JPH06171799A - Original plate transporting device - Google Patents

Original plate transporting device

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JPH06171799A
JPH06171799A JP4351488A JP35148892A JPH06171799A JP H06171799 A JPH06171799 A JP H06171799A JP 4351488 A JP4351488 A JP 4351488A JP 35148892 A JP35148892 A JP 35148892A JP H06171799 A JPH06171799 A JP H06171799A
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JP
Japan
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original
reticle
size
orientation
original plate
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Application number
JP4351488A
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Japanese (ja)
Inventor
Hajime Nakamura
中村  元
Yasuyoshi Yamatsu
康義 山津
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPH06171799A publication Critical patent/JPH06171799A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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Abstract

PURPOSE:To reduce an opportunity of the adhesion of foreign materials due to the working quantity and labor of workers by preventing the breakage of an original plate and the operation stop of a body device. CONSTITUTION:An original plate transporting device which takes out an original plate 2 from an original print accommodating container 5 for accommodating the original plate 2 and transports the original plate 2 to an original print receiving/delivery position between the used body device is equipped with a means 4 for detecting the size and/or direction of the original plate 2 to be transported.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子製造用のフ
ォトマスクやレチクルのような原版を搬送する装置、特
に露光装置や洗浄装置等に組み込むのに好適な原版搬送
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for transferring an original such as a photomask or reticle for manufacturing a semiconductor element, and more particularly to an original transferring apparatus suitable for being incorporated in an exposure apparatus, a cleaning apparatus or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体素子の製造において、製品
の小型化、高信頼性等の要求が著しく高くなっている。
特に、超LSIのごとく集積度の高い素子を製造するの
にレチクルが用いられる。レチクルには回路パターンが
描かれており、この回路パターンは1個の半導体素子を
作るのに数種類以上必要とされる。実際には、複数のレ
チクルを交換し、ウエハ上に回路パターンが重ね合わせ
露光、焼き付けされる。
2. Description of the Related Art In recent years, demands for miniaturization of products and high reliability have been remarkably increased in manufacturing semiconductor devices.
In particular, a reticle is used to manufacture a highly integrated device such as a VLSI. A circuit pattern is drawn on the reticle, and several circuit patterns are required to make one semiconductor element. Actually, a plurality of reticles are exchanged, and a circuit pattern is superposed on the wafer and exposed and printed.

【0003】半導体素子の微細化にともない、レチクル
への異物付着を防止するため、半導体露光装置内のレチ
クルを収納するケース(レチクルカセット)からレチク
ルを抜き出して露光位置まで操作者や作業者を介さず自
動的に搬送する装置が従来より種々提案されている。こ
のようにレチクルを次々に自動的に交換する装置として
例えば特開昭59−186320号が挙げられる。この
公知例においては、開口部を有しかつこの開口部を閉じ
た状態で、レチクル収納するケースを複数個収納する手
段と、前記複数個のケースのうちの任意のケースを前記
ケース収納手段から引き抜く手段と、この引き抜かれた
ケースを前記ケースの積み重ね方向に移動させ、予め定
められた位置に停止させる手段と、その停止されたケー
スの開口部を開く手段と、前記停止されたケース中のレ
チクルを前記開かれた開口部を通して引き抜く手段とが
備えられている。
In order to prevent foreign matter from adhering to the reticle due to the miniaturization of the semiconductor element, the reticle is taken out from the case (reticle cassette) for accommodating the reticle in the semiconductor exposure apparatus, and the operator or operator is required to reach the exposure position. Conventionally, various types of devices for automatically transporting have been proposed. As an apparatus for automatically changing the reticles one after another as described above, for example, there is JP-A-59-186320. In this known example, a means for accommodating a plurality of cases for accommodating a reticle having an opening and a state in which the opening is closed, and an arbitrary case out of the plurality of cases are separated from the case accommodating means. Means for pulling out, means for moving the pulled out cases in the stacking direction of the cases and stopping at a predetermined position, means for opening the opening of the stopped case, and means for opening the stopped case. And means for withdrawing the reticle through the open opening.

【0004】ところで、近年、ICの多様化、メモリI
Cの大容量化により、レチクルの面積も大きくなってい
る。現在、一般に使用されているレチクルの大きさは、
5インチと6インチの2種類であり、この2種類のレチ
クルが同一工場内で使用されている。従来は、レチクル
カセット内のレチクルの大きさ確認作業のため、レチク
ルの入ったレチクルカセットを異物付着の少ないクリー
ンルーム等に輸送し、操作者または作業者がレチクルの
大きさ等を確認し、そのレチクルが供給される半導体露
光装置等の本体装置において使用可能であるか、使用不
可能であるかを判断していた。また、レチクルの大きさ
により調整が必要な装置については、操作者や作業者が
本体装置をそれぞれのレチクルが使用できるように調整
していた。
By the way, in recent years, IC diversification and memory I
As the capacity of C increases, the area of the reticle also increases. Currently, the size of commonly used reticles is
There are two types, 5 inches and 6 inches, and these two types of reticles are used in the same factory. Conventionally, in order to confirm the size of the reticle in the reticle cassette, the reticle cassette containing the reticle is transported to a clean room or the like where there is little foreign matter adhered, and the operator or operator confirms the size of the reticle and the reticle It is determined whether the main body apparatus such as a semiconductor exposure apparatus to which the above is supplied can be used or not. Further, with respect to a device that needs adjustment depending on the size of the reticle, an operator or a worker adjusts the main body device so that each reticle can be used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例ではレチクルの大きさ確認作業時、異物付着の少な
いクリーンルーム等に輸送しているため、レチクルの大
きさ確認のために、多くの作業および多くの時間を費や
し、加えて、操作者や作業者によりレチクルの大きさを
確認しているため、レチクルの確認もれやレチクルの確
認ミス等により、レチクルの大きさにおいて本体装置と
レチクルのアンマッチが発生し、レチクル破損、装置の
動作停止等の問題が発生していた。また、レチクルの確
認作業中に異物付着の問題も発生していた。
However, in the above-mentioned conventional example, since the reticle is transported to a clean room or the like in which foreign matter is not attached at the time of checking the size of the reticle, a lot of work and a lot of work are required to check the size of the reticle. In addition, the operator and the operator are checking the size of the reticle.Therefore, the reticle size does not match the main unit and the reticle due to reticle check failure or reticle check error. However, problems such as reticle damage and device operation stop occurred. In addition, there was a problem of foreign matter adhesion during the reticle checking operation.

