JPH0630878B2 - Thin film perforation method and apparatus for implementing the same - Google Patents
Thin film perforation method and apparatus for implementing the sameInfo
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- JPH0630878B2 JPH0630878B2 JP60240235A JP24023585A JPH0630878B2 JP H0630878 B2 JPH0630878 B2 JP H0630878B2 JP 60240235 A JP60240235 A JP 60240235A JP 24023585 A JP24023585 A JP 24023585A JP H0630878 B2 JPH0630878 B2 JP H0630878B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (1)発明の目的 [産業上の利用分野] 本発明は、穿孔装置に係り、特に、薄膜張付装置で使用
される薄膜の穿孔装置に適用して有効な技術に関するも
のである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Object of the Invention [Industrial field of use] The present invention relates to a perforating apparatus, and particularly to a technique effective when applied to a thin film perforating apparatus used in a thin film sticking apparatus. It is about.
[従来の技術] コンピュータ等の電子機器で使用されるプリント配線板
は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性基板の片面又は
両面に形成されたものである。[Prior Art] A printed wiring board used in an electronic device such as a computer is one in which a predetermined pattern of wiring such as copper is formed on one side or both sides of an insulating substrate.
この種のプリント配線板は、次の製造工程により製造す
ることができる。This type of printed wiring board can be manufactured by the following manufacturing process.
まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に、感光性樹
脂(フォトレジスト)層とそれを保護する透光性樹脂フ
ィルム(保護膜)とからなる薄い積層体(薄膜の一例)
を熱圧着ラミネート(張り付け)する。この熱圧着ラミ
ネートは、薄膜張付装置所謂ラミネータにより量産的に
行われる。この後、前記積層体に配線パターンフィルム
を重ね、この配線パターンフィルム及び透光性樹脂フィ
ルムを通して、感光性樹脂層を所定時間露光する。そし
て、透光性樹脂フィルムを剥離装置で剥離した後、露光
された感光性樹脂層を現像してエッチングマスクパター
ンを形成する。この後、前記導電層の不必要部分をエッ
チングにより除去し、さらに残存する感光性樹脂層を除
去し、所定の配線パターンを有するプリント配線板を形
成する。First, a thin laminated body (an example of a thin film) including a photosensitive resin (photoresist) layer and a translucent resin film (protective film) for protecting it on a conductive layer provided on an insulating substrate.
Thermocompression laminate (attach). This thermocompression-bonding lamination is mass-produced by a thin film sticking device, a so-called laminator. After that, a wiring pattern film is overlaid on the laminate, and the photosensitive resin layer is exposed for a predetermined time through the wiring pattern film and the transparent resin film. Then, the translucent resin film is peeled off by a peeling device, and then the exposed photosensitive resin layer is developed to form an etching mask pattern. After that, unnecessary portions of the conductive layer are removed by etching, and the remaining photosensitive resin layer is removed to form a printed wiring board having a predetermined wiring pattern.
[発明が解決しようとする問題点] 前述のプリント配線板の製造工程においては、前記基板
に熱圧着ラミネートされた積層体に、配線パターンフィ
ルムを重ねて感光性樹脂層を露光する工程が必要とされ
ている。両者の重ね合せは、基板の角度又は端部に予め
設けられたガイド用穿孔(位置決め用穴ともいう)と、
このガイド用穿孔に対応して配線パターンフィルムに設
けられたガイド用穿孔とに位置合せピンを取り付けるこ
とでなされる。前記基板には積層体がラミネートされて
いるので、位置合せピンを取り付ける前に、基板のガイ
ド用穿孔に対応した位置の積層体にも位置合せピンを通
す穿孔が形成される。この積層体の穿孔は、基板に積層
体を熱圧着ラミネートした後に、ドリルやポンチを用い
た手作業、又は専用の穿孔装置を用いた機械作業で行わ
れる。[Problems to be Solved by the Invention] In the manufacturing process of the printed wiring board described above, a step of exposing a photosensitive resin layer by stacking a wiring pattern film on a laminate thermocompression-bonded to the substrate is required. Has been done. The superposition of the two is done by forming a guide hole (also called a positioning hole) provided in advance at the angle or end of the substrate,
The positioning pin is attached to the guide hole provided on the wiring pattern film corresponding to the guide hole. Since the laminated body is laminated on the substrate, a hole for inserting the alignment pin is formed in the laminated body at a position corresponding to the guide hole of the substrate before the alignment pin is attached. The perforation of the laminated body is performed by thermocompression-laminating the laminated body on a substrate and then by manual work using a drill or punch, or by mechanical work using a dedicated perforating device.
しかしながら、上述の積層体に穿孔を形成する作業にお
いて、積層体の切りくずが配線パターンを形成する積層
体上に散乱し、しかもこの排除が非常に困難である。こ
のため、感光性樹脂層に正確な配線パターンを描写する
ことができないので、プリント配線板の製造上の歩留り
を低下するという問題があった。However, in the above-described work of forming a hole in the laminated body, the chips of the laminated body are scattered on the laminated body forming the wiring pattern, and it is very difficult to eliminate the chips. For this reason, since it is not possible to draw an accurate wiring pattern on the photosensitive resin layer, there is a problem that the manufacturing yield of the printed wiring board is reduced.
また、前記積層体に穿孔を形成する作業において、手作
業やラミネート後に別の機械作業を施しているために、
作業効率が極めて悪いという問題があった。Also, in the work of forming perforations in the laminate, since another mechanical work is performed after manual work or lamination,
There was a problem that work efficiency was extremely poor.
なお、本発明で解決しようとする前記ならびにその他の
問題点と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面に
よって明らかになるであろう。The above and other problems and novel features to be solved by the present invention will be apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
(2)発明の構成 [問題点を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。(2) Structure of the Invention [Means for Solving the Problems] The typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
すなわち、薄膜張付用ラミネータに不連続に搬送されて
来る位置決め用穴の設けられた基板に薄膜をラミネート
するために、当該ラミネート前の薄膜に前記位置決め用
穴に対応した位置に穿孔を形成する方法であって、基板
を搬送経路に沿って一定の速さで搬送し、搬送経路にお
いて基板があらかじめ決められた位置を通る通過時間
を、経路を通過する基板の前端及び後端が前記あらかじ
め決められた位置と一致することを検出することによっ
て演算し、かつ、基板における位置決め用穴の位置を計
算された速度及び通過時間により演算し、ラミネートす
るに先立ち、薄膜における穿孔形成位置を基板における
前記位置決め用穴の位置に対応させて設定し、かつ、薄
膜の当該設定された位置に穿孔を形成し、該穿孔形成時
に発生する切りくずを除去し、穿孔を有するあらかじめ
決められた長さの薄膜を、不連続に搬送されてくる基板
にラミネートするために、切断することを特徴とする。That is, in order to laminate the thin film on the substrate provided with the positioning holes that are conveyed discontinuously to the thin film laminating laminator, perforations are formed in the thin film before lamination at positions corresponding to the positioning holes. A method of transporting a substrate at a constant speed along a transport path, wherein a front end and a rear end of the substrate passing through the transport path are determined by the predetermined time. The position of the positioning hole in the substrate is calculated by detecting the coincidence with the determined position, and the position of the positioning hole in the substrate is calculated by the calculated speed and the passing time. Chips that are set corresponding to the positions of the positioning holes and that are formed with perforations at the set positions of the thin film and that are generated when the perforations are formed. Removed, the length of the thin film to a predetermined with perforations, in order to laminate the conveyed discontinuously substrate, characterized by cutting.
