JPH07128869A - Exposure device and method for exposing work - Google Patents

Exposure device and method for exposing work

Info

Publication number
JPH07128869A
JPH07128869A JP5271384A JP27138493A JPH07128869A JP H07128869 A JPH07128869 A JP H07128869A JP 5271384 A JP5271384 A JP 5271384A JP 27138493 A JP27138493 A JP 27138493A JP H07128869 A JPH07128869 A JP H07128869A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
alignment
frame
stage
lower baking
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5271384A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2832673B2 (en
Inventor
Akira Morita
田 亮 森
Takehiko Okamura
村 武 彦 岡
Minoru Watanuki
貫 稔 綿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Orc Manufacturing Co Ltd filed Critical Orc Manufacturing Co Ltd
Priority to JP5271384A priority Critical patent/JP2832673B2/en
Publication of JPH07128869A publication Critical patent/JPH07128869A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2832673B2 publication Critical patent/JP2832673B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0082Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks

Abstract

PURPOSE:To provide an exposure device and a method for exposing a work in which a space for setting the exposure device can be made small, an upper printing frame can be easily exchanged in the case of deterioration, a lower printing frame can adequately perform the suction and separation of the work, the power consumption can be reduced, and the constitution of the vacuum frame and the positioning of the work can be efficiently and accurately performed and having many advantages other than the above. CONSTITUTION:This exposure device is provided with a first alignment stage B for the work, a first exposing stage C, an inversion stage D, a second alignment stage E and a second exposing stage F; the first alignment stage B, the inversion stage D and the second alignment stage E are disposed in a line the first and second exposing stages C and F are respectively disposed in a direction orthogonally crossed with the line for first and second alignment stages B and E; and an ultraviolet ray irradiating stage H is provided between the first and the second exposing stages C and F.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、紫外線の照射により
プリント配線基板などのワークを露光する露光装置およ
びワークの露光方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for exposing a work such as a printed wiring board by irradiating it with ultraviolet rays and a method for exposing the work.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、紫外線によりワークに所定パタ
ーンを焼き付ける露光装置として種々の露光装置が提案
されている。これら露光装置は、ワークを焼枠に挟持し
た際、ワークとマスクフィルムが適切な位置関係になる
ようにCCDカメラなどで確認した後に紫外線を照射し
てワークを露光していた。このワークとマスクフィルム
の確認作業は、露光部で行ういわゆる「内合わせ方式」
であるため、アライメントと露光とが直列シーケンスで
動作することからワークの生産性が上がらない欠点があ
った。そのため従来、露光部以外でワークのアライメン
トを行ういわゆる「外合わせ方式」の利点を生かし、か
つ、正確なワークとマスクフィルムのアライメントを可
能とした生産性の高い露光装置が本願出願人により出願
されている(特開平4−350857号)。
2. Description of the Related Art In general, various exposure apparatuses have been proposed as an exposure apparatus for printing a predetermined pattern on a work with ultraviolet rays. In these exposure apparatuses, when a work is sandwiched by a baking frame, the work and the mask film are checked with a CCD camera so that the work and the mask film have an appropriate positional relationship, and then the work is exposed by irradiating ultraviolet rays. This work and mask film confirmation work is performed in the exposure section, the so-called "internal alignment method".
Therefore, there is a drawback that the productivity of the work is not increased because the alignment and the exposure are operated in a serial sequence. Therefore, in the past, the applicant of the present application has filed a highly productive exposure apparatus that takes advantage of the so-called "outside alignment method" of aligning a work in a portion other than the exposure section, and that enables accurate alignment of the work and the mask film. (JP-A-4-350857).

【0003】図26に示すように、この露光装置100
は、直線上に搬入ステージ101と、アライメントステ
ージ102と、露光ステージ103および搬出ステージ
104とからなる上流機105と、この上流機105の
搬出ステージ104の後方に設置したワークWの反転ス
テージ106と、この反転ステージ106の後方に、前
記搬入ステージ107、アライメントステージ108、
露光ステージ109、搬出ステージ110までを設置し
た下流機111とから構成されている。
As shown in FIG. 26, this exposure apparatus 100
Is an upstream machine 105 including a carry-in stage 101, an alignment stage 102, an exposure stage 103 and a carry-out stage 104 on a straight line, and a work W reversal stage 106 installed behind the carry-out stage 104 of the upstream machine 105. Behind the inversion stage 106, the carry-in stage 107, the alignment stage 108,
It is composed of an exposure stage 109 and a downstream machine 111 having the carry-out stage 110 installed.

【0004】また、ワークWを各ステージに搬送する上
流機105の搬送装置112は、中心に設置した一方の
焼枠113と、この一方の焼枠113の両側に設置した
ハンドラ114、115とを備えている。そして、下流
機111の搬送装置120は、その中心に設置した一方
の焼枠121と、この焼枠121の両側に設置したハン
ドラ122、123とを備えている。
Further, the transfer device 112 of the upstream machine 105 for transferring the work W to each stage has one baking frame 113 installed at the center and handlers 114, 115 installed on both sides of this one baking frame 113. I have it. The transport device 120 of the downstream machine 111 includes one baking frame 121 installed in the center thereof and handlers 122 and 123 installed on both sides of the baking frame 121.

【0005】そして、各々のアライメントステージ10
2、108および露光ステージ103、109間には、
それぞれ他方の焼枠116、124を保持して移動する
移動テーブル117、124を備えている。また、反転
ステージ106には、ワークWを表裏反転させる反転装
置(図示せず)が設置されており、この反転装置により
反転されたワークWは、下流機111の搬入ステージに
ハンドラ(図示せず)の搬送により受け渡されている。
Then, each alignment stage 10
2, 108 and between the exposure stages 103 and 109,
Moving tables 117 and 124 for holding and moving the other baking frames 116 and 124, respectively, are provided. Further, the reversing stage 106 is provided with a reversing device (not shown) for reversing the work W upside down, and the work W reversed by the reversing device is disposed at a carry-in stage (not shown) of the downstream machine 111. ) Has been delivered.

【0006】さらに、図28で示すように、前記一方の
焼枠(上焼枠)113(121)には、ワークおよび他
方の焼枠(下焼枠)116(124)を真空吸着する吸
引機構130が設けられており、この吸引機構130
は、透光板131の四隅に取り付けた吸引支持部133
a〜133dと、前記透光板131のワーク当接側に取
り付けた枠状のシールゴム134と、前記吸引支持部1
33a〜133dに支持された吸引ホース135から構
成されている。なお、透光板131は、真空吸着用の開
閉自在のフレーム132に挟持されており、透光板13
1は、支持部133a〜133bの各位置に、貫通孔
(図示せず)が形成されている。
Further, as shown in FIG. 28, a suction mechanism for vacuum-sucking the work and the other baking frame (lower baking frame) 116 (124) on the one baking frame (upper baking frame) 113 (121). 130 is provided, and this suction mechanism 130
Are suction support parts 133 attached to the four corners of the translucent plate 131.
a to 133d, a frame-shaped seal rubber 134 attached to the work contact side of the translucent plate 131, and the suction support portion 1
The suction hose 135 is supported by 33a to 133d. The translucent plate 131 is sandwiched between openable and closable frames 132 for vacuum suction.
1 has through holes (not shown) formed at respective positions of the supporting portions 133a to 133b.

【0007】また、図27で示すように、下焼枠116
(124)は、複数の貫通孔116aを設けた透光板1
16bと、この透光板116bを支持するフレーム体1
16cと、このフレーム体116cに設けられた吸引ホ
ース116eの取付部116dとから構成されている。
そして、透光板116bの各貫通孔116aが真空吸着
した際に、各貫通孔116aから真空吸引できるよう
に、真空溝116fを介して連通している。
Further, as shown in FIG. 27, the lower baking frame 116.
(124) is a transparent plate 1 provided with a plurality of through holes 116a
16b and a frame body 1 that supports the translucent plate 116b
16c and a mounting portion 116d of the suction hose 116e provided on the frame body 116c.
Further, when the through holes 116a of the transparent plate 116b are vacuum-sucked, the through holes 116a communicate with each other through the vacuum grooves 116f so that vacuum can be sucked from the through holes 116a.

【0008】そして、ワークの表裏反転を行う場合は、
図示しない搬送手段により反転ステージに搬送され、反
転機により反転される。この反転機の構成は、実開平4
−46445号に示すような構成のものが使用されてい
る。この反転装置は、ワークを受け取り所定位置まで移
動させる移動テーブルと、この移動テーブルからワーク
を真空吸着する吸着反転機とから構成されている。
When the work is turned upside down,
The sheet is conveyed to a reversing stage by a conveying unit (not shown) and is reversed by a reversing machine. The structure of this reversing machine is
The structure shown in No. 46445 is used. This reversing device is composed of a moving table for receiving a work and moving it to a predetermined position, and a suction reversing machine for vacuum-sucking the work from the moving table.

【0009】なお、上流機105、下流機111には、
図示していないが装置の動作を制御する制御装置、紫外
線照射装置がそれぞれ備えられており、前記紫外線照射
装置では、紫外線ランプが5KWの前後のランプを使用
し、その紫外線ランプの再点灯がランプの構成上できな
いため、紫外線ランプは作業中は常に点灯させておき、
シャッター機構などを使用し、紫外線が必要のないとき
はシャッター機構を閉鎖して紫外線の照射をカットして
使用している。
The upstream machine 105 and the downstream machine 111 are
Although not shown, a control device for controlling the operation of the device and an ultraviolet irradiation device are respectively provided. In the ultraviolet irradiation device, a lamp having an ultraviolet lamp of about 5 KW is used, and the re-lighting of the ultraviolet lamp is performed by the lamp. Since it is not possible due to the configuration of, the UV lamp should always be turned on during work,
The shutter mechanism is used, and when the ultraviolet ray is not needed, the shutter mechanism is closed to cut off the irradiation of the ultraviolet ray.

【0010】したがって、上記したように構成された露
光装置100は、つぎのようにワークの搬送、位置決
め、露光、反転を行っている。はじめに、ワークWは、
上流機105の搬入ステージ101から搬送装置112
のハンドラ115で,アライメントステージ102に搬
送され、アライメントステージ102で上下の焼枠11
3,116に挟持された状態でアライメントされる。そ
して、搬送装置112の上焼枠113がアライメント済
ワークWおよび下焼枠116を吸着して露光ステージ1
03に搬送し露光する。一面の露光が終了したワークW
は、搬送装置112のハンドラ114により搬出ステー
ジ104に搬送され、反転ステージ106でワークが表
裏反転される。さらに、下流機111側に図示しない搬
送装置により搬送され、上流機105で行った作業を繰
り返し行うことでワークWの他面を露光してワークを搬
出する。そのため、ワークは、正確なアライメントが行
えると共に、生産性の向上を図ることができるものであ
る。
Therefore, the exposure apparatus 100 configured as described above carries, conveys, positions, exposes and reverses the work as follows. First, the work W is
From the loading stage 101 of the upstream machine 105 to the transfer device 112
Is transferred to the alignment stage 102 by the handler 115 of the
It is aligned while being sandwiched by 3,116. Then, the upper baking frame 113 of the transfer device 112 attracts the aligned work W and the lower baking frame 116, and the exposure stage 1
And carry out exposure. Workpiece W with one surface exposed
Is transferred to the unloading stage 104 by the handler 114 of the transfer device 112, and the work is turned upside down on the reversing stage 106. Further, the work is carried to the downstream machine 111 side by a carrying device (not shown), and the work performed by the upstream machine 105 is repeatedly performed to expose the other surface of the work W and carry the work out. Therefore, the work can be accurately aligned and the productivity can be improved.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の露光装
置の構成では、次のような改良する余地が残されてい
た。 露光装置は、ワークの表裏を露光する際、搬送装置
の構成、ワークの搬送方向、装置の配置などが直線方向
であるため、露光作業が行われるクリーンルームの作業
位置を大きく占めることになる。
However, the structure of the above-mentioned exposure apparatus leaves room for the following improvement. When exposing the front and back of a work, the exposure apparatus occupies a large work position in the clean room where the exposure work is performed, because the configuration of the transfer device, the work transfer direction, and the arrangement of the devices are linear.

【0012】 露光装置は、その構成上、紫外線照射
装置を上流機および下流機にそれぞれ備えると共に、制
御装置もそれぞれに設置しているため、装置の構成が大
きくなり、消費電力も大きくかかる。 露光作業により透光板が劣化した際、マスク付透光
板またはマスク透光板の交換をする必要があるが、ワー
クを保持する上焼枠は、ワークを真空吸着するための吸
引ホースおよび吸着パッド等の吸引機構を透光板の所定
箇所に取り付けているため、その吸引機構の脱着作業が
面倒であった。また、透光板の交換作業のため、全工程
の作業を数時間休止させるこになった。
Due to the structure of the exposure apparatus, the upstream and downstream apparatuses are provided with the ultraviolet irradiation apparatus, and the control apparatus is also installed in each apparatus. Therefore, the apparatus configuration is large and power consumption is large. When the translucent plate deteriorates due to the exposure work, it is necessary to replace the translucent plate with a mask or the mask translucent plate.The upper baking frame that holds the work is a suction hose and a suction Since a suction mechanism such as a pad is attached to a predetermined position of the translucent plate, it is troublesome to attach and detach the suction mechanism. Also, due to the work of replacing the translucent plate, the work of the whole process must be suspended for several hours.

【0013】 ワークを吸引して搬送する下焼枠は、
真空吸着によりワークと下焼枠の透光板が密着した場
合、透光板からワークを取り外せないため、作業を中断
することも発生した。また、下焼枠には、吸引ホースが
接続されているが、真空フレームとなる上下の焼枠が将
来複数化(2基以上)されつつある方向のため、その複
数化に対応できる構造が望まれている。
The lower baking frame that sucks and conveys the work is
When the work and the light-transmitting plate of the lower baking frame are in close contact with each other due to vacuum suction, the work cannot be removed from the light-transmitting plate, and the work is interrupted. In addition, a suction hose is connected to the lower baking frame, but since the upper and lower baking frames that will be vacuum frames are becoming multiple (two or more) in the future, a structure that can accommodate the multiple is desired. It is rare.

【0014】 ワークは、下焼枠に保持され、あるい
は、上下の焼枠に保持された状態で搬送、露光などの作
業が行われるが、下焼枠に位置決めされたワークの位置
のズレが最小限になるように、反転機側に搬送すること
が望まれていた。 ワークを反転する反転ステージを設置するには、上
流機の搬出ステージ、反転ステージ、および、下流機の
搬入ステージを設ける必要があり、作業スペースを大き
く取る原因にもなっている。
The work is carried by the lower baking frame, or is conveyed and exposed while being held by the upper and lower baking frames, but the positional deviation of the work positioned in the lower baking frame is minimal. It was desired to convey it to the reversing machine side so that it would be limited. In order to install the reversing stage for reversing the work, it is necessary to provide the carry-out stage of the upstream machine, the reversing stage, and the carry-in stage of the downstream machine, which also causes a large work space.

【0015】 ワークを保持する真空フレームは、上
下の焼枠が分離合体してワークを挟持してアライメント
作業および露光作業を行っている。しかし、ハンドラと
上焼枠が一体になっているため大型となり、動作制御が
大変であり、メンテナンス作業も困難であった。また、
下焼枠または上焼枠がそれぞれ単独で移動できないた
め、作業能率が向上できなかった。 露光装置のアライメント位置および露光作業位置の
設置位置に係わらず、ワークのより効率的な露光作業が
行えるように真空フレームおよびワークの位置合わせの
改善が望まれていた。
In the vacuum frame for holding the work, the upper and lower baking frames are separated and united to sandwich the work for performing alignment work and exposure work. However, since the handler and the upper baking frame are integrated, the size is large, operation control is difficult, and maintenance work is also difficult. Also,
The work efficiency could not be improved because the lower baking frame or the upper baking frame cannot be moved independently. It has been desired to improve the alignment of the vacuum frame and the work so that the work can be more efficiently exposed regardless of the alignment position of the exposure apparatus and the installation position of the exposure work position.

【0016】 露光装置の下焼枠に載置されたワーク
が、各ステージに移動される際にその位置がズレること
があり、次工程位置でワークの位置がズレない構成が望
まれている。この発明は、前述の問題点を解決すべく創
案されたもので、露光装置の設置スペースを小さくで
き、上焼枠は劣化の際に取り替えを容易にし、下焼枠は
ワークの吸着および離脱を適切にでき、ワークの反転装
置はスペースを取ること無くワークを反転および予備位
置決めでき、動作制御およびメンテナンスが容易である
と共に、消費電力が小さく、真空フレームの構成および
ワークの位置決めが能率よくかつ正確にできる露光装置
およびワークの露光方法を提供することを目的とする。
The position of the work placed on the lower baking frame of the exposure apparatus may shift when it is moved to each stage, and there is a demand for a configuration in which the work does not shift at the next process position. The present invention has been devised to solve the above-mentioned problems, and can reduce the installation space of the exposure apparatus, the upper baking frame facilitates replacement when it deteriorates, and the lower baking frame absorbs and releases the work. Suitable, work reversing device can reverse and pre-position the work without taking space, easy operation control and maintenance, low power consumption, vacuum frame configuration and work positioning efficient and accurate It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus and a method of exposing a work which can be performed.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、この発明は、「下焼枠に保持したワークを適正位置
に移動させ位置決めするアライメント整合台、および、
適正位置を確認する撮像カメラを備える第1アライメン
トステージと、位置決め済みワークを露光する第1露光
ステージと、露光済みワークの表裏を反転する反転ステ
ージと、前記反転ステージで表裏反転した下焼枠上のワ
ークを適正位置に移動させ位置決めするアライメント整
合台、および、適正位置を確認する撮像カメラを備える
第2アライメントステージと、位置決め済みワークを露
光する第2露光ステージを備え、前記第1アライメント
ステージ、反転ステージ、第2アライメントステージを
直線方向に配設し、前記第1および第2アライメントス
テージの各々は、前記直線方向に直行する方向に、第1
および第2露光ステージのそれぞれを配設し、前記第1
および第2露光ステージ間に紫外線照射ステージを備
え、前記第1アライメントステージから第2アライメン
トステージの直線位置には、ワークを搬送するハンドラ
を複数備えており、前記両アライメントステージおよび
露光ステージ間では、ワークを保持して位置決め、搬
送、露光を行う真空フレームの上下の焼枠は、それぞれ
を搬送する搬送手段を備えた露光装置。」として構成し
た。
In order to solve the above problems, the present invention provides an "alignment alignment table for moving and positioning a work held on a lower baking frame to an appropriate position, and
A first alignment stage equipped with an imaging camera for confirming an appropriate position, a first exposure stage for exposing a positioned work, a reversing stage for reversing the front and back of the exposed work, and a bottom baking frame reversing the front and back by the reversing stage. A second alignment stage including an alignment alignment table for moving and positioning the workpiece to a proper position and an imaging camera for confirming the proper position, and a second exposure stage for exposing the positioned workpiece, the first alignment stage, An inversion stage and a second alignment stage are arranged in a linear direction, and each of the first and second alignment stages has a first direction in a direction orthogonal to the linear direction.
And a second exposure stage, and the first exposure stage is provided.
And an ultraviolet irradiation stage is provided between the second exposure stage, and a plurality of handlers for transporting the work are provided at a linear position from the first alignment stage to the second alignment stage. Between the both alignment stages and the exposure stage, An exposure apparatus equipped with a transporting means for transporting the upper and lower baking frames of the vacuum frame for holding, positioning, transporting and exposing the work. Configured as.

【0018】また、「両面を露光するワークの一方面を
予備位置決め機構により予備位置決めする第1工程と、
予備位置決め済みワークを下焼枠上に保持し、第1アラ
イメント整合台および撮像カメラにより位置決めを行う
第2工程と、位置決め済みワークを下焼枠ごと上焼枠に
保持し位置決め確認したのち露光位置に搬送して露光を
行う第3工程と、露光済みワークを下焼枠ごと受け取り
搬送手段により第1アライメント整合台上に搬送する第
4工程と、第1アライメント整合台上のワークをハンド
ラにより反転機に受け渡す第5工程と、ワークを受け取
った反転機がワークの表裏を反転すると共に、予備位置
決め機構により予備位置決めする第7工程と、予備位置
決め済みワークを下焼枠上に保持し、第2アライメント
整合台および撮像カメラにより位置決めを行う第8工程
と、位置決め済みワークを下焼枠ごと上焼枠に保持し位
置決め確認したのち露光位置に搬送して露光する第9工
程と、露光済みワークを下焼枠に保持した状態で受け取
り搬送手段により第2アライメント整合台上に搬送する
第10工程と、アライメント整合台上の両面露光済みワ
ークを搬出する第11工程とからなるワークの露光方
法。」として構成した。
In addition, "a first step of pre-positioning one surface of a work exposed on both sides by a pre-positioning mechanism,
The second step of holding the pre-positioned work on the lower baking frame and performing positioning with the first alignment alignment table and the imaging camera, and holding the positioned work together with the lower baking frame on the upper baking frame and confirming the positioning, then the exposure position And the third step of carrying out the exposure and carrying the exposed work together with the lower baking frame to the fourth step of carrying it onto the first alignment alignment table by the carrying means, and reversing the work on the first alignment alignment table by the handler. The fifth step of handing over to the machine, the reversing machine that received the work reverses the front and back of the work, and the seventh step of pre-positioning by the pre-positioning mechanism, and holding the pre-positioned work on the lower baking frame, 2 Alignment The eighth step of positioning with the alignment table and the imaging camera, and the positioning of the positioned workpieces was held on the upper baking frame together with the lower baking frame to confirm the positioning. Ninth step of transporting to the exposure position for exposure, tenth step of transporting the exposed work on the second alignment alignment table by the receiving and transporting device while holding it on the lower baking frame, and double-sided exposure on the alignment alignment table An exposure method for a work, which comprises an eleventh step of unloading the completed work. Configured as.