【0006】また、従来のレチクル搬送装置において
は、レチクル収納ケース中のレチクルの収納状態が規定
の通りでなく、例えば90度回転した状態で収納されて
いた場合、誤った状態でレチクルが搬送され、次工程に
搬入される欠点があった。特にこの従来のレチクル搬送
装置が露光装置に組み込まれた場合、前記欠点の結果、
レチクルを傷付けてしまったり、レチクルの位置決めが
できなかったり、露光装置の稼動が停止してしまうとい
う問題があった。さらに、このような問題を防ぐため作
業者がレチクルの方向を修正すると、その修正による異
物付着の機会が生ずるという不具合を生じていた。
Further, in the conventional reticle transporting apparatus, when the reticle is not stored in the reticle storage case in the prescribed state, for example, when it is stored in a state rotated by 90 degrees, the reticle is transported in an incorrect state. However, there was a defect that it was carried into the next process. Especially when this conventional reticle transport apparatus is incorporated in an exposure apparatus, as a result of the above defects,
There are problems that the reticle is damaged, the reticle cannot be positioned, and the operation of the exposure apparatus is stopped. Further, if the operator corrects the direction of the reticle in order to prevent such a problem, there is a problem that the correction causes an opportunity for foreign matter to adhere.

【0007】本発明の目的は、上述の従来例における問
題点に鑑み、レチクル等の原版を原版収納容器から半導
体露光装置の露光位置等の本体装置との原版受渡位置ま
で搬送する原版搬送装置において、本体装置と原版との
アンマッチまたは原版が規定外の向きで収納されていた
ことによる原版の損傷や位置決め失敗、および本体装置
の動作停止を防止するとともに、作業者や操作者の作業
量を減少させ、かつ人手を介することによる異物付着の
機会を減少させることにある。
In view of the problems in the above-described conventional example, an object of the present invention is to provide an original transport device for transporting an original such as a reticle from an original container to an original delivery position such as an exposure position of a semiconductor exposure apparatus and a main unit. , Prevents damage to the original plate, positioning failure, and operation stop of the main unit due to the mismatch between the main unit and the original plate or the original plate being stored in an unspecified direction, and the work load of the operator and operator is reduced. And to reduce the chances of foreign matter adhering through human hands.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および作用】上記の目的を
達成するため本発明の第1の態様では、原版を収納する
原版収納容器から原版を取り出してその原版を使用する
本体装置との原版受渡位置まで搬送する原版搬送装置に
おいて、搬送すべき原版の大きさを検知する原版寸法検
知手段を設けたことを特徴とする。原版寸法検知手段と
しては、例えば原版の大きさを光学的に検知する光学検
知手段を用いることができる。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, an original is taken out from an original container for accommodating the original, and the original is delivered to a main body apparatus using the original. In the original transport device for transporting to the position, an original dimension detecting means for detecting the size of the original to be transported is provided. As the original plate size detecting means, for example, an optical detecting means that optically detects the size of the original plate can be used.

【0009】本態様の好ましい実施例において、この原
版搬送装置は半導体露光装置に組み込まれる。すなわ
ち、この半導体露光装置はレチクルを略密閉状態で収納
するレチクルカセットと、レチクルカセットからレチク
ルを取り出して搬送する搬送手段と、搬送経路途中に配
置されてレチクルの大きさを検知する光学式検知手段
と、本検知手段の出力情報に基づき当該半導体露光装置
をレチクルの大きさに合わせて自動で調整する手段を有
する。
In a preferred embodiment of this aspect, the original plate transport device is incorporated in a semiconductor exposure apparatus. That is, this semiconductor exposure apparatus includes a reticle cassette that stores a reticle in a substantially sealed state, a transport unit that takes out the reticle from the reticle cassette and transports it, and an optical detection unit that is arranged in the transport path and detects the size of the reticle. And a means for automatically adjusting the semiconductor exposure apparatus according to the size of the reticle on the basis of the output information of the detection means.