また、位置決め用穴を有する基板に薄膜をラミネートす
るために、ラミネート前の当該薄膜に該位置決め用穴に
対応した位置に穿孔を形成する穿孔装置であって、該装
置は配置された薄膜供給経路を形成する薄膜供給手段と
薄膜を基板にラミネートするためのラミネータに対する
基板搬送経路を形成する基板供給手段が設けられている
穿孔装置において、前記基板が基板搬送経路に沿って移
動する際に該基板の長さを感知することによって基板に
おける穴の位置を決定する感知手段と、該感知手段に応
答して制御信号を出力する制御手段と、該制御手段から
の出力信号に応答して薄膜供給経路に沿って該穿孔装置
を移動させて、ラミネートした時に該基板の位置決め用
穴に対応する穿孔を該薄膜に形成すべく穿孔装置を該薄
膜供給経路に沿った適当位置に設定する移動手段と、当
該薄膜の前記移動手段により設定された位置に穿孔を形
成し、該穿孔時に発生する切りくずを除去する手段と、
前記制御手段の出力に応答して該基板の長さに対応し
て、穿孔を有するある長さの薄膜を切断する切断手段と
からなることを特徴とする。In addition, in order to laminate a thin film on a substrate having a positioning hole, a punching device for forming a hole in the thin film before laminating at a position corresponding to the positioning hole, wherein the device is a thin film supply path arranged. In a punching device provided with a thin film supply means for forming a substrate and a substrate supply means for forming a substrate transport path for a laminator for laminating a thin film on a substrate, the substrate is moved when the substrate moves along the substrate transport path. Means for determining the position of the hole in the substrate by sensing the length of the substrate, a control means for outputting a control signal in response to the sensing means, and a thin film supply path in response to the output signal from the control means. Along the thin film feed path to move the perforating device along the thin film to form perforations in the thin film that correspond to the positioning holes in the substrate when laminated. Means for removing and moving means for setting the proper position to form a perforation set position by said moving means of the thin film, the chips generated during borehole,
Cutting means for cutting a thin film having a certain length corresponding to the length of the substrate in response to the output of the control means.
〔作用〕 本発明は、ラミネータに搬送されてくる基板の位置決め
用穴の位置を検出し、この基板の位置決め用穴の位置に
対応して、前記ラミネータで基板に取り付けられる薄膜
の穿孔位置を設定し、前記薄膜の穿孔位置に穿孔を形成
することにより、基板に薄膜を張り付ける前に穿孔を形
成し、この薄膜の切りくずをこの時点で自動的に排除で
きるので、製造上の歩留りを向上することができる。し
かも、薄膜の張り付け前に、基板の位置決め用穴の位置
に対応した穿孔位置に自動的に穿孔を形成できるので、
作業効率を向上することができる。[Operation] The present invention detects the position of the positioning hole of the substrate conveyed to the laminator, and sets the perforation position of the thin film attached to the substrate by the laminator corresponding to the position of the positioning hole of the substrate. However, by forming holes at the hole positions of the thin film, holes can be formed before the thin film is attached to the substrate, and the chips of this thin film can be automatically removed at this point, improving the manufacturing yield. can do. Moreover, before the thin film is attached, the holes can be automatically formed at the hole positions corresponding to the positions of the positioning holes on the substrate.
Work efficiency can be improved.
[実施例] 以下、本発明をプリント配線板用基板(絶縁性基板上に
導電層が設けられている板)に感光性樹脂層を有する積
層体を熱圧着ラミネートする薄膜張付装置(ラミネー
タ)に使用される穿孔装置に適用した一実施例について
図面を用いて説明する。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described with reference to a thin film sticking device (laminator) for thermocompression-bonding a laminate having a photosensitive resin layer on a substrate for a printed wiring board (a plate having a conductive layer provided on an insulating substrate). An embodiment applied to a punching device used in the above will be described with reference to the drawings.
なお、実施例の全図において、同一機能を有するものは
同一符合を付け、そのくり返しの説明は省略する。In all the drawings of the embodiments, those having the same functions are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.
本発明の一実施例である薄膜張付システム構成を第1図
で示す。FIG. 1 shows the configuration of a thin film sticking system which is an embodiment of the present invention.
本実施例の薄膜張付システムは、第1図で示すように、
主として、薄膜張付装置I、搬送装置IIA、搬送装置II
B及び予熱装置IIIで構成されている。The thin film sticking system according to the present embodiment, as shown in FIG.
Mainly, thin film sticking device I, transfer device IIA, transfer device II
B and preheater III.
前記予熱装置IIIは、薄膜張付装置Iに基板を搬送する
基板搬送経路の前段側に設置されている。この予熱装置
IIIは、その両面(又は片面)に導電層が形成された絶
縁性基板(プリント配線板用基板、以下、単に基板とい
う)を熱圧着ラミネート前に予熱するように構成されて
いる。この予熱は、基板に感光性樹脂層を有する積層体
を熱圧着ラミネートし易いようにするためのものであ
る。The preheating device III is installed on the front side of the substrate transfer path for transferring the substrate to the thin film sticking device I. This preheater
III is configured to preheat an insulating substrate (printed wiring board substrate, hereinafter simply referred to as a substrate) having conductive layers formed on both sides (or one side) thereof before thermocompression lamination. This preheating is for facilitating thermocompression lamination of the laminate having the photosensitive resin layer on the substrate.
搬送装置IIAは、予熱装置IIIで予熱された基板を薄膜
張付装置Iに搬送するように構成されている。搬送装置
IIAには、正確に熱圧着ラミネートできるように、基板
の基板搬送方向のセンタラインと薄膜張付装置I(積層
体)のセンタラインとを合致させる基板幅寄せ装置IIa
が設けられている。基板幅寄せ装置IIaは、薄い基板で
も幅方向(基板搬送方向と直角方向)に反りなどを生じ
ないように制御機構が設けられている。The transfer device IIA is configured to transfer the substrate preheated by the preheating device III to the thin film sticking device I. Carrier
In the IIA, a substrate width aligning device IIa for aligning the center line of the substrate in the substrate transport direction with the center line of the thin film sticking device I (laminate) so that accurate thermocompression lamination can be performed.
Is provided. The substrate width aligning device IIa is provided with a control mechanism so that even a thin substrate does not warp in the width direction (the direction perpendicular to the substrate transport direction).
