い。
Although one reticle storage sensor 15 is provided for each of the storage containers 30 and 35, a plurality of reticle storage sensors 1 are provided along the vertical (vertical) direction.
5 may be provided. In this case, the first control device 100
Can determine which shelf of the holding shelf contains the reticle R and which shelf is empty only by the outputs of the plurality of reticle storage determination sensors 15. Further, the reticle storage determination sensor 15 may be of a movable type, and the reticle storage determination sensor 15 may be retracted out of the way when the reticle transport arm 52 enters the holding shelf 33.

【0027】また、収納分離ユニット11の上面側に
は、発光器17aおよび受光器17bからなる容器サイ
ズ検出センサが取り付けられている。この容器サイズ検
出センサは、発光器17aから受光器17bに検出光を
照射し、受光器17bによる受光の有無を検出する光透
過型センサであり、取付部を挟むように取り付けられて
いる。さらに、この容器サイズ検出センサは、収納容器
30が取り付けられたときには発光器17aから受光器
17bに至る光路18が遮られるが収納容器35が取り
付けられても光路18が遮られることがない高さ位置に
配設されている。このため、第1制御装置100は、受
光器17bにより発光器17aからの光が受光できない
ときに、収納容器30が取り付けられており、発光器1
7aからの光を受光できるときに、収納容器35が取り
付けられていると判断できる。
A container size detecting sensor comprising a light emitting device 17a and a light receiving device 17b is mounted on the upper surface side of the storage separation unit 11. This container size detection sensor is a light transmission sensor that irradiates detection light from the light emitter 17a to the light receiver 17b and detects the presence or absence of light reception by the light receiver 17b, and is attached so as to sandwich the attachment portion. Further, this container size detection sensor has such a height that the optical path 18 from the light emitter 17a to the light receiver 17b is blocked when the storage container 30 is attached, but the optical path 18 is not blocked even when the storage container 35 is attached. It is located at the location. For this reason, when the light from the light emitting device 17a cannot be received by the light receiving device 17b, the first control device 100 attaches the storage container 30 to the light emitting device 1b.
When the light from 7a can be received, it can be determined that the storage container 35 is attached.

【0028】なお、本例では収納容器30,35のみが
用いられるため、容器サイズ検出センサは一組しか設け
られていないが、収納容器の種類が多いときには、各容
器の高さに対応した複数組のセンサが用いられる。な
お、高さ方向に連続した幅を持つ光センサを用いても良
い。また、上記のような光透過型センサに代えて、光反
射型センサを用いても良い。
In this embodiment, since only the storage containers 30 and 35 are used, only one set of container size detection sensors is provided. However, when there are many types of storage containers, a plurality of storage containers corresponding to the height of each container are provided. A set of sensors is used. Note that an optical sensor having a continuous width in the height direction may be used. Further, a light reflection type sensor may be used instead of the above light transmission type sensor.

【0029】レチクル搬送系50は、レチクル搬送アー
ム52を有した第1搬送系51と、レチクル搬送ユニッ
ト56を有した第2搬送系55と、ロードアーム61お
よびアンロードアーム62を有した第3搬送系60とを
有して構成される。
The reticle transport system 50 includes a first transport system 51 having a reticle transport arm 52, a second transport system 55 having a reticle transport unit 56, and a third transport system having a load arm 61 and an unload arm 62. And a transport system 60.

【0030】第1搬送系51は、各収納分離ユニット1
1に対応して合計3組配設されており、それぞれレチク
ル搬送アーム52と、このアーム52を矢印Aで示すよ
うにY方向(前後)に移動させるとともに矢印Bで示す
ようにZ方向(上下)に移動させる第1移動機構を有し
ている。なお、このような移動経路の途中に、レチクル
位置補正ユニット53と、レチクルRに設けられたバー
コードを読み取る原板識別装置としての第1バーコード
リーダ54とが設けられている。
The first transport system 51 is provided with each storage / separation unit 1
The reticle transport arm 52 and the arm 52 are moved in the Y direction (front and rear) as shown by an arrow A, and are moved in the Z direction (up and down) as shown by an arrow B. ) Is provided. A reticle position correction unit 53 and a first barcode reader 54 as an original plate identification device that reads a barcode provided on the reticle R are provided in the middle of such a movement path.

【0031】第2搬送系55は、レチクル搬送ユニット
56をチャンバー内上部において矢印Cで示すようにX
方向(左右方向)に移動させる第2移動機構を有してい
る。また、レチクル搬送ユニット56は真空吸着機構を
有しており、真空吸着機構によりレチクルRを吸着して
保持可能である。
The second transfer system 55 moves the reticle transfer unit 56 in the upper part of the chamber as indicated by arrow C in FIG.
It has a second moving mechanism for moving in the direction (left-right direction). The reticle transport unit 56 has a vacuum suction mechanism, and can hold the reticle R by suction using the vacuum suction mechanism.