【0019】さらに、「前記真空フレームは、分離合体
可能な上下の焼枠からなり、二基の下焼枠と一基の上焼
枠から構成され、上下の焼枠のそれぞれにワークの真空
吸着手段を備え、ワークの位置決め確認作業、および、
露光作業中は、上下の上焼枠がそのいずれかの真空吸着
手段によりワークを挟持し合体して真空フレームとな
り、ワークの位置決め作業、および、露光済みワークの
搬送は、真空フレームが分離し、下焼枠にワークを保持
して行われる真空フレーム装置。」として構成した。
Furthermore, "The vacuum frame is composed of upper and lower baking frames which can be separated and combined, and is composed of two lower baking frames and one upper baking frame. Equipped with means to confirm the positioning of the work, and
During the exposure work, the upper and lower baking frames sandwich the work by any of the vacuum suction means and unite to form a vacuum frame.For the work of positioning the work and carrying the exposed work, the vacuum frame is separated, A vacuum frame device that holds the work in the lower baking frame. Configured as.

【0020】また、「前記真空フレームは、分離合体可
能な上下の焼枠から構成され、一基の上焼枠と二基の下
焼枠からなり、前記下焼枠は、アライメント作業位置お
よび次作業位置に、それぞれ移転可能に設置されてお
り、前記アライメント作業位置および次作業位置に設置
された下焼枠は、アライメント作業位置では作業終了後
上昇し、搬送手段により次作業位置側に搬送され、次作
業位置では、前記搬送手段により搬送されて来た位置よ
り降下して搬送手段によりアライメント作業位置に搬送
される真空フレーム装置。」として構成した。
Further, "the vacuum frame is composed of upper and lower baking frames which can be separated and combined, and is composed of one upper baking frame and two lower baking frames. The lower baking frames, which are respectively removably installed at the work positions and are installed at the alignment work position and the next work position, are lifted after the work is completed at the alignment work position and are conveyed to the next work position side by the conveying means. At the next work position, the vacuum frame device is moved down from the position where it has been carried by the carrying means and is carried to the alignment work position by the carrying means. "

【0021】そして、「前記真空フレームの下焼枠をア
ライメント整合台の上にアライメント整合台側の保持手
段により保持する第1工程と、前記下焼枠の上にワーク
を下焼枠側の保持手段で保持すると共に、ワークを撮像
制御手段により認識し、予め記憶しているマスクフィル
ムの位置情報と比較し適正位置にアライメント整合台を
作動させワークを位置決めする第2工程と、前記第2工
程が終了した後、アライメント整合台上の下焼枠は、ア
ライメント整合台の上昇により上焼枠と合体して真空フ
レームとなり、下焼枠はアライメント整合台側と分離し
た状態で再び撮像制御手段によりマスクフィルムとワー
クの位置ズレの確認を行う第3工程と、前記第3工程で
撮像制御手段がワーク位置の適正、不適正を認識し、適
正であれば次工程に、不適正であれば逆戻りして第2工
程から作業を行う第4工程からなるワークの位置決め方
法。」として構成した。
Then, "the first step of holding the lower baking frame of the vacuum frame on the alignment matching table by a holding means on the alignment matching table side, and holding the work on the lower baking frame side on the lower baking frame. A second step of holding the work by the means, recognizing the work by the imaging control means, comparing it with the position information of the mask film stored in advance, and activating the alignment matching table at an appropriate position to position the work; and the second step. After the above, the lower baking frame on the alignment matching table is united with the upper baking frame by the rise of the alignment matching table to become a vacuum frame, and the lower baking frame is separated from the alignment matching table side by the imaging control means again. The third step of confirming the positional deviation between the mask film and the work, and in the third step, the imaging control means recognizes the proper or improper position of the work, and if it is proper, the next step Was constructed as a 4 comprising the step work positioning method. "To perform operations from the second step is reverted if improper.

【0022】さらに、「前記下焼枠は、その表面側に設
けたワークの真空吸着用の吸着口から連通して裏面に開
口した供給口に、前記真空吸着手段のホース接続部が設
けられ、前記ホース接続部は、接続部本体と、この接続
部本体内を遊動するボール弁とからなり、前記接続部本
体は、前記下焼枠の供給口に当接する位置に前記ボール
弁の直径より小さく形成した一側開口部と、この一側開
口部の他側に前記ボール弁の直径より小さく形成した他
側開口部を備えるエアポンプのホース接続部構造。」と
して構成した。
Further, "the lower baking frame is provided with a hose connection portion of the vacuum suction means at a supply port communicating with a suction port for vacuum suction of a work provided on the front surface side and opened on the back surface, The hose connecting portion includes a connecting portion main body and a ball valve that floats inside the connecting portion main body, and the connecting portion main body has a diameter smaller than the diameter of the ball valve at a position where the connecting portion main body comes into contact with the supply port of the lower baking frame. The hose connection part structure of the air pump, which includes the formed one side opening and the other side opening formed on the other side of the one side opening smaller than the diameter of the ball valve. "

【0023】また、「前記下焼枠は、ワーク当接面のワ
ーク吸着用孔に連通する少なくとも2ヵ所に形成した接
続部を備え、前記下焼枠の一方の移動端部に設置したア
ライメント整合台に、前記下焼枠の接続部の到来する位
置に接合部を設けると共に、下焼枠の下面側に吸着保持
する保持手段を備え、前記下焼枠の他方の移動端部に設
置した昇降保持台に、前記下焼枠の接続部の到来する位
置に接合部を設け、前記下焼枠を両移動端部に搬送する
移動手段に、前記下焼枠の接続部の到来する位置に接合
部を設け、前記各接合部は、エアの吸引・排出用のエア
ポンプにそれぞれ接続され、前記下焼枠の接続部は、昇
降保持台、移動手段、アライメント整合台の各位置で
は、各接合部と合致してポンプの吸引排出動作を可能に
したワークの保持離脱構造。」として構成した。
Further, "the lower baking frame is provided with a connecting portion formed at least at two places communicating with the work suction holes of the work contact surface, and the alignment alignment is installed at one moving end of the lower baking frame. The table is provided with a joining portion at a position where the connecting portion of the lower baking frame comes, and a holding means for adsorbing and holding the lower surface of the lower baking frame, and a lifting unit installed at the other moving end of the lower baking frame. The holding table is provided with a joining portion at a position where the connecting portion of the lower baking frame arrives, and is joined to a position where the connecting portion of the lower baking frame comes to a moving means that conveys the lower baking frame to both moving ends. And each of the joints is connected to an air pump for sucking and discharging air, and the connecting portion of the lower baking frame is each joint at each position of the lifting and holding base, the moving means, and the alignment alignment base. Holds and separates the workpiece that enables suction and discharge of the pump It was configured as a structure. ".

【0024】そして、「前記アライメント整合台は、ワ
ーク当接面にワークの吸引保持手段を備えると共に、下
焼枠のワーク接続部に合致する接合部を備え、前記アラ
イメント整合台は、ワークを保持する下焼枠を各方向に
移動するX,Y,θの各テーブルを備え、前記Xテーブ
ルおよびYテーブルは、平面で直交する一方と他方に移
動自在に設け、前記θテーブルは、垂直線を中心に回動
する方向に回動自在に設け、前記アライメント整合台の
ワーク当接面を上下に移動させる昇降機構とからなるア
ライメント整合台。」として構成した。
Then, "said alignment alignment table is provided with a work suction-holding means on the work contact surface and a joint portion which matches the work connection portion of the lower baking frame, and said alignment alignment table holds the work. Each of the X, Y, and θ tables for moving the lower baking frame in each direction is provided so that the X table and the Y table are movably provided on one side and the other side that are orthogonal to each other in a plane, and the θ table has a vertical line. An alignment alignment table which is provided so as to be rotatable in the direction of rotation around the center and includes an elevating mechanism for vertically moving the work contact surface of the alignment alignment table. "

【0025】さらに、「前記上焼枠は、枠状のフレーム
と、このフレームに保持される真空吸着用の貫通孔およ
び枠状のシールゴムを有する透光板とから構成され、前
記透光板の貫通孔位置に接続する真空吸引用の接続パッ
トを前記フレームに設けた上焼枠構造。」として構成し
た。
Further, "the upper baking frame is composed of a frame-shaped frame and a transparent plate having a through hole for vacuum suction and a frame-shaped seal rubber held by the frame. An upper baking frame structure in which a connecting pad for vacuum suction connected to the position of the through hole is provided in the frame. "

【0026】また、「前記反転ステージは、ワークを載
置して昇降駆動する昇降テーブルと、この昇降テーブル
からワークを受け取り保持してワークの表裏を反転する
反転装置と、前記昇降テーブル上の反転済みワークの予
備位置決めを行うプリアライメント機構とから構成され
た反転ステージ構造。」として構成した。
Further, "the reversing stage is a lifting table for mounting and lifting a work, and a reversing device for reversing the front and back of the work by receiving and holding the work from the lifting table, and reversing on the lifting table. Inverting stage structure composed of a pre-alignment mechanism that pre-positions the completed work. "

【0027】そして、「前記反転装置は、ワークを吸着
支持する吸着支持アームと、この吸着支持アームの一端
を支持し回動させる回動支持部と、この回動支持部を往
復移動させる移動機構とからなる反転装置。」として構
成した。
Then, "the reversing device is such that the suction support arm for supporting the work by suction, the rotation support portion for supporting and rotating one end of the suction support arm, and the moving mechanism for reciprocating the rotation support portion. Inversion device consisting of and. "

【0028】さらに、「露光済みワークを受け取り保持
し、保持したワークの一端側を基準としてワークの他端
側を垂直方向に立ち上げると共に、基準となる一端側を
水平方向に移動させ、ワークの他端側を水平位置に降下
させることでワークを反転するワークの反転方法。」と
して構成した。
Furthermore, "the exposed work is received and held, the other end of the held work is raised in the vertical direction with reference to the one end of the held work, and the one end serving as the reference is moved in the horizontal direction. The work reversing method in which the work is reversed by lowering the other end to a horizontal position. "

【0029】また、「前記紫外線照射ステージは、紫外
線照射ランプおよび楕円反射鏡からなる光源装置と、こ
の光源装置からの紫外線を所定方向に反射する平面反射
鏡と、前記光源装置からの紫外線の光路に設置される紫
外線の照度分布を整えるフライアイレンズと、前記第1
および第2露光ステージ側に紫外線を切り替え照射する
切替えミラーとを備え、前記光源装置から照射された紫
外線の光軸の方向は、切替えミラーまでは垂直面に沿っ
て進行させ、切替えミラーの作動により光軸の進行方向
を、前記垂直面から所定角度を有する方向に進行させる
紫外線照射装置。」として構成した。
The "ultraviolet irradiation stage includes a light source device including an ultraviolet irradiation lamp and an elliptical reflecting mirror, a flat reflecting mirror for reflecting the ultraviolet light from the light source device in a predetermined direction, and an optical path of the ultraviolet light from the light source device. A fly's eye lens installed in the first place for adjusting the illuminance distribution of ultraviolet rays;
And a switching mirror for selectively irradiating the second exposure stage with ultraviolet rays. The direction of the optical axis of the ultraviolet rays emitted from the light source device is advanced along a vertical plane up to the switching mirror, and the switching mirror is operated. An ultraviolet irradiation device for advancing an optical axis in a direction having a predetermined angle from the vertical plane. Configured as.

【0030】そして、「前記ハンドラは、ワーク当接側
に形成した平面状の当接部と、この当接部に穿設して取
り付けた吸着パッドを備え、前記吸着パッドの下端が、
当接部と面一もしくは当接面より内側に設けたワークの
吸着保持装置。」として構成した。
Then, "the handler is provided with a planar contact portion formed on the workpiece contact side and a suction pad formed by being punched in the contact portion, and the lower end of the suction pad is
A suction and holding device for a workpiece, which is provided flush with the contact portion or inside the contact surface. Configured as.

【0031】[0031]

【作用】この発明は上記のように構成したので以下のよ
うな作用を有している。 (1) 露光装置で露光されるワークは、第1アライメント
ステージ、反転ステージおよび第2アライメントステー
ジ間の直線方向では、ハンドラによって移動し、第1ア
ライメントステージおよび第1露光ステージ間と、第2
アライメントステージおよび第2露光ステージ間とで
は、前記直線方向に直交する方向に、真空フレームの上
下の焼枠のいずれか、または両方に保持されて移動す
る。
Since the present invention is constructed as described above, it has the following operations. (1) The work exposed by the exposure apparatus is moved by the handler in the linear direction between the first alignment stage, the reversal stage and the second alignment stage, and is moved between the first alignment stage and the first exposure stage and the second alignment stage.
Between the alignment stage and the second exposure stage, the alignment stage and the second exposure stage are held and moved by one or both of the upper and lower baking frames of the vacuum frame in the direction orthogonal to the linear direction.

【0032】(2) 上下の焼枠で構成される真空フレーム
は、2基の下焼枠と、1基の上焼枠からなり、上下の焼
枠でワークを挟持して真空フレームとしてワークの露光
作業を行っている際、他の下焼枠は、アライメント整合
台上でアライメント作業を行っている。そして、露光作
業が終了した後は、上下の焼枠は分離して、上焼枠は移
動し、アライメント整合台上の他の下焼枠と合体し、適
正位置の確認が行われる。一方、露光位置で分離した下
焼枠は、露光済みワークを載置して次工程側に搬送手段
により搬送される。
(2) The vacuum frame composed of the upper and lower baking frames is composed of two lower baking frames and one upper baking frame. During the exposure operation, the other lower baking frames are performing the alignment operation on the alignment alignment table. Then, after the exposure work is completed, the upper and lower baking frames are separated, the upper baking frame is moved, and the upper baking frame is combined with another lower baking frame on the alignment alignment table, and the proper position is confirmed. On the other hand, in the lower baking frame separated at the exposure position, the exposed work is placed and is conveyed to the next process side by the conveying means.

【0033】(3) 真空フレームの下焼枠は、アライメン
ト整合台と、次作業位置に設置されており、両下焼枠
は、アライメント整合台および次作業位置を循環すると
共に、上焼枠と合体して真空フレームとなり位置決め確
認、露光作業を行う。
(3) The lower baking frame of the vacuum frame is installed at the alignment matching table and the next work position. Both lower baking frames circulate between the alignment matching table and the next work position, and at the same time as the upper baking frame. The unit is united to form a vacuum frame, which is used for positioning confirmation and exposure work.

【0034】(4) ワークは、予備位置決め機構により予
備位置決めされた後、ハンドラによりアライメント整合
台上に搬送され、第1アライメント整合台上の一方の下
焼枠に保持される。そして、撮像カメラの撮像により位
置を確認して位置ズレがある場合は、第1アライメント
整合台を作動させ、ワークを適正位置に位置決めする。
また、下焼枠の上に保持されて位置決めが済んだワーク
は、アライメント整合台の上昇により、露光位置から搬
送されて来た上焼枠と合体した状態で撮像カメラにより
再び位置確認がされる。そして、適正位置であれば真空
フレームの状態で露光位置に搬送され、紫外線照射ステ
ージの作動によりワークは露光される。このとき、露光
位置に設置していた他方の下焼枠は、移動手段により第
1アライメント整合台上に設置されており、アライメン
ト整合台上では次のワークの位置決め作業が行われる。
搬送手段は、下焼枠を搬送するとすぐに露光ステージ側
にもどる。
(4) The work is pre-positioned by the pre-positioning mechanism, then carried by the handler onto the alignment alignment table, and held on one lower baking frame on the first alignment alignment table. Then, when the position is confirmed by the image pickup of the image pickup camera and there is a position shift, the first alignment alignment table is operated to position the work at an appropriate position.
The position of the work held on the lower baking frame and positioned is reconfirmed by the imaging camera in a state of being combined with the upper baking frame conveyed from the exposure position due to the rise of the alignment matching table. . Then, if it is at the proper position, it is conveyed to the exposure position in the state of the vacuum frame, and the work is exposed by the operation of the ultraviolet irradiation stage. At this time, the other lower baking frame, which has been installed at the exposure position, is installed on the first alignment alignment table by the moving means, and the next work positioning work is performed on the alignment alignment table.
The transport means returns to the exposure stage side immediately after transporting the lower baking frame.

【0035】一方、片面を露光された下焼枠上のワーク
は、搬送手段により保持され第1アライメント整合台に
再び搬送される。このとき、アライメント整合台上の下
焼枠に保持されている次のワークは、位置確認された
後、上焼枠に保持されて露光ステージに搬送されてい
る。第1アライメントステージに到来した露光済みワー
クは、ハンドラにより反転ステージに搬送され、ワーク
の表裏反転が行われる。と共に予備位置決めが行われ
る。さらに、再びハンドラにより第2アライメントステ
ージに搬送される。そして、前記第1アライメントステ
ージおよび露光ステージで行った動作が繰り返され、ワ
ークの他の面が露光される。
On the other hand, the work on the lower baking frame whose one surface is exposed is held by the carrying means and carried again to the first alignment alignment table. At this time, after the position of the next work held in the lower baking frame on the alignment alignment table is confirmed, it is held in the upper baking frame and conveyed to the exposure stage. The exposed work that has reached the first alignment stage is conveyed to the reversing stage by the handler, and the work is turned upside down. With this, preliminary positioning is performed. Further, the handler again transports it to the second alignment stage. Then, the operations performed on the first alignment stage and the exposure stage are repeated to expose the other surface of the work.

【0036】(5) 露光装置の下焼枠は、その透光板の真
空吸着用のボール弁を備えたエアポンプのホース接合部
と当接合致する接続部を備えている。そのため、ワーク
を下焼枠に保持するために、真空吸引動作を行うと、接
続部本体内のボール弁は、接続部本体の他方の開口部近
傍に位置して接続部の吸引動作を行う邪魔になることは
ない。また、ワークを下焼枠から離間させるため、エア
の排出動作を行った場合も同様にボール弁は、他方の開
口部側に位置し、一方の開口部を塞ぐことがない。そし
て、上下の焼枠が合致して上焼枠の真空吸引動作が行わ
れると下焼枠の接続部本体の一方の開口部をボール弁が
塞ぎ、ワークを間に挟んだ状態で上下の焼枠を真空密着
させることができる状態にする。
(5) The lower baking frame of the exposure apparatus is provided with a connecting portion that abuts and coincides with the hose joint portion of the air pump provided with the ball valve for vacuum suction of the transparent plate. Therefore, when a vacuum suction operation is performed to hold the work in the lower baking frame, the ball valve in the connection body is located near the other opening of the connection body and interferes with the suction operation of the connection body. Never be. In addition, since the work is separated from the lower baking frame, the ball valve is located on the side of the other opening and does not block one opening when the air is discharged. Then, when the upper and lower baking frames match and the vacuum suction operation of the upper baking frame is performed, the ball valve closes one opening of the connection body of the lower baking frame, and the upper and lower baking frames are sandwiched. Put the frame in a vacuum-tight condition.