また、搬送装置IIA(又は薄膜張付装置I)には、熱圧
着ラミネート時に基板が動かないように固定する押え装
置IIbが設けられている。Further, the transfer device IIA (or the thin film sticking device I) is provided with a holding device IIb that fixes the substrate so that it does not move during thermocompression lamination.
搬送装置IIBは、薄膜張付装置Iで積層体が熱圧着ラミ
ネートされた基板を露光装置に搬送するように構成され
ている。The transfer device IIB is configured to transfer the substrate, on which the laminate is thermocompression-bonded and laminated by the thin film sticking device I, to the exposure device.
この薄膜張付システムには、薄膜張付装置Iに基板を搬
送する基板搬送経路、具体的には予熱装置IIIの排出側
の基板搬送経路に、基板寸法検出センサIVが設けられて
いる。基板寸法検出センサIVは、後に詳述するが、搬送
ローラにより一定の速度で搬送される基板の搬送方向の
先端及び後端の位置を検出し、この検出信号を制御装置
VIIに出力するように構成されている。制御装置VIIは、
搬送装置IIBの下部に設けられている。なお、基板寸法
検出センサIVは、搬送装置IIAの前段側の基板搬送経路
に設けてもよい。In this thin film sticking system, a substrate size detecting sensor IV is provided on a substrate carrying path for carrying a substrate to the thin film sticking apparatus I, specifically, a substrate carrying path on the discharge side of the preheating device III. The substrate size detection sensor IV, which will be described in detail later, detects the positions of the front and rear ends in the transport direction of the substrate transported by the transport roller at a constant speed, and outputs this detection signal to the control device.
It is configured to output to VII. Controller VII is
It is provided below the carrier IIB. The substrate size detection sensor IV may be provided in the substrate transfer path on the upstream side of the transfer device IIA.
また、薄膜張付システムには、薄膜張付装置Iに基板を
搬送する基板搬送経路、具体的には搬送装置IIAの後段
側の基板搬送経路に、基板位置検出センサ(穿孔開始セ
ンサ)Vが設けられている。基板位置検出センサVは、
搬送ローラにより一定の速度で搬送される基板の搬送方
向の先端及び後端の位置を検出し、この検出信号を制御
装置VIIに出力するように構成されている。Further, in the thin film sticking system, a substrate position detection sensor (perforation start sensor) V is provided on a substrate carrying path for carrying the substrate to the thin film sticking apparatus I, specifically, a substrate carrying path on the rear side of the carrying apparatus IIA. It is provided. The substrate position detection sensor V is
It is configured to detect the positions of the front and rear ends in the transport direction of the substrate transported by the transport roller at a constant speed, and output this detection signal to the control device VII.
さらに、薄膜張付システムには、薄膜張付装置Iから基
板を露光装置に搬送する基板搬送経路、具体的には搬送
装置IIBの前段側の基板搬送経路に、穿孔不良検出セン
サVIが設けられている。穿孔不良検出センサVIは、熱圧
着ラミネート後に基板の寸法に対応した積層体の穿孔位
置に穿孔が形成されているか非かを検出し、この検出信
号を制御装置VIIに出力するように構成されている。Further, the thin film sticking system is provided with a perforation defect detection sensor VI in the substrate carrying path for carrying the substrate from the thin film sticking apparatus I to the exposure apparatus, specifically, in the substrate carrying path on the upstream side of the carrying apparatus IIB. ing. The perforation failure detection sensor VI is configured to detect whether or not perforation is formed at the perforation position of the laminated body corresponding to the dimensions of the substrate after thermocompression lamination, and output this detection signal to the control device VII. There is.
前記基板寸法検出センサIV、基板位置検出センサV又は
穿孔不良検出センサVIは、例えば、透過型フォトセン
サ、反射型フォトセンサ又は超音波センサで構成する。The substrate size detection sensor IV, the substrate position detection sensor V, or the perforation defect detection sensor VI is composed of, for example, a transmissive photo sensor, a reflective photo sensor, or an ultrasonic sensor.
前記薄膜張付装置Iは、第2図(概略構成図)で示すよ
うに構成されている。透光性樹脂フィルム、感光性樹脂
層及び透光性樹脂フィルムからなる3層構造の積層体1
は、供給ローラ2に連続的に巻回されている。供給ロー
ラ2の積層体1は、剥離ローラ3で、透光性樹脂フィル
ム(保護膜)1Aと、一面(接着面)が露出された感光
性樹脂層及び透光性樹脂フィルムからなる積層体1Bと
に分離される。The thin film sticking device I is configured as shown in FIG. 2 (schematic configuration diagram). Laminate 1 having a three-layer structure including a transparent resin film, a photosensitive resin layer, and a transparent resin film 1
Are continuously wound around the supply roller 2. The laminate 1 of the supply roller 2 is a peeling roller 3, and is a laminate 1B including a transparent resin film (protective film) 1A, a photosensitive resin layer having one surface (adhesive surface) exposed, and a transparent resin film. And separated.
分離された透光性樹脂フィルム1Aは、巻取ローラー4
により巻き取られるように構成されている。The translucent resin film 1A thus separated is the winding roller 4
It is configured to be wound up by.
前記積層体1Bの供給方向の先端部は、適度なテンショ
ンを与えるテンションローラ5を介してメインバキュー
ムプレート6に吸着されるように構成されている。メイ
ンバキュームプレート6は、矢印A方向にその位置を変
動できるエアーシリンダ7を介してフレーム8に支持さ
れている。メインバキュームプレート6は、テンション
ローラ5とともにしわ等を生じないように、積層体1B
を基板17側に供給するように構成されている。The leading end portion of the laminated body 1B in the supply direction is configured to be attracted to the main vacuum plate 6 via a tension roller 5 that gives an appropriate tension. The main vacuum plate 6 is supported by the frame 8 via an air cylinder 7 whose position can be changed in the arrow A direction. The main vacuum plate 6 works together with the tension roller 5 so as not to cause wrinkles or the like.
Is supplied to the substrate 17 side.
メインバキュームプレート6の先端の円弧状部6Aは、
その内部にヒータ6Bが設けられており、前記積層体1
Bの先端部を基板17の導電層上に仮熱圧着ラミネート
するように構成されている。The arcuate portion 6A at the tip of the main vacuum plate 6 is
A heater 6B is provided inside the laminated body 1
The front end of B is laminated on the conductive layer of the substrate 17 by provisional thermocompression bonding.
前記円弧状部6Aに近接した位置には、連続的な積層体
1Bを基板17の寸法に対応して切断するロータリカッ
タ9が設けられている。A rotary cutter 9 for cutting the continuous laminated body 1B according to the size of the substrate 17 is provided at a position close to the arcuate portion 6A.
このロータリカッタ9に対向した位置には、切断した積
層体1Bの先端部を前記円弧状部6Aに吸着させるサブ
バキュームプレート10が設けられている。このサブバ
キュームプレート10は、矢印B方向にその位置を変動
できるエアーシリンダ11を介してフレーム8に支持さ
れている。At a position facing the rotary cutter 9, a sub-vacuum plate 10 for adsorbing the tip of the cut laminated body 1B to the arcuate portion 6A is provided. The sub-vacuum plate 10 is supported by the frame 8 via an air cylinder 11 whose position can be changed in the arrow B direction.