【0032】第3搬送系60は、上下に重なるように位
置するロードアーム61およびアンロードアーム62を
それぞれ独立して、矢印Dで示すようにZ方向に移動さ
せ、矢印Eで示すようにY方向に移動させ、さらに矢印
Fで示すようにZ方向に移動させる第3移動機構を有し
ている。なお、矢印Eで示す移動経路中に、この経路に
沿って搬送されるレチクルRのバーコードを読み取る第
2バーコードリーダ65が設けられている。
The third transfer system 60 moves the load arm 61 and the unload arm 62, which are positioned so as to overlap one another, independently in the Z direction as indicated by an arrow D, and moves the Y and Y arms as indicated by an arrow E. And a third moving mechanism for moving in the Z direction as shown by arrow F. A second barcode reader 65 for reading the barcode of the reticle R conveyed along this path is provided in the movement path indicated by the arrow E.

【0033】露光系90は、図示しない照明系と、レチ
クルRを載置するレチクルステージ91と、投影レンズ
系92と、ウエハWを載置するウエハステージとを有し
て構成される。ここでは、レチクルステージ91に位置
決めされて載置されたレチクルRに照明系からの光を照
射し、レチクルRのパターンを投影レンズ系92を介し
て縮小してウエハWの所定位置に照射する。なお、この
露光系90の作動は本願発明とは直接開連しないので、
詳細説明は省略する。
The exposure system 90 includes an illumination system (not shown), a reticle stage 91 on which a reticle R is mounted, a projection lens system 92, and a wafer stage on which a wafer W is mounted. Here, the reticle R positioned and mounted on the reticle stage 91 is irradiated with light from the illumination system, and the pattern of the reticle R is reduced via the projection lens system 92 and irradiates a predetermined position on the wafer W. The operation of the exposure system 90 is not directly connected to the present invention, so that
Detailed description is omitted.

【0034】図3は、本実施の形態の概略構成を示すブ
ロック図である。主操作盤204(図1)により操作さ
れる第1制御装置(CPU)100は、図3に示す第1
バーコードリーダ54、レチクル搬送系50及び上下移
動機構12、並びに図示されていない露光装置の機構全
てを制御する。一方、第2制御装置101も、第1制御
装置100に独立して第1バーコードリーダ54、レチ
クル搬送系50及び上下移動機構12を制御する。
FIG. 3 is a block diagram showing a schematic configuration of the present embodiment. The first control device (CPU) 100 operated by the main operation panel 204 (FIG. 1) is the first control device (CPU) shown in FIG.
The bar code reader 54, the reticle transport system 50, the vertical movement mechanism 12, and all the mechanisms of the exposure apparatus (not shown) are controlled. On the other hand, the second control device 101 controls the first barcode reader 54, the reticle transport system 50, and the vertical movement mechanism 12 independently of the first control device 100.

【0035】図4は、第2制御装置101を操作するた
めの副操作盤204aを示す図であって、副操作盤20
4aは、各収納分離ユニット11(I、II、III)
に対応してLOADスイッチとUNLOADスイッチと
をそれぞれ(I、II、III)設けている。なお、L
OADスイッチは、スイッチオンにより、上下移動機構
12を駆動してレチクルRを下降させることを第2制御
装置101に要求するものであり、逆にUNLOADス
イッチは、スイッチオンにより、レチクルRを上昇させ
ることを要求するものである。また両スイッチは、スイ
ッチとランプとを兼備するタイプのものである。
FIG. 4 is a view showing a sub-operation panel 204a for operating the second control device 101.
4a is each storage separation unit 11 (I, II, III)
, A LOAD switch and an UNLOAD switch are provided (I, II, III), respectively. Note that L
The OAD switch requests the second control device 101 to drive the vertical movement mechanism 12 to lower the reticle R when the switch is turned on. On the contrary, the UNLOAD switch raises the reticle R when the switch is turned on. It is something that demands. Both switches are of a type having both a switch and a lamp.