【0037】(6) 下焼枠に載置しているワークは、下焼
枠のワーク当接面の吸着孔に連通する接続部が、昇降保
持台、搬送手段、アライメント整合台の各接合部に合致
してエアポンプの吸引排気動作を可能とすることで、下
焼枠に保持される。そして、昇降保持台から搬送手段に
下焼枠を受け渡すとき、および、搬送手段からアライメ
ント整合台に下焼枠を受け渡すときに、下焼枠の一方の
接続部側と合致している接合部からエアを吸引してワー
クを下焼枠に保持した後、下焼枠の他方の接続部側と合
致している接合部のエアの吸引を停止する。また、アラ
イメント整合台上に到来した下焼枠は、アライメント整
合台の保持手段により保持され、この時、下焼枠の接合
部と、アライメント整合台の接合部が合致しており、ポ
ンプからのエアの排出を行うことで、下焼枠からワーク
を離脱させることができる。
(6) In the work placed on the lower baking frame, the connecting portion communicating with the suction hole of the work contacting surface of the lower baking frame has the joining portions of the lifting and holding base, the conveying means, and the alignment alignment base. By enabling the suction and exhaust operation of the air pump in conformity with the above, it is held in the lower baking frame. Then, when the lower baking frame is transferred from the elevating and holding table to the transfer means and when the lower baking frame is transferred from the transfer means to the alignment alignment table, a joint that matches one connection side of the lower baking frame After the air is sucked from the portion to hold the work in the lower baking frame, the suction of the air at the joint portion that matches the other connecting portion side of the lower baking frame is stopped. Further, the lower baking frame arriving on the alignment matching table is held by the holding means of the alignment matching table, and at this time, the joining part of the lower baking frame and the joining part of the alignment matching table are aligned with each other. The work can be removed from the lower baking frame by discharging the air.

【0038】(7) アライメント整合台は、ワークを載置
した下焼枠を保持手段により保持して、各X,Y,θテ
ーブルを作動させ、ワークの位置合わせ作業を行う。そ
して、昇降機構により下焼枠ごとワークを上焼枠側に上
昇させ当接させる。また、露光済みワークを下焼枠ごと
移動手段から受け取る場合は、下焼枠を保持している移
動手段がアライメント整合台上に到来した後、昇降機構
によりワーク当接面を上昇させ、ワークを保持している
下焼枠ごと保持手段で保持する。それと共に、接合部を
下焼枠の接続部と合致させ、エアポンプのエア排出によ
り、ワークを下焼枠から離脱する。
(7) The alignment alignment table holds the lower baking frame on which the work is placed by the holding means and operates each X, Y, θ table to perform the work alignment work. Then, the elevating mechanism raises the work together with the lower baking frame toward the upper baking frame to bring them into contact with each other. When the exposed work together with the lower baking frame is received from the moving means, after the moving means holding the lower baking frame arrives on the alignment alignment table, the work contact surface is raised by the elevating mechanism to move the work. The lower baking frame that is being held is held by the holding means. At the same time, the joint is aligned with the connecting portion of the lower baking frame, and the work is separated from the lower baking frame by the air discharge of the air pump.

【0039】(8) 露光装置の上焼枠は、その透光板を支
持するフレームに真空吸着する吸引パットを設けている
ため、このフレームを透光板から離間させるフレームお
よび真空吸着パットが容易に透光板から取り外すことが
できる。 (9) 反転ステージでは、ハンドラからワークを昇降テー
ブルが上昇して受け取ると共に、下降して反転装置に受
け渡す。そして、受け取ったワークは、反転装置で表裏
が反転された状態で、プリアライメント機構により予備
位置決めが行われる。
(8) Since the upper baking frame of the exposure apparatus is provided with the suction pad for vacuum suction on the frame supporting the transparent plate, the frame and the vacuum suction pad for separating this frame from the transparent plate are easy. Can be removed from the translucent plate. (9) In the reversing stage, the lifting table raises and receives the work from the handler, and also the work descends and transfers it to the reversing device. Then, the received work is pre-positioned by the pre-alignment mechanism in a state where the front and back sides are reversed by the reversing device.

【0040】(10)反転装置は、回動支持部を回動させワ
ークを保持している吸着支持アームを垂直方向に立ち上
げると共に、移動機構により一端から他端側に回動支持
部を所定間隔水平移動させる。そして、移動他端に到来
した回動支持部は、さらに回動支持部を回動させ、ワー
クを表裏反転した状態で昇降テーブルにワークを載置す
る。
(10) The reversing device rotates the rotary support part to vertically raise the suction support arm that holds the workpiece, and at the same time, moves the rotary support part from one end to the other end side by a moving mechanism. Move horizontally. Then, the rotation support section that has reached the other end of the movement further rotates the rotation support section, and places the work on the elevating table in a state where the work is turned upside down.

【0041】(11)紫外線照射ステージの光源装置から照
射された紫外線の光軸は、平面反射鏡、フライアイレン
ズを介して切替えミラーに進む、したがって、光源装置
から切替えミラーまでの光軸の進行方向は、垂直面に沿
って進むこととなる。そして、垂直面に沿って進んでき
た光軸を、切替えミラーを作動させ、その垂直面から所
定角度を有する方向に反射して光軸の方向を三次元方向
に導くため、決められたスペースで両露光ステージに紫
外線を適切に導いている。
(11) The optical axis of the ultraviolet light emitted from the light source device of the ultraviolet irradiation stage advances to the switching mirror via the plane reflecting mirror and the fly's eye lens. Therefore, the optical axis travels from the light source device to the switching mirror. The direction will be along a vertical plane. Then, the optical axis that has traveled along the vertical surface is actuated by a switching mirror, and is reflected in a direction having a predetermined angle from the vertical surface to guide the optical axis in a three-dimensional direction. It properly guides ultraviolet rays to both exposure stages.

【0042】(12)ハンドラは、ワークの吸着面を平面状
の当接部が当接するように形成しているため、ワークの
厚みに係わらずワークを変形することなく吸着保持する
ことができる。 (13)下焼枠は、アライメント整合台上に一基が配置さ
れ、次作業位置(露光装置の構成により露光位置、ある
いは搬出位置)に他の一基が配置されている。また、ア
ライメント整合台上の下焼枠は、ワークを保持した状態
でアライメント整合台に保持される。そして、アライメ
ント作業が行われた後、アライメント整合台の上昇に伴
って上昇し、ワークを保持した状態で下焼枠がアライメ
ント整合台から離脱し、搬送手段によって次作業位置に
搬送される。一方、次作業位置の下焼枠は、移動手段に
よってアライメント整合台側に搬送される。したがっ
て、二基の下焼枠が、アライメント整合台および次作業
位置を循環している。
(12) In the handler, since the suction surface of the work is formed so that the flat abutting portion is in contact, the work can be suction-held without deformation regardless of the thickness of the work. (13) One bottom baking frame is arranged on the alignment alignment table, and another one is arranged at the next work position (the exposure position or the carry-out position depending on the configuration of the exposure device). The lower baking frame on the alignment matching table is held on the alignment matching table while holding the work. Then, after the alignment work is performed, the alignment firing table moves up along with the rise of the alignment stand, and the lower baking frame is detached from the alignment stand while holding the work, and is transported to the next work position by the transport means. On the other hand, the lower baking frame at the next work position is conveyed to the alignment alignment table side by the moving means. Therefore, the two bottom baking frames circulate between the alignment alignment table and the next work position.

【0043】[0043]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図1は、全体の構成を示す原理図。図2は、露
光装置全体を示す平面図、図3は、露光装置の全体を示
す正面図、図4は、露光装置の側面図である。図1およ
び図2で示すように、露光装置1の各ステージの配置位
置は、搬入ステージA、第1アライメントステージB,
反転ステージD、第2アライメントステージEおよび搬
出ステージGを直線状に配設している。そして、搬入ス
テージAから搬出ステージGまでの直線状の配置に対し
て直交する方向で、第1露光ステージCを、第1アライ
メントステージに隣接して配置し、第2露光ステージF
を、前記第2アライメントステージEに隣接して配設し
ている。なお、紫外線照射ステージHは、第1露光ステ
ージCと第2露光ステージFの間に隣接して配設してい
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a principle diagram showing the overall configuration. 2 is a plan view showing the entire exposure apparatus, FIG. 3 is a front view showing the entire exposure apparatus, and FIG. 4 is a side view of the exposure apparatus. As shown in FIGS. 1 and 2, the positions of the respective stages of the exposure apparatus 1 are as follows: the carry-in stage A, the first alignment stage B,
The inversion stage D, the second alignment stage E, and the carry-out stage G are linearly arranged. Then, the first exposure stage C is arranged adjacent to the first alignment stage in a direction orthogonal to the linear arrangement from the carry-in stage A to the carry-out stage G, and the second exposure stage F is arranged.
Are disposed adjacent to the second alignment stage E. The ultraviolet irradiation stage H is arranged adjacent to the first exposure stage C and the second exposure stage F.

【0044】図1ないし図3で示すように、前記搬入ス
テージAには、ワークの予備位置決めを行うプリアライ
メント機構3および載置ローラ2が設置されている。そ
して、第1アライメントステージB(第2アライメント
ステージE)には、アライメント整合台10(60)お
よび一方の下焼枠24(44)が設置されている。ま
た、露光ステージCには、大反射鏡20a(70a)
と、上焼枠23(43)と、他方の下焼枠24(44)
と、この他方の下焼枠24(24)を載置している移動
手段26(46)と、昇降保持台21(21)とが配置
されている。さらに、反転ステージDには、反転装置5
0と、昇降テーブル51と、予備位置決めを行うプリア
ライメント機構63とを備えている。そして、紫外線照
射ステージは、光源装置33および紫外線を所定方向に
導く光学系を備えている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the carry-in stage A is provided with a pre-alignment mechanism 3 for pre-positioning the work and a mounting roller 2. The alignment alignment table 10 (60) and one lower baking frame 24 (44) are installed on the first alignment stage B (second alignment stage E). Further, the exposure stage C includes a large reflecting mirror 20a (70a).
And the upper baking frame 23 (43) and the other lower baking frame 24 (44)
A moving means 26 (46) on which the other lower baking frame 24 (24) is placed, and an elevating and lowering stand 21 (21) are arranged. Further, the reversing stage D includes a reversing device 5
0, a lifting table 51, and a pre-alignment mechanism 63 for performing preliminary positioning. The ultraviolet irradiation stage includes a light source device 33 and an optical system that guides the ultraviolet light in a predetermined direction.

【0045】また、図1で示すように、各ステージにワ
ークWを移動する手段は、搬入ステージAから直線状に
設けた搬出ステージGに沿って設けた複数(図面では4
ヵ所)のハンドラ15、25、65、75と、第1・第
2アライメントステージB・Eおよび第1・第2露光ス
テージC・F間のそれぞれに設置した2基の下焼枠2
4、24・44、44および上焼枠23・46と、前記
上下の焼枠を搬送する搬送手段28(48)および移動
手段27(47)とを備えている。
Further, as shown in FIG. 1, a plurality of means (4 in the drawing) for moving the work W to each stage are provided along a carry-out stage G linearly provided from the carry-in stage A.
Location) handlers 15, 25, 65, 75, and two pre-baking frames 2 installed between the first and second alignment stages B and E and the first and second exposure stages C and F, respectively.
4, 24, 44, 44 and upper baking frames 23, 46, and a conveying means 28 (48) and a moving means 27 (47) for conveying the upper and lower baking frames.

【0046】つぎに、各構成の詳細を順次述べる。図1
2に示すように、前記ハンドラ15…の構成は、支持ア
ーム17に昇降ガイドバー15jが昇降駆動部16を介
して昇降自在に保持されており、前記昇降ガイドバー1
5jの下端に保持部15kおよび水平ガイドバー15m
を介して吸着部15a,15a(25a,25a,65
a,65a,75a,75a)が設けられている。そし
て、前記ハンドラ15…の移動は、図3および図4で示
すように、搬入ステージAから搬出ステージGまでの直
線方向に沿って設けた搬送溝4、5に沿って行われる。
Next, the details of each component will be described in order. Figure 1
As shown in FIG. 2, in the structure of the handler 15, ..., the supporting arm 17 holds an elevating guide bar 15j so that the elevating guide bar 15j can move up and down.
Holding part 15k and horizontal guide bar 15m at the lower end of 5j
Through the suction portions 15a, 15a (25a, 25a, 65
a, 65a, 75a, 75a) are provided. As shown in FIGS. 3 and 4, the handlers 15 are moved along the conveyance grooves 4 and 5 provided along the linear direction from the carry-in stage A to the carry-out stage G.

【0047】そして、図13および図14で示すよう
に、ハンドラの各吸着部15a、15a(25a…)の
構成は、箱状の本体部15hと、この本体部15hの下
面側取付穴に設けた開口15b′を有する複数の吸着パ
ッド15bと、これら吸着パッドの開口15b′に一端
側を連通した空気通路15cと、この空気通路15cの
他端に設けられた吸引ホース15eの取付部15dとか
ら成る。また、前記吸着パッド15aのワーク接続面側
は、本体部15h下面と同一面状になるように吸着パッ
ド15bが併設されており、この吸着パッド15bは、
ゴム、合成ゴム、などの弾性部材から構成されている。
そして,本体部15hの下面は平面状に形成されたワー
クWの当接部15fを構成している。
As shown in FIGS. 13 and 14, each of the suction portions 15a, 15a (25a ...) Of the handler has a box-shaped main body portion 15h and a lower surface side mounting hole of the main body portion 15h. A plurality of suction pads 15b having open openings 15b ', an air passage 15c having one end communicating with the openings 15b' of the suction pads, and a mounting portion 15d for a suction hose 15e provided at the other end of the air passage 15c. Consists of. A suction pad 15b is provided on the workpiece connection surface side of the suction pad 15a so as to be flush with the lower surface of the main body 15h.
It is made of an elastic material such as rubber or synthetic rubber.
The lower surface of the main body portion 15h constitutes a contact portion 15f of the work W formed in a flat shape.

【0048】したがって、前記構成の吸着部15a、1
5aにより真空吸着されるワークWが薄い場合、各吸着
パッド15bが真空吸着しても、本体部15hの当接部
15fの平面がワークWに当接し,この当接部15fよ
り内側あるいは下面と同一面に、吸着パッド15bの開
口下端部分があるため、吸引の強さでワークWを変形さ
せることがない。なお、吸着部15aは、吸着パッド1
5bを設けなくとも、この吸着パッド15bを設けてい
る本体部15hの取付穴の高さ寸法を短くすることで、
ワークを変形することなく吸着できる構成としても構わ
ない。また、吸着部15a,15aの取付間隔は、前記
水平ガイドバー15mを保持部15kに伸縮自在に設け
ているため、水平ガイドバー15mを伸縮することで調
整可能としている。
Therefore, the suction portions 15a, 1 having the above-mentioned structure
When the work W vacuum-adsorbed by 5a is thin, even if each suction pad 15b is vacuum-adsorbed, the flat surface of the abutting portion 15f of the main body portion 15h abuts on the work W, and the inner surface or the lower surface of the abutting portion 15f is contacted. Since the suction pad 15b has the opening lower end portion on the same surface, the work W is not deformed by the strength of suction. In addition, the suction portion 15a is the suction pad 1
Even if 5b is not provided, by shortening the height dimension of the mounting hole of the main body portion 15h provided with the suction pad 15b,
It may be configured such that the work can be adsorbed without being deformed. Further, since the horizontal guide bar 15m is provided on the holding portion 15k so as to be extendable and contractible, the attachment interval between the suction portions 15a, 15a can be adjusted by extending and contracting the horizontal guide bar 15m.

【0049】つぎに、図2で示すように、前記載置ロー
ラ2の構成は、複数の送りローラ2aと、この送りロー
ラ2aを支持する支持部2bと、前記送りローラ2aを
モータの回転により駆動する伝達部(図示せず)とから
なる。したがって、搬入ストッカ(図示せず)から送ら
れて来たワークWを載置ローラ2上の所定位置に設置す
るため、この載置ローラ2をモータで作動させ、ワーク
Wを送りローラ2aで送り、センサーの感知によりモー
タの作動を止め、常に所定位置でワークWが停止するよ
うにしている。また、前記載置ローラ2の所定位置には
ワークWの予備位置決め(プリアライメント)を行うプ
リアライメント機構3が設置されている。このプリアラ
イメント機構3は、反転ステージDに設置されているも
のと同じ構成であるため後述する。
Next, as shown in FIG. 2, the placement roller 2 is constructed such that a plurality of feed rollers 2a, a support portion 2b for supporting the feed rollers 2a, and the feed rollers 2a are rotated by a motor. And a transmission unit (not shown) for driving. Therefore, in order to set the work W sent from the carry-in stocker (not shown) at a predetermined position on the placement roller 2, the placement roller 2 is operated by the motor and the work W is fed by the feed roller 2a. The operation of the motor is stopped by the detection of the sensor, and the work W is always stopped at a predetermined position. A pre-alignment mechanism 3 for pre-positioning (pre-alignment) the work W is installed at a predetermined position of the placing roller 2. The pre-alignment mechanism 3 has the same structure as that installed in the reversing stage D and will be described later.

【0050】図3で示すように、第1アライメントステ
ージBおよび第2アライメントステージEには、共にア
ライメント整合台10(60)およびワークWの位置確
認を行う撮像手段(撮像カメラ)としてのCCDカメラ
22(82)とを備えている。
As shown in FIG. 3, the first alignment stage B and the second alignment stage E both have a CCD camera as an image pickup means (image pickup camera) for confirming the positions of the alignment alignment table 10 (60) and the work W. 22 (82).

【0051】前記アライメント整合台10(60)の構
成は、図3および図5で示すように、平面上の直交する
一方向に移動させるXテーブル11と、平面上の直交す
る他方向に移動させるYテーブル12と、垂直線の周り
を回動するθテーブル13および垂直方向に上下動でき
る昇降機構としてのZ軸部14とからなる。そして、図
6で示すように、前記Xテーブル11には、下焼枠24
をXテーブル上に保持できるように、真空吸着用の保持
手段9および、下焼枠24の一方の接続部45(図9参
照)に合致する接合部9aを有している。なお、アライ
メント整合台10は、Z軸部14を作動させない場合の
ワークWの当接面位置は、後述する移動テーブル26の
ワーク当接面位置よりレベルが低くなるように構成され
ている。
As shown in FIGS. 3 and 5, the alignment alignment table 10 (60) is constructed so that the X table 11 is moved in one direction orthogonal to the plane and the X table 11 is moved in the other direction orthogonal to the plane. It is composed of a Y table 12, a θ table 13 that rotates around a vertical line, and a Z-axis portion 14 as an elevating mechanism that can move vertically in the vertical direction. Then, as shown in FIG. 6, the X-table 11 has a lower baking frame 24.
So as to be held on the X table, it has a holding means 9 for vacuum suction and a joint portion 9a that matches one connection portion 45 (see FIG. 9) of the lower baking frame 24. The alignment alignment table 10 is configured so that the contact surface position of the work W when the Z-axis portion 14 is not operated is lower than the work contact surface position of the moving table 26 described later.

【0052】前記保持手段9は、図6で示すように、テ
ーブルの上側に設けた吸着溝7と、この吸着溝7を取り
囲む位置で枠状に設けたシールゴム8とを備えている。
そして、図示しないエアーの吸引・排出を行うエアーポ
ンプに接続ホース(図示せず)を介して前記吸着溝11
に連通されている。なお、保持手段9の吸着溝7は、そ
の代わりに複数の開口孔としても構わない。
As shown in FIG. 6, the holding means 9 comprises a suction groove 7 provided on the upper side of the table, and a seal rubber 8 provided in a frame shape at a position surrounding the suction groove 7.
Then, the suction groove 11 is connected to an air pump (not shown) for sucking and discharging air through a connection hose (not shown).
Is in communication with. The suction groove 7 of the holding means 9 may be a plurality of opening holes instead.

【0053】また、図6で示すように、前記接合部9a
は、下焼枠24が到来して、前記Xテーブル11上に下
焼枠が保持できるように、Xテーブルの上面レベルから
やや下側位置で、Xテーブルの側面に設けられている。
そして、接合部9aは、上面に環状のゴムパッドを備
え、図示しないエアーの吸引・排出動作を行うエアーポ
ンプにホースなどで連結されている。
Further, as shown in FIG. 6, the joint portion 9a is
Is provided on the side surface of the X table at a position slightly lower than the upper surface level of the X table so that the lower baking frame 24 can come and hold the lower baking frame on the X table 11.
The joint portion 9a has an annular rubber pad on the upper surface, and is connected to an air pump (not shown) for performing air suction / exhaust operations with a hose or the like.

【0054】また、Xテーブル11の左右には、発光テ
ーブル6、6が設置されている。この発光テーブル6、
6は、ワークに設けた位置合わせ孔(図示せず)と、マ
スクフィルムの位置決めマークの状態をCCDカメラ2
2(62)で撮像するときの照明用の光を発し、より確
実に確認できるようにするものである。
Light emitting tables 6 are installed on the left and right of the X table 11. This light emitting table 6,
Reference numeral 6 denotes the state of alignment holes (not shown) provided in the work and the positioning marks of the mask film, and the CCD camera 2
2 (62) emits light for illumination when the image is picked up so that it can be confirmed more reliably.