メインバキュームプレート6とサブバキュームプレート
10を支持するフレーム8は、矢印C方向にその位置を
変動できるエアーシリンダ12を介して薄膜張付装置I
の本体のフレーム13に支持されている。The frame 8 supporting the main vacuum plate 6 and the sub-vacuum plate 10 has a thin film sticking device I via an air cylinder 12 whose position can be changed in the direction of arrow C.
It is supported by the frame 13 of the main body.
前記基板17の導電層上に円弧状部6Aでその先端部が
仮熱圧着ラミネートされる積層体1Bは、熱圧着ローラ
14でその全体が熱圧着ラミネートされるように構成さ
れている。熱圧着ローラ14は、積層体1Bの先端部を
円弧状部6Aで仮熱圧着後、第2図に符合14′を符し
た点線で示す位置から実線で示す位置に移動するように
構成されている。The laminated body 1B in which the tip portion of the arc-shaped portion 6A is temporarily thermocompression-laminated on the conductive layer of the substrate 17 is configured to be thermocompression-laminated entirely by the thermocompression-bonding roller 14. The thermocompression-bonding roller 14 is configured to move from the position shown by the dotted line and the position shown by the solid line 14 'in FIG. There is.
前記ロータリカッタ9で切断された積層体1Bの後端部
は、断面が三角形状の回転バキュームプレート15でし
わ等を生じないようにガイドされ、熱圧着ローラ14で
熱圧着ラミネートされるように構成されている。The rear end portion of the laminated body 1B cut by the rotary cutter 9 is guided by a rotary vacuum plate 15 having a triangular cross section so as not to cause wrinkles, and is laminated by thermocompression bonding by a thermocompression bonding roller 14. Has been done.
このように構成される薄膜張付装置Iは、前述した各構
成により、搬送ローラ16A,押えローラ16B等から
なる搬送装置IIAで搬送される基板17の両面(又は片
面)の導電層上に、積層体1Bを熱圧着ラミネートする
ようになっている。この熱圧着ラミネートは、基板17
に設けられたガイド用穿孔の位置と穿孔装置18で積層
体1Bに形成された穿孔の位置とが一致するようになさ
れる。積層体1Bは、透光性樹脂フィルム1Aが剥離さ
れた感光性樹脂層の接着面と導電層面とが接着するよう
に、基板17上に熱圧着ラミネートされるように構成さ
れている。The thin film sticking apparatus I configured as described above has the above-described configurations, on the conductive layers on both sides (or one side) of the substrate 17 transported by the transportation apparatus IIA including the transportation roller 16A and the pressing roller 16B. The laminated body 1B is laminated by thermocompression bonding. This thermocompression bonded laminate is used for the substrate 17
The positions of the perforation holes for the guides provided in the same and the positions of the perforations formed in the laminated body 1B by the perforation device 18 are made to coincide with each other. The laminated body 1B is configured to be thermocompression-bonded and laminated on the substrate 17 so that the adhesive surface of the photosensitive resin layer from which the translucent resin film 1A is peeled off and the conductive layer surface are adhered.
前記穿孔装置18は、第2図、第3図(第2図に示す矢
印D方向から見た断面図)及び第4図(第2図の矢印E
方向から見た側面図)で示すように構成されている。穿
孔装置18は、ホルダ18Cを介してカッタ支持部材1
8Dで支持された凸型のカッタ(ポンチ)18A及び1
8Bと、カッタ支持部材18Gで支持された凹型のカッ
タ(ダイス)18E及び18Fとの嵌合で積層体1Bに
穿孔を形成するように構成されている。カッタ支持部材
18Gは、支持軸18Hと駆動装置(エアー又は油圧シ
リンダ)18Iとでカッタ支持部材18Dに対して可動
し、カッタ18Aと18E及び18Bと18Fとが嵌合
するように構成されている。The punching device 18 is shown in FIG. 2, FIG. 3 (a sectional view seen from the direction of arrow D shown in FIG. 2) and FIG. 4 (arrow E in FIG. 2).
(Side view as seen from the direction). The punching device 18 includes the cutter support member 1 via the holder 18C.
Convex cutter (punch) 18A and 1 supported by 8D
8B and concave cutters (dies) 18E and 18F supported by the cutter support member 18G are fitted to each other to form perforations in the laminated body 1B. The cutter support member 18G is configured to move with respect to the cutter support member 18D by a support shaft 18H and a drive device (air or hydraulic cylinder) 18I, and the cutters 18A and 18E and 18B and 18F are fitted to each other. .
カッタ18Aと18Eは、基板17に熱圧着ラミネート
される積層体1Bの先端側の穿孔を形成し、カッタ18
Bと18Fは、前記積層体1Bの後端側の穿孔を形成す
るように構成されている。穿孔が形成された積層体1B
は、先端側の穿孔と後端側の穿孔との間をロータリカッ
タ9で切断されるように構成されている。このような配
置でカッタ18Aと18B及び18Eと18Fを設ける
ことにより、基板17の寸法(搬送方向の寸法)より極
めて小さな寸法で穿孔装置18を構成することができる
ので、穿孔装置18を小型化することができる。The cutters 18A and 18E form perforations on the front end side of the laminated body 1B which is thermocompression-bonded and laminated on the substrate 17,
B and 18F are configured to form perforations on the rear end side of the laminated body 1B. Laminated body 1B in which perforations are formed
Is configured to be cut by the rotary cutter 9 between the perforation on the front end side and the perforation on the rear end side. By providing the cutters 18A and 18B and 18E and 18F in such an arrangement, it is possible to configure the punching device 18 with a size extremely smaller than the size of the substrate 17 (size in the carrying direction). can do.
カッタ18A及び18Bは、圧縮空圧でホルダ18C内
を摺動するように構成されている。また、カッタ18A
及び18Bは、圧縮空気が噴出する軸方向に貫通した細
孔が設けられている。この細孔から噴出する圧縮空気
は、積層体1Bに穿孔を形成した時に生じる切りくず
を、カッタ18E及び18Fの貫通孔を通して、クリナ
ーボックス18J内に収納できるように構成されてい
る。カッタ18Aと18B及び18Eと18Fの寸法径
は、両者の位置合せ余裕を確保するために、基板17の
ガイド用穿孔径よりも大きく構成されている。The cutters 18A and 18B are configured to slide in the holder 18C by compressed air pressure. Also, the cutter 18A
And 18B are provided with pores penetrating in the axial direction from which the compressed air is ejected. The compressed air ejected from the pores is configured so that the chips generated when the perforations are formed in the laminated body 1B can be stored in the cleaner box 18J through the through holes of the cutters 18E and 18F. The dimensional diameters of the cutters 18A and 18B and 18E and 18F are configured to be larger than the guide perforation diameter of the substrate 17 in order to ensure the alignment margin between them.