【0036】以上の構成の露光装置における、第1制御
装置100の制御に基づく作動を以下に説明する。ま
ず、保持棚に所定のレチクルRを収納して底板とカバー
とをロックさせた状態の収納容器30,35を、作業者
が収納分離ユニット11の取付部に取り付ける。なお、
このとき、収納分離ユニット11が取り付けられたこと
を検出するセンサ、スイッチ等を設けておき、収納容器
の取付の有無を検出するのが望ましい。ここまでが作業
者のチャンバ200内での作業であり、このチャンバ2
00の扉201乃至203が閉じられて密閉状態とな
り、以後は作業者は主操作盤204から指令を出すだけ
で、この指令に基づいてチャンバ200内において第1
制御装置100による自動的な搬送および露光作業が行
われる。
The operation of the exposure apparatus having the above configuration based on the control of the first controller 100 will be described below. First, a worker mounts the storage containers 30 and 35 in a state where a predetermined reticle R is stored in the holding shelf and the bottom plate and the cover are locked, and is mounted on the mounting portion of the storage separation unit 11. In addition,
At this time, it is desirable to provide a sensor, a switch, and the like for detecting that the storage separation unit 11 is mounted, and to detect whether or not the storage container is mounted. Up to this point, the work performed by the worker in the chamber 200 has been completed.
Then, the doors 201 to 203 of FIG. 00 are closed to be in a sealed state, and thereafter, the operator only issues a command from the main operation panel 204, and the first in the chamber 200 based on the command.
Automatic conveyance and exposure work by the control device 100 are performed.

【0037】作業を開始する指令が、主操作盤204か
ら作業者のスイッチ操作等により出されると、第1制御
装置100は、容器サイズ検出センサ17a,17bに
より各収納分離ユニット11に取り付けられた収納容器
のサイズを検出して、この容器が収納容器30であるか
収納容器35であるかを判別する。
When a command to start the work is issued from the main operation panel 204 by an operator's switch operation or the like, the first control device 100 is attached to each storage separation unit 11 by the container size detection sensors 17a and 17b. By detecting the size of the storage container, it is determined whether the storage container is the storage container 30 or the storage container 35.

【0038】次に、作業者が収納容器の収納位置(保持
棚33の棚位置)を指定してそこに受容されたレチクル
Rを搬送する指令を出す。これに応じて、第1制御装置
100は、指定された収納容器30若しくは35におけ
る底板のロックを解除し、上下移動機構12により底板
および保持棚を支持して下動させ、これらを収納分離ユ
ニット11内に移動させる。
Next, the operator designates the storage position of the storage container (shelf position of the holding shelf 33) and issues a command to transport the reticle R received there. In response to this, the first control device 100 releases the lock of the bottom plate in the designated storage container 30 or 35, supports the bottom plate and the holding shelf by the up-down moving mechanism 12, and lowers them, and moves them to the storage separation unit. Move into 11.

【0039】第1制御装置100は、上下移動機構12
により保持棚が下動されるときに、レチクル収納判別セ
ンサ15により保持棚におけるレチクルRの有無を検出
する。また、第1制御装置100は、上下移動機構12
の出力を受けて保持棚の位置を検出しており、何段の棚
を有する保持棚が用いられておりその保持棚のどの棚に
レチクルRが受容されているかを判別する。このとき第
1制御装置100は、作業者が指定した棚位置にレチク
ルRがないと判別したときに、これを不図示のモニター
上に表示して作業を停止し、作業者の指示を待つ。
The first control device 100 includes a vertical movement mechanism 12
When the holding shelf is moved down, the reticle storage determination sensor 15 detects the presence or absence of the reticle R in the holding shelf. Further, the first control device 100 includes a vertical movement mechanism 12.
, The position of the holding shelf is detected, and it is determined which number of shelves is used and which of the holding shelves receives the reticle R. At this time, when the first control device 100 determines that there is no reticle R at the shelf position designated by the operator, it displays this on a monitor (not shown), stops the operation, and waits for an instruction from the operator.

【0040】第1制御装置100は、作業者が指定した
棚位置にレチクルRが受容されていると判別されたとき
には、搬送作業をこのまま継続する。上下移動機構12
により底板および保持棚が完全に下動されたときには、
保持棚の前面は開放して第1搬送系51と対向する。こ
の状態で、レチクル搬送アーム52が第1移動機構によ
り前方に移動されて保持棚内の指定された棚位置に入り
込み、アーム52上にレチクルRを受容保持する。そし
て、アーム52はレチクルRを受容保持したまま後方に
移動されて、レチクル位置補正ユニット53の上まで移
動される。
When it is determined that reticle R is received at the shelf position designated by the operator, first control device 100 continues the transport operation. Vertical movement mechanism 12
When the bottom plate and holding shelf are completely moved down by
The front surface of the holding shelf is open and faces the first transport system 51. In this state, the reticle transport arm 52 is moved forward by the first moving mechanism, enters a designated shelf position in the holding shelf, and receives and holds the reticle R on the arm 52. Then, the arm 52 is moved backward while receiving and holding the reticle R, and is moved to above the reticle position correction unit 53.