【0055】前記ワークWの適正位置を確認するCCD
カメラ22(82)は、図3および図4で示すように、
アライメント整合台10(60)の上側で支持バー22
a(82a)に設置されている。そして、このCCDカ
メラ22(82)は、ワークWの大きさが変わっても、
ワークWの大きさに合わせて、支持バー22aでの設置
位置を変えることで、各CCDカメラ22の距離を調整
できる構成としている。また、CCDカメラ22の設置
位置は、図面上は横並び位置に設置されているが、支持
バーを平行に2本取り付け、各支持バーの反対側端部に
CCDカメラを取り付け、対角線上に設置する構成とし
ても構わない。
CCD for confirming the proper position of the work W
The camera 22 (82), as shown in FIGS. 3 and 4,
The support bar 22 is provided above the alignment table 10 (60).
a (82a). And even if the size of the work W changes, this CCD camera 22 (82)
The distance between each CCD camera 22 can be adjusted by changing the installation position on the support bar 22a according to the size of the work W. Although the CCD cameras 22 are installed side by side in the drawing, two support bars are installed in parallel, and the CCD cameras are installed at the opposite ends of each support bar and installed on a diagonal line. It may be configured.

【0056】なお、CCDカメラ22で写すワークWと
マスクフィルムMとの整合状態は、図3で示すモニター
84で写し出される。そして、図5で示すように、ワー
クWの位置決めマーク(貫通孔)の適正位置の判断は、
予め制御部86に入力されている記憶データと、CCD
カメラ22で撮像したワークWの位置決めマークの位置
ズレを比較することで行われる。さらに、位置ズレが存
在する場合は、作動制御部87からの信号により、各
X,Y,θテーブル11、12、13を作動させ位置ズ
レを補正する構成としている。
The alignment state between the work W and the mask film M photographed by the CCD camera 22 is photographed by the monitor 84 shown in FIG. Then, as shown in FIG. 5, the determination of the proper position of the positioning mark (through hole) of the work W is
The storage data that is input in advance to the control unit 86 and the CCD
This is performed by comparing the positional deviation of the positioning mark of the work W captured by the camera 22. Further, if there is a positional deviation, the X, Y, θ tables 11, 12, 13 are operated by a signal from the operation control section 87 to correct the positional deviation.

【0057】また、アライメント作業の終了後、上下の
焼枠23、24でワークWを保持した状態で、マスクフ
ィルムMとワークWの位置確認を再びCCDカメラ22
により行う構成としている。したがって、真空フレーム
となった状態でワークWは位置ズレがない状態で露光さ
れることになる。
After completion of the alignment work, while the work W is held by the upper and lower baking frames 23 and 24, the positions of the mask film M and the work W are confirmed again by the CCD camera 22.
The configuration is performed by. Therefore, the work W is exposed in the vacuum frame without any positional deviation.

【0058】図3および図4で示すように、紫外線照射
ステージHの構成は、紫外線ランプ31および楕円反射
鏡32からなる光源装置33と、この光源装置33から
の紫外線を所定方向に反射する平面反射鏡34と、この
平面反射鏡34で反射した紫外線の照度を整えるフライ
アイレンズ35と、このフライアイレンズ35からの紫
外線を両露光ステージC,Fの大反射鏡20a,70a
に切り替えて反射する切替えミラー36とから成る。
As shown in FIGS. 3 and 4, the ultraviolet irradiation stage H has a light source device 33 including an ultraviolet lamp 31 and an elliptical reflecting mirror 32, and a flat surface for reflecting the ultraviolet light from the light source device 33 in a predetermined direction. The reflecting mirror 34, the fly-eye lens 35 that adjusts the illuminance of the ultraviolet rays reflected by the flat reflecting mirror 34, and the ultraviolet rays from the fly-eye lens 35 are used as the large reflecting mirrors 20a and 70a of the exposure stages C and F.
And a switching mirror 36 that reflects the light.

【0059】そして、図5で示すように、紫外線照射ス
テージHの光源装置33から照射される光軸の方向(矢
印で示す)は、平面反射鏡34の傾斜角度α1 を25度
に設定し、光源装置33からの光軸の方向が平面反射鏡
34から切替えミラー36に立ち上がる角度α2 を50
度になるように設定している。したがって、図15で示
すように、露光ステージCの大反射鏡20aから反射す
る光は垂直方向に落下してワークWを露光する。なお,
光を反射する反射鏡などは,所望の紫外線のみを反射す
るコールドミラーで構成すると,紫外線ランプから発す
る不必要な赤外線などを除くことができる。
Then, as shown in FIG. 5, in the direction of the optical axis irradiated from the light source device 33 of the ultraviolet irradiation stage H (indicated by an arrow), the inclination angle α 1 of the plane reflecting mirror 34 is set to 25 degrees. , The angle α 2 at which the direction of the optical axis from the light source device 33 rises from the flat reflecting mirror 34 to the switching mirror 36 is 50.
It is set so that it becomes a degree. Therefore, as shown in FIG. 15, the light reflected from the large reflecting mirror 20a of the exposure stage C falls in the vertical direction to expose the work W. In addition,
If a reflecting mirror that reflects light is constituted by a cold mirror that reflects only desired ultraviolet rays, unnecessary infrared rays emitted from an ultraviolet lamp can be removed.

【0060】つぎに、図2ないし図3で示すように、第
1露光ステージCおよび第2露光ステージGには、おの
おの上部位置に大反射鏡20a(70a)を備えてい
る。そして、図6で示すように、前記大反射鏡の直下に
上焼枠23(43)がアライメントステージB側に移動
可能に配置されている。また、二基ある内の一基の下焼
枠24が、移動手段としての移動テーブル26(46)
に載置されている。さらに、前記移動テーブル26に露
光済みワークWを受け渡す昇降保持台21(21)が移
動テーブルの直下に設置されている。そして、この移動
テーブル26は、図1および図7で示すように、アライ
メントステージB(E)と露光ステージC(F)間を、
移動機構27により移動自在に設置されている。
Next, as shown in FIGS. 2 to 3, each of the first exposure stage C and the second exposure stage G is provided with a large reflecting mirror 20a (70a) at the upper position. Then, as shown in FIG. 6, an upper baking frame 23 (43) is arranged directly below the large reflecting mirror so as to be movable toward the alignment stage B side. Further, one of the two lower baking frames 24 is a moving table 26 (46) as a moving means.
It is placed in. Further, an elevating and holding table 21 (21) for delivering the exposed work W to the moving table 26 is installed immediately below the moving table. Then, as shown in FIGS. 1 and 7, the moving table 26 moves between the alignment stage B (E) and the exposure stage C (F).
It is movably installed by a moving mechanism 27.

【0061】図6および図7に示すように、前記移動テ
ーブル26の構成は、コの字形の載置台26aと、この
載置台26aを支持する支持台26cと、前記載置台2
6aの内側位置に設けた、下焼枠24の接続部45に合
致する接合部26eとからなる。そして、前記接合部2
6eは、環状のゴムパッドを上面側に備え、図示しない
エアーの吸引・排出動作を行うエアーポンプにホースな
どで連結されている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the moving table 26 has a U-shaped mounting table 26a, a supporting table 26c for supporting the mounting table 26a, and the mounting table 2 described above.
6a, and a joint portion 26e that is provided at an inner position of the bottom portion 6a and matches the connecting portion 45 of the lower baking frame 24. Then, the joint 2
6e is provided with an annular rubber pad on the upper surface side, and is connected to an air pump (not shown) for sucking and discharging air by a hose or the like.

【0062】また、前記移動テーブル26は、露光ステ
ージBおよびアライメントステージC間に沿って設けた
エアーシリンダ27aおよびリニアガイド27b、支持
台26cの車輪などの移動機構27により両ステージ
C,B間を往復移動するよう構成されている。なお、前
記移動テーブル26の移動に伴い、昇降保持台21は、
降下した状態では、支持台26cより低い位置になるよ
うに設置されているため、移動テーブル26の移動を妨
げることはない。
The moving table 26 is moved between the stages C and B by an air cylinder 27a and a linear guide 27b provided between the exposure stage B and the alignment stage C, and a moving mechanism 27 such as wheels of a support 26c. It is configured to move back and forth. It should be noted that as the moving table 26 moves,
Since it is installed at a position lower than the support table 26c in the lowered state, it does not hinder the movement of the moving table 26.

【0063】また、図15および図6で示すように、前
記昇降保持台21の構成は、焼枠載置テーブル21a
と、この焼枠載置テーブル21aを昇降駆動するシリン
ダ装置21bと,前記焼枠載置テーブル21aの中央位
置に形成した一方の切欠部21cから横方向に突設した
接合部21dとを備えている。そして、前記接合部21
dは、上面に環状のゴムパッドを備え、図示しないエア
ーの吸引・排出動作を行うエアーポンプにホースなどで
連結されている。また、この結合部21dの設置位置
は、前記Xテーブル11の接合部9aの位置と離間した
同位置に設置されている。そのため、後述する下焼枠2
4が移動しても下焼枠24の接続部45と各接合部9
a,21dが当接合致できるように構成されている。な
お、各接合部9a…は、下焼枠の当接部の突設寸法によ
って設置高さを決めている。
Further, as shown in FIGS. 15 and 6, the construction of the elevating and holding base 21 is such that the baking frame placing table 21a is provided.
And a cylinder device 21b for driving the baking frame mounting table 21a up and down, and a joint 21d laterally protruding from one notch 21c formed at the central position of the baking frame mounting table 21a. There is. Then, the joint portion 21
The d has an annular rubber pad on its upper surface, and is connected to an air pump (not shown) for sucking and discharging air by a hose or the like. Further, the installation position of the coupling part 21d is installed at the same position as the position separated from the position of the bonding part 9a of the X table 11. Therefore, the lower baking frame 2 described later
4 moves, the connecting portion 45 of the lower baking frame 24 and each joint 9
It is configured such that a and 21d can be brought into contact with each other. The installation height of each joint 9a is determined by the protruding size of the contact portion of the lower baking frame.

【0064】図9ないし図11で示すように、前記下焼
枠24の構成は、ワークWを載置する複数の貫通孔24
bを備える透光板24aと、この透光板24aに重ねて
取り付けた給出入孔24dを形成した透光板24eとか
ら成る。そして、前記透光板24aには、各貫通孔24
bからの空気の流出入ができるように溝部24cが形成
されている。また、前記透光板24eの給出入孔24d
の位置には、前記接続部45が複数(図面では2ヵ所、
図7参照)に設けられている。この接続部45、45
は、前記した各位置の接合部9a、21d,26eと下
焼枠が移動するごとに当接合致する。
As shown in FIGS. 9 to 11, the structure of the lower baking frame 24 has a plurality of through holes 24 in which the work W is placed.
The transparent plate 24a includes a transparent plate 24a and a transparent plate 24e having a feeding / injecting hole 24d attached to the transparent plate 24a. Each of the through holes 24 is formed in the translucent plate 24a.
A groove 24c is formed so that air can flow in and out from b. Also, the feeding / injecting hole 24d of the translucent plate 24e
At the position of, there are a plurality of the connecting portions 45 (two in the drawing,
(See FIG. 7). This connecting portion 45, 45
Comes into contact with and abuts each time the joining frames 9a, 21d, 26e at the above-mentioned positions and the lower baking frame move.

【0065】前記下焼枠24の接続部45の構成は、図
9ないし図11で示すように、ボール弁45bが自由に
移動できる空間を備える接続部本体45aと、この接続
部本体45aの下部側に設けたボール弁45bの直径よ
り小さな径で形成された複数の開口孔45cとからな
る。そして、前記接続部本体26aの下部には、ボール
弁45bが納まる凹部45dが形成されている。
As shown in FIGS. 9 to 11, the connecting portion 45 of the lower baking frame 24 has a connecting portion main body 45a having a space in which the ball valve 45b can freely move, and a lower portion of the connecting portion main body 45a. And a plurality of opening holes 45c formed with a diameter smaller than the diameter of the ball valve 45b provided on the side. A recess 45d for accommodating the ball valve 45b is formed in the lower portion of the connecting portion main body 26a.

【0066】一方、上焼枠23は、図7で示すように、
上焼枠23の左右位置に、取り付け部23n,23nを
介してエアーシリンダ28aおよびリニアガイド28b
などの移動機構28により接続されてアライメントステ
ージBおよび露光ステージC間を移動するように設けら
れている。
On the other hand, the upper baking frame 23, as shown in FIG.
Air cylinders 28a and linear guides 28b are provided at the left and right positions of the upper baking frame 23 via mounting portions 23n and 23n.
Are provided so as to move between the alignment stage B and the exposure stage C.

【0067】そして、上焼枠23の構成は、図8で示す
ように、透光板23aと、この透光板23aを挟持する
上下の枠体23b,23cとから成る。また、前記透光
板23aの縁側には、ワークWを真空吸着するための貫
通孔23e、23eが穿設されており、ワーク当接面に
は、枠状に取り付けたシールゴム23dを有している。
なお、マスクフィルムMを真空吸着するための吸着溝2
3f(図9参照)などの吸着機構をワーク当接面の透光
板23aおよび枠体23b側に備えている(ガラス乾板
を使用する場合は、マスクフィルムMの吸着機構は必要
ない)。
As shown in FIG. 8, the upper baking frame 23 is composed of a transparent plate 23a and upper and lower frames 23b and 23c which sandwich the transparent plate 23a. Further, through holes 23e, 23e for vacuum-sucking the work W are formed on the edge side of the translucent plate 23a, and a seal rubber 23d attached in a frame shape is provided on the work contact surface. There is.
In addition, the suction groove 2 for vacuum-sucking the mask film M
A suction mechanism such as 3f (see FIG. 9) is provided on the light-transmitting plate 23a side and the frame body 23b side of the work contact surface (when the glass dry plate is used, the suction mechanism for the mask film M is not required).

【0068】また、図8および図9で示すように、前記
枠体23bには、真空吸着用の接続パット40、40
が、取付アーム40aを介して取り付けられている。こ
の接続パット40、40は、枠体23bで透光板23a
を挟持した際、前記透光板23aの貫通孔23e,23
eに到来する位置に設置されている。そして、接続パッ
ト40、40に連結されているホース41、41は、前
記枠体23b側に取付具(図8参照)を介して取り付け
られている。また、図9で示すように、接続パット40
は、透光板23aに当接するゴムなどの弾性部材で形成
した当接部と、この当接部40bを支持する部分にスプ
リング40cが取り付けられている。なお、上下の枠体
23b、23cは、図示しない蝶番とは反対側端部に設
けた手回しボルトなどで止め付けられている。また、ホ
ース41、41は、上枠体23b内に収納される構成と
しても良い。
As shown in FIGS. 8 and 9, the frame 23b has connection pads 40, 40 for vacuum suction.
Are mounted via the mounting arm 40a. The connecting pads 40, 40 are formed by the frame 23b and the translucent plate 23a.
When sandwiched between the through holes 23e, 23 of the translucent plate 23a.
It is installed at the position where it comes to e. Then, the hoses 41, 41 connected to the connection pads 40, 40 are attached to the frame body 23b side via attachments (see FIG. 8). Also, as shown in FIG.
The spring 40c is attached to the contact portion formed of an elastic member such as rubber that contacts the light transmitting plate 23a and the portion that supports the contact portion 40b. The upper and lower frames 23b and 23c are fixed by a hand-turning bolt or the like provided at the end opposite to the hinge (not shown). Further, the hoses 41, 41 may be housed in the upper frame 23b.

【0069】したがって、透光板23aを取り替える場
合は、手回しボルトを外せば、上枠体23bが蝶番を支
点に上昇して開口できるため、透光板23aをスライド
して外し、所望の透光板23aを入れ換えることがで
き、容易に交換可能である。なお、マスクフィルムM
は、透光板23aの吸着溝23fにより吸着する構成と
しているが、透光板23aにテープなどで止め付ける構
成としても構わない。
Therefore, when the translucent plate 23a is replaced, the upper frame 23b can be lifted up with the hinge as a fulcrum and opened by removing the hand-turning bolt. The plate 23a can be replaced, and can be easily replaced. The mask film M
In the above, the suction groove 23f of the translucent plate 23a adsorbs the adsorbent groove 23f, but the translucent plate 23a may be secured by a tape or the like.

【0070】上記したように、上下の焼枠23、24
は、その真空吸着手段の接続部45などの構成により、
次のように、ワークWが位置ズレが最小限で各ステージ
間を移動し、上下の焼枠23、24に保持でき、あるい
は、強制的に離脱することができる。
As described above, the upper and lower baking frames 23, 24
Due to the configuration of the connecting portion 45 of the vacuum suction means,
As described below, the work W can be moved between the stages with a minimum positional deviation and can be held by the upper and lower baking frames 23 or 24, or can be forcibly removed.

【0071】図6および図9で示すように、アライメン
ト整合台10側の接合部9aからの吸引動作を停止する
とほぼ同時に、上焼枠23の接続パッド40を介して真
空吸引すると、矢印で示すように透光板23aおよびシ
ールゴム23d下焼枠24で囲まれた空間の空気が吸引
される。このとき、下焼枠24の接続部45のボール弁
45bが、透光板24eの貫通穴24d側に吸い上げら
れ、貫通穴24dを塞ぐことで、前記空間の吸引が達成
でき、ワークWを上焼枠23と下焼枠24間に挟持可能
とする(アライメントステージBから露光ステージCに
移動の際)。
As shown in FIGS. 6 and 9, when the suction operation from the joint portion 9a on the side of the alignment alignment table 10 is stopped almost at the same time, vacuum suction is performed through the connection pad 40 of the upper baking frame 23, as indicated by an arrow. As described above, the air in the space surrounded by the transparent plate 23a and the seal rubber 23d and the lower baking frame 24 is sucked. At this time, the ball valve 45b of the connecting portion 45 of the lower baking frame 24 is sucked up to the side of the through hole 24d of the translucent plate 24e, and by closing the through hole 24d, suction of the space can be achieved, and the work W is lifted up. It can be sandwiched between the baking frame 23 and the lower baking frame 24 (when moving from the alignment stage B to the exposure stage C).

【0072】そして、露光ステージCから移動テーブル
にワークが受け渡される場合は、つぎの手順による。図
5および図10で示すように、昇降保持台21が上昇
し、その接合部26eを下焼枠24の一方の接続部に当
接合致させた後、上焼枠23の真空吸着動作を中止す
る。と同時に接合部21d側が吸引を開始すると、図1
0で示すように、接続部45のボール弁45bが透光板
24dの貫通穴24dから解放され降下し、矢印で示す
ように空気が、接続部本体45aの開口孔45cを介し
て吸引される。そして、ボール弁45dは、接続部本体
45aの凹部45dに嵌合して吸引動作を邪魔すること
がない。そのため、ワークWは、矢印で示す吸引動作に
より、下焼枠24の透光板23に吸着保持される。
Then, when the work is transferred from the exposure stage C to the moving table, the following procedure is performed. As shown in FIG. 5 and FIG. 10, the elevating and holding table 21 is moved upward, and the joining portion 26e thereof is brought into contact with one of the connecting portions of the lower baking frame 24, and then the vacuum suction operation of the upper baking frame 23 is stopped. To do. At the same time, when the joining portion 21d side starts suction, as shown in FIG.
As indicated by 0, the ball valve 45b of the connecting portion 45 is released from the through hole 24d of the translucent plate 24d and descends, and as indicated by an arrow, air is sucked through the opening hole 45c of the connecting portion main body 45a. . Further, the ball valve 45d does not interfere with the suction operation by fitting into the recess 45d of the connecting portion main body 45a. Therefore, the work W is sucked and held by the transparent plate 23 of the lower baking frame 24 by the suction operation indicated by the arrow.

【0073】また、昇降保持台21から移動テーブル2
6に下焼枠24を受け渡す場合は、昇降保持台21が降
下して移動テーブル26の接合部26eが下焼枠24の
他方の接合部(図示せず)に当接合致した瞬間に接合部
26e側からエアーの吸引を行うと共に、今までエアー
の吸引を行っていた昇降保持台21の接合部21dのエ
アーの吸引を停止することによって行われる。
In addition, the lifting table 21 to the moving table 2
When the lower baking frame 24 is transferred to 6, the joining is performed at the moment when the elevating holding table 21 is lowered and the joining portion 26e of the moving table 26 is brought into contact with the other joining portion (not shown) of the lower baking frame 24 and is brought into contact therewith. This is performed by sucking air from the side of the portion 26e and stopping the suction of air at the joining portion 21d of the elevating holding table 21, which has been sucking air until now.

