JPH06310070A - 走査型電子顕微鏡およびその類似装置 - Google Patents

走査型電子顕微鏡およびその類似装置

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JPH06310070A
JPH06310070A JP9407693A JP9407693A JPH06310070A JP H06310070 A JPH06310070 A JP H06310070A JP 9407693 A JP9407693 A JP 9407693A JP 9407693 A JP9407693 A JP 9407693A JP H06310070 A JPH06310070 A JP H06310070A
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JP
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electron beam
sample
observation
electron
scanning
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JP9407693A
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English (en)
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Katsuhiro Kuroda
勝広 黒田
Takeshi Ninomiya
健 二宮
Tokuo Kure
得男 久▲禮▼
Hideo Todokoro
秀男 戸所
Sadao Terakado
貞夫 寺門
Satoru Yamada
悟 山田
Fumio Mizuno
文夫 水野
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】実時間でかつ高分解能に試料像を立体視できる
走査型電子顕微鏡およびその類似装置を提供する。 【構成】立体観察のために2方向の電子ビーム照射によ
りSEM像観察を行うが、その一方は通常のSEMで使
用している状態の高分解能観察用電子ビームであり、他
方は試料を異なった角度から観察するために偏向器やレ
ンズの軸外を用いて偏向した立体観察用電子ビームとす
る。これらの電子ビームを動的に切り換えて用いるよう
に構成した。 【効果】実時間でかつ高分解能に試料像を立体視できる
SEMおよびその類似装置を提供できる。また、計算機
に信号を取り込んで処理を要するようなSEM関連装置
では、3次元高分解能処理ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、実時間でかつ高分解能
に試料像を立体視するのに好適な走査型電子顕微鏡(S
EM)およびその類似装置に関する。
【0002】
【従来の技術】SEMで試料像を実時間で立体視するこ
とが、特開昭59−171445号公報に開示されている。これ
は図3のように一つの電子ビームを2方向(電子ビーム
22,23)から動的に切り換えて試料に照射させ、そ
れぞれの照射方向の試料像を左右の目に対応させて観察
する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術のように
電子ビームを2方向から試料に照射させるためには、電
子ビームを偏向器で偏向させたり、レンズの軸外を用い
て電子ビームを偏向させる必要がある。しかし、一般に
電子ビームを上記手段により偏向させると偏向収差やレ
ンズの軸外収差が生じて電子ビームを細く絞ることが困
難となる。すなわち、高分解能観察ができなくなるとい
う問題があった。
【0004】本発明の目的は、実時間でかつ高分解能に
試料像を立体視できるSEMおよびその類似装置を提供
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は人間が脳で自然に行っている画像処理機能
を活用する。すなわち、左右の目で視力の異なる人は細
かいものを見る時は視力のよい方の目を主に使い、立体
感は両目を使って行っている。本発明は、上記と同様
に、2方向の電子ビーム照射のうち一方を高分解能観察
用電子ビームとし、もう一方を立体観察用電子ビームと
して用い、さらに両ビームを動的に切り換える。
【0006】
【作用】上記手段を実現するために、高分解能観察用電
子ビームは電子ビームを偏向しないで用いる、すなわ
ち、通常のSEMで使用している状態の試料像を得る。
一方、立体観察用電子ビームは、偏向器やレンズの軸外
を用いて偏向し、試料を異なった角度から観察する。こ
の場合、当然偏向にともなう収差を受けて分解能は落ち
るが、この手段により立体観察にはなんら支障は生じな
い。これらの電子ビームは動的に切り換えて用いること
が出来る
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1を用いて説明す
る。電子銃1からでた電子ビーム2は、加速レンズ3,