【0041】このとき、第1バーコードリーダ54によ
りレチクルRのバーコードが読み取られ、搬送されるレ
チクルRの種類の確認および登録が行われる。なお、レ
チクル位置補正ユニット53は、レチクル搬送アーム5
2に保持されたレチクルRの保持位置を補正する装置で
あり、ここでアーム52に対するレチクルRの保持位置
の位置合わせ(プリアラインメント)がなされる。
At this time, the bar code of the reticle R is read by the first bar code reader 54, and the type of the reticle R to be conveyed is checked and registered. The reticle position correction unit 53 includes a reticle transfer arm 5.
2 is a device that corrects the holding position of the reticle R held by the reticle 2, where the alignment of the holding position of the reticle R with respect to the arm 52 (pre-alignment) is performed.

【0042】保持位置のプリアラインメントがなされた
後、アーム52はレチクルRを保持したまま矢印B方向
に上動されて第2搬送系55を構成するレチクル搬送ユ
ニット56に近づき、レチクルRはレチクル搬送ユニッ
ト56に受け渡される。レチクル搬送ユニット56は真
空吸着機構を有しており、レチクル搬送アーム52から
レチクル搬送ユニット56に受け渡されたレチクルR
は、真空吸着機構により吸着されてレチクル搬送ユニッ
ト56に保持される。
After the pre-alignment of the holding position, the arm 52 is moved upward in the direction of arrow B while holding the reticle R to approach the reticle transfer unit 56 constituting the second transfer system 55, and the reticle R is transferred. Delivered to the unit 56. The reticle transport unit 56 has a vacuum suction mechanism, and the reticle R transferred from the reticle transport arm 52 to the reticle transport unit 56.
Is held by the reticle transport unit 56 by the vacuum suction mechanism.

【0043】第2搬送系55は、レチクル搬送ユニット
56をチャンバ200内上部において矢印Cで示すよう
にX方向(左右方向)に移動させ、所定中間位置まで移
動させる。そして、このように所定中間位置に位置した
レチクル搬送ユニット56と上下に対向する位置まで、
第3搬送系60のロードアーム61およびアンロードア
ーム62が移動される。
The second transfer system 55 moves the reticle transfer unit 56 in the X direction (left and right direction) as shown by the arrow C in the upper portion of the chamber 200, and moves to a predetermined intermediate position. Then, up to the position vertically opposed to the reticle transport unit 56 located at the predetermined intermediate position as described above,
The load arm 61 and the unload arm 62 of the third transfer system 60 are moved.

【0044】次に、このように上下に対向する位置に移
動されたロードアーム61が第3移動機構により上動さ
れてレチクル搬送ユニット56に近づき、レチクルRを
受け取る。なお、このユニット56には、レチクルRを
ロードアーム61に載せた状態でレチクルRの載置位置
をプリアラインメントする機構が設けられており、ここ
でもプリアラインメントが行われる。
Next, the load arm 61 thus moved to the vertically opposed position is moved up by the third moving mechanism, approaches the reticle transport unit 56, and receives the reticle R. The unit 56 is provided with a mechanism for pre-aligning the mounting position of the reticle R while the reticle R is mounted on the load arm 61. Here, the pre-alignment is also performed.

【0045】このようにしてレチクルRはロードアーム
61の上に受容された後、ロードアーム61は矢印D,
E,Fの方向に順次移動されて、レチクルRは露光系9
0のレチクルステージ91の上に載置される。このと
き、第2バーコードリーダ65によりレチクルRのバー
コードが読み取られ、正しいレチクルRが搬送されてい
るかの照合が行われる。なお、上述のようにユニット5
6によりレチクルのプリアラインメントが行われている
ので、レチクルRのバーコードを第2バーコードリーダ
65により読み取り可能な位置をずれなく通過させるこ
とができ、正確な読み取りが可能である。
After the reticle R is received on the load arm 61 in this manner, the load arm 61
The reticle R is sequentially moved in the directions of E and F,
The reticle stage 91 is placed on the reticle stage 91. At this time, the barcode of the reticle R is read by the second barcode reader 65, and collation as to whether the correct reticle R is being conveyed is performed. Note that, as described above, the unit 5
Since the pre-alignment of the reticle is performed by the reticle 6, the bar code of the reticle R can be passed through a position readable by the second bar code reader 65 without displacement, and accurate reading is possible.