【0074】さらに、移動テーブルが移動後、下焼枠2
4を再びアライメント整合台10に引き渡すと共に、下
焼枠24からワークWを離脱させる場合は、図6に示す
ように、移動テーブルが下焼枠24を保持した状態でア
ライメント整合台10の位置に到来する。そして、アラ
イメント整合台10のZ軸部14を上昇させる。そし
て、Xテーブル11の保持手段9にワークの下面側が当
接すると共に、接合部9aに下焼枠24の一方の接続部
が当接合致したとき、移動テーブル26側の接合部26
eの吸引動作を停止するとほぼ同時に、保持手段9の吸
引動作を行い、さらに接合部9eからエアーの吹き出し
を行う。
After the moving table is moved, the lower baking frame 2 is moved.
4 is transferred to the alignment matching table 10 again, and when the work W is removed from the lower baking frame 24, as shown in FIG. 6, the moving table is held at the position of the alignment matching table 10 while holding the lower baking frame 24. To come. Then, the Z-axis portion 14 of the alignment matching table 10 is raised. Then, when the lower surface side of the work comes into contact with the holding means 9 of the X table 11 and one connecting portion of the lower baking frame 24 comes into contact with the joining portion 9a, the joining portion 26 on the moving table 26 side is formed.
Almost at the same time when the suction operation of e is stopped, the suction operation of the holding means 9 is performed, and further the air is blown from the joint portion 9e.

【0075】したがって、図11の矢印で示すように、
送り込まれたエアーは、開口孔45cから透光板24e
の貫通穴24dを経て、透光板24aの各貫通孔24b
から噴出し、ワークWを透光板24eから強制的に離脱
させることができる。なお、上記エアーポンプのエアー
の吸引・吹き出し動作、および、各位置での切換え動作
は、図示しない電磁弁の作動により行われる構成として
いる。また、ステージB,C間とステージE,F間のワ
ークWの移動、位置決め、露光するための構成は同じで
あるため、ステージE,F間の説明は省略する。
Therefore, as indicated by the arrow in FIG.
The sent air is transmitted through the opening 45c to the transparent plate 24e.
Through the through holes 24d of each of the through holes 24b of the transparent plate 24a.
It is possible to forcibly separate the work W from the transparent plate 24e by ejecting from the transparent plate 24e. The air suction / blowing operation of the air pump and the switching operation at each position are performed by the operation of a solenoid valve (not shown). Further, since the structures for moving, positioning and exposing the work W between the stages B and C and between the stages E and F are the same, the description between the stages E and F is omitted.

【0076】また、露光作業がクリーンルームで行われ
るため、常に除湿されている状態となり、乾燥しすぎる
と、マスクフィルムM上面が変形破損の原因になると共
に、静電気が発生し易くなり、露光装置にとって、ま
た、ワークの受け渡し時の不具合を起こす原因となる。
そのため、図示してはいないが、各露光ステージC,F
には、加湿器のノズルを突出させており、適切な湿度を
保つように構成されている。そして、露光位置では、光
源装置からの紫外線その他の光線(赤外線など)などに
より、上焼枠側が熱を持つため、マスクフィルムの変形
が起こり易い。そのため、上焼枠側を冷却するため、冷
風を吹きつける構成としている。さらに、静電気による
弊害を除去するために、帯電防止の手段を備えている。
Further, since the exposure work is carried out in a clean room, it is always in a dehumidified state, and if it is excessively dried, the upper surface of the mask film M is deformed and damaged, and static electricity is easily generated. In addition, it may cause a problem when transferring the work.
Therefore, although not shown, each exposure stage C, F
The nozzle of the humidifier is projected so as to maintain an appropriate humidity. At the exposure position, since the upper baking frame side has heat due to ultraviolet rays or other rays (infrared rays, etc.) from the light source device, the mask film is easily deformed. Therefore, in order to cool the upper baking frame side, cold air is blown. Furthermore, in order to remove the harmful effects of static electricity, an antistatic means is provided.

【0077】帯電防止手段としては、イオン化された空
気を吹きつける構成としている。すなわち、露光ステー
ジ側に向かって、ノズル(図示せず)を設置し、このノ
ズルからプラスとマイナスのイオン化された空気を吹き
つけることで、マスクフィルムMおよびワークの密着に
よる静電気が帯電されているものを中和することができ
る。
As the antistatic means, ionized air is blown. That is, by installing a nozzle (not shown) toward the exposure stage side and blowing positive and negative ionized air from this nozzle, static electricity due to the close contact between the mask film M and the work is charged. Things can be neutralized.

【0078】次に、反転ステージDの構成および動作を
説明する。アライメントステージBから反転ステージD
にハンドラ25により搬送されたワークWは、表裏が反
転装置50により反転される。図16および図17で示
すように、反転ステージDの反転装置50の構成は、ワ
ークを吸着支持する吸着パッド52aを有する支持アー
ム52と、この支持アーム52の基端を取付板53を介
して回動自在に支持する回動支持部54と、この回動支
持部54を回転駆動させる駆動モータ55と、前記回動
支持部54および駆動モータ55を載置する支持台56
と、この支持台56などを所定方向に移動させる移動機
構としてのラック58、ピニオンおよびその駆動モータ
57、ガイド59とから成る。
Next, the structure and operation of the inversion stage D will be described. Alignment stage B to reversal stage D
The work W conveyed by the handler 25 is reversed by the reversing device 50. As shown in FIGS. 16 and 17, the configuration of the reversing device 50 of the reversing stage D is such that a support arm 52 having a suction pad 52a that suction-supports a work and a base end of the support arm 52 via a mounting plate 53. A rotation support part 54 that supports the rotation support part 54, a drive motor 55 that rotates the rotation support part 54, and a support base 56 on which the rotation support part 54 and the drive motor 55 are mounted.
And a rack 58 as a moving mechanism for moving the support 56 and the like in a predetermined direction, a pinion and its drive motor 57, and a guide 59.

【0079】また、図16に示すように、前記反転装置
50の両側には、昇降テーブル51、51が配置されて
いる。この昇降テーブル51は、ワークWの載置テーブ
ル51dと、この載置テーブル51dを昇降駆動する駆
動装置51cとから構成されている。そして、前記載置
テーブル51dは、その上にワークWを載置した際、ワ
ークWの予備位置決めをプリアライメント機構63が行
えるように、所定位置に溝部51a,51bを形成して
いる。この溝部51a,51bは、プリアライメント機
構63の各押動装置61、62の押動突起61a,62
aの数に対応して形成されている。なお、載置テーブル
51dは、予備位置決めおよびワークの載置が可能であ
れば、形状を問うものではない。
As shown in FIG. 16, lifting tables 51, 51 are arranged on both sides of the reversing device 50. The elevating table 51 includes a placing table 51d for the work W and a drive device 51c for raising and lowering the placing table 51d. The placing table 51d has grooves 51a and 51b formed at predetermined positions so that the pre-alignment mechanism 63 can pre-position the workpiece W when the workpiece W is placed on the placing table 51d. The groove portions 51a and 51b are formed by the pushing protrusions 61a and 62 of the pushing devices 61 and 62 of the pre-alignment mechanism 63.
It is formed corresponding to the number of a. It should be noted that the mounting table 51d is not limited to any shape as long as the preliminary positioning and the mounting of the work can be performed.

【0080】前記プリアライメント機構63は、図1
6、図19および図20で示すように、ワークWを四方
からワーク中心方向に押動する押動装置61、62を備
えている。前記押動装置61は、図19で示すように、
ワークWの厚みに対応してワークを押動する押動部分
と、この押動部分を移動させる移動機構部分とから構成
されている。そして、前記押動部分は、基台61e上に
左右対称に設けた、ワークWに当接して押動する押動突
起61aと、この押動突起61aを支持する支持板61
bと、この支持板61bを回動自在に留め付ける支持ピ
ン61cと、前記支持板61bの後部側に設けたスプリ
ング61dとから構成されている。
The pre-alignment mechanism 63 is shown in FIG.
As shown in FIG. 6, FIG. 19 and FIG. 20, there are provided pushing devices 61 and 62 for pushing the work W from the four directions toward the work center. The pushing device 61, as shown in FIG.
It is composed of a pushing portion for pushing the workpiece corresponding to the thickness of the workpiece W, and a moving mechanism portion for moving the pushing portion. The pushing portion is provided symmetrically on the base 61e and pushes against the workpiece W to push, and a support plate 61 for supporting the pushing projection 61a.
b, a support pin 61c for rotatably fastening the support plate 61b, and a spring 61d provided on the rear side of the support plate 61b.

【0081】また、前記移動機構部分は、基台61eを
支持する両脚部を有する架台61nと、この架台61n
の一方の脚部に設けた車輪部61pと、他方の脚部に設
けた駆動連結部61qとを備えている。そして、この駆
動連結部61qは、ガイド棒61fを摺動自在に保持し
ている。さらに、前記ガイド棒61は、このガイド棒6
1の両端に立設した支持部61g,61hに支持されて
いる。また、前記架台61nの他方の脚部先端は、タイ
ミングベルト61kに接続されている。そして、このタ
イミングベルト61kは、駆動モータ61jを備える一
方のプーリと、他方のプリー61mの間に懸け渡されて
いる。
Further, the moving mechanism portion includes a pedestal 61n having both legs for supporting the base 61e, and the pedestal 61n.
A wheel portion 61p provided on one leg portion and a drive connecting portion 61q provided on the other leg portion are provided. The drive connecting portion 61q slidably holds the guide rod 61f. Further, the guide rod 61 is the guide rod 6
It is supported by support portions 61g and 61h provided upright at both ends of the 1. The tip of the other leg of the pedestal 61n is connected to the timing belt 61k. The timing belt 61k is suspended between one pulley equipped with the drive motor 61j and the other pulley 61m.

【0082】したがって、駆動モータ61jが、駆動し
てプーリを回転させタイミングベルト61kを駆動させ
ると、このタイミングベルト61kの駆動にしたがっ
て、押動部分がワークW側に移動し、駆動モータ61j
の反転駆動によりタイミングベルト61jは、反転する
ため、押動装置61の押動部分がワークWから離間する
方向に移動する。
Therefore, when the drive motor 61j drives to rotate the pulley to drive the timing belt 61k, the pushing portion moves to the work W side according to the drive of the timing belt 61k, and the drive motor 61j.
Since the timing belt 61j is inverted by the inversion driving, the pushing portion of the pushing device 61 moves in the direction away from the work W.

【0083】また、押動突起61aを支持している支持
板61cが回動自在に取り付けられ、その支持板61c
の後部側にスプリングが伸長方向に付勢されている。そ
のため、ワークWの厚みが薄い場合でも、押動突起61
aがワークを押動する際に、ワークWを必要以上の力で
押して変形させることはない。
A supporting plate 61c supporting the pushing protrusion 61a is rotatably attached.
A spring is biased in the extension direction on the rear side. Therefore, even when the work W is thin, the pushing protrusion 61
When “a” pushes the work, the work W is not deformed by pushing with a force more than necessary.

【0084】なお、図19で示す61rは、押動突起6
1aの突出レベルがワークWの予備位置決めの動作以外
で邪魔な場合に、基台61eを上下動させるためのシリ
ンダ装置である。
Incidentally, 61r shown in FIG.
This is a cylinder device for moving the base 61e up and down when the protrusion level of 1a is an obstacle other than the preliminary positioning operation of the work W.

【0085】また、押動装置62は、図20で示すよう
に、基台62eの支持板62b、スプリング62dおよ
び押動突起62aが、一つだけの構成としている以外
は、前記押動装置61と同じ構成のため、説明は省略す
る。なお、押動装置62の各アルファベットを付した符
号は、押動装置61の各アルファベットの符号と対応し
ている。
As shown in FIG. 20, the pushing device 62 is different from the pushing device 61 except that the supporting plate 62b of the base 62e, the spring 62d and the pushing projection 62a are only one. Since the configuration is the same as, the description will be omitted. It should be noted that the alphabetical symbols of the pushing device 62 correspond to the alphabetical symbols of the pushing device 61.

【0086】上記したプリアライメント機構63は、搬
入ステージAの所定位置に設置されるものと同じ構成と
している。そして、図2で示すように、搬入ステージA
のプリアライメント機構3は、その押動装置3a,3b
および押動装置3c,3dが上記した押動装置61、6
1、62、62と同じ構成に形成されている。また、設
置位置により押動装置61、3a…は、対面する押動装
置61、3a…の駆動源を共有した構成とし、対面する
押動装置61…の各プーリに掛け渡したタイミングベル
トに架台の一端をそれぞれ取り付けた構成としてもよ
い。
The above-mentioned pre-alignment mechanism 63 has the same structure as that installed at a predetermined position of the carry-in stage A. Then, as shown in FIG.
The pre-alignment mechanism 3 has a pusher device 3a, 3b.
And the pushing devices 3c and 3d are the pushing devices 61 and 6 described above.
It is formed in the same structure as 1, 62, 62. In addition, depending on the installation position, the pushers 61, 3a ... Have a configuration in which the drive sources of the facing pushers 61, 3a, ... Are shared, and are mounted on a timing belt that is wound around each pulley of the facing pushers 61. It may be configured such that one end of each is attached.

【0087】なお、各ステージの作動開始・終了および
ワークWの移動開始・終了、設置位置などは、図示しな
い各種センサにより行われており、また、各装置の動作
を制御する制御部は、予め入力された装置全体のプログ
ラムおよび加工データのプログラムなどを、図2で示す
キーボードから入力して記憶部に記憶している。
The start and end of the operation of each stage, the start and end of the movement of the workpiece W, the installation position, etc. are performed by various sensors not shown, and the control unit for controlling the operation of each device is previously set. A program of the entire apparatus and a program of machining data that have been input are input from the keyboard shown in FIG. 2 and stored in the storage unit.

【0088】上記した露光装置1を使用してワークWの
表裏面を露光する際は、つぎの手順による。はじめに、
図1および図2で示すように、ワークWの流れ、およ
び、作業位置の関係を説明する(なお、ワークW1 から
ワークW6 は、ワークWの搬入順序を示すが図面ではW
としてのみ図示する)。ワークW1 は、搬入ステージA
で予備位置決め後、ハンドラ15により第1アライメン
トステージBに搬送される(矢印(イ)で示す)。そし
て、第1アライメントステージBでアライメント作業中
に、次のワークW2 が搬入ステージAに配置される。
When the front and back surfaces of the work W are exposed using the above-described exposure apparatus 1, the following procedure is performed. First,
As shown in FIGS. 1 and 2, the relationship between the flow of the work W and the work position will be described (the work W 1 to the work W 6 indicate the loading order of the work W.
Only as shown). The work W 1 is in the carry-in stage A
After the preliminary positioning by (1), the handler 15 conveys it to the first alignment stage B (indicated by an arrow (a)). Then, during the alignment work on the first alignment stage B, the next work W 2 is placed on the carry-in stage A.

【0089】アライメントが終了したワークW1 は、露
光ステージCに搬送される(矢印(ロ))。そして、搬
入ステージのワークW2 は、ハンドラ15により第1ア
ライメントステージBに搬送され(矢印(あ))、アラ
イメント作業が行われる。
The work W 1 for which alignment has been completed is conveyed to the exposure stage C (arrow (b)). Then, the work W 2 on the carry-in stage is carried to the first alignment stage B by the handler 15 (arrow (A)), and the alignment work is performed.

【0090】このとき、搬入ステージにはワークW3
配置され予備位置決めされる。そして、露光ステージB
で露光されたワークW1 は、移動テーブル26により第
1アライメントステージBに搬送されると共に、第1ア
ライメントステージBに位置しているアライメント済み
ワークW2 が、露光ステージCに搬送される(矢印
(い))。
At this time, the work W 3 is placed and preliminarily positioned on the carry-in stage. Then, the exposure stage B
The work W 1 exposed by is transferred to the first alignment stage B by the moving table 26, and the aligned work W 2 positioned on the first alignment stage B is transferred to the exposure stage C (arrow). (Yes)).

【0091】第1アライメントステージに戻った露光済
みワークW1 は、ハンドラ25により反転ステージDに
搬送される(矢印(ニ))。そして、次のワークW
3 は、ハンドラ15により第1アライメントステージに
搬送されアライメント作業が行われる。このとき、第1
露光ステージCでは、ワークW2 が露光された後移動テ
ーブル26に載置される。
The exposed work W 1 returned to the first alignment stage is conveyed to the reversing stage D by the handler 25 (arrow (d)). And the next work W
The handler 3 is transferred to the first alignment stage by the handler 15 and the alignment work is performed. At this time, the first
At the exposure stage C, the work W 2 is exposed and then placed on the moving table 26.

【0092】一方、反転ステージに搬送されたワークW
1 は、表裏が反転され(矢印(ホ))、予備位置決めさ
れた後、ハンドラ65により第2アライメントステージ
Eに搬送される(矢印(ヘ))。また、搬入ステージA
には、ワークW4 が配置されている。
On the other hand, the work W conveyed to the reversing stage
The front and back of 1 are reversed (arrow (e)), pre-positioned, and then transported to the second alignment stage E by the handler 65 (arrow (f)). In addition, carry-in stage A
A work W 4 is arranged in the.

【0093】そして、露光済みワークW2 は、第1アラ
イメントステージBに搬送される(矢印(う))と共
に、アライメント済みワークW3 は、第1露光ステージ
Cに搬送される。さらに、第1アライメントステージB
のワークW2 は、ハンドラ25により反転ステージDに
搬送される(矢印(え))と共に、搬入ステージのワー
クW4 が、第1アライメントステージBにハンドラ15
により搬送される。
Then, the exposed work W 2 is carried to the first alignment stage B (arrow (U)), and the aligned work W 3 is carried to the first exposure stage C. Furthermore, the first alignment stage B
The work W 2 of No. 1 is transferred to the reversing stage D by the handler 25 (arrow (e)), and the work W 4 of the carry-in stage is transferred to the first alignment stage B by the handler 15.
Is transported by.

【0094】また、ワークW1 は、アライメント作業
後、第2露光ステージに搬送される(矢印(ト))。そ
して、ワークW2 は、表裏反転され(矢印(お))、予
備位置決めされた後、第2アライメントステージEに、
ハンドラ65により搬送される(矢印(か))。このと
き、ワークW5 が搬入ステージAに配置される。ワーク
3 は、露光後、移動テーブル26により第1アライメ
ントステージBに搬送され、アライメント済みワークW
4 は、第1露光ステージCに搬送される。
After the alignment work, the work W 1 is conveyed to the second exposure stage (arrow (g)). Then, the work W 2 is turned upside down (arrow (o)), and after being preliminarily positioned, it is placed on the second alignment stage E.
It is conveyed by the handler 65 (arrow (or)). At this time, the work W 5 is placed on the carry-in stage A. After the exposure, the work W 3 is transferred to the first alignment stage B by the moving table 26, and the aligned work W 3
4 is transported to the first exposure stage C.

【0095】ワークW1 は、露光後、第2アライメント
ステージEに搬送され(矢印(チ))、アライメント済
みワークW2 は、第2露光ステージEに搬送される(矢
印(き))。そして、第1アライメントに位置するワー
クW3 は、ハンドラ25により反転ステージDに搬送さ
れると共に、搬入ステージAに位置しているワークW 5
は、第1アライメントステージにハンドラ15により搬
送される。
Work W1After the exposure, the second alignment
Transported to stage E (arrow (h)), aligned
Mi Work W2Are transported to the second exposure stage E (arrow
Mark. Then, the work located in the first alignment
Ku W3Is transferred to the inversion stage D by the handler 25.
And the work W located on the carry-in stage A Five
Is carried by the handler 15 to the first alignment stage.
Will be sent.

【0096】また、第2アライメントステージに位置す
るワークW1 は、ハンドラ75により搬出ステージGに
搬送され(矢印(リ))、反転ステージのワークW
3 は、第2アライメントステージEに搬送される。この
とき、搬入ステージAには、ワークW6 が配置される。
このように順次各ステージにワークWを位置決め、搬
送、露光などの作業をしながら、ワークの表裏を露光し
ていく。なお、ワークWの各位置での作業が的確に行わ
れない場合は、図3および図4の符号89で示す表示灯
が点滅あるいは、警報をならし異常を知らせる構成とし
ている。
Further, the work W 1 positioned on the second alignment stage is carried to the carry-out stage G by the handler 75 (arrow (re)), and the work W on the reversing stage.
3 is transported to the second alignment stage E. At this time, the work W 6 is placed on the carry-in stage A.
In this way, the front and back of the work are exposed while the work W is sequentially positioned, transported, and exposed on each stage. It should be noted that, when the work at each position of the work W is not performed accurately, the indicator light denoted by reference numeral 89 in FIGS. 3 and 4 blinks or an alarm is given to notify the abnormality.