【0010】この構成において、レチクルカセットから
取り出されたレチクルは搬送途中の光学式検知手段を通
り、本光学式検知手段によりレチクルの大きさが判断さ
れる。そして、前記光学式検知手段によりから出力され
たレチクルの大きさ情報が情報処理手段に送られ、本情
報処理手段により、レチクルの大きさによる装置の調整
項目、調整情報が判断される。
In this structure, the reticle taken out from the reticle cassette passes through the optical detection means during conveyance, and the size of the reticle is judged by the optical detection means. Then, the reticle size information output from the optical detection means is sent to the information processing means, and the information processing means determines the adjustment item and the adjustment information of the device depending on the size of the reticle.

【0011】本構成を使用することにより、レチクルカ
セットからレチクルを搬送時、搬送途中でレチクルの大
きさを自動で判断することができ、レチクルカセットを
装置に装着する場合の前作業であるレチクル確認作業が
省くことができ、加えて、レチクルの大きさを自動で判
断するため、レチクルの確認もれ、レチクルの確認ミス
等によるレチクル破損、装置の動作停止等の問題を防ぐ
ことが可能となる。
By using this configuration, the size of the reticle can be automatically judged during the transportation of the reticle during the transportation of the reticle from the reticle cassette. In addition, the work can be omitted.In addition, since the size of the reticle is automatically determined, problems such as omission of the reticle, damage to the reticle due to reticle confirmation error, and device stoppage can be prevented. .

【0012】上記の目的を達成するための本発明の第2
の態様では、原版を収納する原版収納容器から原版を取
り出してその原版を使用する本体装置との原版受渡位置
まで搬送する原版搬送装置において、該容器に収納され
た原版の特定のパターンの有無を光学的に検知すること
により該原版の向きまたはその向きが正しいか否かを判
別する手段を設けたことを特徴とする。この判別手段と
しては、例えばレーザ光の反射光あるいは透過光を用い
て前記特定のパターンの有無を検出するものを用いるこ
とができる。
A second aspect of the present invention for achieving the above object.
In the aspect of, in the original plate transporting device for taking out the original plate from the original plate container for storing the original plate and carrying the original plate to the original plate delivery position with the main body device using the original plate, the presence or absence of a specific pattern of the original plate stored in the container is checked. It is characterized in that a means for determining the orientation of the original plate or whether the orientation is correct by optically detecting is provided. As the determining means, for example, a means for detecting the presence or absence of the specific pattern by using reflected light or transmitted light of laser light can be used.

【0013】本態様の好ましい実施例において、前記原
版は、前記向き判別手段の判別結果に応じて、正しい向
きに収納し直される。この実施例によれば、具体的に
は、レチクルの特定のパターンの有無をレーザ光の反射
あるいは透光を用いて判定する機能を設けることによ
り、レチクル収納容器に収納されたレチクルの向きを判
別し、その向きが正しいか否か判断する機能を設けて上
記従来例の欠点を除去する。さらに、レチクルまたはカ
セット回転機構を設け、前記のレチクル向き判別機能と
組み合わせることにより、正しい角度で次工程にレチク
ルを搬入することを可能としている。
In a preferred embodiment of this aspect, the original plate is re-stored in the correct orientation according to the determination result of the orientation determining means. According to this embodiment, specifically, the direction of the reticle stored in the reticle storage container is determined by providing a function of determining the presence or absence of a specific pattern on the reticle using reflection or transmission of laser light. However, a function of determining whether or not the orientation is correct is provided to eliminate the drawbacks of the conventional example. Further, by providing a reticle or cassette rotating mechanism and combining it with the reticle orientation discriminating function, the reticle can be carried into the next process at the correct angle.

【0014】[0014]

【効果】以上のように本発明の第1の態様によれば、原
版を搬送する際、搬送途中で原版の寸法を検知するよう
にしたため、原版と本体装置とのマッチおよびアンマッ
チを判別することができ、原版の破損や装置の動作停止
を防止することができる。また、操作者や作業者が原版
を確認する必要がなくなり、操作者や作業者の作業量を
減らすことができ、人手による確認作業をなくし、その
際の異物付着を防止することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, when the original plate is conveyed, the dimension of the original plate is detected during the conveyance. Therefore, it is possible to determine whether the original plate and the main body device are matched or unmatched. Therefore, it is possible to prevent the original plate from being damaged and the operation of the device from being stopped. Further, it is not necessary for the operator or the worker to check the original plate, the work amount of the operator or the worker can be reduced, and the confirmation work by man can be eliminated, and the adhesion of foreign matter at that time can be prevented.

【0015】さらに、本発明の第2の態様によれば、原
版収納容器に収納された原版の向きを判別するようにし
たため、原版が誤った向きのまま本体装置に供給される
ことが防止され、原版の破損や装置の動作停止を防止す
ることができる。また、作業者等が原版の向きを修正す
る必要がなくなり、作業者等の作業量を減らすことがで
きるとともに、人手による修正作業がなくなるため、人
手作業による異物付着を防止することができる。
Further, according to the second aspect of the present invention, since the orientation of the original stored in the original storage container is discriminated, the original is prevented from being supplied to the main body device in the wrong orientation. It is possible to prevent the original plate from being damaged or the operation of the device from being stopped. In addition, since it is not necessary for the worker or the like to correct the orientation of the original plate, the work amount of the worker or the like can be reduced, and since the manual correction work is eliminated, it is possible to prevent foreign substances from adhering by the manual work.