このように、積層体1Bに穿孔を形成した時に生じる切
りくずをこの時点でクリナーボックス18Jに収納する
ことにより、露光工程において感光性樹脂層と配線パタ
ーンフィルムとの間に前記切りくずが散乱することを防
止できるので、感光性樹脂層に配線パターンを正確に描
写することができ、前記切りくずに起因するプリント配
線板の製造上の歩留りを向上することができる。As described above, the chips produced when the perforations are formed in the laminate 1B are stored in the cleaner box 18J at this point, so that the chips are scattered between the photosensitive resin layer and the wiring pattern film in the exposure step. Since this can be prevented, the wiring pattern can be accurately drawn on the photosensitive resin layer, and the manufacturing yield of the printed wiring board due to the chips can be improved.
穿孔装置18は、積層体1Bの供給経路(搬送経路)
に、アーム13Aを介して矢印F方向(上下方向)に移
動可能に、フレーム13に支持されている。すなわち、
穿孔装置18は、一端部のローラ18Kとアーム13A
のガイド溝13B、及び他端部のガイド溝18Lとアー
ム13Aのガイドレール13Cがそれぞれ摺動して移動
するように構成されている。この穿孔装置18の移動の
制御は、その他端部に設けられたネジボールナット18
M(又は歯車18M′)と、フレーム13に回転自在に
取り付けられた螺旋軸(ネジ軸)19の係合で行われて
いる。螺旋軸19は、伝達機構(歯車機構)19Aを介
して制御モータ19Bに接続されている。この制御モー
タ19Bは、前記基板寸法検出センサの検出信号が制御
装置VIIに入力し、この制御装置VIIの出力信号に基づい
て、基板17のガイド用穿孔の位置に対応した積層体1
Bの穿孔位置に穿孔装置18を移動するように構成され
ている。The punching device 18 is a supply path (conveyance path) for the laminated body 1B.
The frame 13 is movably supported in the direction of arrow F (up and down direction) via the arm 13A. That is,
The punching device 18 includes a roller 18K at one end and an arm 13A.
The guide groove 13B, the guide groove 18L at the other end, and the guide rail 13C of the arm 13A are slidably moved. The movement of the punching device 18 is controlled by a screw ball nut 18 provided at the other end.
M (or gear 18M ') is engaged with a spiral shaft (screw shaft) 19 rotatably attached to the frame 13. The spiral shaft 19 is connected to the control motor 19B via a transmission mechanism (gear mechanism) 19A. The control motor 19B inputs the detection signal of the substrate size detection sensor to the control device VII, and based on the output signal of the control device VII, the laminated body 1 corresponding to the position of the guide hole of the substrate 17 is formed.
It is configured to move the punching device 18 to the punching position B.
穿孔装置18で穿孔が形成された積層体1Bは、前述の
ように、積層体1Bの穿孔と基板17のガイド用穿孔と
が一致するように、基板17に熱圧着ラミネートされ、
この基板17は、搬送装置IIBに搬送される。この搬送
された基板17は、前記積層体1Bの穿孔と基板17の
ガイド用穿孔との位置が一致している否かを穿孔不良検
出センサVIで検出するように構成されている(第1図及
び第2図参照)。なお、前記穿孔不良検出センサVIは、
穿孔が施されていない積層体1Bが基板17にラミネー
トされている不良品も検出するようになっている。As described above, the laminated body 1B in which the perforations are formed by the perforation device 18 is thermocompression bonded to the substrate 17 so that the perforations of the laminated body 1B and the guide perforations of the substrate 17 match.
The substrate 17 is transferred to the transfer device IIB. The conveyed board 17 is configured to detect whether or not the positions of the perforations of the laminated body 1B and the guide perforations of the board 17 coincide with each other by the perforation defect detection sensor VI (FIG. 1). And FIG. 2). In addition, the perforation failure detection sensor VI,
A defective product in which the laminated body 1B not perforated is laminated on the substrate 17 is also detected.
穿孔不良検出センサVIで検出された基板17が不良でな
い場合には、搬送装置IIBで露光装置に搬送される。ま
た、穿孔不良検出センサVIで検出された基板17が不良
の場合には、アラームで作業者に知らせるように構成さ
れている。また、不良の場合には、不良の基板17を基
板搬送経路から排除部材で排除する基板不良排除装置を
搬送装置IIBに設けてもよい。この不良の基板17は、
消却してもよいが、作業者の手作業又は別の穿孔装置で
積層体1Bの穿孔の位置を修正し、再度搬送装置IIBで
露光装置に搬送させてもよい。When the substrate 17 detected by the perforation defect detection sensor VI is not defective, it is transported to the exposure device by the transport device IIB. Further, when the board 17 detected by the perforation failure detection sensor VI is defective, an alarm is given to the operator. Further, in the case of a defect, a substrate defect eliminating device for eliminating the defective substrate 17 from the substrate conveying path by an eliminating member may be provided in the conveying device IIB. This defective board 17
Although it may be erased, the position of the perforations in the laminated body 1B may be corrected manually by an operator or another perforation device, and the perforations may be again transported to the exposure device by the transport device IIB.
このように、薄膜張付装置Iと露光装置との間の基板搬
送経路に穿孔不良検出センサを設けたことにより、不良
の基板17を次段装置に搬送することを防止できるの
で、プリント配線板の製造上の歩留りを向上することが
できる。また、不良の基板17を自動的に検出できるの
で、作業能率を向上することができる。In this way, by providing the perforation defect detection sensor in the substrate conveyance path between the thin film sticking device I and the exposure device, it is possible to prevent the defective substrate 17 from being conveyed to the next-stage device, and thus the printed wiring board. It is possible to improve the manufacturing yield. Further, since the defective board 17 can be automatically detected, the work efficiency can be improved.
次に、前述の薄膜張付装置I及び穿孔装置18の制御方
法を、第1図乃至第4図及び第5図に示す制御フローを
用いて説明する。Next, the control method of the above-mentioned thin film sticking device I and perforation device 18 will be explained using the control flow shown in FIGS. 1 to 4 and 5.
まず、第1図に示す予熱装置IIIで予熱された基板17
は、搬送中に基板寸法検出センサIVでその寸法(本実施
例では搬送方向の長さ)が測定される。基板寸法検出セ
ンサIVは、基板17の搬送方向の先端及び後端を検出
し、この検出信号は、制御装置VIIに出力される。First, the substrate 17 preheated by the preheating device III shown in FIG.
The substrate dimension detection sensor IV measures the dimension (length in the transport direction in this embodiment) during transportation. The board size detection sensor IV detects the front and rear ends of the board 17 in the carrying direction, and the detection signal is output to the control device VII.
制御装置VIIにおいて、基板17の一定の搬送速度Sと
前記基板寸法検出センサIVを基板17が通過する時間T
とを乗算して(基板寸法=S×T)各種の基板17の寸
法をパルス信号で出力し、その寸法のパルス数によって
寸法を分類し、データ化して(以下、基板寸法データと
いう)記憶装置に記憶する〈120〉。In the control device VII, a constant transport speed S of the substrate 17 and a time T during which the substrate 17 passes the substrate size detection sensor IV.