【0097】このように、各ステージでは、常にワーク
が作業されており、生産性を高めることができる。つぎ
に、各ステージの各装置の作動を説明する。図2で示す
ように、搬入ステージAのワークWは、載置ローラ2が
駆動モータの駆動により回転してワークWが所定位置に
設置される。そして、ワークWが、所定位置に到来する
と、搬入ステージAの各載置ローラの間に設置されたプ
リアライメント機構3の押動装置3c,3d、3a,3
bは、ワークWの中心点に向かって、ワークWの四方か
ら押動する。そのためワークWは、中心点側に予備位置
決めされる。ワークの予備位置決めが終了した時点で、
必要があれば、各押動装置の押動突起部分をシリンダ装
置61r…の駆動により降下させる(図19、図20参
照)。
As described above, the work is always operated in each stage, and the productivity can be improved. Next, the operation of each device of each stage will be described. As shown in FIG. 2, with respect to the work W on the carry-in stage A, the mounting roller 2 is driven by the drive motor to rotate and the work W is set at a predetermined position. Then, when the work W arrives at a predetermined position, the pushing devices 3c, 3d, 3a, 3 of the pre-alignment mechanism 3 installed between the respective mounting rollers of the carry-in stage A.
b pushes from four sides of the work W toward the center point of the work W. Therefore, the work W is preliminarily positioned on the center point side. When the preliminary positioning of the work is completed,
If necessary, the pushing protrusions of the pushing devices are lowered by driving the cylinder devices 61r ... (See FIGS. 19 and 20).

【0098】ワークの予備位置決めが終了すると、ハン
ドラ15は、降下しての吸着部15aにワークWを吸着
して上昇し、アライメントステージBにワークWを搬送
する。そして、ハンドラ15が降下して吸着部15a
が、ワークWを、アライメント整合台10上の一方の下
焼枠24の上に載置する。
When the preliminary positioning of the work is completed, the handler 15 adsorbs the work W to the adsorbing portion 15a which descends and ascends, and conveys the work W to the alignment stage B. Then, the handler 15 descends and the suction portion 15a
However, the work W is placed on one lower baking frame 24 on the alignment matching table 10.

【0099】下焼枠24に載置されたワークWは、下焼
枠24に真空吸着されて保持され(図10参照)、図5
で示すように、CCDカメラ22によりワークWの位置
決めマーク(貫通孔、図示せず)が撮像される、このと
き、アライメント整合台10に設置した発光テーブル
6,6が黄色の光を発して、ワークWの位置決めマーク
の確認を正確かつ容易にしている(図6参照)。図5で
示すように、CCDカメラ22により撮像されたワーク
の位置決めマークは、制御部86で確認される。
The work W placed on the lower baking frame 24 is vacuum-sucked and held by the lower baking frame 24 (see FIG. 10).
As shown in, the CCD camera 22 images the positioning mark (through hole, not shown) of the work W. At this time, the light emitting tables 6 and 6 installed on the alignment alignment table 10 emit yellow light, The positioning mark of the work W is confirmed accurately and easily (see FIG. 6). As shown in FIG. 5, the positioning mark of the work imaged by the CCD camera 22 is confirmed by the control unit 86.

【0100】そして、位置ズレが無い場合は、露光ステ
ージCに位置している上焼枠23が、アライメント整合
台10の位置に移動機構28により搬送されて来る。上
焼枠23がアライメント整合台10上に到来すると、図
5で示すように、アライメント整合台10のZ軸部14
が仮想線で示すように、下焼枠24を上昇させて、上焼
枠23とワークWを当接させ、下焼枠24側の真空吸着
を解除する。そこで、上焼枠23の真空吸着作動によ
り、下焼枠24およびワークWを真空吸着する(図9の
状態)。
When there is no positional deviation, the upper baking frame 23 positioned on the exposure stage C is conveyed to the position of the alignment alignment table 10 by the moving mechanism 28. When the upper baking frame 23 arrives on the alignment matching table 10, as shown in FIG.
As indicated by a phantom line, the lower baking frame 24 is raised to bring the upper baking frame 23 and the work W into contact with each other, and the vacuum suction on the lower baking frame 24 side is released. Then, the lower baking frame 24 and the work W are vacuum-sucked by the vacuum suction operation of the upper baking frame 23 (state of FIG. 9).

【0101】CCDカメラ22は、ワークWが上下の焼
枠23、24で固定された状態で再度位置ズレの確認を
行い、適正であれば、上焼枠23の移動機構28により
露光ステージCにワークWおよび下焼枠24ごと搬送す
る。
The CCD camera 22 confirms the positional deviation again while the work W is fixed by the upper and lower baking frames 23 and 24, and if it is appropriate, moves it to the exposure stage C by the moving mechanism 28 of the upper baking frame 23. The work W and the lower baking frame 24 are conveyed together.

【0102】なお、上下の焼枠23、24でワークWを
保持した後に、位置ズレが生じた場合は、Z軸部14が
上昇して下焼枠24を保持(ワークも保持)する。そし
て、上焼枠23の真空吸着を解除すると共に、アライメ
ント整合台10のZ軸部14を降下させ、上焼枠23を
露光ステージCに移動手段で移動させ、再びアライメン
ト作業をCCDカメラ22を介して行う。
If the work W is held by the upper and lower baking frames 23 and 24, and if a positional deviation occurs, the Z-axis portion 14 moves up to hold the lower baking frame 24 (and holds the work). Then, the vacuum adsorption of the upper baking frame 23 is released, the Z-axis portion 14 of the alignment alignment table 10 is lowered, the upper baking frame 23 is moved to the exposure stage C by the moving means, and the alignment work is performed again by the CCD camera 22. Done through.

【0103】一方、図5で示すように、露光ステージに
配置している移動テーブル26は、他方の下焼枠24を
載置台26に載置しており、移動機構27により第1ア
ライメントステージBのアライメント整合台10側に、
その他方の下焼枠24を搬送する。そして、移動テーブ
ル26は、再び、露光ステージC側に移動機構27によ
り搬送される。
On the other hand, as shown in FIG. 5, the moving table 26 arranged on the exposure stage has the lower baking frame 24 mounted on the mounting table 26, and the moving mechanism 27 causes the first alignment stage B to move. On the alignment alignment table 10 side of
The other lower baking frame 24 is conveyed. Then, the moving table 26 is again transported to the exposure stage C side by the moving mechanism 27.

【0104】なお、移動テーブル26からアライメント
整合台10に下焼枠24を受け渡す場合は、移動テーブ
ル26に載置されたワークの下面位置より、アライメン
ト整合台10のワーク載置面位置のレベルが低く設置さ
れているため、移動テーブル10に載置されたワークW
が、アライメント整合台10の直上に移動された後、ア
ライメント整合台10は、Z軸部14をやや上昇させワ
ークをXテーブルの保持手段9などにより下焼枠24を
吸着保持する。そして、アライメント整合台10がやや
上昇している間に、移動テーブル26は、再び、露光ス
テージC側に搬送されて行く。移動テーブル26が移動
すると、アライメント整合台10は、Z軸部14を降下
させて次のワークWの到来を待機している。
When the lower baking frame 24 is transferred from the moving table 26 to the alignment aligning table 10, the level of the work placing surface position of the alignment aligning table 10 from the lower surface position of the work placed on the moving table 26. The work W placed on the moving table 10 is installed at a low position.
However, after being moved right above the alignment matching table 10, the alignment matching table 10 raises the Z-axis portion 14 slightly and holds the work by suction by the holding means 9 of the X table or the like. Then, while the alignment alignment table 10 is slightly elevated, the moving table 26 is again conveyed to the exposure stage C side. When the moving table 26 moves, the alignment alignment table 10 lowers the Z-axis portion 14 and waits for the next work W to arrive.

【0105】つぎに、ワークがアライメントステージB
から露光ステージCに移動すると、紫外線照射ステージ
Hの光源装置33から紫外線が照射される。そして、図
4および図15で示すように、紫外線は、反射鏡34、
フライアイレンズ35および切替えミラー36を介して
大反射鏡20aに導かれる。さらに、大反射鏡20aか
ら垂直光が、上下の焼枠23、24で挟持されているワ
ークWに照射して露光作業が行われる。したがって、光
源装置から照射された光軸の方向は、切替えミラー36
までは、垂直面に沿って進行し、切替えミラー36から
は、垂直面から角度をもって進行する。そのため、光源
装置33からワークWまでが、狭い範囲に収納されてい
ても、投射露光を可能としている。
Next, the work is the alignment stage B.
When moving from the exposure stage C to the exposure stage C, ultraviolet rays are emitted from the light source device 33 of the ultraviolet irradiation stage H. Then, as shown in FIGS. 4 and 15, the ultraviolet rays are reflected by the reflecting mirror 34,
It is guided to the large reflecting mirror 20a via the fly-eye lens 35 and the switching mirror 36. Further, vertical light is radiated from the large reflecting mirror 20a to the work W sandwiched between the upper and lower baking frames 23, 24, and the exposure work is performed. Therefore, the direction of the optical axis emitted from the light source device is changed by the switching mirror 36.
Up to the vertical plane, and from the switching mirror 36, it travels at an angle from the vertical plane. Therefore, even if the light source device 33 to the work W are accommodated in a narrow range, projection exposure is possible.

【0106】図5で示すように、ワークWの一方面が露
光されると、露光ステージCに位置している昇降保持台
21の焼枠載置テーブル21aがシリンダ装置21bの
作動により上昇して下焼枠24の下面側に当接する。そ
して、上焼枠の真空吸着が解除され、ワークWは、下焼
枠24に真空吸着された状態で(図9から図10の状
態)、焼枠載置テーブル21aがシリンダ装置21bの
作動により降下し、移動テーブル26の載置台26aに
受け渡される。さらに、移動テーブル26は、下焼枠2
4を載置した状態で、移動機構27により再びアライメ
ントステージBに移動する。移動テーブル26により搬
送されるワークWを保持した下焼枠24は、移動機構2
7により、アライメント整合台10のXテーブル11上
の所定位置に常に搬送される。
As shown in FIG. 5, when one surface of the work W is exposed, the baking frame mounting table 21a of the elevating holding table 21 located on the exposure stage C is raised by the operation of the cylinder device 21b. It contacts the lower surface side of the lower baking frame 24. Then, the vacuum suction of the upper baking frame is released, and the work W is vacuum sucked by the lower baking frame 24 (states of FIG. 9 to FIG. 10) and the baking frame placing table 21a is operated by the cylinder device 21b. It descends and is transferred to the mounting table 26a of the moving table 26. Furthermore, the moving table 26 has a lower baking frame 2
In the state where 4 is mounted, it is moved to the alignment stage B again by the moving mechanism 27. The lower baking frame 24 holding the work W conveyed by the moving table 26 is moved by the moving mechanism 2
7, the sheet is always conveyed to a predetermined position on the X table 11 of the alignment alignment table 10.

【0107】Xテーブル11上に到来した下焼枠24
は、Xテーブル11の保持手段9により下焼枠24を保
持する。そして、下焼枠24に真空吸着されているワー
クWは、下焼枠24の接続部45と当接合致している接
合部9a側から、エアーを吹き出すことにより、(図1
1参照)下焼枠24の透光板24aから離脱する。その
後、ワークWは、ハンドラ25により反転ステージに搬
送される。なお、ワークWがズレることなく真空吸着さ
れた状態での各ステージ間に受け渡される詳細は、前記
したので省略している。
The lower baking frame 24 arriving on the X table 11
Holds the lower baking frame 24 by the holding means 9 of the X table 11. Then, the work W vacuum-sucked to the lower baking frame 24 is blown out with air from the side of the joint 9a that is in contact with the connecting portion 45 of the lower baking frame 24 (see FIG. 1).
1) Remove the lower baking frame 24 from the transparent plate 24a. Then, the work W is conveyed to the reversing stage by the handler 25. The details of the work W transferred between the stages in the vacuum suctioned state without displacement are omitted because they have been described above.

【0108】つぎに、図18(a),(b),(c)で
示すように、反転ステージDに到来したワークWは、ワ
ークを保持しているハンドラ25が降下し、上昇してき
た昇降テーブル51の載置テーブル51dに受け渡す。
そして、ワークWを載置した昇降テーブル51が降下
し、反転装置50の支持アーム52の吸着パッド52a
にワークWを吸着させることで受け渡す(図18(a)
の状態)。
Next, as shown in FIGS. 18 (a), 18 (b) and 18 (c), the work W arriving at the inversion stage D is lifted up and down by the handler 25 holding the work. It is delivered to the placement table 51d of the table 51.
Then, the elevating table 51 on which the work W is placed descends, and the suction pad 52a of the support arm 52 of the reversing device 50.
The work W is adsorbed and transferred to the wafer (Fig. 18 (a)).
State).

【0109】そして、支持アーム52を支持する回動支
持部54を駆動モータ55の駆動により回動させ、ワー
クを保持したまま支持アーム52を直立させると共に、
ガイド59およびラック58に沿って、駆動モータ57
の駆動によりピニオン57を回転させて、全体をラック
58の一端から他端側まで移動させる(図18(b)か
ら(c)の実線状態)。
Then, the rotation support portion 54 for supporting the support arm 52 is rotated by the drive of the drive motor 55, so that the support arm 52 is erected while holding the work.
Drive motor 57 along guide 59 and rack 58
The pinion 57 is rotated by the drive of (1) to move the entire rack 58 from one end to the other end (solid line state in FIGS. 18B to 18C).

【0110】さらに、移動端部で連続して駆動モータ5
4を駆動させ、ワークWを保持している支持アームを矢
印の方向に回動させ、昇降テーブル51の載置台51d
に表裏反転したワークWを載置して、支持アーム52の
吸着パッド52aの真空吸着を解除する(図18(c)
の仮想線の状態)。したがって、ワークWは、その表裏
が反転される。
Further, the drive motor 5 is continuously connected at the moving end.
4 is driven to rotate the support arm holding the work W in the direction of the arrow to set the mounting table 51d of the lifting table 51.
The work W which has been turned upside down is placed on and the vacuum suction of the suction pad 52a of the support arm 52 is released (FIG. 18C).
State of the virtual line). Therefore, the front and back of the work W are reversed.

【0111】また、ワークWを表裏反転した反転装置5
0は、支持アームを図18(c)の実線で示すように直
立させた状態に作動する。そして、プリアライメント機
構63によりワークWの予備位置決め作業が行われる。
この予備位置決め作業は、図16で示すように、各押動
装置61、62が、実線から仮想線の位置に移動してワ
ークWの四方からワークWの中心側にワークWを押動し
て位置決めする。この作業は、図19および図20で示
すように、各押動装置61、62の駆動モータ61j、
62jを駆動させ、タイミングベルト61を回動させる
ことで、各押動装置61、62をワークW側に移動させ
て行うものである。
In addition, the reversing device 5 in which the work W is reversed upside down.
0 operates the support arm in the upright state as shown by the solid line in FIG. 18 (c). Then, the pre-alignment mechanism 63 performs the preliminary positioning work of the work W.
In this preliminary positioning work, as shown in FIG. 16, each of the pushing devices 61 and 62 moves from the solid line to the position of the imaginary line to push the work W from the four sides of the work W toward the center of the work W. Position. As shown in FIGS. 19 and 20, this work is performed by the drive motor 61j of each pushing device 61, 62,
By driving 62j and rotating the timing belt 61, the pushing devices 61 and 62 are moved to the work W side.

【0112】予備位置決めが終了したワークWは、昇降
テーブル51の上昇と、ハンドラ65の下降によりハン
ドラ65の吸着部65aに吸着され、ハンドラ65が上
昇して、第2アライメントステージEに搬送されること
になる。なお、アライメント作業および露光作業は、前
記第1アライメントステージBおよび第1露光ステージ
Cで説明した動作を繰り返し行いワークWの裏面が露光
される。そして、両面が露光されたワークWは、第2ア
ライメントステージEからハンドラ75により搬出ステ
ージGに搬出される。したがって、ワークWの表裏が露
光され、一連の露光作業が終了する。
The work W for which the preliminary positioning has been completed is sucked by the suction portion 65a of the handler 65 by the raising of the elevating table 51 and the lowering of the handler 65, and the handler 65 is raised and conveyed to the second alignment stage E. It will be. In the alignment work and the exposure work, the operation described for the first alignment stage B and the first exposure stage C is repeated to expose the back surface of the work W. Then, the work W whose both surfaces are exposed is carried out from the second alignment stage E to the carry-out stage G by the handler 75. Therefore, the front and back of the work W are exposed, and a series of exposure operations is completed.

【0113】なお、この発明は、上記した実施例に限ら
れるものではなく、例えば、二基の下焼枠と一基の下焼
枠の構成では、露光ステージとアライメントステージと
が同一にある露光装置に使用することも可能である。図
22で示すように、露光装置140は、搬入ステージ1
41と、露光アライメントステージ142と、搬出ステ
ージ143とから構成され、真空フレームの上焼枠14
4aと、下焼枠144bとが分離して設置され、アライ
メント整合台145の上昇により合体して真空フレーム
となる構成としている。そして、下焼枠144b、14
4bは、アライメント整合台145の上と、搬出側(次
作業位置)に配置されている。
The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, in the configuration of two lower baking frames and one lower baking frame, the exposure stage and the alignment stage have the same exposure. It can also be used in a device. As shown in FIG. 22, the exposure apparatus 140 includes the carry-in stage 1
41, an exposure alignment stage 142, and a carry-out stage 143.
4a and the lower baking frame 144b are installed separately from each other, and are combined by the rise of the alignment matching table 145 to form a vacuum frame. And the lower baking frames 144b, 14
4b is arranged on the alignment alignment table 145 and on the carry-out side (next work position).

【0114】したがって、送りローラ146により搬入
ステージに到来したワークWは、ハンドラ147により
吸着され、下焼枠144b上に載置される。そして、撮
像カメラ148により位置決めマークが確認されると共
に、位置決めが行われる。さらに、アライメント整合台
145の上昇により、上下の焼枠144a,144bが
合体した状態で再び撮像カメラ148により確認され、
適正であれば露光作業が行われる。
Therefore, the work W that has arrived at the carry-in stage by the feed roller 146 is adsorbed by the handler 147 and placed on the lower baking frame 144b. Then, the positioning mark is confirmed by the imaging camera 148, and the positioning is performed. Further, when the alignment matching table 145 is lifted, the upper and lower baking frames 144a and 144b are confirmed by the imaging camera 148 again,
If appropriate, the exposure operation is performed.

【0115】一方、降下したアライメント整合台145
は、搬送側に設置されている他の下焼枠144bを載置
可能としている。そのため、搬送手段(図面では送りロ
ーラ149の駆動を図示しているが、下焼枠の両側を保
持して搬送する搬送ハンドラなどその他の構成でもよ
い)により搬出位置にある他の下焼枠144bを搬送し
て載置する。そして、ハンドラ147によりつぎのワー
クを下焼枠144bの上に載置する。
On the other hand, the lowered alignment alignment table 145
Allows another lower baking frame 144b installed on the transport side to be placed. Therefore, another lower baking frame 144b located at the carry-out position by the conveying means (the driving of the feed roller 149 is shown in the drawing, but other structures such as a conveying handler that holds and conveys both sides of the lower baking frame may be used). Are transported and placed. Then, the handler 147 places the next work on the lower baking frame 144b.

【0116】また、露光済みワークは、上焼枠144a
が搬送手段(図示せず)により搬出側に移動してワーク
Wを下焼枠144bに保持した状態で送りローラ149
上に昇降手段(図示せず)などを介して載置する(上焼
枠が移動しない場合は、上記搬送ハンドラなどの搬送手
段により、ワークと下焼枠が搬送される)。そして、搬
出出口側に移動していたハンドラ150が到来してワー
クを吸着し、搬出側に搬送する。したがって、上焼枠と
二基の下焼枠の構成がワークの露光作業効率を向上する
ことができる。
The exposed work is the upper baking frame 144a.
Is moved to the unloading side by the transporting means (not shown) and the work W is held by the lower baking frame 144b.
The work and the lower baking frame are transferred onto the upper side via an elevating means (not shown) or the like (when the upper baking frame does not move, the transfer means such as the transfer handler transfers the work and the lower baking frame). Then, the handler 150 that has moved to the carry-out / outlet side arrives, sucks the work, and conveys the work to the carry-out side. Therefore, the structure of the upper baking frame and the two lower baking frames can improve the work efficiency of exposing the work.

【0117】また、前記大反射鏡は、ワークWが求める
露光精度により、平面反射鏡を使用したり、垂直光を反
射する放物面鏡、疑似球面鏡あるいは擬似放物面鏡であ
っても構わない。そして、光源装置33は、隣接する露
光ステージC,F側に開閉扉を形成し、スライドレー
ル、移動機構などにより各露光ステージC,F側に移動
可能な構成としても良い。したがって、必要に応じて露
光ステージC,F側に移動させ、その位置で、紫外線照
射をしてワークを露光することを可能とする。そのた
め、ワークから光源までが、狭い範囲に設置されていて
も、投射露光を可能としている。
The large reflecting mirror may be a flat reflecting mirror, a parabolic mirror that reflects vertical light, a pseudo spherical mirror or a pseudo parabolic mirror, depending on the exposure accuracy required by the work W. Absent. Further, the light source device 33 may have a structure in which an opening / closing door is formed on the adjacent exposure stages C and F, and can be moved to the respective exposure stages C and F by a slide rail, a moving mechanism, or the like. Therefore, it is possible to expose the work by moving it to the exposure stages C and F side as necessary and irradiating ultraviolet rays at that position. Therefore, even if the work to the light source are installed in a narrow range, projection exposure is possible.