コンデンサレンズ4,対物レンズ5により細く絞られて
試料7を照射する。このとき試料7から発生した2次電
子9は2次電子検出器8で検出され、CRT12の輝度
変調信号となる。電子ビーム2は偏向信号発生器11に
より試料7上を2次元的に走査される。この走査と同期
して上記の2次電子信号をCRT12上に表示すれば、
一般のSEM像が得られる。
【0008】本発明では、偏向信号発生器11は、電子
ビーム2の試料照射角度を制御する角度制御器13と結
合されている。すなわち、この制御器13の信号によっ
て、電子ビーム2は試料7を通常の垂直照射電子ビーム
21と、斜め照射ビーム22と切り換えることが可能に
なっている。このビーム22のときのビーム軌道は、偏
向器6によりあたかも対物レンズ5の物点から出たかの
ように偏向されている。このようにすることにより、対
物レンズ5の軸外偏向作用により、試料7の照射位置は
ずれない。ここで、角度制御器13の信号は同時にCR
T12を観察するめがね14に送られ、垂直照射電子ビ
ーム21と斜め照射ビーム22のSEM像が左右の目に
それぞれ対応して観察されるようになっている。このこ
とにより、SEM像を立体的に観察することができる。
【0009】本実施例では、この角度制御器13の信号
を画面毎だけではなく、電子ビーム2の2次元走査のラ
イン走査毎に動的に切り換えられるようにしてある。こ
の場合、完全に実時間で観察できることになる。
【0010】垂直照射電子ビーム21のSEM像は高分
解能であり、斜め照射ビーム22のSEM像は分解能が
悪い。しかし、人間の脳で自動的に画像処理が行われて
いるために、高分解能で実時間に3次元像を観察でき
る。なお、本実施例で斜め照射ビーム22の試料7の照
射角を10°として設定したところ、垂直照射電子ビー
ム21の分解能は1nmと高分解能であったが、斜め照
射ビーム22の分解能は20nmと悪かった。しかし、
観察時には立体感と高分解能観察感とは十分に得られ
た。
【0011】以上が本発明の実施例であるが、本実施例
で示した数値や構成は一例であって、これらの数値や構
成に限らず実施できる。例えば、電子ビームの開き角を
決めている絞り10はコンデンサレンズ4の前に配置し
たが、例えば図2のような絞りを対物レンズ5の中に配
置してもよい。この場合電子ビーム21,22は、それ
ぞれ51,52の絞りを通過することになる。また、検
出信号は2次電子を用いたが、反射電子や試料電流等何
を用いても実施できる。さらに、CRT観察用めがねは
色フィルタめがねであっても偏向めがねであってもよ
く、それぞれに対応したCRT(場合によっては2個)
を用いれば可能である。要は、高分解能観察用電子ビー
ムは電子ビームを偏向しないで用い、立体観察用電子ビ
ームは偏向器やレンズの軸外を用いて偏向し、試料を異
なった角度から観察するようにしたものであれば、本発
明の本質を損なうことなく実施できる。
【0012】一方、本実施例は像観察用SEMとして行
ったが、半導体プロセス途中で生じるウエハ内のパター
ンの検査に用いる検査SEMに適用してもよい。この例
は図1に同時に示してある。本実施例の加速電圧は50
kV以上で、2次電子信号はSEM像として観察される
だけではなく、計算機15に取り込まれ、あらかじめ入
力されているパターンとの比較が出来るようになってい
る。この比較により、ユーザはプロセスの評価を行う。
【0013】本実施例では、加速電圧が高いために、試
料の表面のみならず、積層されたパターンがあった場合
に内部のパターンも観察できる。このとき、通常のSE
M像のみでは、それぞれのパターンの上下関係が判断し
にくいばかりでなく、特に計算機で処理することが出来
ない。しかし、本実施例では3次元的に積層パターンを
把握できるので、計算機で3次元高分解能処理が容易に
出来ることになる。なお、本実施例の場合は、積層パタ
ーンのパターンの上下関係が分かればよいだけであるの
で、立体観察時の場合より小さい傾斜角である5°程度
でも十分に3次元高分解能画像処理が出来た。本実施例
は、本発明の1応用例であり、これに限るものではな
い。要は、単に観察用のSEMのみならず、特に計算機
に信号を取り込んで3次元高分解能画像処理を要するよ
うな電子線応用装置全般に適用できる。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、実時間でかつ高分解能
に試料像を立体視できるSEMおよびその類似装置を提
供できる効果がある。また、特に計算機に信号を取り込
んで処理を要するようなSEM関連装置では、3次元高
分解能画像処理が出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す実時間立体観察SEM
の説明図。
【図2】本発明の実施例を示す絞りの説明図。
【図3】従来の実時間立体観察SEMの説明図。
【符号の説明】
1…電子銃、2…電子ビーム、3…加速レンズ、4…コ
ンデンサレンズ、5…対物レンズ、6…偏向器、7…試
料、8…2次電子検出器、9…2次電子、10…絞り、
11…偏向信号発生器、12…CRT、13…角度制御