【0016】[0016]

【実施例1】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明
する。
Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1は本発明の一実施例に係る半導体露光
装置のレチクル搬送装置部分の構成を示す斜視図であ
る。図1の半導体製造装置は、レチクルを略密閉状態で
収納するレチクルカセット(レチクル収納ケース)5を
複数収納する収納棚(ライブラリ)8と、収納棚8上の
選択されたレチクルカセット5を送り込みハンド1との
受け渡し位置に上下移動させるエレベータ部6を具備す
る。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a reticle transport device portion of a semiconductor exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. The semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes a storage shelf (library) 8 for storing a plurality of reticle cassettes (reticle storage cases) 5 for storing reticles in a substantially sealed state, and a reticle cassette 5 selected on the storage rack 8 for feeding a hand. The elevator unit 6 is moved up and down to a transfer position with the vehicle 1.

【0018】カセット開閉部9は送り込みハンド1との
受け渡し位置上のレチクルカセット5のカセット扉5a
の開閉を行なう。
The cassette opening / closing portion 9 is a cassette door 5a of the reticle cassette 5 on a position where the cassette hand is delivered to and from the sending hand 1.
Open and close.

【0019】送り込みハンド1は駆動部3により、上下
移動、回転移動および水平移動を行なうことができ、レ
チクル2の端面を固定してレチクルカセット5からレチ
クル2を取り出し、不図示のレチクル受け渡し台にレチ
クル2を移動させることができる。
The feeding hand 1 can be moved up and down, rotated and horizontally by the drive unit 3. The end face of the reticle 2 is fixed and the reticle 2 is taken out from the reticle cassette 5 and placed on a reticle transfer table (not shown). The reticle 2 can be moved.

【0020】送り込みハンド1は、レチクル2の端面を
固定するので、レチクルの大きさにかかわらず、5イン
チ、6インチの両レチクルを取り出すことが可能であ
る。
Since the feeding hand 1 fixes the end surface of the reticle 2, both 5 inch and 6 inch reticles can be taken out regardless of the size of the reticle.

【0021】前記送り込みハンド1とレチクルカセット
5の間に、レチクルの大きさを検知する光学検知部4が
位置し、送り込みハンド1によりレチクルカセット5か
らレチクル2を取り出すのと同時にレチクルの大きさを
検知する。光学検知部4にはレチクルの大きさ情報を処
理する情報処理部7が接続され、前記情報処理部7は光
学検知部4から送られてきたレチクルの大きさ情報を処
理する。
An optical detector 4 for detecting the size of the reticle is located between the feeding hand 1 and the reticle cassette 5, and the size of the reticle is determined at the same time when the feeding hand 1 takes out the reticle 2 from the reticle cassette 5. Detect. An information processing unit 7 that processes reticle size information is connected to the optical detection unit 4, and the information processing unit 7 processes the reticle size information sent from the optical detection unit 4.

【0022】図2は図1の装置におけるレチクルの大き
さ情報の処理を示すフローチャート図である。
FIG. 2 is a flow chart showing the processing of reticle size information in the apparatus of FIG.

【0023】次に、図1の装置の動作について図2を参
照しながら説明する。
Next, the operation of the apparatus shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG.

【0024】半導体露光装置にレチクルを供給するに際
して、エレベータ6によって選択されたレチクルカセッ
ト5が送り込みハンド1との受け渡し位置に移動する。
レチクルカセット5が受け渡し位置に移動すると、カセ
ット開閉部9は受け渡し位置上の選択されたレチクルカ
セット5のカセット扉を開く。選択されたレチクルカセ
ット5のカセット扉が開くと、送り込みハンド1は水平
方向(図1上でA方向)に移動しレチクルカセット5に
入りレチクルカセット5内のレチクル2を固定する。
When the reticle is supplied to the semiconductor exposure apparatus, the reticle cassette 5 selected by the elevator 6 moves to the delivery position with the sending hand 1.
When the reticle cassette 5 moves to the delivery position, the cassette opening / closing unit 9 opens the cassette door of the reticle cassette 5 selected on the delivery position. When the cassette door of the selected reticle cassette 5 is opened, the feeding hand 1 moves in the horizontal direction (direction A in FIG. 1), enters the reticle cassette 5, and fixes the reticle 2 in the reticle cassette 5.

【0025】送り込みハンド1がレチクル2を固定する
と情報処理部7は光学検知部4に動作開始命令を出す
(図2ステップS1)。光学検知部4は情報処理部7の
指令に従って、レチクル検知を開始する。光学検知部4
の動作が開始されると、送り込みハンド1はレチクル2
を固定し、レチクルカセット5から水平方向(B方向)
に移動する。送り込みハンド1が光学検知部4の下を移
動すると、光学検知部4はレチクル2の大きさを検知す
る。光学検知部4はレチクルの大きさ情報を情報処理部
7に送り、動作を停止する。また、送り込みハンド1は
レチクル2を固定したまま動作を停止する。
When the sending hand 1 fixes the reticle 2, the information processing section 7 issues an operation start command to the optical detection section 4 (step S1 in FIG. 2). The optical detection unit 4 starts reticle detection according to a command from the information processing unit 7. Optical detector 4
Is started, the feeding hand 1 moves the reticle 2
Is fixed, and the reticle cassette 5 is moved horizontally (direction B).
Move to. When the feeding hand 1 moves under the optical detection unit 4, the optical detection unit 4 detects the size of the reticle 2. The optical detection unit 4 sends the reticle size information to the information processing unit 7, and stops the operation. Further, the feeding hand 1 stops its operation while fixing the reticle 2.