【0046】レチクルステージ91にレチクルRを載置
した後、ロードアーム61は退避する。この後、レチク
ルステージ91においてレチクルRの正確なアラインメ
ントがなされた後、図示しない照明系から露光用光がレ
チクルRに照射され、この光が投影レンズ系92を介し
てウエハWに照射され、レチクルRのパターンが縮小さ
れてウエハW上の所定位置に露光される。
After the reticle R is mounted on the reticle stage 91, the load arm 61 retreats. Thereafter, after the reticle R is accurately aligned on the reticle stage 91, exposure light is applied to the reticle R from an illumination system (not shown), and this light is applied to the wafer W via the projection lens system 92, and The R pattern is reduced and exposed at a predetermined position on the wafer W.

【0047】露光が終了すると、レチクルステージ91
にアンロードアーム62が移動してきて、レチクルステ
ージ91の上に載置されたレチクルRがアンロードアー
ム62に受け渡され、上記ロードアーム61の移動と逆
の移動経路をたどってレチクル搬送ユニット56に受け
渡され、さらに、レチクル搬送ユニット56からレチク
ル搬送アーム52に受け渡される。
When the exposure is completed, reticle stage 91
The reticle R placed on the reticle stage 91 is transferred to the unload arm 62, and follows the movement path reverse to the movement of the load arm 61, so that the reticle transport unit 56 And then transferred from the reticle transport unit 56 to the reticle transport arm 52.

【0048】ここで作業者はこのレチクルRの返却先と
して収納容器の保持棚の所定棚位置を指定し、これに応
じてレチクル搬送アーム52は指定された位置にレチク
ルRを搬送して返却する。このとき、作業者が誤って既
に別の基板が入っている棚位置を返却先として指定した
としても、前述のようにレチクル収納判別センサ15に
よりこの指定された返却先にはレチクルRが受容されて
いることが検出されているため、この返却先には返却不
可能であることが不図示のモニターに表示され、返却先
の訂正指令を待つ。これにより既にレチクルが受容され
ている棚に別のレチクルを収納しようとして、レチクル
同士を衝突させて高価なレチクルを損傷させるというお
それはなくなる。
Here, the operator designates a predetermined shelf position of the holding shelf of the storage container as a return destination of the reticle R, and accordingly, the reticle transport arm 52 transports the reticle R to the designated position and returns it. . At this time, even if the operator erroneously designates the shelf position where another board is already contained as the return destination, the reticle R is received at the designated return destination by the reticle storage determination sensor 15 as described above. Is displayed on the monitor (not shown) indicating that it cannot be returned to the return destination, and waits for a correction instruction for the return destination. This eliminates the risk of colliding the reticles and damaging the expensive reticle when trying to store another reticle on the shelf where the reticle has already been received.

【0049】なお、複数の収納容器と複数の第1搬送系
51とを設けているため、半導体(IC等)の製造に必
要とされる複数のレチクル(原板)を予め露光装置内に
セットしておくことができるので、製造工程の途中で収
納容器の交換等が不要となり、作業者の作業負担が軽減
され、製造工程の自動化を一層進めることができる。
Since a plurality of storage containers and a plurality of first transfer systems 51 are provided, a plurality of reticles (original plates) required for manufacturing a semiconductor (such as an IC) are set in an exposure apparatus in advance. Since it is possible to replace the storage container during the manufacturing process, the work load on the operator can be reduced, and the automation of the manufacturing process can be further promoted.

【0050】また、作業者から見て左方の収納分離ユニ
ット11の下側に異物検査装置40を設けているため、
レチクルRをレチクルステージ91に搬送する前にレチ
クル表面に付着した異物(ゴミ)の検査を行うことで、
生産性を向上させることができる。なお、レチクル搬送
アーム52により収納分離ユニット11から取り出され
たレチクルRはレチクル搬送アーム52に保持されて異
物検査装置40内に搬送され、ここで異物検査が行われ
る。このように、第1搬送系51によるレチクルRの搬
送の途中で異物検査を行うことができるので生産性が高
い。なお、異物検査装置40は全ての収納分離ユニット
11の下側にそれぞれ配設しても良い。
Further, since the foreign matter inspection device 40 is provided below the storage separation unit 11 on the left side as viewed from the operator,
By inspecting foreign matter (dust) attached to the reticle surface before transporting the reticle R to the reticle stage 91,
Productivity can be improved. The reticle R taken out of the storage / separation unit 11 by the reticle transport arm 52 is held by the reticle transport arm 52 and transported into the foreign substance inspection device 40, where foreign substance inspection is performed. As described above, since the foreign substance inspection can be performed during the transfer of the reticle R by the first transfer system 51, the productivity is high. Note that the foreign substance inspection device 40 may be disposed below each of the storage separation units 11.