Multiply by (board size = S × T) to output the size of each type of board 17 as a pulse signal, classify the size according to the number of pulses of the size, and convert it to data (hereinafter referred to as board size data) storage device Memorize in <120>.
すなわち、前記基板17の搬送速度Sは、搬送ローラ1
6Aの回転速度を一定に設定することにより得られる。That is, the transport speed S of the substrate 17 is equal to the transport roller 1
It is obtained by setting the rotation speed of 6 A constant.
また、前記基板17が基板寸法検出センサIVを通過する
時間Tは、前記基板寸法検出センサIVによって検出され
た基板17の先端及び後端の検出信号から得ることがで
きる。例えば、基板寸法検出センサIVを基板17の先端
が検出されたとき、カウンタで一定周波数のパルス(ク
ロック)のカウントを開始し、後端が検出されたとき、
そのカウントを停止して、カウンタのカウント数に対応
した信号を発生するようにすれば簡単に実現できる。The time T during which the board 17 passes the board size detection sensor IV can be obtained from the detection signals of the front and rear ends of the board 17 detected by the board size detection sensor IV. For example, when the front end of the board 17 is detected by the board size detection sensor IV, the counter starts counting pulses (clocks) of a constant frequency, and when the back end is detected,
This can be easily realized by stopping the count and generating a signal corresponding to the count number of the counter.
また、各種基板17は、前記検出された基板17の寸法
に対応したパルス数によって所定の寸法範囲毎に、例え
ば、D1,D2,D3,D4,D5のように分類して基
板寸法データとされる。Further, the various substrates 17 are classified according to the number of pulses corresponding to the detected size of the substrate 17 in each predetermined size range, for example, D 1 , D 2 , D 3 , D 4 , D 5. It is used as board size data.
ここで、記憶装置に前記D1〜D5の基板寸法データを
記憶する場合、入力した番地に基板寸法データがないと
きは、基板寸法データがあるところまで順次シフトする
ようになっている。そして、先頭の番地の基板寸法デー
タが常に読み出されるようになっている。この先頭の番
地の基板寸法データは、常に基板の寸法に対応する穿孔
位置データとなるようになっている。Here, when storing the substrate dimension data of the D 1 to D 5 in the storage device, when there is no substrate size data to the address input is adapted to sequentially shifted to the point where there is a substrate dimension data. The board size data of the leading address is always read. The board size data of the leading address is always the punching position data corresponding to the board size.
そして、この基板寸法データに基づいて、制御装置VII
は、制御モータ19Bを駆動し、伝達機構19A及び螺
旋軸19を介して穿孔装置18を移動させる〈121〉。
この穿孔装置18の移動は、前記基板寸法データによっ
て設定される基板17のガイド用穿孔もしくは位置決め
用穴の位置と基板17に熱圧着ラミネートされる積層体
1Bのガイド用穿孔もしくは位置決め用穴の位置とが一
致するようになっている。Then, based on the board size data, the controller VII
Drives the control motor 19B to move the punching device 18 via the transmission mechanism 19A and the spiral shaft <121>.
The movement of the punching device 18 is performed by moving the position of the guide hole or the positioning hole of the substrate 17 and the position of the guide hole or the positioning hole of the laminated body 1B to be laminated on the substrate 17 by thermocompression bonding, which are set by the board size data. Are supposed to match.
この状態において、基板17の先端が基板位置検出セン
サVで検出されると〈100〉、穿孔装置18が駆動し〈1
22〉、積層体1Bの穿孔位置に穿孔が形成される〈12
3〉。穿孔が形成されると、その終了信号が制御装置VII
に入力され、これに基づいて制御装置VIIにより穿孔装
置18が移動し〈124〉、穿孔装置18が基準位置に戻
される〈125〉。穿孔装置18が基準位置に戻される
と、その完了信号が制御装置VIIに入力し、前述の穿孔
装置18を動作させた基板寸法データが記憶回路の先頭
の番地から抹消される。この抹消された記録回路の番地
には、次段の番地から次に搬送されてくる基板17の基
板寸法データがシフトする。In this state, when the tip of the substrate 17 is detected by the substrate position detection sensor V <100>, the punching device 18 is driven <1>.
22>, perforations are formed at the perforation positions of the laminated body 1B <12
3>. When the perforation is formed, the end signal is sent to the control device VII.
The control device VII moves the punching device 18 based on the input <124>, and the punching device 18 is returned to the reference position <125>. When the punching device 18 is returned to the reference position, the completion signal is input to the control device VII, and the board size data for operating the punching device 18 is deleted from the leading address of the storage circuit. Substrate size data of the substrate 17 conveyed next from the next address is shifted to the address of the erased recording circuit.
一方、基板位置検出センサVの検出信号は、搬送装置II
Aの搬送ローラ16Aを停止させ〈101〉、基板17を
停止させる。On the other hand, the detection signal of the substrate position detection sensor V is the transfer device II.
The A transport roller 16A is stopped <101>, and the substrate 17 is stopped.
この時、薄膜張付装置Iのメインバキュームプレート6
の円弧状部6Aに積層体1Bの先端部が吸着されている
〈114〉。この積層体1Bの先端部の吸着は、サブバキ
ュームプレート10で行われる。積層体1Bの先端部
は、これよりも前工程で基板17に熱圧着ラミネートさ
れた積層体1Bの後端部に形成された穿孔と同一工程で
形成された穿孔を有している。この積層体1Bの先端部
の穿孔は、カッタ18A及び18Eで形成される。At this time, the main vacuum plate 6 of the thin film sticking apparatus I
The tip of the laminated body 1B is adsorbed to the arcuate portion 6A of <114>. The suction of the tip portion of the laminated body 1B is performed by the sub-vacuum plate 10. The front end portion of the laminated body 1B has perforations formed in the same process as the perforation formed at the rear end portion of the laminated body 1B that is thermocompression bonded to the substrate 17 in the preceding process. The perforations at the tip of the laminated body 1B are formed by the cutters 18A and 18E.
そして、円弧状部6Aに積層体1Bが吸着された状態
で、メインバキュームプレート6を基板17側に移動さ
せ〈102〉、積層体1Bの先端部を基板17の先端部に
仮熱圧着ラミネートする〈103〉。Then, the main vacuum plate 6 is moved to the substrate 17 side in a state where the laminated body 1B is adsorbed to the arcuate portion 6A <102>, and the leading end portion of the laminated body 1B is temporarily thermocompression laminated to the leading end portion of the substrate 17. <103>.
仮熱圧着ラミネートが施されると、メインバキュームプ
レート6のバキュームを停止し〈104〉、メインバキュ
ームプレート6を元の基準位置に移動させる〈105〉。When the provisional thermocompression lamination is performed, the vacuum of the main vacuum plate 6 is stopped <104>, and the main vacuum plate 6 is moved to the original reference position <105>.