器、14…めがね、15…計算機、21…垂直照射電子
ビーム、22…斜め照射ビーム。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸所 秀男 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所計測器事業部内 (72)発明者 寺門 貞夫 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所計測器事業部内 (72)発明者 山田 悟 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 水野 文夫 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子銃から出た電子ビームを細く絞って試
    料に照射し、前記試料から放出された2次電子や反射電
    子等を検出して試料像を観察する走査型電子顕微鏡にお
    いて、高分解能観察用電子ビームと立体観察用電子ビー
    ムを試料に異なった角度から照射して高分解能立体観察
    するように構成したことを特徴とする走査型電子顕微
    鏡。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記高分解能観察用電
    子ビームは電子ビームを偏向しないで用い、前記立体観
    察用電子ビームは偏向器やレンズの軸外を用いて偏向
    し、試料を異なった角度から観察するように構成した走
    査型電子顕微鏡。
  3. 【請求項3】請求項1もしくは2において、前記高分解
    能観察用電子ビームと前記立体観察用電子ビームとの切
    り換えを画面毎に行う走査型電子顕微鏡。
  4. 【請求項4】請求項1もしくは2において、前記高分解
    能観察用電子ビームと前記立体観察用電子ビームとの切
    り換えを電子ビームの2次元走査のライン走査毎に切り
    換える走査型電子顕微鏡。
  5. 【請求項5】請求項1,2,3または4において、前記
    電子ビームの制限絞りを前記高分解能観察用電子ビーム
    に対しては円形とし、前記立体観察用電子ビームに対し
    ては楕円とした走査型電子顕微鏡。
  6. 【請求項6】請求項1,2,3,4または5において、
    2次電子や反射電子等の信号を計算機に取り込み、観察
    像のパターンを3次元画像処理できるように構成した走
    査型電子顕微鏡。
  7. 【請求項7】請求項6において、加速電圧は50kV以
    上とし、検出信号は2次電子信号を用いた半導体ウエハ
    パターン検査SEM。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100455801B1 (ko) * 2001-06-22 2004-11-09 (주)미래로시스템 주사전자현미경의 3차원 영상 구현방법 및 장치
US8193494B2 (en) 2009-08-07 2012-06-05 Hitachi, Ltd. Transmission electron microscope and method for observing specimen image with the same
WO2013103090A1 (ja) * 2012-01-06 2013-07-11 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および傾斜観察画像表示方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100455801B1 (ko) * 2001-06-22 2004-11-09 (주)미래로시스템 주사전자현미경의 3차원 영상 구현방법 및 장치
US8193494B2 (en) 2009-08-07 2012-06-05 Hitachi, Ltd. Transmission electron microscope and method for observing specimen image with the same
WO2013103090A1 (ja) * 2012-01-06 2013-07-11 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および傾斜観察画像表示方法
JP2013143197A (ja) * 2012-01-06 2013-07-22 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置および傾斜観察画像表示方法
CN104040676A (zh) * 2012-01-06 2014-09-10 株式会社日立高新技术 带电粒子线装置以及倾斜观察图像显示方法
CN104040676B (zh) * 2012-01-06 2016-03-16 株式会社日立高新技术 带电粒子线装置以及倾斜观察图像显示方法

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