【0026】情報処理部7は、光学検知部4からの情報
をもとに、本半導体露光装置がそのレチクル2を使用す
ることが可能か、不可能かを判断する(ステップS
2)。情報処理部7において使用が不可能と判断した場
合、送り込みハンド1は水平方向(A方向)に移動し、
取り出したレチクル2をレチクルカセット5に収納しカ
セット開閉部9は、レチクルカセット5のカセット扉を
閉じる(ステップS7)。
The information processing section 7 determines, based on the information from the optical detection section 4, whether or not the semiconductor exposure apparatus can use the reticle 2 (step S).
2). When the information processing unit 7 determines that the hand cannot be used, the feeding hand 1 moves in the horizontal direction (direction A),
The reticle 2 taken out is stored in the reticle cassette 5, and the cassette opening / closing unit 9 closes the cassette door of the reticle cassette 5 (step S7).

【0027】情報処理部7において使用が可能と判断し
た場合、半導体露光装置においてレチクルの大きさによ
る変更項目(例えばレチクル2の受け渡し台の位置およ
び位置決めを行うための基準位置等)が存在するかを判
断し(ステップS3)、変更項目が無ければ、送り込み
ハンド1は、さらに回転移動、上下移動および水平移動
動作を行ない、不図示のレチクル受け渡し台にレチクル
2を移動させる(ステップS6)。変更項目が有れば、
不図示の半導体露光装置の制御部にレチクルの大きさに
よる変更項目についての情報を送る(ステップS4)。
If the information processing unit 7 determines that the reticle can be used, is there a change item depending on the size of the reticle (for example, the position of the transfer table of the reticle 2 and the reference position for positioning) in the semiconductor exposure apparatus? If there is no change item, the feeding hand 1 further performs rotational movement, vertical movement and horizontal movement operation, and moves the reticle 2 to a reticle transfer table (not shown) (step S6). If there are any changes,
Information about change items depending on the size of the reticle is sent to the control unit of the semiconductor exposure apparatus (not shown) (step S4).

【0028】半導体露光装置は情報処理部7から送られ
た情報に従い、半導体露光装置のレチクルの大きさによ
る変更項目を自動で変更する(ステップS5)。
The semiconductor exposure apparatus automatically changes the change item depending on the size of the reticle of the semiconductor exposure apparatus according to the information sent from the information processing unit 7 (step S5).

【0029】半導体製造装置の変更が終了すると、送り
込みハンド1は、さらに回転移動、上下移動および水平
移動動作を行ない、不図示のレチクル受け渡し台に、レ
チクル2を移動させる(ステップS6)。
When the change of the semiconductor manufacturing apparatus is completed, the feeding hand 1 further performs the rotational movement, the vertical movement and the horizontal movement operation to move the reticle 2 to the reticle transfer table (not shown) (step S6).

【0030】なお、本実施例においては、レチクルの大
きさを検知するために、非接触の光学センサを使用して
いるが、接触式のセンサを使用することも可能である。
また、本実施例においては、非接触の光学センサをレチ
クル面に垂直に配置しているが、レチクル面に水平に配
置しても、本実施例と同等の動作を行なわせることがで
きる。
In this embodiment, a non-contact optical sensor is used to detect the size of the reticle, but it is also possible to use a contact sensor.
Further, in the present embodiment, the non-contact optical sensor is arranged vertically to the reticle surface, but even if it is arranged horizontally to the reticle surface, the same operation as in the present embodiment can be performed.

【0031】本実施例によれば、レチクルカセットから
レチクルを搬送時、搬送途中で、レチクルの大きさを判
断し、自動で装置とレチクルのアンマッチを検知し、か
つ、各レチクルの大きさにあわせて装置を自動で調整す
ることができ、カセットを装置に装着する前作業である
レチクル確認作業が省け、操作者の作業効率の向上、操
作者の作業量を減らすことができる。加えて、搬送途中
にレチクルの大きさを確認するため、確認行為による異
物付着も防ぐことが可能となった。
According to the present embodiment, when the reticle is conveyed from the reticle cassette, the size of the reticle is judged during the conveyance, the unmatch between the apparatus and the reticle is automatically detected, and the size of each reticle is adjusted. The apparatus can be automatically adjusted, the reticle confirmation work, which is a pre-operation for mounting the cassette on the apparatus, can be omitted, the work efficiency of the operator can be improved, and the work amount of the operator can be reduced. In addition, since the size of the reticle is checked during transportation, it is possible to prevent foreign matter from being attached due to the checking action.