そして、第2図に符合14′で示す点線の位置から実線
で示す位置まで熱圧着ローラ14を移動する〈106〉。
この熱圧着ローラ14の移動で、基板17がクランプさ
れると、熱圧着ローラ14及び搬送ローラ16Aが駆動
し〈107〉、仮熱圧着された先端部から基板17に積層
体1Bが熱圧着ラミネートし始める。Then, the thermocompression bonding roller 14 is moved from the position indicated by the reference numeral 14 'in FIG. 2 to the position indicated by the solid line <106>.
When the substrate 17 is clamped by the movement of the thermocompression-bonding roller 14, the thermocompression-bonding roller 14 and the transport roller 16A are driven <107>, and the laminated body 1B is thermocompression-bonded to the substrate 17 from the temporarily thermocompression-bonded tip. Begin to.
熱圧着ラミネート中の基板17の後端部が基板位置検出
センサVで検出されると〈108〉、その検出信号により
制御装置VIIで積層体1Bの切断位置までの時間又は距
離をカウントする〈109〉。このカウントが所定の設定
値に達すると、熱圧着ラミネート速度よりも速い速度で
メインバキュームプレート6を移動し〈110〉、積層体
1Bの後端部をロータリカッタ9の切断位置に設定す
る。When the rear end of the substrate 17 in the thermocompression laminate is detected by the substrate position detection sensor V <108>, the control device VII counts the time or distance to the cutting position of the laminated body 1B by the detection signal <109>. >. When this count reaches a predetermined set value, the main vacuum plate 6 is moved at a speed higher than the thermocompression laminating speed <110>, and the rear end of the laminated body 1B is set at the cutting position of the rotary cutter 9.
切断位置に設定された積層体1Bの後端部は、ロータリ
カッタ9で切断される〈111〉,〈112〉。切断された積
層体1Bの後端部は、回転バキュームプレート15に吸
着され、しわ等を生じないように、基板17に搬送され
〈113〉、熱圧着ラミネートが完了する。The rear end of the laminated body 1B set at the cutting position is cut by the rotary cutter 9 <111>, <112>. The cut rear end portion of the laminated body 1B is adsorbed by the rotary vacuum plate 15 and conveyed to the substrate 17 so as not to cause wrinkles and the like <113>, and the thermocompression lamination is completed.
なお、前記基板位置検出センサVで基板17の後端部が
検出されると〈108〉、熱圧着ラミネートされた基板1
7数をカウントするカウンタが動作し〈115〉、熱圧着
ラミネートが完了すると、基板17数がカウントされる
〈116〉。When the rear end of the substrate 17 is detected by the substrate position detection sensor V <108>, the thermocompression laminated substrate 1 is detected.
A counter that counts seven numbers operates <115>, and when thermocompression lamination is completed, the number of substrates 17 is counted <116>.
そして、この後に新たな基板17が薄膜張付装置Iに搬
送されない場合は、薄膜張付装置Iの各装置が基準位置
に移動する〈117〉。また、連続して新たな基板17が
搬送される場合は、前述したシーケンス制御の初段から
再び薄膜張付装置I及び穿孔装置18が制御される。Then, when the new substrate 17 is not transported to the thin film sticking device I after this, each device of the thin film sticking device I moves to the reference position <117>. When new substrates 17 are continuously transferred, the thin film sticking device I and the punching device 18 are controlled again from the first stage of the sequence control described above.
このように、薄膜張付装置Iに搬送されてくる基板17
の寸法を検出し、この検出によって基板17のガイド用
穿孔の位置を設定し、この基板17のガイド用穿孔の位
置に対応して、薄膜張付装置Iで基板17に張り付けら
れる積層体1Bの穿孔位置を設定し、この積層体1Bの
穿孔位置に穿孔を形成することにより、積層体1Bの張
り付け前に、基板17のガイド用穿孔の位置に、対応し
た積層体1Bの穿孔位置に自動的に穿孔を形成すること
ができるので、穿孔を形成するのに要する時間を短縮
し、作業能率を向上することができる。In this way, the substrate 17 conveyed to the thin film sticking apparatus I
Of the laminated body 1B to be attached to the substrate 17 by the thin film laminating apparatus I in correspondence with the position of the guide perforation of the substrate 17 by detecting the size of By setting the perforation position and forming the perforations at the perforation position of the laminated body 1B, the laminating position is automatically set to the guide perforation position of the substrate 17 and the corresponding perforation position of the laminated body 1B before attaching the laminated body 1B. Since it is possible to form the perforations, it is possible to shorten the time required to form the perforations and improve the work efficiency.
また、基板寸法検出センサIVの検出信号により設定され
た基板寸法データを一旦記憶回路に順次記憶し、基板位
置検出センサVの検出信号により前記記憶回路の基板寸
法データを順次読み出し、それぞれの基板17に対応し
て積層体1Bに穿孔を形成するようにしたので、ランダ
ムな間隔でしかも連続的に搬送されるそれぞれの基板1
7に、穿孔が形成された積層体1Bを正確に熱圧着ラミ
ネートすることができる。Further, the board size data set by the detection signal of the board size detection sensor IV is temporarily stored in the storage circuit one by one, and the board size data of the storage circuit is sequentially read by the detection signal of the board position detection sensor V. Since the perforations are formed in the laminated body 1B corresponding to the above, the respective substrates 1 that are continuously conveyed at random intervals
The laminated body 1B in which the perforations are formed in 7 can be accurately thermocompression-laminated.
なお、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変形し得
ることは勿論である。It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
例えば、本発明は、基板17の幅方向の寸法を検出する
基板寸法検出センサを設け、積層体1Bの幅方向に穿孔
位置が移動するように構成された穿孔装置を設け、前記
基板寸法検出センサの検出信号に基づいて、前記穿孔装
置の穿孔位置を制御するように構成してもよい。For example, the present invention provides a board size detection sensor that detects the size of the board 17 in the width direction, and a punching device that is configured to move the punching position in the width direction of the laminated body 1B. The punching position of the punching device may be controlled on the basis of the detection signal.
(3)効果 以上説明したように、本発明によれば、薄膜張付装置に
搬送されてくる基板のガイド用穿孔の位置を検出し、こ
の基板のガイド用穿孔の位置に対応して、前記薄膜張付
装置で基板に取り付けられる薄膜の穿孔位置を設定し、
前記薄膜の穿孔位置に穿孔を形成することにより、基板
の薄膜を張り付ける前に穿孔を形成し、この薄膜の切り
くずをこの時点で排除できるので、製造上の歩留りを向
上することができ、しかも、薄膜の張り付け前に、基板
のガイド用穿孔の位置に対応した薄膜の穿孔位置に自動
的に穿孔を形成できるので、作業効率を向上することが
できる。(3) Effects As described above, according to the present invention, the position of the guide perforation of the substrate conveyed to the thin film sticking apparatus is detected, and the position corresponding to the guide perforation of the substrate is detected as described above. Set the perforation position of the thin film attached to the substrate with the thin film sticking device,
By forming perforations at the perforation position of the thin film, the perforations are formed before attaching the thin film of the substrate, and the chips of this thin film can be eliminated at this point, so that the yield in manufacturing can be improved, Moreover, since the perforations can be automatically formed at the perforation positions of the thin film corresponding to the positions of the perforation holes for guiding the substrate before the thin film is attached, the working efficiency can be improved.
第1図は、本発明の一実施例である薄膜張付システムの
構成図、 第2図は、前記薄膜張付システムの薄膜張付装置の概略
構成図、 第3図は、第2図の矢印D方向から見た穿孔装置の断面
図、 第4図は、第2図の矢印F方向から見た穿孔装置の側面
図、 第5図は、前記薄膜張付装置及び穿孔装置の制御方法を
説明するための制御フローである。 図中、I……薄膜張付装置、IIA,IIB……搬送装置、
IV……基板寸法検出センサ、V……基板位置検出セン
サ、VI……穿孔不良検出センサ、VII……制御装置、1
B……積層体、16A……搬送ローラ、17……基板、
18……穿孔装置、18A,18B,18E,18F…
…カッタ、18M……ネジボールナット、18J……ク
リナーボックス、19……螺旋軸、19A……伝達機
構、19B……制御モータである。FIG. 1 is a block diagram of a thin film sticking system which is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic block diagram of a thin film sticking device of the thin film sticking system, and FIG. Sectional drawing of the perforation apparatus seen from the arrow D direction, FIG. 4 is a side view of the perforation apparatus seen from the arrow F direction of FIG. 2, and FIG. 5 shows the said thin film sticking apparatus and the control method of the perforation apparatus. It is a control flow for explaining. In the figure, I ... Thin film sticking device, IIA, IIB ... Conveying device,
IV: substrate size detection sensor, V: substrate position detection sensor, VI: defective hole detection sensor, VII: control device, 1
B: laminated body, 16A: transport roller, 17: substrate,
18 ... Punching device, 18A, 18B, 18E, 18F ...
... cutter, 18M ... screw ball nut, 18J ... cleaner box, 19 ... spiral shaft, 19A ... transmission mechanism, 19B ... control motor.
Claims (2)
て来る位置決め用穴の設けられた基板に薄膜をラミネー
トするために、当該ラミネート前の薄膜に前記位置決め
用穴に対応した位置に穿孔を形成する方法であって、基
板を搬送経路に沿って一定の速さで搬送し、搬送経路に
おいて基板があらかじめ決められた位置を通る通過時間
を、経路を通過する基板の前端及び後端が前記あらかじ
め決められた位置と一致することを検出することによっ
て演算し、かつ、基板における位置決め用穴の位置を計
算された速度及び通過時間により演算し、ラミネートす
るに先立ち、薄膜における穿孔形成位置を基板における
前記位置決め用穴の位置に対応させて設定し、かつ、薄
膜の当該設定された位置に穿孔を形成し、該穿孔形成時
に発生する切りくずを除去し、穿孔を有するあらかじめ
決められた長さの薄膜を、不連続に搬送されてくる基板
にラミネートするために、切断することを特徴とする薄
膜穿孔方法。1. To laminate a thin film on a substrate having positioning holes that are discontinuously conveyed to a thin film laminating laminator, perforating the thin film before lamination at a position corresponding to the positioning hole. A method of forming a substrate, the substrate is transported at a constant speed along a transport path, and the passage time for the substrate to pass a predetermined position in the transport path is determined by the front end and the rear end of the substrate passing through the route. It is calculated by detecting that it coincides with the predetermined position, and the position of the positioning hole in the substrate is calculated by the calculated speed and passing time, and the position where the perforation is formed in the thin film is calculated before laminating. It is set corresponding to the position of the positioning hole in the substrate, and perforations are formed at the set positions of the thin film, and the cutting that occurs when the perforations are formed. Was removed, the length of the thin film to a predetermined with perforations, in order to laminate the conveyed discontinuously substrate, a thin film perforations wherein the cutting.
ートするために、ラミネート前の当該薄膜に該位置決め
用穴に対応した位置に穿孔を形成する穿孔装置であっ
て、該装置は配置された薄膜供給経路を形成する薄膜供
給手段と薄膜を基板にラミネートするためのラミネータ
に対する基板搬送経路を形成する基板供給手段が設けら
れている穿孔装置において、前記基板が基板搬送経路に
沿って移動する際に該基板の長さを感知することによっ
て基板における穴の位置を決定する感知手段と、該感知
手段に応答して制御信号を出力する制御手段と、該制御
手段からの出力信号に応答して薄膜供給経路に沿って該
穿孔装置を移動させて、ラミネートした時に該基板の位
置決め用穴に対応する穿孔を該薄膜に形成すべく穿孔装
置を該薄膜供給経路に沿った適当位置に設定する移動手
段と、当該薄膜の前記移動手段により設定された位置に
穿孔を形成し、該穿孔時に発生する切りくずを除去する
手段と、前記制御手段の出力に応答して該基板の長さに
対応して、穿孔を有するある長さの薄膜を切断する切断
手段とからなることを特徴とする穿孔装置。2. A punching device for forming a thin film on a substrate having a positioning hole at a position corresponding to the positioning hole in the thin film before lamination, the device being arranged. In a punching device provided with a thin film supply means for forming a thin film supply path and a substrate supply means for forming a substrate transfer path for a laminator for laminating a thin film on a substrate, when the substrate moves along the substrate transfer path Sensing means for determining the position of the hole in the substrate by sensing the length of the substrate, control means for outputting a control signal in response to the sensing means, and responsive to an output signal from the control means. The perforation device is moved along the thin film supply path to form a perforation corresponding to the positioning hole of the substrate in the thin film when laminating the thin film supply path. In response to the output of the control means, a moving means to be set at an appropriate position along the moving means, a means for forming a perforation at a position set by the moving means of the thin film, a means for removing chips generated at the time of the perforation, and a control means. A perforating apparatus comprising: a cutting means for cutting a thin film having a certain length corresponding to the length of the substrate.
Priority Applications (6)
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JP60240235A JPH0630878B2 (en) | 1985-10-26 | 1985-10-26 | Thin film perforation method and apparatus for implementing the same |
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DE8686903585T DE3681782D1 (en) | 1985-06-07 | 1986-06-06 | METHOD AND DEVICE FOR DRILLING TISSUES IN A TISSUE ADHESIVE. |
EP19860903585 EP0225927B1 (en) | 1985-06-07 | 1986-06-06 | Method and device for boring films for film pasting apparatuses |
US07/027,230 US4759809A (en) | 1985-06-07 | 1987-02-06 | Method for forming alignment holes in a film to be laminated to a substrate having positioning holes |
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Family Applications (1)
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JP60240235A Expired - Lifetime JPH0630878B2 (en) | 1985-06-07 | 1985-10-26 | Thin film perforation method and apparatus for implementing the same |
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-
1985
- 1985-10-26 JP JP60240235A patent/JPH0630878B2/en not_active Expired - Lifetime
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