【0051】次に、本実施の形態にかかる、第2制御装
置101の制御に基づく動作について説明する。上述し
たように、第1制御装置100は、主操作盤204の操
作に基づき、上下移動機構12を駆動して、レチクルR
を保持棚ごと、指定された収納容器30または35から
収納分離ユニット11へと下降させ、ついでレチクル搬
送系50を駆動して、レチクル位置補正ユニット53へ
と特定のレチクルRを搬送し、その搬送途中において、
第1バーコードリーダ54を駆動して、レチクルRに形
成されたバーコードを読み取り、それに含まれた情報
(例えばレチクルの種類等)を記憶するようになってい
る。その後、レチクルRは、第1制御装置100の制御
下で露光等所定の処理のため、必要な場所へと搬送され
るようになっている。
Next, an operation based on the control of the second control device 101 according to the present embodiment will be described. As described above, the first control device 100 drives the vertical movement mechanism 12 based on the operation of the main operation panel 204 to
Is lowered from the designated storage container 30 or 35 to the storage separation unit 11 together with the holding shelf, and then the reticle transport system 50 is driven to transport the specific reticle R to the reticle position correction unit 53, and the transport is performed. On the way,
The first barcode reader 54 is driven to read a barcode formed on the reticle R and store information (for example, the type of the reticle) contained therein. Thereafter, the reticle R is transported to a required place for a predetermined process such as exposure under the control of the first control device 100.

【0052】ところで、第1制御装置100が所定の処
理を行っていると、その間、収納容器30,35内のレ
チクルRを上下移動機構12により収納分離ユニット1
1に移動することもできず、また別のレチクルRのバー
コードの読み取り等を行うこともできない。そこで、本
実施の形態においては、作業者の指示により、収納容器
30,35内のレチクルRを上下移動機構12により収
納分離ユニット11に移動するとともに、レチクルRの
バーコードを読み取ることができるようにしている。
By the way, while the first control device 100 is performing a predetermined process, the reticle R in the storage containers 30 and 35 is moved by the vertical movement mechanism 12 to the storage separation unit 1 during the predetermined processing.
1 cannot be read, and the bar code of another reticle R cannot be read. Therefore, in the present embodiment, the reticle R in the storage containers 30 and 35 can be moved to the storage separation unit 11 by the vertical movement mechanism 12 and the barcode of the reticle R can be read by an operator's instruction. I have to.

【0053】より具体的には、作業者が収納容器30ま
たは35をいずれかの収納分離ユニット11(I、I
I、III)上に置くと、図4の副制御板204aにお
ける、対応する部分のLOADスイッチが点灯する。即
ち、かかるLOADスイッチの点灯は、収納容器30ま
たは35内のレチクルRが、上下移動機構12によって
下降できる状態にあることを示すものである。従って、
作業者が消灯状態にあるLOADスイッチを押しても、
第2制御装置101は上下移動機構12を駆動すること
はない。
More specifically, the operator places the storage container 30 or 35 in either storage separation unit 11 (I, I
I, III), the LOAD switch of the corresponding portion of the sub-control board 204a in FIG. That is, the lighting of the LOAD switch indicates that the reticle R in the storage container 30 or 35 can be lowered by the vertical movement mechanism 12. Therefore,
Even if the operator presses the LOAD switch that is off,
The second control device 101 does not drive the vertical movement mechanism 12.

【0054】更に作業者が、点灯しているLOADスイ
ッチの何れか(例えば、III)を押すと、第2の制御
装置101は、上下移動機構12により、特定された収
納容器30または35からレチクルRを収納分離ユニッ
ト11(III)へと下降させ、その時点でLOADス
イッチは消灯する。
Further, when the operator presses one of the lit LOAD switches (for example, III), the second control device 101 causes the vertical moving mechanism 12 to move the reticle from the specified storage container 30 or 35 to the reticle. R is lowered to the storage separation unit 11 (III), at which point the LOAD switch is turned off.

【0055】更に、第2制御装置101は、レチクル搬
送系50によりレチクルRをレチクル位置補正ユニット
53へと搬送し、第1バーコードリーダ54により搬送
されたレチクルRのバーコードを読み取る。なお、レチ
クルRが収納分離ユニット11から搬送された時点で、
UNLOADスイッチが点滅し、現時点でレチクルRを
処理中であるため収納容器へ戻せないことを、作業者に
知らせる。この場合に、作業者が点滅を無視してUNL
OADスイッチを押しても、第2制御装置101は、上
下移動機構12を駆動することはない。
Further, the second controller 101 transports the reticle R to the reticle position correcting unit 53 by the reticle transport system 50, and reads the bar code of the reticle R transported by the first bar code reader 54. When the reticle R is transported from the storage separation unit 11,
The UNLOAD switch flashes to inform the operator that the reticle R is currently being processed and cannot be returned to the storage container. In this case, the worker ignores the blinking and UNL
Even when the OAD switch is pressed, the second control device 101 does not drive the vertical movement mechanism 12.