【0032】[0032]

【実施例2】図3は本発明の他の実施例に係るレチクル
搬送装置におけるレチクルの向き判別機構およびレチク
ル収納ケース回転機構の概略図である。同図において、
31はレチクル、32はレチクル収納ケースの上蓋、3
3はレチクル収納ケースの下皿である。通常のレチクル
保管状態ではレチクル収納ケースの下皿33はレチクル
31を搭載し、レチクル収納ケース上蓋32を載せてレ
チクル31を異物の汚染から保護している。34はレチ
クルの表面を照射するためのレーザ投光器であり、レチ
クル表面の後述するアライメントマーク40にレーザ光
46が照射されるように位置決めされている。35は投
光器34から照射され、レチクル31の表面で反射され
た反射光47を検出するための受光器、36はレチクル
収納ケースの上蓋32を持ち上げるための上下駆動部、
37はレチクル収納ケース上蓋32を上下駆動部36に
引っ掛けるためにレチクル収納ケース上蓋32に形成さ
れた突起部である。38は上記31から37までの部分
からなるレチクル収納ケースを保持するための保持台、
39は保持台38を回転させる回転台である。48は回
転台39を載せているベースであり、レーザ投光器34
および受光器35はこのベース48に固定されている。
Second Embodiment FIG. 3 is a schematic view of a reticle orientation determining mechanism and a reticle storage case rotating mechanism in a reticle transporting apparatus according to another embodiment of the present invention. In the figure,
31 is a reticle, 32 is a reticle storage case upper lid, 3
Reference numeral 3 is a lower plate of the reticle storage case. In a normal reticle storage state, the reticle 31 is mounted on the lower plate 33 of the reticle storage case, and the reticle storage case upper lid 32 is mounted to protect the reticle 31 from contamination of foreign matter. Reference numeral 34 denotes a laser projector for irradiating the surface of the reticle, which is positioned so that an alignment mark 40, which will be described later, on the surface of the reticle is irradiated with the laser light 46. Reference numeral 35 denotes a light receiver for detecting reflected light 47 emitted from the light projector 34 and reflected on the surface of the reticle 31, reference numeral 36 denotes a vertical drive unit for lifting the upper lid 32 of the reticle storage case,
Reference numeral 37 is a protrusion formed on the reticle storage case upper lid 32 for hooking the reticle storage case upper lid 32 on the vertical drive unit 36. 38 is a holding table for holding the reticle storage case including the parts 31 to 37,
Reference numeral 39 is a rotary table for rotating the holding table 38. Reference numeral 48 denotes a base on which the turntable 39 is mounted, and the laser projector 34
The light receiver 35 is fixed to the base 48.

【0033】図4は、レチクル31の表面に描画された
レチクル31のパターンの一部を示す。通常、各レチク
ルには異なった回路パターンが描画されており、次々に
交換されて使用されるが、露光工程に用いられるアライ
メントマークと呼ばれるマーク40はすべてのレチクル
について共通に形成されている。
FIG. 4 shows a part of the pattern of the reticle 31 drawn on the surface of the reticle 31. Usually, a different circuit pattern is drawn on each reticle and they are exchanged one after another for use. However, the marks 40 called alignment marks used in the exposure process are formed commonly for all reticles.

【0034】図5は、図3で示したレチクル向き判別機
構およびレチクル収納ケース回転機構を搭載したレチク
ル搬送装置全体の斜視図である。図5において、41は
レチクル収納ケースの上蓋32を下皿33に載せた状態
で複数個収納しておくためのライブラリ、42は保持台
38に移載するためのフォーク、43はフォーク42を
上下移動するための上下移動機構、44はフォーク42
をライブラリ41から引き抜き、またフォーク42をラ
イブラリ41の方向へ押し出すための前後移動機構、4
5はレチクル収納ケース下皿33上のレチクル31を搬
出し次工程へ移載するか、あるいは反対に次工程からレ
チクル収納ケース下皿33へレチクル31を移載するた
めのレチクルハンドである。
FIG. 5 is a perspective view of the entire reticle transport apparatus equipped with the reticle orientation determining mechanism and the reticle storage case rotating mechanism shown in FIG. In FIG. 5, reference numeral 41 is a library for storing a plurality of upper lids 32 of the reticle storage case on the lower tray 33, 42 is a fork for transferring to the holding table 38, and 43 is a vertical fork 42. A vertical movement mechanism for moving, 44 is a fork 42
Mechanism for pulling out the fork 42 from the library 41 and pushing the fork 42 toward the library 41.
Reference numeral 5 denotes a reticle hand for carrying out the reticle 31 on the reticle storage case lower plate 33 and transferring it to the next process, or conversely, transferring the reticle 31 to the reticle storage case lower plate 33 from the next process.

【0035】次に、上記構成における動作を順を追って
説明する。まずライブラリ41には、レチクル収納ケー
ス下皿33の上にレチクル収納ケース上蓋32が載せら
れた状態のレチクル収納ケースが収納されており、この
中にはレチクル31が収納されている。つぎにフォーク
42が前後移動機構44によりレチクル収納ケース下皿
33の下方に移動し、上下機構43によりレチクル収納
ケース下皿33を持ち上げ、前後移動機構44によりラ
イブラリからレチクル収納ケースを引き抜き、上下機構
43により上方に移動し、保持台38にレチクル収納ケ
ースを搭載し、保持台38の回転に干渉しない位置まで
前後移動機構44により待避する。
Next, the operation of the above configuration will be described step by step. First, the library 41 stores a reticle storage case in which the reticle storage case upper lid 32 is placed on the reticle storage case lower plate 33, and the reticle 31 is stored therein. Next, the fork 42 is moved below the reticle storage case lower tray 33 by the forward / backward moving mechanism 44, the reticle storage case lower tray 33 is lifted by the up / down mechanism 43, and the reticle storage case is pulled out from the library by the forward / backward moving mechanism 44. It is moved upward by 43, the reticle storage case is mounted on the holding table 38, and it is retracted by the forward / backward moving mechanism 44 to a position where it does not interfere with the rotation of the holding table 38.