【0118】また、下焼枠の接続部は、開口孔45c
が、エアーの送り込み、吸引動作の際、ボール弁でその
開口孔45cを塞ぐことがない構成であればよいため、
例えば、開口孔45cの近傍に突起を設け、この突起
が、ボール弁で開口孔を塞ぐことができない構成とする
ことでも良い。
Further, the connecting portion of the lower baking frame has an opening hole 45c.
However, since it is sufficient that the ball valve does not close the opening hole 45c during the air feeding and suction operations,
For example, a configuration may be employed in which a protrusion is provided near the opening hole 45c and the protrusion cannot block the opening hole with a ball valve.

【0119】また、図23に示すように、接続部45′
の構成は、下焼枠の透光板に当接する側に、開口部45
fを設けた取付板45eを接続部本体45′に設け、他
方の開口孔45c1 を実線で示すように側面側に設けた
構成とすることや、他方の開口孔45c2 を仮想線で示
すように傾斜させて側面側に設けることにしても良い。
この際、各位置の接合部の構成は、垂直断面形状がコ字
形に形成され、接続部の開口孔45c1 にエアーの吸引
・送り出し動作ができるように開口が形成されている構
成としている。
Further, as shown in FIG. 23, the connecting portion 45 '
In the configuration of, the opening 45 is provided on the side of the lower baking frame that comes into contact with the transparent plate.
provided a mounting plate 45e provided with a f in the connecting body 45 ', showing the other opening hole 45 c 1 and be configured to provided on the side surface side as shown by the solid line, the other opening hole 45 c 2 in phantom It may be inclined and provided on the side surface side.
At this time, the joint portion at each position is formed such that the vertical cross-sectional shape is U-shaped, and an opening is formed in the opening hole 45c 1 of the connection portion so that air suction / delivery operations can be performed.

【0120】さらに、図24で示すように、接続部を下
焼枠の透光板24e′の板厚内に埋設する構成としても
よく、接続部の各構成は、上記したようにボール弁45
b′と、接続部本体45a′と、複数の開口孔45c′
と、傾斜面24d′を有する開口部などから成る。
Further, as shown in FIG. 24, the connecting portion may be embedded in the thickness of the transparent plate 24e 'of the lower baking frame, and each connecting portion has the ball valve 45 as described above.
b ', the connecting portion body 45a', and the plurality of opening holes 45c '
And an opening having an inclined surface 24d '.

【0121】また、図21に示すように、上焼枠の構成
は、上フレーム23b′と、透光板23a′と、下フレ
ーム23c′とから成るようにしても良く。そして、上
フレーム23b′には、真空吸着用の接続パット40、
40が、上フレーム23b′を貫通するように設けられ
ている。なお、下フレーム23c′には、上フレーム2
3b′と嵌合する嵌合ピン23gが設けられいる。そし
て、このピン23gの反対側端部に設けた止付部分によ
り、上下のフレーム23c′、23b′を透光板23
a′を間にして一体に止め付けている。なお、接続パッ
ト40、その他の構成は、前記した上焼枠と同じ構成と
している。
As shown in FIG. 21, the upper baking frame may be composed of an upper frame 23b ', a light transmitting plate 23a' and a lower frame 23c '. The upper frame 23b 'has a connection pad 40 for vacuum suction,
40 is provided so as to penetrate the upper frame 23b '. The lower frame 23c 'has an upper frame 2
A fitting pin 23g for fitting with 3b 'is provided. Then, the upper and lower frames 23c 'and 23b' are attached to the translucent plate 23 by the fastening portion provided at the opposite end of the pin 23g.
It is fixed integrally with a '. The connection pad 40 and other components are the same as those of the upper baking frame described above.

【0122】したがって、上下方向にフレームを移動さ
せることで、上焼枠の透光板が容易に取り外し可能とな
り、透光板を自動装置により取り替えする場合には最適
な構造とすることになる。なお,透光板は上フレームの
みで保持可能な構成,例えば,透光板の側面周囲に縁枠
を取り付け,この縁枠を上フレームに設けた爪部で着脱
自在に保持する構成にすることでも良い。したがって,
上焼枠の構成は,上フレームと透光板のみで構成でき
る。
Therefore, by moving the frame in the vertical direction, the transparent plate of the upper baking frame can be easily removed, and the structure is optimal when the transparent plate is replaced by an automatic device. The translucent plate can be held only by the upper frame. For example, an edge frame is attached around the side surface of the translucent plate, and the edge frame is detachably held by the claws provided on the upper frame. But good. Therefore,
The upper baking frame can be composed of only the upper frame and the transparent plate.

【0123】また、露光ステージに設けられている昇降
保持台は、移動テーブルの載置台と支持台の間に一体に
設けた構成とし、移動テーブルが、アライメント整合台
側に移動した際、邪魔にならない形状、例えばコ字形
(載置台より小さな形状)として構成しても良い。
Further, the elevating and holding table provided on the exposure stage is constructed so as to be integrally provided between the mounting table and the supporting table of the moving table, and the moving table is an obstacle when moving to the alignment alignment table side. It may be configured as a shape that does not become, for example, a U-shape (a shape smaller than the mounting table).

【0124】そして、図25(a)(b)で示すよう
に、上焼枠23がアライメント終了後のワークおよび下
焼枠を吸着保持して露光ステージに搬送する場合は、上
焼枠23側の真空吸着手段によりワークおよび下焼枠を
保持するが、予期せぬ原因により(例えば停電、故障な
ど)、真空吸着状態が解除されてワークごと下焼枠を落
下させな構成として良い。そのため、保持補助手段1
9、19を上焼枠23側に設けた構成としている。
Then, as shown in FIGS. 25 (a) and 25 (b), when the upper baking frame 23 sucks and holds the work after the alignment and the lower baking frame and conveys them to the exposure stage, the upper baking frame 23 side Although the work and the lower baking frame are held by the vacuum suction means, the vacuum suction state may be released and the lower baking frame may not be dropped together with the work due to an unexpected cause (for example, power failure or failure). Therefore, the holding assist means 1
9 and 19 are provided on the upper baking frame 23 side.

【0125】この保持補助手段19は、上焼枠23側に
設けた本体部19aと、この本体部19aから水平方向
に出没自在に設けた支持部19bなどから構成されてい
る。そのため、下焼枠24をワークWごと上焼枠23の
接続パット40などの吸着手段で吸着保持すると、左右
の保持補助手段19、19の支持部19b.19bが下
焼枠24の中心方向に突出して、下焼枠24の下面側を
当接支持する。したがって、上焼枠23の吸着手段が途
中で停止しても、保持補助手段により下焼枠24および
ワークWは、落下することはない。なお、上焼枠23が
下焼枠24およびワークを適切に搬送し、露光終了後、
保持補助手段19の支持部19bを没入して解除し、下
焼枠24が上焼枠23と分離可能名状態になる構成とし
ている。
The holding assisting means 19 is composed of a main body portion 19a provided on the upper baking frame 23 side, a support portion 19b provided so as to be retractable in the horizontal direction from the main body portion 19a, and the like. Therefore, when the lower baking frame 24 is sucked and held together with the work W by the suction means such as the connecting pad 40 of the upper baking frame 23, the supporting portions 19b. 19b projects toward the center of the lower baking frame 24, and abuts and supports the lower surface side of the lower baking frame 24. Therefore, even if the suction means of the upper baking frame 23 is stopped midway, the lower baking frame 24 and the work W are not dropped by the holding assisting means. The upper baking frame 23 appropriately conveys the lower baking frame 24 and the work, and after the exposure is completed,
The supporting portion 19b of the holding assisting means 19 is immersed and released so that the lower baking frame 24 and the upper baking frame 23 can be separated from each other.

【0126】また、上焼枠の,ワークおよび下焼枠保持
手段として上記した保持補助手段を複数取り付けて替り
としても構わない(この場合、下焼枠の構成は、ボール
弁を接続部に必要としない構成で足りる)こと等、この
発明の要旨を逸脱しない範囲であれば、種々の変更がで
きることは勿論である。
Further, a plurality of the above-mentioned holding assisting means may be attached and replaced as the work and the lower baking frame holding means of the upper baking frame (in this case, the structure of the lower baking frame requires a ball valve at the connecting portion). It is needless to say that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention, such as the constitution which is not required).

【0127】[0127]

【発明の効果】以上に述べたごとく本発明は次の優れた
効果を発揮する。 (1) 露光装置は、各ステージの配置および装置を所定の
構成にしているため、露光作業が行われるクリーンルー
ムの作業位置を従来の露光装置に比べ40パーセント以
上縮小することができる。 (2) 露光装置は、一つの光源装置により、ワークの両面
を露光するため、装置の構成が小さくて済み、消費電力
も半減することができる。 (3) ワークを保持する上焼枠は、ワークを真空吸着する
ための吸引ホースおよび吸着パッド等の吸引機構を透光
板のフレームに取り付けているため、露光作業により透
光板が劣化した際、透光板の交換が容易にできる。
As described above, the present invention exhibits the following excellent effects. (1) In the exposure apparatus, since the arrangement of each stage and the apparatus have a predetermined configuration, the working position of the clean room where the exposure work is performed can be reduced by 40% or more as compared with the conventional exposure apparatus. (2) Since the exposure apparatus exposes both sides of the work with one light source device, the device configuration can be small and the power consumption can be halved. (3) The upper baking frame that holds the work is attached to the frame of the translucent plate with a suction hose and a suction pad for vacuum adsorbing the work, so when the translucent plate deteriorates due to exposure work. , The translucent plate can be easily replaced.

【0128】(4) ワークを吸引して搬送する下焼枠は、
接続部を備えているためワークと下焼枠の透光板に吸引
保持すると共に、強制的に離脱することができ、作業性
の向上を可能とする。また、露光装置の構成上複数(二
基以上)の下焼枠を使用する場合となっても対応するこ
とができる。 (5) 一基の上焼枠と二基の下焼枠が各位置で分離・合体
を繰り返し、ワークを位置決め・搬送・露光などの作業
を行っても、下焼枠の接続部と、各位置に設置した接合
部が当接合体してエアーポンプの吸引・吹き出し作業を
可能にしているため、下焼枠上のワークは位置ズレをお
こすことが無い。 (6) ワークを反転する反転ステージは、プリアライメン
ト機構、ワークの反転装置を備えているため、作業スペ
ースを取ることなくワークの表裏を反転することができ
る。
(4) The lower baking frame that sucks and conveys the work is
Since it is provided with the connecting portion, it can be sucked and held by the work and the translucent plate of the lower baking frame, and can be forcibly separated from the work, thereby improving workability. In addition, even when a plurality of (two or more) lower baking frames are used due to the structure of the exposure apparatus, it is possible to deal with this. (5) One upper baking frame and two lower baking frames are separated and united at each position repeatedly, and even if work such as positioning, transporting, and exposing the work is performed, the connecting part of the lower baking frame and each Since the joint part installed at the position makes this joint body and enables suction / blowing work of the air pump, the work on the lower baking frame will not be displaced. (6) Since the reversing stage for reversing the work is equipped with the pre-alignment mechanism and the work reversing device, the front and back of the work can be reversed without taking up a work space.

【0129】(7) 反転ステージで使用される反転装置
は、ワークを吸着支持アームで支持し、回動支持部を回
動させながら、移動機構により回動支持部を移動端まで
移動させ、ワークの表裏反転を行うため、反転作業が的
確で、また作業スペースをとることがない。 (8) 紫外線照射ステージは、光源装置からの紫外線を平
面反射鏡、フライアイレンズを経て、左右に紫外線の方
向を切り替える切替えミラーを介して各露光ステージに
照射しているため、光軸が三次元方向に進行し、光源か
らワークまでの紫外線の距離が短くなり、装置の小型
化、ワークの露光作業の時間的促進を図ることができ
る。
(7) In the reversing device used in the reversing stage, the work is supported by the suction support arm, and while the rotation supporting part is rotated, the rotation supporting part is moved to the moving end by the moving mechanism to move the work. Since the front and back are reversed, the reversing work is accurate, and no work space is required. (8) The UV irradiation stage irradiates the UV light from the light source device to each exposure stage through a plane mirror and a fly-eye lens, and through a switching mirror that switches the direction of the UV light to the left and right, so the optical axis is tertiary. The light travels in the original direction and the distance of the ultraviolet rays from the light source to the work is shortened, so that it is possible to reduce the size of the apparatus and accelerate the work of exposing the work.

【0130】(9) ハンドラは、当接部のワーク当接面よ
り内側に吸着パッドの下端を設置しているため、ワーク
の厚みが薄い場合でもワークを吸着力で変形することな
く保持して搬送することができる。 (10)上下の焼枠で構成される真空フレームは、ワークの
位置決め確認作業および露光作業中は、ワークを挟持し
て真空フレームの状態で作業し、位置決め作業および露
光済みワークの搬送は、2基の下焼枠に載置した状態で
行われるため、ワークの位置決めおよび露光作業が効率
良く行える。さらに、2基の下焼枠と1基の上焼枠から
構成される真空フレームは、2基の下焼枠が露光位置お
よびアライメント位置を順次往復するため、露光装置の
露光ステージおよびアライメントステージの位置にかか
らわず、作業効率を高めることができる。 (11)アライメント整合台は、下焼枠を分離保持自在と
し、下焼枠のワーク当接面から連通した接続部に合致す
る接合部を備えているため、下焼枠上ワークのアライメ
ント作業および露光済みワークを保持している下焼枠か
らワークの分離を容易にすることが可能である。
(9) Since the handler installs the lower end of the suction pad inside the work contact surface of the contact portion, even if the work is thin, the work can be held without being deformed by the suction force. Can be transported. (10) The vacuum frame consisting of the upper and lower baking frames clamps the work during the positioning confirmation work and the exposure work of the work, and works in the state of the vacuum frame. Since the work is performed while being placed on the lower baking frame of the base, the work positioning and the exposure work can be efficiently performed. Further, since a vacuum frame composed of two lower baking frames and one upper baking frame moves back and forth between the exposure position and the alignment position in sequence, the two vacuum baking frames of the exposure apparatus include an exposure stage and an alignment stage. Work efficiency can be improved regardless of the position. (11) Alignment The alignment table allows the lower baking frame to be held separately, and has a joint that matches the connection part that communicates from the work contact surface of the lower baking frame. It is possible to easily separate the work from the lower baking frame that holds the exposed work.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の露光装置の全体およびワークの作業
順序を示す原理図である。
FIG. 1 is a principle diagram showing an operation sequence of an entire exposure apparatus and a work of the present invention.

【図2】この発明の露光装置の全体を示す平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view showing the entire exposure apparatus of the present invention.

【図3】この発明の露光装置の全体を示す正面図であ
る。
FIG. 3 is a front view showing the entire exposure apparatus of the present invention.

【図4】この発明の露光装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of the exposure apparatus of the present invention.

【図5】この発明のアライメントステージおよび露光ス
テージの状態を示す原理図である。
FIG. 5 is a principle view showing a state of an alignment stage and an exposure stage of the present invention.

【図6】この発明のアライメントステージおよび露光ス
テージ間を移動する下焼枠を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a lower baking frame that moves between the alignment stage and the exposure stage of the present invention.

【図7】この発明の露光ステージ位置での上下の焼枠、
移動テーブルおよびおのおの搬送手段を示す一部断面図
である。
FIG. 7 shows upper and lower baking frames at the exposure stage position of the present invention,
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a moving table and respective conveying means.

【図8】この発明の上焼枠の構成を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a structure of a baking frame of the present invention.

【図9】この発明の上下の焼枠の吸着状態を示す一部断
面図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing a suction state of upper and lower baking frames of the present invention.

【図10】この発明の下焼枠の一部断面図である。FIG. 10 is a partial cross-sectional view of a lower baking frame of the present invention.

【図11】この発明の下焼枠の一部断面図である。FIG. 11 is a partial cross-sectional view of a lower baking frame of the present invention.

【図12】この発明のハンドラの全体を示す斜視図であ
る。
FIG. 12 is a perspective view showing the entire handler of the present invention.

【図13】この発明のハンドラの吸着部を示す斜視図で
ある。
FIG. 13 is a perspective view showing a suction portion of the handler of the present invention.

【図14】この発明のハンドラの吸着部の断面図であ
る。
FIG. 14 is a sectional view of a suction portion of the handler of the present invention.

【図15】この発明の紫外線照射ステージの構成を示す
斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of an ultraviolet irradiation stage of the present invention.

【図16】この発明の反転ステージの配置を示す斜視図
である。
FIG. 16 is a perspective view showing the arrangement of the inversion stage of the present invention.

【図17】この発明の反転装置の全体を示す斜視図であ
る。
FIG. 17 is a perspective view showing the entire reversing device of the present invention.

【図18】(a),(b),(c)は、この発明の反転
ステージの反転動作を示す側面図である。
18 (a), (b) and (c) are side views showing the reversing operation of the reversing stage of the present invention.

【図19】この発明のプリアライメント機構の押動装置
を示す斜視図である。
FIG. 19 is a perspective view showing a pushing device of the pre-alignment mechanism of the present invention.

【図20】この発明のプリアライメント機構の押動装置
を示す斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view showing a pushing device of the pre-alignment mechanism of the present invention.

【図21】この発明の上焼枠の応用例を示す分解斜視図
である。
FIG. 21 is an exploded perspective view showing an application example of the baking frame of the present invention.

【図22】この発明の上下の焼枠の応用例を示す原理図
である。
FIG. 22 is a principle view showing an application example of upper and lower baking frames of the present invention.

【図23】この発明の下焼枠の接続部の応用例を示す一
部断面図である。
FIG. 23 is a partial cross-sectional view showing an application example of the connection portion of the lower baking frame of the present invention.

【図24】この発明の下焼枠の接続部の応用例を示す一
部断面図である。
FIG. 24 is a partial cross-sectional view showing an application example of the connection portion of the lower baking frame of the present invention.

【図25】(a),(b)は、この発明の上下の焼枠の
接続状態を現わす平面図および側面図である。
25 (a) and (b) are a plan view and a side view showing a connected state of the upper and lower baking frames of the present invention.

【図26】従来の露光装置の全体を示す原理図である。FIG. 26 is a principle view showing an entire conventional exposure apparatus.

【図27】従来の下焼枠の一部を示す斜視図である。FIG. 27 is a perspective view showing a part of a conventional lower baking frame.