【0056】第1バーコードリーダが読み取ったバーコ
ードの情報は、第2制御装置101にて記憶される。バ
ーコードが読み取られたレチクルRは、第1制御装置1
00の制御により、露光処理が行われるまで待機状態と
なる。本実施の形態によれば、通常露光動作が終了した
後でなければバーコードの読み取りができないところ
を、先行するレチクルの露光処理中に、別のレチクルの
バーコードを読んで次の露光処理の準備をすることがで
き、もって露光作業の迅速化を図ることができる。
The information of the bar code read by the first bar code reader is stored in the second control device 101. The reticle R from which the barcode has been read is stored in the first controller 1
By the control of 00, a standby state is set until the exposure processing is performed. According to the present embodiment, the barcode cannot be read until after the normal exposure operation is completed. However, during the exposure processing of the preceding reticle, the barcode of another reticle is read and the next exposure processing is performed. Preparations can be made, thereby speeding up the exposure operation.

【0057】露光処理の終わったレチクルRは、再びレ
チクル搬送系50により収納分離ユニット11(II
I)へ戻される。この時点で、副操作盤204aの対応
するUNLOADスイッチが点滅状態から連続点灯状態
へと変化する。作業者は、UNLOADスイッチの点灯
により、対応するレチクルRをいつでも収納容器へと上
昇させることができることがわかる。従って、作業者が
点灯しているUNLOADスイッチを押せば、第2制御
装置101は、上下移動機構12を駆動して、対応する
レチクルRを収納容器へと上昇させることになる。
The reticle R that has been subjected to the exposure processing is again stored in the storage / separation unit 11 (II
Returned to I). At this point, the corresponding UNLOAD switch on the sub operation panel 204a changes from the blinking state to the continuous lighting state. The operator knows that the corresponding reticle R can be raised to the storage container at any time by turning on the UNLOAD switch. Therefore, when the operator presses the lit UNLOAD switch, the second control device 101 drives the vertical movement mechanism 12 to raise the corresponding reticle R to the storage container.

【0058】なお、上述した実施の形態によれば、第2
制御装置101は、作業者の指示に従いレチクルRのバ
ーコード読み取りの制御を行うものであったが、レチク
ルRの異物検査の制御を行うようにしても良い。この場
合、第2制御装置101は、第1バーコードリーダ54
の代わりに異物検査機40を制御することになる。
According to the above-described embodiment, the second
Although the control device 101 controls the barcode reading of the reticle R in accordance with the instruction of the operator, the control device 101 may control the foreign substance inspection of the reticle R. In this case, the second control device 101 controls the first barcode reader 54
Instead, the foreign matter inspection machine 40 is controlled.

【0059】更に、第1制御装置100の制御下におい
ては、レチクルRは、主操作盤204からの入力に基づ
きバーコードの読み取りから搬送及び露光まで一括した
処理動作がなされるため、主操作盤204により指定さ
れる収納分離ユニットに対しては、LOADスイッチ、
UNLOADスイッチを設ける必要はないともいえる。
しかしながら、作業者が指定した全ての収納分離ユニッ
トにおけるレチクルRのバーコード読み取りを終えてか
ら、露光処理を開始するような別の実施の形態も可能で
ある。従って、この実施の形態においては、全ての収納
分離ユニットに対して、LOADスイッチ、UNLOA
Dスイッチを設ける必要がある。
Further, under the control of the first control device 100, the reticle R performs a collective processing operation from barcode reading to transport and exposure based on the input from the main operation panel 204. For the storage separation unit designated by 204, a LOAD switch,
It can be said that there is no need to provide an UNLOAD switch.
However, another embodiment in which the exposure process is started after reading the barcode of the reticle R in all the storage separation units designated by the operator is also possible. Therefore, in this embodiment, the LOAD switch, UNLOA
It is necessary to provide a D switch.

【0060】かかる実施の形態においては、作業者が点
灯しているLOADスイッチを押して、必要なレチクル
Rのバーコードを全て読み取り登録し、その後主操作盤
から露光処理にかかる一括処理命令を入力すれば足り
る。先の実施の形態と同様に、露光処理中には、対応す
るUNLOADスイッチは点滅するが、露光処理が終了
したレチクルRが戻ってくれば、UNLOADスイッチ
が連続点灯し、それにより作業者はいつでもレチクルR
を収納容器へと戻せることがわかる。
In this embodiment, the operator presses the lit LOAD switch to read and register all necessary bar codes of the reticle R, and then inputs a collective processing command for exposure processing from the main operation panel. Is enough. As in the previous embodiment, during the exposure process, the corresponding UNLOAD switch blinks, but when the reticle R for which the exposure process has been completed returns, the UNLOAD switch is continuously lit, so that the operator can be at any time. Reticle R
Can be returned to the storage container.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上説明したように、本願発明の搬送装
置によれば、第2制御装置が、少なくとも第1制御装置
が処理装置の制御を実行しているときに、原板収納装置
を制御するので、第1制御装置が処理装置の制御を実行
しているために、他の制御が行えないような場合でも、
第2制御装置により原板収納装置が制御され、それによ
り例えば原板からの情報の読み取り等を独立して行うこ
とができる。
As described above, according to the transfer device of the present invention, the second control device controls the original plate storage device when at least the first control device controls the processing device. Therefore, even when other control cannot be performed because the first control device controls the processing device,
The original storage device is controlled by the second control device, so that, for example, reading of information from the original can be performed independently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態にかかる搬送装置を使用する露光
装置のチャンバの正面図である。
FIG. 1 is a front view of a chamber of an exposure apparatus that uses a transport device according to the present embodiment.

【図2】本実施の形態にかかる搬送装置を備えた露光装
置(ステッパ)の内部構造を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an internal structure of an exposure apparatus (stepper) including a transport device according to the present embodiment.

【図3】本実施の形態の概略構成を示すプロック図であ
る。
FIG. 3 is a block diagram showing a schematic configuration of the present embodiment.

【図4】第2制御装置101を操作するための副操作盤
204aを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a sub operation panel 204a for operating the second control device 101.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10‥‥レチクル収納系 11‥‥収納分雛ユニット 12‥‥上下移動機構 30,35‥‥収納容器 50‥‥レチクル搬送系 54‥‥第1バーコードリーダ 100‥‥第1制御装置 101‥‥第2制御装置 204‥‥主操作盤 204a‥‥副操作盤 Reference Signs List 10 reticle storage system 11 storage division unit 12 vertical movement mechanism 30, 35 storage container 50 reticle transport system 54 first barcode reader 100 first control device 101 Second control device 204 {main operation panel 204a} sub operation panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/30 502J ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/30 502J

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1収納部と該第1収納部の下方に設け
られた第2収納部とを有し原板を収納する原板収納装置
と、前記原板を用いて所定の処理を施す処理装置と、前
記原板収納装置と前記処理装置とを制御する第1制御装
置とを備え、前記原板収納装置と前記処理装置との間で
前記原板を搬送する搬送装置において、 少なくとも前記第1制御装置が前記処理装置の制御を実
行しているときに、前記原板収納装置を制御する第2制
御装置を設けたことを特徴とする搬送装置。
1. An original plate storage device having a first storage portion and a second storage portion provided below the first storage portion for storing an original plate, and a processing device for performing a predetermined process using the original plate. And a first control device for controlling the original plate storage device and the processing device, and a transport device for transporting the original plate between the original plate storage device and the processing device, wherein at least the first control device is A transport device, further comprising a second control device for controlling the original plate storage device when controlling the processing device.
【請求項2】 請求項1記載の搬送装置において、前記
第2制御装置は、前記第1収納部に前記原板が収納され
ているときに前記原板を前記第2収納部に下降させ、前
記第2収納部に前記原板が収納されているときに前記原
板を前記第1収納部に上昇させることを特徴とする搬送
装置。
2. The transfer device according to claim 1, wherein the second control device lowers the original plate into the second storage unit when the original plate is stored in the first storage unit, and 2. The transport device according to claim 1, wherein the original plate is lifted to the first storage portion when the original plate is stored in the storage portion.
【請求項3】 請求項1記載の搬送装置において、前記
原板を識別する原板識別装置を有しており、前記第2制
御装置は、前記原板識別装置を制御して前記原板を識別
することを特徴とする搬送装置。
3. The transfer device according to claim 1, further comprising an original plate identification device for identifying the original plate, wherein the second control device controls the original plate identification device to identify the original plate. Characteristic transport device.
JP9110099A 1997-04-14 1997-04-14 Carrying device Withdrawn JPH10289862A (en)

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JP2006031025A (en) * 2004-07-19 2006-02-02 Samsung Electronics Co Ltd System and method for manufacturing flat panel display
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CN112478543A (en) * 2019-09-12 2021-03-12 株式会社大福 Article conveying equipment

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