【0036】つぎに保持台38上において、上下駆動部
36はレチクル収納ケース上蓋32の突出部37を引っ
掛けて上部に移動し、レチクル上蓋32をレチクル下皿
33から持ち上げる。この状態でレーザ投光器34から
レーザ光46を照射し、反射光47を受光器35により
検出しながら、回転台39を用いて保持台38を微小回
転させる。この時、レチクル収納ケース中のレチクルの
向きが規定の通りの場合は特定の反射光が得られる。
Next, on the holding table 38, the vertical drive unit 36 hooks the protruding portion 37 of the reticle storage case upper lid 32 and moves to the upper portion, and lifts the reticle upper lid 32 from the reticle lower tray 33. In this state, laser light 46 is emitted from the laser projector 34, and while the reflected light 47 is detected by the light receiver 35, the holding table 38 is slightly rotated by using the rotating table 39. At this time, when the orientation of the reticle in the reticle storage case is as specified, a specific reflected light is obtained.

【0037】特定の反射光が得られない場合は、レチク
ル収納ケース中のレチクルの収納状態が規定の通りでは
ないと判定し、回転台39を90度回転し、前述と同様
に反射光47を検出する。この動作を特定の反射光が得
られるまで繰り返し、特定の反射光が得られた場合、カ
セット収納ケース下皿33上のレチクル31をレチクル
ハンド45により保持し次工程に搬出する。
If the specific reflected light cannot be obtained, it is determined that the reticle is not stored in the reticle storage case in the prescribed state, the rotary table 39 is rotated 90 degrees, and the reflected light 47 is emitted in the same manner as described above. To detect. This operation is repeated until the specific reflected light is obtained, and when the specific reflected light is obtained, the reticle 31 on the lower tray 33 of the cassette storage case is held by the reticle hand 45 and carried out to the next step.

【0038】以上に述べた実施例においては、レチクル
の特定のパターンの有無をレーザ光の反射光を用いてレ
チクル収納ケースに収納されたレチクルの向きを判別し
たが、図6のように、レチクルの特定のパターンの有無
をレーザ光の透過光を用いて検出しレチクル収納ケース
に収納されたレチクルの向きを判別するようにしてもよ
い。さらに、レチクル収納ケースの上蓋32および下皿
33が透明である場合、図7のように構成し、レチクル
収納ケースの上蓋32を開かない状態で判別するように
してもよい。
In the embodiment described above, the presence or absence of a specific pattern on the reticle is used to determine the orientation of the reticle stored in the reticle storage case by using the reflected light of the laser light. As shown in FIG. The presence or absence of the specific pattern may be detected using the transmitted light of the laser beam to determine the orientation of the reticle stored in the reticle storage case. Further, when the upper lid 32 and the lower plate 33 of the reticle storage case are transparent, the configuration may be made as shown in FIG. 7 and the determination may be made without opening the upper lid 32 of the reticle storage case.

【0039】以上説明したように本実施例によれば、レ
チクルの特定のパターンの有無をレーザ光の反射あるい
は透光を用いて判定する機能を設けることにより、レチ
クル収納容器に収納されたレチクルの向きを判別し、そ
の向きが正しいか否か判断する機能を備えることによ
り、誤った状態でレチクルが次工程に搬送され、レチク
ルを傷付けてしまうとか、レチクルの位置決めができな
いとか、露光装置の稼動が停止してしまうという事故を
防止できる効果がある。
As described above, according to this embodiment, by providing the function of determining the presence or absence of a specific pattern on the reticle by using the reflection or transmission of the laser light, the reticle stored in the reticle storage container can be detected. The reticle is conveyed to the next process in an incorrect state by the function that determines the orientation and whether the orientation is correct or not, and the reticle may be damaged or the reticle cannot be positioned. It has the effect of preventing an accident where the car stops.

【0040】さらに、レチクルまたはカセット回転機構
を設け、前記のレチクル向き判別機能と組み合わせるこ
とにより、自動的に正しい角度で次工程にレチクルを搬
入することが可能となり、作業者がレチクルの方向を修
正する必要がなくなり、異物付着の機会が無くなる、装
置のダウンタイムが減るとう効果がある。
Furthermore, by providing a reticle or cassette rotating mechanism and combining it with the reticle orientation discriminating function, it becomes possible to automatically carry in the reticle to the next process at the correct angle, and the operator corrects the reticle direction. There is no need to do so, there is no chance of foreign matter adhering, and the downtime of the device is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例に係る半導体露光装置のレ
チクル搬送装置部分の構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a reticle transport device portion of a semiconductor exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1の装置におけるレチクルの大きさ確認後
の動作のフローチャート図である。
FIG. 2 is a flow chart of the operation of the apparatus of FIG. 1 after checking the size of the reticle.

【図3】 本発明の他の実施例に係るレチクル搬送装置
におけるレチクルの向き判別機構およびレチクル収納ケ
ース回転機構の概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a reticle orientation determination mechanism and a reticle storage case rotation mechanism in a reticle transport device according to another embodiment of the present invention.

【図4】 図3におけるレチクルの表面に描画されたレ
チクルのパターンの一部を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a part of a reticle pattern drawn on the surface of the reticle in FIG.

【図5】 図3で示したレチクル向き判別機構およびレ
チクル収納ケース回転機構を搭載したレチクル搬送装置
全体斜視図である。
FIG. 5 is an overall perspective view of a reticle transport device equipped with the reticle orientation determination mechanism and the reticle storage case rotation mechanism shown in FIG.

【図6,7】 それぞれ本発明に係るレチクル向き判別
機構の他の実施例を示す図3と同様の図である。
6 and 7 are views similar to FIG. 3, showing another embodiment of the reticle orientation determining mechanism according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:送り込みハンド、2:レチクル、3:送り込みハン
ド駆動部、4:光学検知部、5:レチクルカセット、
6:エレベータ部、7:情報処理部、8:収納棚、9:
カセット開閉部、31:レチクル、32:レチクル収納
ケースの上蓋、33:レチクル収納ケースの下皿、3
4:レーザ投光器、35:受光器、36:上下駆動部、
37:突起部、38:保持台、39:回転台、40:ア
ライメントマーク、41:ライブラリ、42:フォー
ク、43:フォーク上下移動機構、44:フォーク前後
移動機構、45:レチクルハンド、46:レーザ光、4
7:反射光、48:ベース。
1: feeding hand, 2: reticle, 3: feeding hand drive unit, 4: optical detection unit, 5: reticle cassette,
6: Elevator section, 7: Information processing section, 8: Storage rack, 9:
Cassette opening / closing part, 31: reticle, 32: reticle storage case upper lid, 33: reticle storage case lower plate, 3
4: laser projector, 35: light receiver, 36: vertical drive unit,
37: protrusion, 38: holding table, 39: rotary table, 40: alignment mark, 41: library, 42: fork, 43: fork vertical movement mechanism, 44: fork forward / backward movement mechanism, 45: reticle hand, 46: laser Light, 4
7: reflected light, 48: base.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 21/304 341 S 8831−4M 21/68 A 8418−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/027 21/304 341 S 8831-4M 21/68 A 8418-4M

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 原版を収納する原版収納容器から原版を
取り出してその原版を使用する本体装置との原版受渡位
置まで搬送する原版搬送装置であって、 搬送すべき原版の大きさを検知する原版寸法検知手段を
具備することを特徴とする原版搬送装置。
1. An original transport device for taking out an original from an original storage container for storing the original and transporting the original to an original delivery position with a main body apparatus using the original, the original detecting apparatus detecting the size of the original to be transported. An original plate transporting device comprising a dimension detecting means.
【請求項2】 前記原版寸法検知手段は、原版の大きさ
を光学的に検知する光学検知手段であることを特徴とす
る請求項1記載の原版搬送装置。
2. The original conveying apparatus according to claim 1, wherein the original size detecting means is an optical detecting means for optically detecting the size of the original.
【請求項3】 前記本体装置は、前記原版寸法検知手段
の検知出力に基づき各原版の寸法に合わせて装置各部を
自動調整するものであることを特徴とする請求項1記載
の原版搬送装置。
3. The original conveying apparatus according to claim 1, wherein the main body device automatically adjusts each part of the apparatus according to the size of each original based on the detection output of the original size detecting means.
【請求項4】 原版を収納する原版収納容器から原版を
取り出してその原版を使用する本体装置との原版受渡位
置まで搬送する原版搬送装置であって、 該容器に収納された原版の特定のパターンの有無を光学
的に検知することによって該原版の向きの正誤を判別す
る向き正誤判別手段を備えたことを特徴とする原版搬送
装置。
4. An original transport device for taking out an original from an original storage container for storing the original and transporting the original to an original delivery position with a main body apparatus using the original, and a specific pattern of the original stored in the container. An original transport device, comprising an orientation correctness determination unit that determines whether the orientation of the original is correct by optically detecting the presence or absence of the presence or absence.
【請求項5】 前記正誤判別手段は、前記特定のパター
ンの有無をレーザ光の反射光あるいは透過光を用いて検
出する請求項4記載の原版搬送装置。
5. The original transporting apparatus according to claim 4, wherein the correctness determination unit detects the presence or absence of the specific pattern by using reflected light or transmitted light of laser light.
【請求項6】 原版を収納する原版収納容器から原版を
取り出してその原版を使用する本体装置との原版受渡位
置まで搬送する原版搬送装置であって、 該容器に収納された原版の特定のパターンの有無を光学
的に検知することによって該原版の向きを判別する向き
判別手段を備えたことを特徴とする原版搬送装置。
6. An original transport device for taking out an original from an original storage container for storing the original and transporting the original to an original delivery position with a main body apparatus using the original, wherein a specific pattern of the original stored in the container is provided. An original transporting device comprising an orientation determining means for optically determining the orientation of the original by optically detecting the presence or absence of the original.
【請求項7】 前記向き判別手段の判別結果に応じて、
前記原版を正しい向きに収納し直す手段をさらに備えた
ことを特徴とする請求項6記載の原版搬送装置。
7. According to the determination result of the orientation determining means,
The original transport apparatus according to claim 6, further comprising means for re-storing the original in a correct orientation.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006086253A (en) * 2004-09-15 2006-03-30 Toppan Printing Co Ltd Substrate orientation control device
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