【図28】従来の上焼枠の全体を示す斜視図である。FIG. 28 is a perspective view showing an entire conventional baking frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 露光装置 A 搬入ステージ B 第1アライメントステージ C 第2露光ステージ D 反転ステージ E 第2アライメントステージ F 第2露光ステージ G 搬出ステージ H 紫外線照射ステージ 3、63 プリアライメント機構 3a,3b,3c,3d,61,62 押動装置 9 保持手段 9a 接合部 19 保持補助手段 10、60 アライメント整合台 15、25、65、75 ハンドラ 15b 吸着パッド 15f 当接部 21 昇降保持台 21d 接合部 23 上焼枠 23a 透光板 23b,23c 上焼枠の上下のフレーム 24 下焼枠 26 移動テーブル 26e 接合部 27、47 下焼枠の移動機構(搬送手段) 28、48 上焼枠の移動機構(搬送手段) 33 光源装置 34 平面反射鏡 35 フライアイレンズ 36 切替えミラー 40 接続パット 45 接続部 45a 接続部本体 45b ボール弁 45f 一側の開口孔 45c,45c1 ,45c2 他側の開口孔 50 反転装置 51 昇降テーブル 52 吸着支持アーム 54 回動支持部 57 ピニオンおよび駆動モータ 58 ラック 59 ガイド1 exposure apparatus A carry-in stage B first alignment stage C second exposure stage D reversal stage E second alignment stage F second exposure stage G carry-out stage H ultraviolet irradiation stage 3, 63 pre-alignment mechanism 3a, 3b, 3c, 3d, 61,62 Pushing device 9 Holding means 9a Joining part 19 Holding assisting means 10,60 Alignment alignment table 15, 25, 65, 75 Handler 15b Adsorption pad 15f Abutting part 21 Elevating holding table 21d Joining part 23 Upper baking frame 23a Transparent Light plate 23b, 23c Upper and lower frames of upper baking frame 24 Lower baking frame 26 Moving table 26e Joining portion 27, 47 Moving mechanism (conveying means) of lower baking frame 28, 48 Moving mechanism (conveying means) of upper baking frame 33 Light source Device 34 Planar reflector 35 Fly-eye lens 36 Switching mirror 40 Connection pattern DOO 45 connecting section 45a connecting section body 45b ball valve 45f one side of the opening hole 45c, 45c 1, 45c 2 the other side of the opening hole 50 inverting device 51 the lifting table 52 suction support arm 54 pivotal support 57 the pinion and the drive motor 58 Rack 59 guide

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下焼枠に保持したワークを適正位置に移動
させ位置決めするアライメント整合台、および、適正位
置を確認する撮像カメラを備える第1アライメントステ
ージと、位置決め済みワークを露光する第1露光ステー
ジと、露光済みワークの表裏を反転する反転ステージ
と、前記反転ステージで表裏反転した下焼枠上のワーク
を適正位置に移動させ位置決めするアライメント整合
台、および、適正位置を確認する撮像カメラを備える第
2アライメントステージと、位置決め済みワークを露光
する第2露光ステージを備え、 前記第1アライメントステージ、反転ステージ、第2ア
ライメントステージを直線方向に配設し、前記第1およ
び第2アライメントステージの各々は、前記直線方向に
直行する方向に、第1および第2露光ステージのそれぞ
れを配設し、前記第1および第2露光ステージ間に紫外
線照射ステージを備え、 前記第1アライメントステージから第2アライメントス
テージの直線位置には、ワークを搬送するハンドラを複
数備えており、 前記両アライメントステージおよび露光ステージ間で
は、ワークを保持して位置決め、搬送、露光を行う真空
フレームの上下の焼枠は、それぞれを搬送する搬送手段
を備えたことを特徴とする露光装置。
1. A first alignment stage having an alignment alignment table for moving and positioning a work held on a lower baking frame to an appropriate position, and a first alignment stage having an imaging camera for confirming the proper position, and a first exposure for exposing a positioned work. A stage, a reversing stage that reverses the exposed work surface, an alignment alignment table that moves and positions the work on the lower baking frame that has been turned upside down by the reversing stage, and an imaging camera that confirms the proper position. A second alignment stage having a second alignment stage and a second exposure stage for exposing the positioned work, the first alignment stage, the reversing stage, and the second alignment stage are arranged in a linear direction, and the first and second alignment stages are provided. Each of the first and second exposure stages is arranged in a direction orthogonal to the linear direction. Each of which is provided, and an ultraviolet irradiation stage is provided between the first and second exposure stages, and a plurality of handlers for conveying a work are provided at a linear position from the first alignment stage to the second alignment stage, An exposure apparatus characterized in that, between the alignment stage and the exposure stage, the baking frames above and below the vacuum frame for holding, positioning, carrying and exposing the work are equipped with carrying means for carrying the respective works.
【請求項2】両面を露光するワークの一方面を予備位置
決め機構により予備位置決めする第1工程と、予備位置
決め済みワークを下焼枠上に保持し、第1アライメント
整合台および撮像カメラにより位置決めを行う第2工程
と、位置決め済みワークを下焼枠ごと上焼枠に保持し位
置決め確認したのち露光位置に搬送して露光を行う第3
工程と、露光済みワークを下焼枠ごと受け取り搬送手段
により第1アライメント整合台上に搬送する第4工程
と、第1アライメント整合台上のワークをハンドラによ
り反転機に受け渡す第5工程と、ワークを受け取った反
転機がワークの表裏を反転すると共に、予備位置決め機
構により予備位置決めする第7工程と、予備位置決め済
みワークを下焼枠上に保持し、第2アライメント整合台
および撮像カメラにより位置決めを行う第8工程と、位
置決め済みワークを下焼枠ごと上焼枠に保持し位置決め
確認したのち露光位置に搬送して露光する第9工程と、
露光済みワークを下焼枠に保持した状態で受け取り搬送
手段により第2アライメント整合台上に搬送する第10
工程と、アライメント整合台上の両面露光済みワークを
搬出する第11工程とからなるワークの露光方法。
2. A first step of preliminarily positioning one surface of a work to be exposed on both sides by a prepositioning mechanism, and holding the prepositioned work on a lower baking frame, and performing positioning by a first alignment alignment table and an imaging camera. The second step to perform and the positioning work is held on the upper baking frame together with the lower baking frame, the positioning is confirmed, and then the workpiece is conveyed to the exposure position and exposed.
A fourth step of receiving the exposed work together with the lower baking frame on the first alignment alignment table by the transfer means, and a fifth step of delivering the work on the first alignment alignment table to the reversing machine by the handler. The reversing machine that received the work reverses the front and back of the work, and the seventh step of pre-positioning by the pre-positioning mechanism and the pre-positioned work is held on the lower baking frame and positioned by the second alignment alignment table and the imaging camera. And the ninth step of holding the positioned work together with the lower baking frame in the upper baking frame, confirming the positioning, and then conveying to the exposure position for exposure.
The exposed work is held on the lower baking frame and is transferred onto the second alignment alignment table by the receiving transfer means.
A method for exposing a work, which comprises a step and an eleventh step of carrying out a work which has been exposed on both sides on an alignment alignment table.
【請求項3】前記真空フレームは、分離合体可能な上下
の焼枠からなり、二基の下焼枠と一基の上焼枠から構成
され、上下の焼枠のそれぞれにワークの真空吸着手段を
備え、ワークの位置決め確認作業、および、露光作業中
は、上下の上焼枠がそのいずれかの真空吸着手段により
ワークを挟持し合体して真空フレームとなり、ワークの
位置決め作業、および、露光済みワークの搬送は、真空
フレームが分離し、下焼枠にワークを保持して行われる
ことを特徴とする真空フレーム装置。
3. The vacuum frame is composed of upper and lower baking frames that can be separated and combined, and is composed of two lower baking frames and one upper baking frame. During work positioning confirmation work and exposure work, the upper and lower baking frames sandwich the work by one of the vacuum suction means and unite to form a vacuum frame. Work positioning work and exposure completed The vacuum frame device is characterized in that the work is conveyed by separating the vacuum frame and holding the work in the lower baking frame.
【請求項4】前記真空フレームは、分離合体可能な上下
の焼枠から構成され、一基の上焼枠と二基の下焼枠から
なり、前記下焼枠は、アライメント作業位置および次作
業位置に、それぞれ移転可能に設置されており、 前記アライメント作業位置および次作業位置に設置され
た下焼枠は、アライメント作業位置では作業終了後上昇
し、搬送手段により次作業位置側に搬送され、次作業位
置では、前記搬送手段により搬送されて来た位置より降
下して搬送手段によりアライメント作業位置に搬送され
ることを特徴とする真空フレーム装置。
4. The vacuum frame is composed of upper and lower baking frames that can be separated and combined, and includes one upper baking frame and two lower baking frames, and the lower baking frame is an alignment work position and a next work. In the position, each is removably installed, the bottom baking frame installed in the alignment work position and the next work position rises after the work in the alignment work position, and is conveyed to the next work position side by the conveying means, At the next work position, the vacuum frame device is lowered from the position where it has been carried by the carrying means and is carried to the alignment work position by the carrying means.
【請求項5】前記真空フレームの下焼枠をアライメント
整合台の上にアライメント整合台側の保持手段により保
持する第1工程と、 前記下焼枠の上にワークを下焼枠側の保持手段で保持す
ると共に、ワークを撮像制御手段により認識し、予め記
憶しているマスクフィルムの位置情報と比較し適正位置
にアライメント整合台を作動させワークを位置決めする
第2工程と、 前記第2工程が終了した後、アライメント整合台上の下
焼枠は、アライメント整合台の上昇により上焼枠と合体
して真空フレームとなり、下焼枠はアライメント整合台
側と分離した状態で再び撮像制御手段によりマスクフィ
ルムとワークの位置ズレの確認を行う第3工程と、 前記第3工程で撮像制御手段がワーク位置の適正、不適
正を認識し、適正であれば次工程に、不適正であれば逆
戻りして第2工程から作業を行う第4工程からなるワー
クの位置決め方法。
5. A first step of holding the lower baking frame of the vacuum frame on an alignment matching table by a holding means on the alignment matching table side, and a holding means for holding the work on the lower baking frame side on the lower baking frame side. The second step of holding the work by recognizing the work by the imaging control means, comparing the position information of the mask film stored in advance and activating the alignment matching table to position the work, and the second step. After the completion, the lower baking frame on the alignment matching table is united with the upper baking frame by the rise of the alignment matching table to form a vacuum frame, and the lower baking frame is separated from the alignment matching table side and masked again by the imaging control means. A third step of confirming the positional deviation between the film and the work, and in the third step, the imaging control means recognizes the proper or improper position of the work, and if appropriate, it is inappropriate for the next step. Work method of positioning a fourth step of performing the work from the second step is reverted if.
【請求項6】前記下焼枠は、その表面側に設けたワーク
の真空吸着用の吸着口から連通して裏面に開口した供給
口に、前記真空吸着手段のホース接続部が設けられ、 前記ホース接続部は、接続部本体と、この接続部本体内
を遊動するボール弁とからなり、前記接続部本体は、前
記下焼枠の供給口に当接する位置に前記ボール弁の直径
より小さく形成した一側開口部と、この一側開口部の他
側に前記ボール弁の直径より小さく形成した他側開口部
を備えることを特徴とするエアポンプのホース接続部構
造。
6. The hose connection portion of the vacuum suction means is provided at a supply port, which communicates with a suction port for vacuum suction of a work provided on the front surface side of the lower baking frame and is opened on the back surface, The hose connecting portion includes a connecting portion main body and a ball valve that floats inside the connecting portion main body, and the connecting portion main body is formed in a position smaller than the diameter of the ball valve at a position where the connecting portion main body contacts the supply port of the lower baking frame. A hose connection structure for an air pump, comprising: the one side opening; and the other side opening formed on the other side of the one side opening and having a diameter smaller than that of the ball valve.
【請求項7】前記下焼枠は、ワーク当接面のワーク吸着
用孔に連通する少なくとも2ヵ所に形成した接続部を備
え、 前記下焼枠の一方の移動端部に設置したアライメント整
合台に、前記下焼枠の接続部の到来する位置に接合部を
設けると共に、下焼枠の下面側に吸着保持する保持手段
を備え、 前記下焼枠の他方の移動端部に設置した昇降保持台に、
前記下焼枠の接続部の到来する位置に接合部を設け、 前記下焼枠を両移動端部に搬送する移動手段に、前記下
焼枠の接続部の到来する位置に接合部を設け、 前記各接合部は、エアの吸引・排出用のエアポンプにそ
れぞれ接続され、 前記下焼枠の接続部は、昇降保持台、移動手段、アライ
メント整合台の各位置では、各接合部と合致してポンプ
の吸引排出動作を可能にしたことを特徴とするワークの
保持離脱構造。
7. An alignment alignment table installed at one moving end of the lower baking frame, wherein the lower baking frame has connection portions formed at least at two positions communicating with the work suction holes of the work contact surface. And a holding means for adsorbing and holding the joint portion at the position where the connecting portion of the lower baking frame arrives and adsorbing and holding it on the lower surface side of the lower baking frame, and ascending / descending holding installed at the other moving end of the lower baking frame. On the table,
A joint portion is provided at a position where the connecting portion of the lower baking frame comes, and a moving portion that conveys the lower baking frame to both moving end portions is provided with a joint portion at a position where the connecting portion of the lower baking frame comes. Each of the joints is connected to an air pump for sucking / discharging air, and the connecting portion of the lower baking frame is aligned with each joint at each position of the elevating and holding table, the moving means, and the alignment alignment table. A work holding / releasing structure that enables suction / discharge operation of the pump.
【請求項8】前記アライメント整合台は、ワーク当接面
にワークの吸引保持手段を備えると共に、下焼枠のワー
ク接続部に合致する接合部を備え、 前記アライメント整合台は、ワークを保持する下焼枠を
各方向に移動するX,Y,θの各テーブルを備え、 前記XテーブルおよびYテーブルは、平面で直交する一
方と他方に移動自在に設け、前記θテーブルは、垂直線
を中心に回動する方向に回動自在に設け、 前記アライメント整合台のワーク当接面を上下に移動さ
せる昇降機構とからなることを特徴とするアライメント
整合台。
8. The alignment alignment table includes a workpiece suction holding means on a work contact surface and a joint portion that matches a work connection portion of a lower baking frame, and the alignment alignment table retains the work. Each of the X, Y, and θ tables that moves the lower baking frame in each direction is provided, and the X table and the Y table are movably provided in one and the other orthogonal to each other in a plane, and the θ table is centered on a vertical line. An alignment alignment table, which is rotatably provided in a direction in which the alignment alignment table is rotated in a vertical direction and is configured to move up and down a work contact surface of the alignment alignment table.
【請求項9】前記上焼枠は、枠状のフレームと、このフ
レームに保持される真空吸着用の貫通孔および枠状のシ
ールゴムを有する透光板とから構成され、前記透光板の
貫通孔位置に接続する真空吸引用の接続パットを前記フ
レームに設けたことを特徴とする上焼枠構造。
9. The upper baking frame is composed of a frame-shaped frame and a light-transmitting plate having a through hole for vacuum suction and a frame-like sealing rubber held by the frame, and the through-hole of the light-transmitting plate. An upper baking frame structure characterized in that a connecting pad for vacuum suction for connecting to a hole position is provided on the frame.
【請求項10】前記反転ステージは、ワークを載置して
昇降駆動する昇降テーブルと、この昇降テーブルからワ
ークを受け取り保持してワークの表裏を反転する反転装
置と、前記昇降テーブル上の反転済みワークの予備位置
決めを行うプリアライメント機構とから構成されたこと
を特徴とする反転ステージ構造。
10. The reversing stage includes an elevating table on which a work is placed and is driven to elevate and lower, a reversing device that receives and holds the work from the elevating table and reverses the front and back of the work, and a reversing table on the elevating table A reversing stage structure comprising a pre-alignment mechanism for pre-positioning a work.
【請求項11】前記反転装置は、ワークを吸着支持する
吸着支持アームと、この吸着支持アームの一端を支持し
回動させる回動支持部と、この回動支持部を往復移動さ
せる移動機構とからなることを特徴とする反転装置。
11. The reversing device includes a suction support arm for suction-supporting a work, a rotation support part for supporting and rotating one end of the suction support arm, and a moving mechanism for reciprocating the rotation support part. A reversing device comprising:
【請求項12】露光済みワークを受け取り保持し、保持
したワークの一端側を基準としてワークの他端側を垂直
方向に立ち上げると共に、基準となる一端側を水平方向
に移動させ、ワークの他端側を水平位置に降下させるこ
とでワークを反転するワークの反転方法。
12. An exposed work is received and held, and the other end of the held work is raised in the vertical direction with one end of the held work as a reference, and one end serving as a reference is moved in the horizontal direction to move the other work. A work reversal method that reverses the work by lowering the end side to a horizontal position.
【請求項13】前記紫外線照射ステージは、紫外線照射
ランプおよび楕円反射鏡からなる光源装置と、この光源
装置からの紫外線を所定方向に反射する平面反射鏡と、
前記光源装置からの紫外線の光路に設置される紫外線の
照度分布を整えるフライアイレンズと、前記第1および
第2露光ステージ側に紫外線を切り替え照射する切替え
ミラーとを備え、 前記光源装置から照射された紫外線の光軸の方向は、切
替えミラーまでは垂直面に沿って進行させ、切替えミラ
ーの作動により光軸の進行方向を、前記垂直面から所定
角度を有する方向に進行させることを特徴とする紫外線
照射装置。
13. The ultraviolet irradiation stage comprises a light source device comprising an ultraviolet irradiation lamp and an elliptical reflecting mirror, and a flat reflecting mirror for reflecting the ultraviolet light from the light source device in a predetermined direction.
The fly-eye lens that adjusts the illuminance distribution of ultraviolet rays installed in the optical path of the ultraviolet rays from the light source device, and a switching mirror that switches and irradiates the ultraviolet rays to the first and second exposure stages are provided. The direction of the optical axis of the ultraviolet rays is advanced along a vertical plane up to the switching mirror, and the traveling direction of the optical axis is advanced to a direction having a predetermined angle from the vertical plane by the operation of the switching mirror. UV irradiation device.
【請求項14】前記ハンドラは、ワーク当接側に形成し
た平面状の当接部と、この当接部に穿設して取り付けた
吸着パッドを備え、前記吸着パッドの下端が、当接部の
ワーク当接面と同一もしくは当接面より内側に設けたこ
とを特徴とするワークの吸着保持装置。
14. The handler includes a planar contact portion formed on the workpiece contact side and a suction pad formed by punching in the contact portion, and the lower end of the suction pad is the contact portion. The workpiece suction holding device is provided on the same side as or inside the workpiece contact surface.
JP5271384A 1993-10-29 1993-10-29 Exposure apparatus and work exposure method Expired - Fee Related JP2832673B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5271384A JP2832673B2 (en) 1993-10-29 1993-10-29 Exposure apparatus and work exposure method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5271384A JP2832673B2 (en) 1993-10-29 1993-10-29 Exposure apparatus and work exposure method

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10166755A Division JP2958637B2 (en) 1998-06-15 1998-06-15 Vacuum frame and work positioning method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07128869A true JPH07128869A (en) 1995-05-19
JP2832673B2 JP2832673B2 (en) 1998-12-09

Family

ID=17499326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5271384A Expired - Fee Related JP2832673B2 (en) 1993-10-29 1993-10-29 Exposure apparatus and work exposure method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2832673B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2005015615A1 (en) * 2003-08-07 2007-10-04 株式会社ニコン EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, STAGE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2008175846A (en) * 2007-01-16 2008-07-31 Hitachi High-Technologies Corp Positioning device for substrate and positioning method
JP2010114347A (en) * 2008-11-10 2010-05-20 Ushio Inc Exposure device
KR20170113266A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 Exposure apparatus
CN108255029A (en) * 2018-03-09 2018-07-06 广东华恒智能科技有限公司 A kind of sided exposure machine and its exposure method
CN110268334A (en) * 2017-02-03 2019-09-20 Asml荷兰有限公司 Exposure sources

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2005015615A1 (en) * 2003-08-07 2007-10-04 株式会社ニコン EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, STAGE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2009147385A (en) * 2003-08-07 2009-07-02 Nikon Corp Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
JP4552146B2 (en) * 2003-08-07 2010-09-29 株式会社ニコン EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, STAGE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2008175846A (en) * 2007-01-16 2008-07-31 Hitachi High-Technologies Corp Positioning device for substrate and positioning method
JP2010114347A (en) * 2008-11-10 2010-05-20 Ushio Inc Exposure device
KR20170113266A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 Exposure apparatus
CN110268334A (en) * 2017-02-03 2019-09-20 Asml荷兰有限公司 Exposure sources
US11092903B2 (en) 2017-02-03 2021-08-17 Asml Netherlands B.V. Exposure apparatus
CN108255029A (en) * 2018-03-09 2018-07-06 广东华恒智能科技有限公司 A kind of sided exposure machine and its exposure method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2832673B2 (en) 1998-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6806945B2 (en) Automatic exposing apparatus and method for exposing both sides of works
JP3559999B2 (en) An exposure apparatus with a mask alignment mechanism and a method of aligning, exposing, and transporting a work.
JP5316420B2 (en) Mask case, transfer device, transfer method, exposure apparatus, and device manufacturing method
TWI383936B (en) Substrate exchange apparatus and substrate processing apparatus, and substrate inspection apparatus
JP4653588B2 (en) Exposure apparatus and exposure method
US6211942B1 (en) Double-sided exposure system
JP2002321131A (en) Workpiece feeding device
JPH0541981B2 (en)
JPH0883833A (en) Processing equipment
US5606172A (en) Exposing apparatus and exposing method of works
JPH07128869A (en) Exposure device and method for exposing work
JP2958637B2 (en) Vacuum frame and work positioning method
JPH10286791A (en) Drop of work preventing mechanism and method thereof
JPH0734116B2 (en) Workpiece positioning method in automatic exposure apparatus
JP3598479B2 (en) Exposure apparatus and positioning method in exposure apparatus
JP4047182B2 (en) Substrate transfer device
JPH06267816A (en) Mask setting mechanism for proximity exposure apparatus
JP4214432B2 (en) Double-side exposure system
JPH10333337A (en) Aligner
US6249337B1 (en) Alignment mechanism and process for light exposure
KR100380609B1 (en) double-sided exposure system
JP2001242631A (en) Exposure device
KR20190079199A (en) Apparatus for supporting mask and method of aligning mask using the same
JPH08316284A (en) Conveyor for photomask
JP2006066636A (en) Conveying apparatus, its method, and exposing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081002

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101002

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101002

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111002

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111002

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111002

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees