JPH06298897A - Curable resin composition - Google Patents

Curable resin composition

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JPH06298897A
JPH06298897A JP5112173A JP11217393A JPH06298897A JP H06298897 A JPH06298897 A JP H06298897A JP 5112173 A JP5112173 A JP 5112173A JP 11217393 A JP11217393 A JP 11217393A JP H06298897 A JPH06298897 A JP H06298897A
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curable resin
sio
resin composition
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Yoshiji Morita
好次 森田
Junji Nakanishi
淳二 中西
Masaru Tanaka
賢 田中
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a curable resin composition which has excellent flowability before cured and which after cured is excellent in flexibility, moisture resistance, and thermal impact resistance. CONSTITUTION:The composition comprises 100 pts.wt. curable resin and 0.1-500 pts.wt. epoxidized silicone resin represented by the formula (R<1>SiO3/2)a (R<2> R<3>SiO2/2)b (SiO4/2)c {wherein R<1>, R<2>, and R<3> are the same or different and each represents a monovalent hydrocarbon group or an epoxidized organic group, provided that the amount of the epoxidized organic groups is 0.1-40mol% based on the total amount of all Si-bonded organic groups in the silicone resin; and a is a positive number and b and c each is 0 or a positive number, provided that 0<=b/a<=10 and 0<=c/(a+b+c)<=0.3} and having a glass transition temp. of -90 deg.C to 150 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は硬化性樹脂組成物に関
し、詳しくは、硬化前には流動性が優れ、硬化後には可
撓性、耐湿性および耐熱衝撃性が優れた樹脂を形成する
硬化性樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a curable resin composition, and more specifically, a curable resin composition having excellent fluidity before curing and flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance after curing. Resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】硬化性樹脂組成物は、これを硬化して得
られる樹脂の誘電特性、体積抵抗率、絶縁破壊強度等の
電気特性および曲げ強度、圧縮強度、衝撃強度等の機械
的特性が優れているため、あらゆる産業で利用されてい
る。
2. Description of the Related Art Curable resin compositions have electrical properties such as dielectric properties, volume resistivity, dielectric breakdown strength, etc., and mechanical properties such as bending strength, compressive strength, impact strength, etc. Because it is excellent, it is used in all industries.

【0003】しかし、このような硬化性樹脂組成物をコ
ーティング剤や接着剤あるいは電気・電子素子封止用樹
脂として使用した場合には、硬化後に得られる樹脂が剛
直で可撓性に乏しく、またその硬化収縮率が大きいた
め、被着体や電気・電子素子に大きな応力が加わり、該
樹脂の亀裂や破損、該樹脂により封止される電気・電子
素子の破壊、さらには該樹脂と被着体や電気・電子素子
との間に隙間が生じるという問題があった。
However, when such a curable resin composition is used as a coating agent, an adhesive, or a resin for encapsulating electric / electronic elements, the resin obtained after curing is rigid and lacks flexibility. Since the curing shrinkage rate is large, a large stress is applied to the adherend and the electric / electronic element, and the resin is cracked or damaged, the electric / electronic element sealed by the resin is broken, or the resin and the adherend are adhered to each other. There is a problem that a gap is generated between the body and the electric / electronic element.

【0004】また硬化性樹脂組成物は、これを硬化して
得られる樹脂の熱膨張係数が電気・電子素子の熱膨張係
数に比較して大きいため、該樹脂により封止される電気
・電子素子が繰り返し熱衝撃を受けた場合には、該樹脂
の亀裂、該樹脂により封止される電気・電子素子の破
壊、さらには該樹脂と電気・電子素子との間に隙間が生
じることにより、電気・電子素子の信頼性が低下すると
いう問題があった。
Further, the curable resin composition has a large coefficient of thermal expansion of the resin obtained by curing the curable resin composition as compared with the coefficient of thermal expansion of the electric / electronic element, and therefore the electric / electronic element sealed by the resin is used. When repeatedly subjected to thermal shock, the resin may crack, the electric / electronic element sealed by the resin may be destroyed, and a gap may be created between the resin and the electric / electronic element. -There was a problem that the reliability of the electronic device was reduced.

【0005】このため、硬化後の樹脂の可撓性、耐湿性
および耐熱衝撃性を改良するため、従来、硬化性樹脂と
オルガノポリシロキサンからなる硬化性樹脂組成物が数
多く提案されている。このような硬化性樹脂組成物とし
て、例えば、エポキシ樹脂、エポキシ基とメトキシ基含
有オルガノポリシロキサン、硬化剤および無機質充填剤
からなる硬化性樹脂組成物(特開昭56−136816
号公報参照)、エポキシ樹脂とシラノール基を有するオ
ルガノポリシロキサンからなる混合物、エポキシ基含有
オルガノポリシロキサン、無機質充填剤および硬化触媒
からなる硬化性樹脂組成物(特開昭56−145942
号公報参照)が挙げられる。
Therefore, in order to improve the flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance of the cured resin, many curable resin compositions comprising a curable resin and an organopolysiloxane have been proposed in the past. As such a curable resin composition, for example, a curable resin composition comprising an epoxy resin, an epoxy group- and methoxy group-containing organopolysiloxane, a curing agent and an inorganic filler (JP-A-56-136816).
(See JP-A-56-145942), a mixture of an epoxy resin and an organopolysiloxane having a silanol group, an epoxy group-containing organopolysiloxane, an inorganic filler, and a curable resin composition (Claim 56-145942).
(See Japanese Patent Publication).

【0006】しかし、特開昭56−136816号およ
び特開昭56−14592号に提案された硬化性樹脂組
成物において、エポキシ基含有オルガノポリシロキサン
は、エポキシ基含有アルコキシシランとその他のアルコ
キシシランとを共加水分解反応することにより得られた
ものであり、このようなエポキシ基含有オルガノポリシ
ロキサンを配合してなる硬化性樹脂組成物は、硬化して
得られた樹脂の可撓性、耐湿性および耐熱衝撃性が十分
でなかった。
However, in the curable resin compositions proposed in JP-A-56-136816 and JP-A-56-14592, the epoxy group-containing organopolysiloxane is an epoxy group-containing alkoxysilane and another alkoxysilane. Was obtained by co-hydrolyzing the epoxy resin, and a curable resin composition prepared by blending such an epoxy group-containing organopolysiloxane has flexibility and moisture resistance of the resin obtained by curing. And the thermal shock resistance was not sufficient.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする問題点】本発明者らは、上記
問題点を解決するため鋭意努力した結果、本発明に到達
した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have arrived at the present invention as a result of diligent efforts to solve the above problems.

【0008】すなわち、本発明の目的は、硬化前には流
動性が優れ、硬化後には可撓性、耐湿性および耐熱衝撃
性が優れた樹脂を形成する硬化性樹脂組成物を提供する
ことにある。
That is, an object of the present invention is to provide a curable resin composition which forms a resin having excellent fluidity before curing and excellent flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance after curing. is there.

【0009】[0009]

【問題点を解決するための手段およびその作用】本発明
は、 (A)硬化性樹脂 100重量部および (B)一般式: (R1SiO3/2a(R23SiO2/2b(SiO4/2c {式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価
炭化水素基またはエポキシ含有有機基であり、但し、
(B)成分中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ
含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、aは
正数であり、bは0または正数であり、cは0または正
数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/(a
+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、かつ
−90℃〜150℃にガラス転移点を有するエポキシ基
含有シリ コーンレジン 0.1〜500重量部 からなる硬化性樹脂組成物に関する。
[Means for Solving the Problems and Their Actions] The present invention comprises (A) 100 parts by weight of a curable resin and (B) a general formula: (R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 R 3 SiO 2 / 2 ) b (SiO 4/2 ) c {wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same or different monovalent hydrocarbon groups or epoxy-containing organic groups, provided that
The content of the epoxy-containing organic group with respect to all the silicon atom-bonded organic groups in the component (B) is 0.1 to 40 mol%, a is a positive number, b is 0 or a positive number, and c is 0. Or a positive number and b / a is a number from 0 to 10, and c / (a
+ B + c) is a number from 0 to 0.3. } And a curable resin composition comprising 0.1 to 500 parts by weight of an epoxy group-containing silicone resin having a glass transition point at -90 ° C to 150 ° C.

【0010】本発明の硬化性樹脂組成物について詳細に
説明する。
The curable resin composition of the present invention will be described in detail.

【0011】(A)成分の硬化性樹脂は、本発明の組成物
の主材であり、その種類は特に限定されない。(A)成分
の硬化性樹脂として具体的には、フェノール樹脂,ホル
ムアルデヒド樹脂,キシレン樹脂,キシレン−ホルムア
ルデヒド樹脂,ケトン−ホルムアルデヒド樹脂,フラン
樹脂,尿素樹脂,イミド樹脂,メラミン樹脂,アルキッ
ド樹脂,不飽和ポリエステル樹脂,アニリン樹脂,スル
ホン−アミド樹脂,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂、お
よびこれらの共重合体樹脂、さらにはこれら硬化性樹脂
の2種以上の混合物が例示され、好ましくは、エポキシ
樹脂,フェノール樹脂,イミド樹脂およびシリコーン樹
脂からなる群から選択される硬化性樹脂である。また、
(A)成分の硬化機構は特に限定されず、具体的には、熱
硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂が例示
される。また、(A)成分の室温での状態は特に限定され
ず、室温で液状または固体状のいずれであってもよい。
The curable resin as the component (A) is the main material of the composition of the present invention, and the kind thereof is not particularly limited. Specific examples of the curable resin as the component (A) include phenol resin, formaldehyde resin, xylene resin, xylene-formaldehyde resin, ketone-formaldehyde resin, furan resin, urea resin, imide resin, melamine resin, alkyd resin, and unsaturated resin. Examples include polyester resins, aniline resins, sulfone-amide resins, silicone resins, epoxy resins, copolymer resins thereof, and mixtures of two or more of these curable resins, preferably epoxy resins, phenol resins, It is a curable resin selected from the group consisting of imide resins and silicone resins. Also,
The curing mechanism of the component (A) is not particularly limited, and specific examples thereof include a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and a moisture curable resin. The state of the component (A) at room temperature is not particularly limited, and it may be liquid or solid at room temperature.

【0012】本発明の硬化性樹脂組成物において、(A)
成分中には上記例示の硬化性樹脂以外の成分として、例
えば、硬化剤,硬化促進剤,充填剤,光増感剤,高級脂
肪酸の金属塩,エステル系ワックス,可塑剤を配合する
ことができる。(A)成分に配合することのできる硬化剤
として具体的には、カルボン酸やスルホン酸の有機酸お
よびその無水物,有機ヒドロキシ化合物,シラノール
基,アルコキシ基またはハロゲノ基等の基を有する有機
ケイ素化合物,一級または二級のアミノ化合物が例示さ
れ、これらの硬化剤の二種以上の混合物を使用すること
ができる。また、(A)成分に配合することのできる硬化
促進剤として具体的には、三級アミン化合物,アルミニ
ウムやジルコニウム等の有機金属化合物,ホスフィン等
の有機リン化合物,異環型アミン化合物,ホウ素錯化合
物,有機アンモニウム塩,有機スルホニウム塩,有機過
酸化物が例示される。また、(A)成分に配合することの
できる充填剤として具体的には、ガラス繊維,石綿,ア
ルミナ繊維,アルミナとシリカを成分とするセラミック
繊維,ボロン繊維,ジルコニア繊維,炭化ケイ素繊維,
金属繊維,ポリエステル繊維,アラミド繊維,ナイロン
繊維,フェノール繊維,天然の動植物繊維等の繊維状充
填剤;溶融シリカ,沈澱シリカ,ヒュームドシリカ,焼
成シリカ,酸化亜鉛,焼成クレイ,カーボンブラック,
ガラスビーズ,アルミナ,タルク,炭酸カルシウム,ク
レイ,水酸化アルミニウム,硫酸バリウム,二酸化チタ
ン,窒化アルミニウム,炭化ケイ素,酸化マグネシウ
ム,酸化ベリリウム,カオリン,雲母,ジルコニア等の
粉粒体状充填剤、および上記2種以上の混合物が例示さ
れる。
In the curable resin composition of the present invention, (A)
As components other than the above-described curable resin, for example, a curing agent, a curing accelerator, a filler, a photosensitizer, a metal salt of a higher fatty acid, an ester wax, and a plasticizer can be blended. . Specific examples of the curing agent that can be added to the component (A) include organic acids such as carboxylic acids and sulfonic acids and their anhydrides, organic hydroxy compounds, silanol groups, alkoxy groups, halogeno groups, and other such groups. Compounds, primary or secondary amino compounds are exemplified, and a mixture of two or more of these curing agents can be used. Further, as the curing accelerator that can be added to the component (A), specifically, tertiary amine compounds, organometallic compounds such as aluminum and zirconium, organic phosphorus compounds such as phosphine, heterocyclic amine compounds, boron complex Examples include compounds, organic ammonium salts, organic sulfonium salts, and organic peroxides. Specific examples of the filler that can be added to the component (A) include glass fibers, asbestos, alumina fibers, ceramic fibers containing alumina and silica as components, boron fibers, zirconia fibers, silicon carbide fibers,
Fibrous fillers such as metal fibers, polyester fibers, aramid fibers, nylon fibers, phenol fibers, natural animal and plant fibers; fused silica, precipitated silica, fumed silica, calcined silica, zinc oxide, calcined clay, carbon black,
Powder beads such as glass beads, alumina, talc, calcium carbonate, clay, aluminum hydroxide, barium sulfate, titanium dioxide, aluminum nitride, silicon carbide, magnesium oxide, beryllium oxide, kaolin, mica, zirconia, and the like A mixture of two or more kinds is exemplified.

【0013】本発明の硬化性樹脂組成物において、(B)
成分のエポキシ基含有シリコーンレジンは、これを(A)
成分に配合することにより、得られた硬化性樹脂組成物
の流動性を向上し、またこれを硬化して得られる樹脂の
可撓性、耐湿性および耐熱衝撃性を向上させるための成
分である。このような(B)成分は、一般式: (R1SiO3/2a(R23SiO2/2b(SiO4/2c で示される。上式中、R1、R2およびR3は同種もしく
は異種の一価炭化水素基またはエポキシ含有有機基であ
り、一価炭化水素基として具体的には、メチル基,エチ
ル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル
基,ヘプチル基等のアルキル基;ビニル基,アリル基,
ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等のアルケニ
ル基;フェニル基,トリル基,キシリル基,ナフチル基
等のアリール基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基;クロロメチル基,3−クロロプロピル基,3,
3,3−トリフロロプロピル基,ノナフルオロブチルエ
チル基等の置換アルキル基が例示され、エポキシ含有有
機基として具体的には、2,3−エポキシプロピル基,
3,4−エポキシブチル基,4,5−エポキシペンチル
基,2−グリシドキシエチル基,3−グリシドキシプロ
ピル基,4−グリシドキシブチル基,2−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチル基,3−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)プロピル基が例示される。ここ
で、(B)成分中のケイ素原子結合全有機基に対するエポ
キシ含有有機基の含有量は0.1〜40モル%の範囲内
であることが必要である。これは、(B)成分中のケイ素
原子結合全有機基に対するエポキシ含有有機基の含有量
が0.1モル%未満であると、得られた硬化樹脂の可撓
性、耐湿性および耐熱衝撃性が低下し、また40モル%
をこえると、得られた硬化樹脂の機械的特性が著しく低
下するからである。また、(A)成分と(B)成分との親和性
が著しく高いことから、(B)成分中、R1の30モル%以
上はフェニル基であることが好ましい。
In the curable resin composition of the present invention, (B)
The epoxy group-containing silicone resin of the component is (A)
It is a component for improving the fluidity of the obtained curable resin composition by adding it to the component, and also for improving the flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance of the resin obtained by curing the curable resin composition. . Such component (B) is represented by the general formula: (R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 R 3 SiO 2/2 ) b (SiO 4/2 ) c . In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different monovalent hydrocarbon groups or epoxy-containing organic groups, and specific examples of the monovalent hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Alkyl groups such as butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group; vinyl group, allyl group,
Alkenyl groups such as butenyl group, pentenyl group, hexenyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group; chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3 ,
Substituted alkyl groups such as 3,3-trifluoropropyl group and nonafluorobutylethyl group are exemplified, and specific examples of the epoxy-containing organic group include 2,3-epoxypropyl group,
3,4-epoxybutyl group, 4,5-epoxypentyl group, 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, 4-glycidoxybutyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) An ethyl group and a 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group are exemplified. Here, the content of the epoxy-containing organic groups with respect to the total silicon-bonded organic groups in the component (B) needs to be within the range of 0.1 to 40 mol%. This is because when the content of the epoxy-containing organic groups with respect to all the silicon atom-bonded organic groups in the component (B) is less than 0.1 mol%, the resulting cured resin has flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance. Decreased, and also 40 mol%
If it exceeds, the mechanical properties of the obtained cured resin will be significantly reduced. Further, since the affinity between the component (A) and the component (B) is extremely high, it is preferable that 30 mol% or more of R 1 in the component (B) is a phenyl group.

【0014】また、上式中、aは三官能性シロキサン単
位(T単位)の含有量を示す正数であり、bは二官能性
シロキサン単位(D単位)の含有量を示す0または正数
であり、cは四官能性シロキサン単位(Q単位)の含有
量を示す0または正数である。ここで、b/aは0〜1
0の範囲内の数であり、これは、b/aが10をこえる
ような(B)成分は、そのガラス転移点が著しく低下し、
また(A)成分との親和性が低くなるからである。また、
c/(a+b+c)は0〜0.3の範囲内の数であり、
これは、c/(a+b+c)が0.3をこえるような
(B)成分は(A)成分との分散性が低下するからである。
In the above formula, a is a positive number indicating the content of trifunctional siloxane units (T units), and b is 0 or a positive number indicating the content of difunctional siloxane units (D units). And c is 0 or a positive number indicating the content of the tetrafunctional siloxane unit (Q unit). Where b / a is 0 to 1
It is a number within the range of 0. This means that the glass transition point of the component (B) whose b / a exceeds 10 is remarkably lowered,
Also, the affinity with the component (A) is lowered. Also,
c / (a + b + c) is a number in the range of 0 to 0.3,
This is because c / (a + b + c) exceeds 0.3
This is because the dispersibility of the component (B) with the component (A) decreases.

【0015】また、(B)成分の数平均分子量および分子
構造は特に限定されないが、その数平均分子量は300
〜50,000の範囲内であることが好ましく、さらに
好ましくは500〜10,000の範囲内である。この
ような(B)成分のガラス転移点は−90℃〜150℃の
範囲内であることが必要である。これは、ガラス転移点
が150℃をこえる(B)成分を(A)成分に均一に配合する
ことが困難であるからであり、またガラス転移点が−9
0℃未満の(B)成分を(A)成分に配合してなる硬化性樹脂
組成物は、これを硬化して得られた樹脂の機械的特性が
低下するからである。
The number average molecular weight and the molecular structure of the component (B) are not particularly limited, but the number average molecular weight is 300.
It is preferably in the range of 50,000 to 50,000, and more preferably in the range of 500 to 10,000. The glass transition point of the component (B) needs to be in the range of -90 ° C to 150 ° C. This is because it is difficult to uniformly mix the component (A) with the component (B) whose glass transition point exceeds 150 ° C., and the glass transition point is -9.
This is because the curable resin composition obtained by blending the component (A) with the component (B) at a temperature lower than 0 ° C. has a reduced mechanical property of the resin obtained by curing the curable resin composition.

【0016】このような(B)成分は、(I)下記(i)成分〜
(iv)成分からなる群より選択されるオルガノポリシロキ
サンの1種もしくは2種以上の混合物[但し、(ii)成分
のみを除く。]と (i)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、 (ii)一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、 (iii)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、および (iv)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位と一般式: SiO4/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン (式中、R4、R5およびR6は同種もしくは異種の一価
炭化水素基である。) (II)一般式: R78 dSi(OR9(3-d) (式中、R7はエポキシ基含有有機基であり、R8は一価
炭化水素基であり、R9はアルキル基であり、dは0ま
たは1である。)で示されるエポキシ基含有アルコキシ
シランもしくはその部分加水分解物[(II)成分の配合量
は、(II)成分中のエポキシ基含有有機基が、(I)成分と
(II)成分のケイ素原子結合全有機基に対して0.1〜4
0モル%となる量である。]を、水および塩基性触媒の
存在下で反応させてシリコーンレジンを合成し、次い
で、有機溶剤により該シリコーンレジンの濃度を調節し
た後、該塩基性触媒により該シリコーンレジンを平衡化
反応させることにより調製されるエポキシ基含有シリコ
ーンレジンであることが好ましい。上記(B)成分のエポ
キシ基含有シリコーンレジンは、一般に、エポキシ基含
有アルコキシシランとオルガノアルコキシシランの共加
水分解物を縮合反応することにより合成することができ
るが、このような製造方法で調製されたエポキシ基含有
シリコーンレジンは、−90℃〜150℃の範囲に明確
なガラス転移点を示さず、また本発明の硬化性樹脂組成
物に好適なエポキシ基含有シリコーンレジンを調製する
ことができないからである。
The component (B) is composed of (I) the following component (i)
One or a mixture of two or more organopolysiloxanes selected from the group consisting of component (iv) [however, only component (ii) is excluded. ] And (i) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 , (ii) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by a general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 , (iii) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 and a siloxane unit represented by the general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 , and (iv) a general formula: R 4 SiO An organopolysiloxane comprising a siloxane unit represented by 3/2 and a general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 and a siloxane unit represented by a general formula: SiO 4/2 (wherein R 4 , R 5 and R 6 are the same or different monovalent hydrocarbon groups.) (II) General formula: R 7 R 8 d Si (OR 9 ) (3-d) (In the formula, R 7 contains an epoxy group. an organic group, R 8 is a monovalent hydrocarbon group, R 9 is Is an alkyl group and d is 0 or 1.) The epoxy group-containing alkoxysilane represented by the formula (2) or its partial hydrolyzate [the amount of the component (II) is equal to that of the epoxy group-containing organic group in the component (II) , (I) component
0.1 to 4 with respect to the total silicon-bonded organic groups of component (II)
The amount is 0 mol%. ] In the presence of water and a basic catalyst to synthesize a silicone resin, and then the concentration of the silicone resin is adjusted with an organic solvent, followed by equilibrating the silicone resin with the basic catalyst. The epoxy group-containing silicone resin prepared by The epoxy group-containing silicone resin as the component (B) can be generally synthesized by subjecting a cohydrolyzate of an epoxy group-containing alkoxysilane and an organoalkoxysilane to a condensation reaction, but is prepared by such a production method. The epoxy group-containing silicone resin does not show a clear glass transition point in the range of -90 ° C to 150 ° C, and an epoxy group-containing silicone resin suitable for the curable resin composition of the present invention cannot be prepared. Is.

【0017】上記(B)成分の製造方法において、(I)成分
は主原料であり、下記(i)〜(iv)からなる群より選択さ
れるオルガノポリシロキサンの1種もしくは2種以上の
混合物であり、但し、(ii)成分のみを除くオルガノポリ
シロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合物であ
る。このような(I)成分としては、(i)成分のみ、(iii)
成分のみ、(iv)成分のみ、(i)成分と(ii)成分からなる
混合物、(i)成分と(iii)成分からなる混合物、(i)成分
と(iv)成分からなる混合物、(i)成分と(ii)成分と(iii)
成分からなる混合物、(i)成分と(ii)成分と(iv)成分か
らなる混合物、(i)成分と(ii)成分と(iii)成分と(iv)成
分からなる混合物が例示される。また、(B)成分の製造
方法において、得られた(B)成分と(A)成分との相溶性が
特に優れることから、分子中、R4の30モル%以上が
フェニル基であることが好ましい。
In the above-mentioned method for producing the component (B), the component (I) is a main raw material, and one or a mixture of two or more organopolysiloxanes selected from the group consisting of the following (i) to (iv): However, it is an organopolysiloxane or an organopolysiloxane mixture excluding only the component (ii). As such component (I), only component (i), (iii)
Component only, (iv) component only, a mixture consisting of (i) component and (ii) component, a mixture consisting of (i) component and (iii) component, a mixture consisting of (i) component and (iv) component, (i ) Component and (ii) component and (iii)
Examples thereof include a mixture of components, a mixture of components (i), (ii) and (iv), and a mixture of components (i), (ii), (iii) and (iv). Further, in the method for producing the component (B), since the compatibility between the obtained component (B) and the component (A) is particularly excellent, it is preferable that 30 mol% or more of R 4 is a phenyl group in the molecule. preferable.

【0018】(I)成分の内、(i)成分のオルガノポリシロ
キサンは、一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位(以下、T単位)からなるオ
ルガノポリシロキサンである。上式中、R4は一価炭化
水素基であり、このような一価炭化水素基として具体的
には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペ
ンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基等のアルキル基;ビ
ニル基,アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセ
ニル基等のアルケニル基;フェニル基,トリル基,キシ
リル基,ナフチル基等のアリール基;ベンジル基,フェ
ネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基,3−クロ
ロプロピル基,3,3,3−トリフロロプロピル基,ノ
ナフルオロブチルエチル基等の置換アルキル基が例示さ
れる。このような(i)成分のオルガノポリシロキサン
は、一般に、オルガノポリシルセスキオキサンと呼ばれ
るものであり、ラダー状オルガノポリシルセスキオキサ
ン、ケージ状オルガノポリシルセスキオキサンが例示さ
れる。
Among the components (I), the organopolysiloxane of the component (i) is an organopolysiloxane composed of siloxane units (hereinafter, T units) represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 . In the above formula, R 4 is a monovalent hydrocarbon group, and specific examples of such a monovalent hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and a heptyl group. Alkyl group; alkenyl group such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group and hexenyl group; aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group; aralkyl group such as benzyl group and phenethyl group; chloro Substituted alkyl groups such as methyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and nonafluorobutylethyl group are exemplified. Such an organopolysiloxane of component (i) is generally called an organopolysilsesquioxane, and examples thereof include a ladder-shaped organopolysilsesquioxane and a cage-shaped organopolysilsesquioxane.

【0019】(I)成分の内、(ii)成分のオルガノポリシ
ロキサンは、一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位(以下、D単位)からなるオ
ルガノポリシロキサンである。上式中、R5およびR6
同種もしくは異種の一価炭化水素基であり、R5および
6の一価炭化水素基として具体的には前記R4と同様の
基が例示される。このような(ii)成分のオルガノポリシ
ロキサンは、一般に、ジオルガノポリシロキサンと呼ば
れるものであり、その分子鎖末端の基は特に限定され
ず、例えば、水酸基,アルコキシ基,トリオルガノシロ
キシ基が挙げられる。
Among the components (I), the organopolysiloxane as the component (ii) is an organopolysiloxane composed of siloxane units (hereinafter, D units) represented by the general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 . In the above formulas, R 5 and R 6 is a monovalent hydrocarbon group having same or different, in particular as a monovalent hydrocarbon group for R 5 and R 6 the same groups as the R 4 can be exemplified. Such an organopolysiloxane of component (ii) is generally called a diorganopolysiloxane, and the group at the terminal of its molecular chain is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxyl group, an alkoxy group, and a triorganosiloxy group. To be

【0020】(I)成分の内、(iii)成分のオルガノポリシ
ロキサンは、一般式: R4SiO3/2 で示されるT単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるD単位からなるオルガノポリシロキサンであ
る。上式中、R4、R5およびR6は同種もしくは異種の
一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。
このような(iii)成分のオルガノポリシロキサンは、一
般に、DT型シリコーンレジンと呼ばれるものである。
Among the components (I), the organopolysiloxane as the component (iii) includes a T unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 and a D unit represented by the general formula: R 5 R 6 SiO 2/2. It is an organopolysiloxane composed of units. In the above formula, R 4 , R 5 and R 6 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, and examples thereof include the same groups as described above.
The organopolysiloxane as the component (iii) is generally called a DT type silicone resin.

【0021】(I)成分の内、(iv)成分のオルガノポリシ
ロキサンは、一般式: R4SiO3/2 で示されるT単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるD単位と一般式: SiO4/2 で示されるシロキサン単位(以下、Q単位)からなるオ
ルガノポリシロキサンである。上式中、R4、R5および
6は同種もしくは異種の一価炭化水素基であり、前記
同様の基が例示される。このような(iv)成分のオルガノ
ポリシロキサンは、一般に、DTQ型シリコーンレジン
と呼ばれるものである。
Among the components (I), the organopolysiloxane as the component (iv) includes a T unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 and a D unit represented by the general formula: R 5 R 6 SiO 2/2. Unit and general formula: An organopolysiloxane composed of a siloxane unit represented by SiO 4/2 (hereinafter referred to as Q unit). In the above formula, R 4 , R 5 and R 6 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, and examples thereof include the same groups as described above. The organopolysiloxane as the component (iv) is generally called a DTQ type silicone resin.

【0022】上記(B)成分の製造方法において、(II)成
分は、(B)成分のエポキシ基含有シリコーンレジンにエ
ポキシ基含有有機基を導入するための成分であり、一般
式: R78 dSi(OR9(3-d) で示されるエポキシ基含有アルコキシシランもしくはそ
の部分加水分解物である。上式中、R7はエポキシ基含
有有機基であり、エポキシ基含有有機基として具体的に
は、2,3−エポキシプロピル基,3,4−エポキシブ
チル基,4,5−エポキシペンチル基,2−グリシドキ
シエチル基,3−グリシドキシプロピル基,4−グリシ
ドキシブチル基,2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチル基,3−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)プロピル基が例示される。また、上式中、R8は一
価炭化水素基であり、R8の一価炭化水素基として具体
的には、前記R4と同様の一価炭化水素基が例示され
る。また、上式中、R9はアルキル基であり、R9のアル
キル基として具体的には、メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基
が例示される。また、上式中、dは0または1であり、
dが0のとき、(II)成分はエポキシ基含有トリアルコキ
シシランもしくはその部分加水分解物であり、dが1の
とき、(II)成分はエポキシ基含有オルガノジアルコキシ
シランもしくはその部分加水分解物である。
In the above-mentioned method for producing the component (B), the component (II) is a component for introducing an epoxy group-containing organic group into the epoxy group-containing silicone resin of the component (B) and has the general formula: R 7 R It is an epoxy group-containing alkoxysilane represented by 8 d Si (OR 9 ) (3-d) or a partial hydrolyzate thereof. In the above formula, R 7 is an epoxy group-containing organic group, and specific examples of the epoxy group-containing organic group include 2,3-epoxypropyl group, 3,4-epoxybutyl group, 4,5-epoxypentyl group, 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, 4-glycidoxybutyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group It is illustrated. Further, in the above formula, R 8 is a monovalent hydrocarbon group, and specific examples of the monovalent hydrocarbon group for R 8 include the same monovalent hydrocarbon groups as those for R 4 . In the above formula, R 9 is an alkyl group, and specific examples of the alkyl group of R 9 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group. Further, in the above formula, d is 0 or 1,
When d is 0, the component (II) is an epoxy group-containing trialkoxysilane or a partial hydrolysis product thereof, and when d is 1, the component (II) is an epoxy group-containing organodialkoxysilane or a partial hydrolysis product thereof. Is.

【0023】(II)成分のエポキシ基含有オルガノジアル
コキシシランとして具体的には、3−グリシドキシプロ
ピル(メチル)ジメトキシシラン,3−グリシドキシプ
ロピル(メチル)ジエトキシシラン,3−グリシドキシ
プロピル(メチル)ジブトキシシラン,2−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジメトキシ
シラン,2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ル(フェニル)ジエトキシシラン,2,3−エポキシプ
ロピル(メチル)ジメトキシシラン,2,3−エポキシ
プロピル(フェニル)ジメトキシシランが例示され、(I
I)成分のエポキシ基含有トリアルコキシシランとして具
体的には、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン,3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン,3
−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン,2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン,2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリエトキシシラン,2,3−エポキシプロピルト
リメトキシシラン,2,3−エポキシプロピルトリエト
キシシランが例示される。
Specific examples of the epoxy group-containing organodialkoxysilane (II) include 3-glycidoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) diethoxysilane, and 3-glycid. Xypropyl (methyl) dibutoxysilane, 2- (3,4-
Epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (phenyl) diethoxysilane, 2,3-epoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 2,3-epoxypropyl (phenyl) dimethoxy Examples of silane include (I
Specific examples of the epoxy group-containing trialkoxysilane of component I) include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3
-Glycidoxypropyltributoxysilane, 2-
Examples are (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2,3-epoxypropyltrimethoxysilane, and 2,3-epoxypropyltriethoxysilane. It

【0024】上記(B)成分の製造方法では、上記(I)成分
と上記(II)成分を水および塩基性触媒の存在下で反応さ
せてシリコーンレジンを合成する。この製造方法におい
て、(II)成分と共に必要に応じてその他のアルコキシシ
ランもしくはその加水分解物を配合することができる。
(II)成分以外のアルコキシシランとして具体的には、メ
チルトリメトキシシラン,メチルトリエトキシシラン,
エチルトリメトキシシラン,エチルトリエトキシシラ
ン,ビニルトリメトキシシラン,フェニルトリメトキシ
シラン,3,3,3−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン,ジメチルジメトキシシラン,メチルフェニルジ
メトキシシラン,メチルビニルジメトキシシラン,ジフ
ェニルジメトキシシラン,ジメチルジエトキシシラン,
メチルフェニルジエトキシシラン,テトラメトキシシラ
ン,テトラエトキシシラン,テトラプロポキシシラン,
ジメトキシジエトキシシランが例示される。
In the method for producing the component (B), the component (I) and the component (II) are reacted in the presence of water and a basic catalyst to synthesize a silicone resin. In this production method, other alkoxysilane or its hydrolyzate can be blended with the component (II), if necessary.
Specific examples of the alkoxysilane other than the component (II) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane,
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane,
Methylphenyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane,
An example is dimethoxydiethoxysilane.

【0025】上記(B)成分の製造方法において、(II)成
分の配合量は、(II)成分中のエポキシ基含有有機基が、
(I)成分と(II)成分のケイ素原子結合全有機基に対して
0.1〜40モル%となるような量であることが必要で
ある。これは、(II)成分中のエポキシ基含有有機基が、
(I)成分と(II)成分のケイ素原子結合全有機基に対して
0.1モル%未満となるような量で(II)成分を配合した
場合には、得られたエポキシ基含有シリコーンレジン中
のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含有有機
基の含有量が0.1モル%未満となるため、このエポキ
シ基含有シリコーンレジンと硬化性樹脂との反応性が著
しく低下して、硬化性樹脂の物理特性改質効果が十分で
なくなるからであり、また(II)成分中のエポキシ基含有
有機基が、(I)成分と(II)成分のケイ素原子結合全有機
基に対して40モル%をこえるような量で(II)成分を配
合した場合には、得られたエポキシ基含有シリコーンレ
ジン中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ基含
有有機基の含有量が40モル%をこえるため、このエポ
キシ基含有シリコーンレジンと硬化性樹脂とを反応させ
た場合、(II)成分中に反応に関与しない未反応のエポキ
シ基含有有機基が多くなり、得られた硬化樹脂の耐熱性
が低下するからである。
In the above-mentioned method for producing the component (B), the compounding amount of the component (II) is such that
It is necessary that the amount is 0.1 to 40 mol% with respect to the total silicon atom-bonded organic groups of the components (I) and (II). This is because the epoxy group-containing organic group in the component (II)
When the component (II) is blended in an amount of less than 0.1 mol% with respect to the total silicon atom-bonded organic groups of the component (I) and the component (II), the obtained epoxy group-containing silicone resin is obtained. Since the content of the epoxy group-containing organic group with respect to all the silicon atom-bonded organic groups in the composition is less than 0.1 mol%, the reactivity between the epoxy group-containing silicone resin and the curable resin is significantly reduced, and the curability is improved. This is because the effect of modifying the physical properties of the resin is not sufficient, and the epoxy group-containing organic group in component (II) is 40 moles based on the total silicon-bonded organic groups of component (I) and component (II). When the component (II) is blended in such an amount that the amount exceeds 100%, the content of the epoxy group-containing organic groups with respect to the total silicon atom-bonded organic groups in the obtained epoxy group-containing silicone resin exceeds 40 mol%. , This epoxy group-containing silicone resin When it reacted with a curable resin, because the epoxy group-containing organic group unreacted increases, the heat resistance of the resulting cured resin is reduced which do not participate in the reaction in (II) component.

【0026】上記(B)成分の製造方法において、水の配
合量は、(I)成分中のケイ素原子結合アルコキシ基を加
水分解するに十分な量であれば特に限定されない。ま
た、塩基性触媒は、(I)成分と(II)成分の反応を行うた
めの触媒であり、このような塩基性触媒として具体的に
は、水酸化ナトリウム,水酸化カリウム,水酸化セシウ
ム等のアルカリ金属の水酸化物;ナトリウム−t−ブト
キシド,カリウム−t−ブトキシド,セシウム−t−ブ
トキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウム
シラノレート化合物,カリウムシラノレート化合物,セ
シウムシラノレート化合物等のアルカリ金属のシラノー
ル化合物が例示され、特に好ましくはカリウム系触媒お
よびセシウム系触媒である。
In the method for producing the component (B), the amount of water to be added is not particularly limited as long as it is sufficient to hydrolyze the silicon atom-bonded alkoxy groups in the component (I). The basic catalyst is a catalyst for reacting the component (I) with the component (II). Specific examples of such a basic catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide and the like. Alkali metal hydroxides; sodium tert-butoxide, potassium t-butoxide, cesium-t-butoxide and other alkali metal alkoxides; sodium silanolate compounds, potassium silanolate compounds, cesium silanolate compounds, etc. The silanol compound of is exemplified, and potassium-based catalysts and cesium-based catalysts are particularly preferable.

【0027】上記(B)成分の製造方法において、塩基性
触媒は、固形物をそのまま加えても良く、また少量の水
や原料ポリシロキサンに溶解してから加えてもよい。こ
のような塩基性触媒の添加量は特に限定されないが、
(I)成分と(II)成分の合計量に対して、10ppm〜100
00ppmの範囲内であることが好ましく、さらに100p
pm〜5000ppmの範囲内にあることがより好ましい。
In the method of producing the component (B), the basic catalyst may be added as a solid as it is or after being dissolved in a small amount of water or raw polysiloxane. The addition amount of such a basic catalyst is not particularly limited,
10 ppm to 100 relative to the total amount of component (I) and component (II)
It is preferably within the range of 00 ppm, and further 100 p
More preferably, it is in the range of pm to 5000 ppm.

【0028】上記反応において、得られるシリコーンレ
ジンが反応系から析出することを防止するために有機溶
剤を使用することが好ましい。使用することのできる有
機溶剤としては、得られるシリコーンレジンの種類およ
び特性により適宜選択すべきであるが、このような有機
溶剤として具体的には、トルエン,キシレンなどの芳香
族系有機溶剤;アセトン,メチルイソブチルケトン等の
ケトン系有機溶媒;ヘキサン,ヘプタン,オクタン等の
脂肪族系有機溶剤が例示され、好ましくは芳香族系有機
溶剤である。また、この有機溶剤を配合すると、得られ
たシリコーンレジンから過剰の水およびシリコーンレジ
ンの縮合反応による遊離水を共沸により除くことができ
るので好ましい。
In the above reaction, it is preferable to use an organic solvent in order to prevent the obtained silicone resin from depositing from the reaction system. The organic solvent that can be used should be appropriately selected depending on the type and characteristics of the silicone resin to be obtained. Specific examples of such an organic solvent include aromatic organic solvents such as toluene and xylene; acetone. Examples include ketone-based organic solvents such as methyl isobutyl ketone; aliphatic-based organic solvents such as hexane, heptane, and octane, and aromatic organic solvents are preferable. Further, it is preferable to add this organic solvent, since excess water and free water due to the condensation reaction of the silicone resin can be removed azeotropically from the obtained silicone resin.

【0029】上記反応において、その条件は特に限定さ
れないが、加水分解反応、縮合反応等の反応が円滑に進
行することから、反応温度は80℃〜200℃の範囲内
であることが好ましく、特に100℃〜150℃の範囲
内であることが好ましい。また、有機溶剤を使用する場
合には、有機溶剤の沸点が80〜200℃の範囲にある
ものを選択することにより、還流温度で容易に加水分解
縮合反応を行うことができる。
In the above reaction, the conditions are not particularly limited, but the reaction temperature is preferably within the range of 80 ° C to 200 ° C, because the hydrolysis reaction, the condensation reaction and the like proceed smoothly. It is preferably in the range of 100 ° C to 150 ° C. When an organic solvent is used, the hydrolysis-condensation reaction can be easily carried out at the reflux temperature by selecting an organic solvent having a boiling point in the range of 80 to 200 ° C.

【0030】次いで、上記(B)成分の製造方法では、上
記反応により得られたシリコーンレジンを、有機溶剤に
より該シリコーンレジンの濃度を調節した後、塩基性触
媒により該シリコーンレジンを平衡化反応させる。この
平衡化反応において、使用する有機溶剤は上記反応にお
いて使用したものを引続き使用してもよくまた新たに配
合してもよい。新たに有機溶剤を配合する場合には、配
合できる有機溶剤としては上記で例示した有機溶剤が挙
げられる。また、この平衡化反応において、使用する塩
基性触媒は上記反応において使用したものを引続き使用
してもよくまた新たに配合してもよい。新たに塩基性触
媒を配合する場合には、配合できる塩基性触媒としては
上記で例示した塩基性触媒が挙げられる。
Next, in the method for producing the above-mentioned component (B), the silicone resin obtained by the above reaction is adjusted in concentration with an organic solvent, and then the silicone resin is allowed to undergo an equilibration reaction with a basic catalyst. . In this equilibration reaction, the organic solvent used may be the one used in the above reaction, or may be newly added. When a new organic solvent is added, examples of the organic solvent that can be added include the organic solvents exemplified above. In this equilibration reaction, the basic catalyst used may be the same as that used in the above reaction, or may be newly added. When a basic catalyst is newly added, examples of the basic catalyst that can be added include the basic catalysts exemplified above.

【0031】上記平衡反応において、有機溶剤によりシ
リコーンレジンの濃度を調節するが、その濃度は、特に
限定されず、上記(B)成分の製造方法において、所望の
分子量、軟化点および−90℃〜150℃にガラス転移
点を有するエポキシ基含有シリコーンレジンを製造する
ため適宜選択する必要がある。また、この平衡反応にお
いて、有機溶剤は平衡化反応により得られるエポキシ基
含有シリコーンレジンの析出を防止し、かつ反応系の粘
度を低く抑えるという好ましい効果を有する。
In the equilibrium reaction, the concentration of the silicone resin is adjusted by an organic solvent, but the concentration is not particularly limited, and in the method for producing the component (B), the desired molecular weight, softening point and -90 ° C to In order to produce an epoxy group-containing silicone resin having a glass transition point at 150 ° C., it is necessary to appropriately select. Further, in this equilibrium reaction, the organic solvent has a preferable effect of preventing the precipitation of the epoxy group-containing silicone resin obtained by the equilibration reaction and suppressing the viscosity of the reaction system to be low.

【0032】上記平衡化反応において、その条件は特に
限定されない。平衡化反応により、シロキサン結合の切
断および再結合がランダムに起こり、その結果、得られ
たエポキシ基含有シリコーンレジンは平衡状態となる。
上記(B)成分の製造方法において反応温度は、反応温度
が低いと平衡化反応が十分に進行せず、また反応温度が
高すぎるとケイ素原子結合有機基が熱分解することか
ら、80℃〜200℃の範囲内であることが好ましく、
特に100℃〜150℃の範囲内であることが好まし
い。また、80〜200℃の範囲に沸点を有する有機溶
剤を選択することにより、還流温度で容易に平衡化反応
を行うことができる。
The conditions for the above equilibration reaction are not particularly limited. The equilibration reaction randomly causes cleavage and recombination of siloxane bonds, and as a result, the obtained epoxy group-containing silicone resin is in an equilibrium state.
In the method for producing the component (B), the reaction temperature is 80 ° C to 80 ° C because the equilibration reaction does not proceed sufficiently when the reaction temperature is low and the silicon atom-bonded organic group is thermally decomposed when the reaction temperature is too high. It is preferably in the range of 200 ° C.,
In particular, it is preferably within the range of 100 ° C to 150 ° C. Further, by selecting an organic solvent having a boiling point in the range of 80 to 200 ° C, the equilibration reaction can be easily carried out at the reflux temperature.

【0033】平衡化反応の進行は、反応液を少量抜き取
り、これを中和することにより得られるエポキシ基含有
シリコーンレジンの特性を測定することによって追跡す
ることが最も好ましい。測定する特性としては、分子量
が最も好ましく、常温で液状のエポキシ基含有シリコー
ンレジンである場合には、その粘度を測定することが好
ましく、常温で固体状のエポキシ基含有シリコーンレジ
ンである場合には、そのガラス転移点や軟化点を測定す
ることが好ましい。このようなエポキシ基含有シリコー
ンレジンの特性値により平衡化反応の終点を決定するこ
とができる。
The progress of the equilibration reaction is most preferably traced by withdrawing a small amount of the reaction solution and measuring the characteristics of the epoxy group-containing silicone resin obtained by neutralizing the solution. As the characteristics to be measured, the molecular weight is most preferable, in the case of a liquid epoxy group-containing silicone resin at room temperature, it is preferable to measure its viscosity, and in the case of a solid epoxy group-containing silicone resin at room temperature. It is preferable to measure its glass transition point and softening point. The end point of the equilibration reaction can be determined by the characteristic value of the epoxy group-containing silicone resin.

【0034】上記(B)成分の製造方法では、上記平衡化
反応の終点において反応を直ちに止めてもよく、またエ
ポキシ基含有シリコーンレジンの分子量を微調整するた
め、有機溶剤を増減することにより、さらにシリコーン
レジンの濃度を微調節して平衡化反応を行うことができ
る。これは有機溶剤を加えてシリコーンレジンの濃度を
低くすると、得られるエポキシ基含有シリコーンレジン
の分子量は低下してやがて平衡状態となり、一方有機溶
剤を除去してシリコーンレジンの濃度を高くすると、得
られるエポキシ基含有シリコーンレジンの分子量は増大
してやがて平衡状態となる。この操作は、上記平衡化反
応の終点以降の仕上げ段階として行なうことが好まし
い。この操作によって、エポキシ基含有シリコーンレジ
ンを反応容器から取り出す前に、目的とする分子量、軟
化点および−90℃〜150℃のガラス転移点を調整す
ることができるので、任意の分子量、軟化点および−9
0℃〜150℃のガラス転移点を有するエポキシ基含有
シリコーンレジンを再現性良く製造することができる。
In the method for producing the component (B), the reaction may be stopped immediately at the end point of the equilibration reaction, and in order to finely adjust the molecular weight of the epoxy group-containing silicone resin, the organic solvent may be increased or decreased to Further, the equilibration reaction can be performed by finely adjusting the concentration of the silicone resin. This is because when the concentration of the silicone resin is lowered by adding an organic solvent, the molecular weight of the obtained epoxy group-containing silicone resin is lowered to reach an equilibrium state, and when the concentration of the silicone resin is increased by removing the organic solvent, it is obtained. The molecular weight of the epoxy group-containing silicone resin increases and eventually reaches an equilibrium state. This operation is preferably performed as a finishing step after the end point of the equilibration reaction. By this operation, the desired molecular weight, softening point and glass transition point of -90 ° C to 150 ° C can be adjusted before taking out the epoxy group-containing silicone resin from the reaction vessel, so that any desired molecular weight, softening point and -9
An epoxy group-containing silicone resin having a glass transition point of 0 ° C to 150 ° C can be produced with good reproducibility.

【0035】上記平衡化反応の終点において、塩基性触
媒を中和する方法は特に限定されないが、炭酸ガス,カ
ルボン酸等の弱酸を添加により中和することが好まし
い。中和により生成した塩は、濾過または水洗すること
により簡単に除去することができる。
At the end point of the equilibration reaction, the method of neutralizing the basic catalyst is not particularly limited, but it is preferable to neutralize by adding a weak acid such as carbon dioxide gas or carboxylic acid. The salt produced by neutralization can be easily removed by filtration or washing with water.

【0036】本発明の硬化性樹脂組成物において、(B)
成分の配合量は、(A)成分100重量部に対して0.1
〜500重量部の範囲内であり、好ましくは0.5〜1
00重量部の範囲内である。これは(B)成分の配合量
が、(A)成分100重量部に対して0.1重量部未満で
あると、優れた可撓性、耐湿性および耐熱衝撃性を有す
る硬化樹脂を得ることができなくなるためであり、また
500重量部をこえると、硬化樹脂の機械的強度が著し
く低下するからである。
In the curable resin composition of the present invention, (B)
The compounding amount of the component is 0.1 with respect to 100 parts by weight of the component (A).
To 500 parts by weight, preferably 0.5 to 1
It is within the range of 00 parts by weight. This is because when the amount of the component (B) is less than 0.1 parts by weight per 100 parts by weight of the component (A), a cured resin having excellent flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance can be obtained. This is because the mechanical strength of the cured resin is remarkably lowered when it exceeds 500 parts by weight.

【0037】本発明の硬化性樹脂組成物は、上記(A)成
分と上記(B)成分を均一に混合することにより得られ
る。(A)成分と(B)成分を均一に混合する方法は特に限定
されず、その混合方法として具体的には、(A)成分と(B)
成分と充填剤その他の成分を直接混合する方法、(A)成
分と(B)成分を混合し、これに充填剤その他の成分を混
合する方法、(A)成分の充填剤その他の成分を混合し、
これに(B)成分を混合する方法、(B)成分に充填剤その他
の成分を混合し、これに(A)成分を混合する方法が例示
される。(A)成分と(B)成分を混合する装置は特に限定さ
れず、(A)成分および(B)成分が液状、固体状、粉状等の
種々の形態である場合に、これらに最適の装置を適宜選
択して使用することが好ましく、このような装置として
具体的には、一軸または二軸の連続混合機,二本ロー
ル,ロスミキサー,ニーダミキサーが例示される。
The curable resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the component (A) and the component (B). The method for uniformly mixing the component (A) and the component (B) is not particularly limited, and specifically, the mixing method specifically includes the component (A) and the component (B).
Method of directly mixing components and fillers and other components, method of mixing component (A) and component (B), and then mixing filler and other components, mixture of filler and other components of component (A) Then
Examples thereof include a method of mixing the component (B) with this, and a method of mixing the component (B) with a filler and other components and then mixing the component (A). The device for mixing the component (A) and the component (B) is not particularly limited, and when the component (A) and the component (B) are in various forms such as liquid, solid, powder, etc., they are most suitable for them. It is preferable to appropriately select and use an apparatus, and specific examples of such an apparatus include a single-screw or twin-screw continuous mixer, a twin roll, a loss mixer, and a kneader mixer.

【0038】本発明の硬化性樹脂組成物は、優れた流動
性を有するので、トランスファーモールド,インジェク
ションモールド,ポッティング,キャスティング,粉体
塗装,浸漬塗布,滴下等の方法により使用することがで
きる。また、本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化して優
れた可撓性、耐湿性および耐熱衝撃性を有する樹脂を形
成することができるので、これを電気・電子素子用封止
樹脂組成物,塗料,コーティング剤,接着剤等に使用す
ることができる。
Since the curable resin composition of the present invention has excellent fluidity, it can be used by methods such as transfer molding, injection molding, potting, casting, powder coating, dip coating and dropping. Moreover, since the curable resin composition of the present invention can be cured to form a resin having excellent flexibility, moisture resistance and thermal shock resistance, it is used as a sealing resin composition for electric / electronic elements. It can be used for paints, coating agents, adhesives, etc.

【0039】[0039]

【実施例】本発明の硬化性樹脂組成物を実施例により詳
細に説明する。なお、実施例中、Mnは数平均分子量を
示し、Mwは重量平均分子量を示し、また式中、Phはフ
ェニル基を示し、Epは3−グリシドキシプロピル基を示
す。さらに、実施例中の粘度の値は、25℃において測
定した値であり、硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸
特性は下記の方法により測定した。
EXAMPLES The curable resin composition of the present invention will be described in detail with reference to Examples. In the examples, Mn represents a number average molecular weight, Mw represents a weight average molecular weight, Ph represents a phenyl group, and Ep represents a 3-glycidoxypropyl group. Furthermore, the viscosity value in the examples is a value measured at 25 ° C., and various properties of the curable resin composition and the cured resin were measured by the following methods.

【0040】○スパイラルフロー:EMMI規格に準じ
た方法により測定した。 ○成形収縮率 :JIS−K−6911に準じた方
法により測定した。 ○熱膨張率 :5mm×5mm×16mmに成形した硬
化樹脂を熱膨張計(真空理工社製DL−7000)を使
用して測定した。熱膨張率の値は、室温からガラス転移
点までの値である。 ○ガラス転移点(Tg):熱膨張率測定により測定した。 ○曲げ弾性率 :JIS−K−6911に準じた方
法により測定した。 ○吸水率 :2インチ×0.5インチ×0.2
5インチに成形した硬化樹脂を温度121℃、湿度10
0%にして、20時間加湿した直後の硬化樹脂の重量増
加を測定することにより測定した。 ○バリ :深さ20μmの溝を使用して、バ
リ長さを測定した。
○ Spiral flow: Measured by a method according to the EMMI standard. Molding shrinkage rate: Measured by a method according to JIS-K-6911. Thermal expansion coefficient: A cured resin molded into 5 mm × 5 mm × 16 mm was measured using a thermal expansion meter (DL-7000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd.). The value of the coefficient of thermal expansion is the value from room temperature to the glass transition point. Glass transition point (Tg): Measured by measuring the coefficient of thermal expansion. Bending elastic modulus: Measured by a method according to JIS-K-6911. ○ Water absorption rate: 2 inches x 0.5 inches x 0.2
Cured resin molded into 5 inches has a temperature of 121 ° C and a humidity of 10
It was measured by measuring the weight increase of the cured resin immediately after humidifying for 20 hours at 0%. Burr: A burr length was measured using a groove having a depth of 20 μm.

【0041】○耐熱衝撃性 :チップサイズ36mm
2、パッケージ厚さ2.0mmの樹脂封止半導体素子20
個を成形し、これを−196℃←→+150℃で1分間
のサイクルでヒートサイクル試験を行い、150サイク
ル後に封止樹脂表面を実体顕微鏡で観察して、表面にク
ラックの入った成形品の個数が5個以下である場合を
○、6〜10個の範囲内である場合を△、11個以上で
ある場合を×とした。
○ Thermal shock resistance: Chip size 36 mm
2. Resin-sealed semiconductor device 20 with a package thickness of 2.0 mm
A piece was molded and subjected to a heat cycle test at a cycle of −196 ° C. ← → + 150 ° C. for 1 minute. After 150 cycles, the surface of the sealing resin was observed with a stereoscopic microscope and the molded product with cracks on the surface was observed. The case where the number was 5 or less was marked with ◯, the case where it was within the range of 6 to 10 was marked with Δ, and the case where it was 11 or more was marked with x.

【0042】○半田耐熱性 :チップサイズ36mm
2、パッケージ厚さ2.0mmの樹脂封止半導体素子20
個を成形し、これを85℃、85%RH条件で72時間
放置後、直ちに240℃の半田浴に1時間浸漬し、封止
樹脂表面を実体顕微鏡で観察した。表面にクラックの入
った成形品の個数が5個以下である場合を○、6〜10
個の範囲内である場合を△、11個以上である場合を×
とした。
○ Solder heat resistance: Chip size 36 mm
2. Resin-sealed semiconductor device 20 with a package thickness of 2.0 mm
Individual pieces were molded, left for 72 hours under the conditions of 85 ° C. and 85% RH, and immediately immersed in a solder bath at 240 ° C. for 1 hour, and the sealing resin surface was observed with a stereoscopic microscope. ○, 6 to 10 when the number of molded products with cracks on the surface is 5 or less
When the number is within the range of Δ, Δ when the number is 11 or more, x
And

【0043】[0043]

【参考例1】反応容器に水250gとトルエン400g
を投入した。この系の液温を10℃に調節しながら、こ
の系にフェニルトリクロロシラン300gとトルエン2
00gの混合液を滴下した。滴下終了後6時間加熱還流
し、その後、トルエン溶液を分離した。このトルエン溶
液を300gの水で、洗液が中性になるまで繰り返し洗
浄した。その後、このトルエン溶液を減圧下で加熱して
トルエンを留去することにより白色固体177.7gを
調製した(以下、これを試料Aとする。)。
[Reference Example 1] 250 g of water and 400 g of toluene in a reaction vessel
Was thrown in. While adjusting the liquid temperature of this system to 10 ° C, 300 g of phenyltrichlorosilane and toluene 2 were added to this system.
00 g of the mixed solution was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was heated under reflux for 6 hours, and then the toluene solution was separated. This toluene solution was repeatedly washed with 300 g of water until the washing liquid became neutral. Thereafter, this toluene solution was heated under reduced pressure to distill off toluene to prepare 177.7 g of a white solid (hereinafter, referred to as sample A).

【0044】[0044]

【参考例2】反応容器に水100gとトルエン400g
とイソプロパノール140gを投入した。この系の液温
を10℃に調節しながら、この系にフェニルトリクロロ
シラン336.7gとジメチルジクロロシラン126g
とトルエン126gの混合液を滴下した。滴下終了後1
時間加熱還流し、その後、トルエン溶液を分離した。こ
のトルエン溶液を300gの水で、洗液が中性になるま
で繰り返し洗浄することにより固形分50重量%のオル
ガノポリシロキサンのトルエン溶液452gを調節した
(以下、これを試料Bとする。)。
[Reference Example 2] 100 g of water and 400 g of toluene in a reaction vessel
And 140 g of isopropanol were added. While adjusting the liquid temperature of this system to 10 ° C., 336.7 g of phenyltrichlorosilane and 126 g of dimethyldichlorosilane were added to this system.
And a mixed solution of 126 g of toluene was added dropwise. After dropping 1
After heating under reflux for a period of time, the toluene solution was separated. This toluene solution was repeatedly washed with 300 g of water until the washing liquid became neutral to adjust 452 g of a toluene solution of organopolysiloxane having a solid content of 50% by weight (hereinafter, referred to as sample B).

【0045】[0045]

【参考例3】反応容器に水100gとトルエン400g
とイソプロパノール140gを投入した。この系の液温
を10℃に調節しながら、この系にフェニルトリクロロ
シラン317.3gとジメチルジクロロシラン38.7
gとテトラクロロシラン34.0gとトルエン126g
の混合液を滴下した。滴下終了後1時間加熱還流し、そ
の後、トルエン溶液を分離した。このトルエン溶液を3
00gの水で、洗液が中性になるまで繰り返し洗浄する
ことにより固形分50重量%のオルガノポリシロキサン
のトルエン溶液438gを調製した(以下、このトルエ
ン溶液を試料Cとする。)。
[Reference Example 3] 100 g of water and 400 g of toluene in a reaction vessel
And 140 g of isopropanol were added. While adjusting the liquid temperature of this system to 10 ° C, 317.3 g of phenyltrichlorosilane and 38.7 of dimethyldichlorosilane were added to this system.
g, tetrachlorosilane 34.0 g, and toluene 126 g
The mixed solution of was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was heated under reflux for 1 hour, and then the toluene solution was separated. Add 3 parts of this toluene solution
By repeatedly washing with 00 g of water until the washing liquid becomes neutral, 438 g of a toluene solution of organopolysiloxane having a solid content of 50% by weight was prepared (hereinafter, this toluene solution is referred to as sample C).

【0046】[0046]

【参考例4】反応容器に試料A51.6gと3−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン23.6gとトルエ
ン159.4gと水酸化セシウム0.08gを投入し
た。この系の水5.0gを加え、次いでこの系を加熱し
ながら生成したメタノールと水を留去した。水の留出が
なくなってから、この系を冷却し、この系にさらに水
5.0gを加えた。次いでこの系を加熱しながら生成し
たメタノールと水を留去した。この操作を繰り返し行
い、留去した水をエーテルで抽出し、これをガスクロマ
トグラフにより、メタノールの生成がないことを確認し
て加熱を終了した。次いで、固形分の濃度を30重量%
に調節し、再び加熱還流した。1時間毎にサンプリング
して、サンプルを中和処理後、これをゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフ(以下、これをGPCとする。)に
より分子量を測定し、分子量分布が一定になったことを
確認してからこの系を冷却した。冷却後、この系に酢酸
0.05gを投入して中和処理した。次いで、生成塩を
濾過し、濾液を減圧下で加熱することにより無色透明固
体64.7gを得た。この無色透明固体は、Mn=23
00、Mw=3820、ガラス転移点=106℃、軟化
点=142℃、エポキシ当量=680であり、29Si−
核磁気共鳴スペクトル分析(以下、これをNMRとす
る。)により、下記の構造式で示される3−グリシドキ
シプロピル基含有シリコーンレジンであることが確認さ
れた。
Reference Example 4 51.6 g of sample A, 23.6 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 159.4 g of toluene and 0.08 g of cesium hydroxide were placed in a reaction vessel. 5.0 g of water of this system was added, and then the produced methanol and water were distilled off while heating the system. After distilling off water, the system was cooled and an additional 5.0 g of water was added to the system. Then, while heating the system, the produced methanol and water were distilled off. This operation was repeated, the distilled water was extracted with ether, and it was confirmed by gas chromatography that no methanol was produced, and heating was terminated. Then, the solid content concentration is 30% by weight.
The temperature was adjusted to 1, and the mixture was heated under reflux again. After sampling every 1 hour and neutralizing the sample, the molecular weight of the sample was measured by gel permeation chromatograph (hereinafter referred to as GPC) to confirm that the molecular weight distribution became constant. The system was cooled from. After cooling, 0.05 g of acetic acid was added to this system for neutralization. Next, the produced salt was filtered, and the filtrate was heated under reduced pressure to obtain 64.7 g of a colorless transparent solid. This colorless transparent solid has a Mn = 23.
00, Mw = 3820, glass transition point = 106 ° C., softening point = 142 ° C., epoxy equivalent = 680, 29 Si−
By nuclear magnetic resonance spectrum analysis (hereinafter referred to as NMR), it was confirmed to be a 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin represented by the following structural formula.

【0047】(PhSiO3/2)0.8(EpSiO3/2)0.2 (PhSiO 3/2 ) 0.8 (EpSiO 3/2 ) 0.2

【0048】[0048]

【参考例5】反応容器に試料B116.9gとオクタメ
チルテトラシクロシロキサン3.7gと3−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン12.1gとトルエン1
2.1gと水酸化セシウム0.08gを投入した。この
系の水5.0gを加え、次いでこの系を加熱しながら生
成したメタノールと水を留去した。水の留出がなくなっ
てから、この系を冷却し、この系にさらに水5.0gを
加えた。次いでこの系を加熱しながら生成したメタノー
ルと水を留去した。この操作を繰り返し行い、留去した
水をエーテルで抽出し、これをガスクロマトグラフによ
り、メタノールの生成がないことを確認して加熱を終了
した。次いで、固形分の濃度を50重量%に調節し、再
び加熱還流した。1時間毎にサンプリングして、サンプ
ルを中和処理後、これをGPCにより分子量を測定し、
分子量分布が一定になったことを確認してからこの系を
冷却した。冷却後、この系に酢酸0.05gを投入し
て、中和処理した。次いで、生成塩を濾過し、濾液を減
圧下で加熱することにより、無色透明固体67.4gを
得た。この無色透明固体は、Mn=2320、Mw=3
950、ガラス転移点=42℃、軟化点=65℃、エポ
キシ当量=1470であり、29Si−NMRにより下記
の構造式で示される3グリシドキシプロピル基含有シリ
コーンレジンであることが確認された。
Reference Example 5 116.9 g of sample B, 3.7 g of octamethyltetracyclosiloxane, 12.1 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 1 of toluene were placed in a reaction vessel.
2.1 g and 0.08 g of cesium hydroxide were added. 5.0 g of water of this system was added, and then the produced methanol and water were distilled off while heating the system. After distilling off water, the system was cooled and an additional 5.0 g of water was added to the system. Then, while heating the system, the produced methanol and water were distilled off. This operation was repeated, the distilled water was extracted with ether, and it was confirmed by gas chromatography that no methanol was produced, and heating was terminated. Then, the concentration of the solid content was adjusted to 50% by weight, and the mixture was heated and refluxed again. Sampling every 1 hour, neutralizing the sample, and then measuring the molecular weight by GPC,
After confirming that the molecular weight distribution became constant, the system was cooled. After cooling, 0.05 g of acetic acid was added to this system for neutralization. Then, the produced salt was filtered, and the filtrate was heated under reduced pressure to obtain 67.4 g of a colorless transparent solid. This colorless transparent solid has Mn = 2320 and Mw = 3.
950, glass transition point = 42 ° C., softening point = 65 ° C., epoxy equivalent = 1470, 29 Si-NMR confirmed to be a 3 glycidoxypropyl group-containing silicone resin represented by the following structural formula. .

【0049】 (PhSiO3/2)0.66[(CH3)2SiO2/2]0.26(EpSiO3/2)0.08 (PhSiO 3/2 ) 0.66 [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] 0.26 (EpSiO 3/2 ) 0.08

【0050】[0050]

【参考例6】反応容器に試料A12.9gとオクタメチ
ルテトラシクロシロキサン25.9gと3−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン11.8gとトルエン4
7.2gと水酸化セシウム0.05gを投入した。この
系の水5.0gを加え、次いでこの系を加熱しながら生
成したメタノールと水を留去した。水の留出がなくなっ
てからこの系を冷却し、この系にさらに水5.0gを加
えた。次いでこの系を加熱しながら生成したメタノール
と水を留去した。この操作を繰り返し行い、留去した水
をエーテルで抽出し、これをガスクロマトグラフによ
り、メタノールの生成がないことを確認して加熱を終了
した。次いで、固形分の濃度を50重量%に調節し、再
び加熱還流した。1時間毎にサンプリングして、サンプ
ルを中和処理後、これをGPCにより分子量を測定し、
分子量分布が一定になったことを確認してからこの系を
冷却した。冷却後、この系に酢酸0.03gを投入し
て、中和処理した。次いで、生成塩を濾過し、濾液を減
圧下で加熱することにより、無色透明液体44.8gを
得た。この無色透明液体は、Mn=2240、Mw=4
870、ガラス転移点=−68℃、粘度=1500セン
チポイズ、エポキシ当量=952であり、29Si−NM
Rにより下記の構造式で示される3−グリシドキシプロ
ピル基含有シリコーンレジンであることが確認された。
Reference Example 6 12.9 g of sample A, 25.9 g of octamethyltetracyclosiloxane, 11.8 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 4 toluene in a reaction vessel.
7.2 g and cesium hydroxide 0.05 g were added. 5.0 g of water of this system was added, and then the produced methanol and water were distilled off while heating the system. After distilling off water, the system was cooled and an additional 5.0 g of water was added to the system. Then, while heating the system, the produced methanol and water were distilled off. This operation was repeated, the distilled water was extracted with ether, and it was confirmed by gas chromatography that no methanol was produced, and heating was terminated. Then, the concentration of the solid content was adjusted to 50% by weight, and the mixture was heated and refluxed again. Sampling every 1 hour, neutralizing the sample, and then measuring the molecular weight by GPC,
After confirming that the molecular weight distribution became constant, the system was cooled. After cooling, 0.03 g of acetic acid was added to this system for neutralization. Then, the produced salt was filtered, and the filtrate was heated under reduced pressure to obtain 44.8 g of a colorless transparent liquid. This colorless transparent liquid has Mn = 2240 and Mw = 4.
870, glass transition point = -68 ° C., viscosity = 1500 centipoise, epoxy equivalent = 952, 29 Si-NM
By R, it was confirmed to be a 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin represented by the following structural formula.

【0051】 (PhSiO3/2)0.2[(CH3)2SiO2/2]0.7(EpSiO3/2)0.1 (PhSiO 3/2 ) 0.2 [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] 0.7 (EpSiO 3/2 ) 0.1

【0052】[0052]

【参考例7】反応容器に試料B113.9gと3−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン11.8gとトル
エン8.4gと水酸化セシウム0.08gを投入した。
この系の水5.0gを加え、次いでこの系を加熱しなが
ら生成したメタノールと水を留去した。水の留出がなく
なってから、この系を冷却し、この系にさらに水5.0
gを加えた。次いでこの系を加熱しながら生成したメタ
ノールと水を留去した。この操作を繰り返し行い、留去
した水をエーテルで抽出し、これをガスクロマトグラフ
により、メタノールの生成がないことを確認して加熱を
終了した。次いで、固形分の濃度を50重量%に調節
し、再び加熱還流した。1時間毎にサンプリングして、
サンプルを中和処理後、これをGPCにより分子量を測
定し、分子量分布が一定になったことを確認してからこ
の系を冷却した。冷却後、この系に酢酸0.05gを投
入して中和処理した。次いで、生成塩を濾過し、濾液を
減圧下で加熱することにより無色透明固体63.3gを
得た。この無色透明固体は、Mn=3870、Mw=7
280、ガラス転移点=124℃、軟化点=158℃、
エポキシ当量=1340であり、29Si−NMRにより
下記の構造式で示される3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンであることが確認された。
Reference Example 7 113.9 g of Sample B, 11.8 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 8.4 g of toluene and 0.08 g of cesium hydroxide were placed in a reaction vessel.
5.0 g of water of this system was added, and then the produced methanol and water were distilled off while heating the system. After the water is no longer distilled off, cool the system and add 5.0% more water to the system.
g was added. Then, while heating the system, the produced methanol and water were distilled off. This operation was repeated, the distilled water was extracted with ether, and it was confirmed by gas chromatography that no methanol was produced, and heating was terminated. Then, the concentration of the solid content was adjusted to 50% by weight, and the mixture was heated and refluxed again. Sampling every hour,
After neutralizing the sample, its molecular weight was measured by GPC, and after confirming that the molecular weight distribution became constant, this system was cooled. After cooling, 0.05 g of acetic acid was added to this system for neutralization. Next, the produced salt was filtered, and the filtrate was heated under reduced pressure to obtain 63.3 g of a colorless transparent solid. This colorless transparent solid has Mn = 3870 and Mw = 7.
280, glass transition point = 124 ° C., softening point = 158 ° C.,
The epoxy equivalent was 1340, and it was confirmed by 29 Si-NMR that the silicone resin was a 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin represented by the following structural formula.

【0053】 (PhSiO3/2)0.68[(CH3)2SiO2/2]0.14(EpSiO3/2)0.09 (PhSiO 3/2 ) 0.68 [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] 0.14 (EpSiO 3/2 ) 0.09

【0054】[0054]

【参考例8】反応容器に試料A48.4gとオクタメチ
ルテトラシクロシロキサン8.9gと3−グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン1.1gとトルエン5
8.2gと水酸化セシウム0.07gを投入した。この
系の水5.0gを加え、次いでこの系を加熱しながら生
成したメタノールと水を留去した。水の留出がなくなっ
てから、この系を冷却し、この系にさらに水5.0gを
加えた。次いで、この系を加熱しながら生成したメタノ
ールと水を留去した。この操作を繰り返し行い、留去し
た水をエーテルで抽出し、これをガスクロマトグラフに
より、メタノールの生成がないことを確認して加熱を終
了した。次いで、固形分の濃度を50重量%に調節し、
再び加熱還流した。1時間毎にサンプリングして、サン
プルを中和処理後、これをGPCにより分子量を測定
し、分子量分布が一定になったことを確認してからこの
系を冷却した。冷却後、この系に酢酸0.04gを投入
して、中和処理した。次いで、生成塩を濾過し、濾液を
減圧下で加熱することにより無色透明固体54.7gを
得た。この無色透明固体は、Mn=2740、Mw=4
520、ガラス転移点=52℃、軟化点=80℃、エポ
キシ当量=11900であり、29Si−NMRにより下
記の構造式で示される3−グリシドキシプロピル基含有
シリコーンレジンであることが確認された。
[Reference Example 8] In a reaction vessel, 48.4 g of sample A, 8.9 g of octamethyltetracyclosiloxane, 1.1 g of 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane and 5 toluene.
8.2 g and 0.07 g of cesium hydroxide were added. 5.0 g of water of this system was added, and then the produced methanol and water were distilled off while heating the system. After distilling off water, the system was cooled and an additional 5.0 g of water was added to the system. Then, while the system was heated, the produced methanol and water were distilled off. This operation was repeated, the distilled water was extracted with ether, and it was confirmed by gas chromatography that no methanol was produced, and heating was terminated. Then, adjust the solid content concentration to 50% by weight,
It was heated to reflux again. After sampling every hour and neutralizing the sample, the molecular weight of the sample was measured by GPC, and after confirming that the molecular weight distribution was constant, the system was cooled. After cooling, 0.04 g of acetic acid was added to this system for neutralization. Then, the produced salt was filtered, and the filtrate was heated under reduced pressure to obtain 54.7 g of a colorless transparent solid. This colorless transparent solid has Mn = 2740, Mw = 4
520, glass transition point = 52 ° C., softening point = 80 ° C., epoxy equivalent = 11900, confirmed by 29 Si-NMR to be a 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin represented by the following structural formula. It was

【0055】 (PhSiO3/2)0.75[(CH3)2SiO2/2]0.24(EpSiO3/2)0.01 (PhSiO 3/2 ) 0.75 [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] 0.24 (EpSiO 3/2 ) 0.01

【0056】[0056]

【参考例9】特開昭56−136816号公報の参考例
2に記載されたシリコーンレジンの製造方法に従って、
エポキシ基含有シリコーンレジンを調製した。反応容器
にジメチルジメトキシシラン240.4gと3−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン236.3gを投入
した。この系の温度を60℃に加熱し、攪拌下、水36
gを徐々に滴下した。滴下終了後、4時間加熱攪拌し、
次いでこれを10mmHgの減圧下、60℃で生成したメタ
ノールおよび残存する水を除き、薄茶色透明液体26
1.9gを得た。この液体は室温に放置しておくと、テ
トラメチルジシロキサンジオールの結晶が析出した。こ
の液体は、赤外線分光分析により多量のメトキシ基を有
する3−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジン
であることが確認された。このシリコーンレジンのガラ
ス転移点を測定したが明確なガラス転移点を示さなかっ
た。
Reference Example 9 According to the method for producing a silicone resin described in Reference Example 2 of JP-A-56-136816,
An epoxy group-containing silicone resin was prepared. 240.4 g of dimethyldimethoxysilane and 236.3 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane were placed in a reaction vessel. The temperature of this system is heated to 60 ° C., and while stirring, water 36
g was gradually added dropwise. After completion of dropping, heat and stir for 4 hours,
Then, this was removed under reduced pressure of 10 mmHg at 60 ° C. to remove methanol and residual water, and a light brown transparent liquid 26
1.9 g was obtained. When this liquid was allowed to stand at room temperature, crystals of tetramethyldisiloxanediol were precipitated. This liquid was confirmed by infrared spectroscopy to be a 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin having a large amount of methoxy groups. The glass transition point of this silicone resin was measured, but it did not show a clear glass transition point.

【0057】[0057]

【参考例10】反応容器に100gの水と400gのト
ルエンと140gのイソプロピルアルコールと0.07
gの水酸化カリウムを投入し、この系を10℃に冷却
し、35.0gのフェニルトリメトキシシランと8.1
gのオクタメチルテトラシクロシロキサンと10.0g
の3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの混合
液を滴下した。滴下終了後、これを1時間加熱還流し、
次いで冷却した。冷却後、トルエン層を取り出し、これ
をこの系の温度を60℃に加熱し、攪拌下、水36gを
徐々に滴下した。滴下終了後、4時間加熱攪拌し、これ
を冷却後、この系に0.04gの酢酸を投入し、生成し
た酢酸カリウムを濾過した。濾液を減圧下で加熱するこ
とにより、38.0gの無色固体状の3−グリシドキシ
プロピル基含有シリコーンレジンを得た。このシリコー
ンレジンは赤外線分光分析の結果、シラノール基を有す
ることが確認された。また、このシリコーンレジンは明
確なガラス転移点を示さなかった。
Reference Example 10 100 g of water, 400 g of toluene, 140 g of isopropyl alcohol and 0.07 in a reaction vessel.
g of potassium hydroxide was added, the system was cooled to 10 ° C., and 35.0 g of phenyltrimethoxysilane and 8.1 were added.
octamethyl tetracyclosiloxane and 10.0 g
A mixed solution of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane of was added dropwise. After the dropping is completed, this is heated under reflux for 1 hour,
It was then cooled. After cooling, the toluene layer was taken out, the temperature of this system was heated to 60 ° C., and 36 g of water was gradually added dropwise with stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated and stirred for 4 hours, cooled, and then 0.04 g of acetic acid was added to this system, and the produced potassium acetate was filtered. By heating the filtrate under reduced pressure, 38.0 g of a colorless solid 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin was obtained. As a result of infrared spectroscopic analysis, it was confirmed that this silicone resin had a silanol group. Further, this silicone resin did not show a clear glass transition point.

【0058】[0058]

【実施例1】フェノールノボラック樹脂(軟化点80
℃、水酸基当量100)100重量部、参考例4で調製
した3−3−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレ
ジン28.6重量部、溶融石英粉末185.7重量部、
ヘキサメチレンテトラミン11.4重量部、3−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン1.0重量部および
カルナバウワックス2.9重量部を均一に混合し、これ
を90℃の加熱ロールでさらに混練後冷却して本発明の
硬化性樹脂組成物を調製した。次いで、これを粉砕し、
175℃、70kg/cm2の条件下で3分間トランスファー
モールド成形した。その後、硬化樹脂を150℃で2時
間かけてポストキュアした。得られた硬化性樹脂組成物
および硬化樹脂の諸特性を表1に示した。
Example 1 Phenol novolac resin (softening point 80
C., hydroxyl equivalent 100) 100 parts by weight, 3-3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 2 28.6 parts by weight, fused silica powder 185.7 parts by weight,
Hexamethylenetetramine (11.4 parts by weight), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (1.0 parts by weight) and carnauba wax (2.9 parts by weight) were uniformly mixed, and the mixture was further kneaded with a heating roll at 90 ° C. and then cooled. Then, the curable resin composition of the present invention was prepared. Then crush it,
Transfer molding was carried out for 3 minutes under the conditions of 175 ° C. and 70 kg / cm 2 . Then, the cured resin was post-cured at 150 ° C. for 2 hours. Table 1 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin.

【0059】[0059]

【比較例1】実施例1において、参考例4で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに下記の構造式で示される分子鎖側鎖に3−グリシド
キシプロピル基含有ジメチルポリシロキサンを使用した
以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物を調製し
た。これを実施例1と同様にして硬化させた。得られた
硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表1に示し
た。
Comparative Example 1 In Example 1, 3 prepared in Reference Example 4
-Curable resin in the same manner as in Example 1 except that a glycidoxypropyl group-containing silicone resin was replaced by 3-glycidoxypropyl group-containing dimethylpolysiloxane for the side chain of the molecular chain represented by the following structural formula. A composition was prepared. This was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin.

【0060】[0060]

【化1】 [Chemical 1]

【0061】[0061]

【比較例2】実施例1において、参考例4で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンを使用
しない以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物を
調製した。これを実施例1と同様にして硬化させた。得
られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表1
に示した。
Comparative Example 2 In Example 1, 3 prepared in Reference Example 4
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the glycidoxypropyl group-containing silicone resin was not used. This was cured in the same manner as in Example 1. Various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin are shown in Table 1.
It was shown to.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】[0063]

【実施例2】CH3SiO3/2単位40モル%、C6
5(CH3)SiO2/2単位10モル%、C65SiO3/2
単位40モル%および(C652SiO2/2単位10モ
ル%からなり、ケイ素原子結合水酸基を5重量%含有す
るシリコーン樹脂50重量部とクレゾールノボラックエ
ポキシ樹脂(軟化点80℃、エポキシ当量220)50
重量部からなるシリコーン−エポキシ樹脂100重量
部、参考例5で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジン38.5重量部、溶融石英粉末28
4.6重量部、アルミニウムアセチルアセトネート3.
5重量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン1.0重量部およびカルナバウワックス3.8重量部
とを均一に混合し、これを90℃の加熱ロールでさらに
混練後冷却して本発明の硬化性樹脂組成物を調製した。
次いで、これを粉砕し、175℃、70kg/cm2の条件下
で2分間トランスファーモールド成形した。その後、硬
化樹脂を180℃で12時間かけてポストキュアした。
得られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表
2に示した。
Example 2 CH 3 SiO 3/2 unit 40 mol%, C 6 H
5 (CH 3 ) SiO 2/2 unit 10 mol%, C 6 H 5 SiO 3/2
Unit 40 consists mole% and (C 6 H 5) 2 SiO 2/2 units 10 mole%, the silicone resin 50 parts by weight of cresol novolak epoxy resins containing silicon-bonded hydroxyl 5 wt% (softening point 80 ° C., epoxy Equivalent 220) 50
100 parts by weight of silicone-epoxy resin, 38.5 parts by weight of 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 5, fused silica powder 28
4.6 parts by weight, aluminum acetylacetonate 3.
5 parts by weight, 1.0 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3.8 parts by weight of carnauba wax were uniformly mixed, and the mixture was further kneaded with a heating roll at 90 ° C. and then cooled to obtain the present invention. The curable resin composition of was prepared.
Then, this was pulverized, and transfer-molded for 2 minutes at 175 ° C. and 70 kg / cm 2 . Then, the cured resin was post-cured at 180 ° C. for 12 hours.
Various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin are shown in Table 2.

【0064】[0064]

【実施例3】実施例2において、参考例5で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例6で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンを使用した以外は実施例2と同様に
して硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例2と同
様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物および
硬化樹脂の諸特性を表2に示した。
Example 3 In Example 2, 3 prepared in Reference Example 5 was used.
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 6 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured as in Example 2. Various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin are shown in Table 2.

【0065】[0065]

【実施例4】実施例2において、参考例5で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例7で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンを使用した以外は実施例2と同様に
して硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例2と同
様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物および
硬化樹脂の諸特性を表2に示した。
Example 4 In Example 2, 3 prepared in Reference Example 5
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 7 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured as in Example 2. Various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin are shown in Table 2.

【0066】[0066]

【比較例3】実施例2において、参考例5で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに下記の構造式で示される分子鎖側鎖に3−グリシド
キシプロピル基とトリメトキシシリルエチル基を有する
ジメチルポリシロキサンを使用した以外は実施例2と同
様にして硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例2
と同様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物お
よび硬化樹脂の諸特性を表2に示した。
Comparative Example 3 In Example 2, 3 prepared in Reference Example 5
Example 2 except that dimethylpolysiloxane having a 3-glycidoxypropyl group and a trimethoxysilylethyl group in the side chain of the molecular chain represented by the following structural formula was used in place of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. A curable resin composition was prepared in the same manner as. Example 2
It was cured in the same manner. Various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin are shown in Table 2.

【0067】[0067]

【化2】 [Chemical 2]

【0068】[0068]

【比較例4】実施例2において、参考例5で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンを使用
しない以外は実施例2と同様にして硬化性樹脂組成物を
調製した。これを実施例2と同様にして硬化させた。得
られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表2
に示した。
Comparative Example 4 In Example 2, 3 prepared in Reference Example 5 was used.
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that the glycidoxypropyl group-containing silicone resin was not used. This was cured as in Example 2. The properties of the resulting curable resin composition and cured resin are shown in Table 2.
It was shown to.

【0069】[0069]

【表2】 [Table 2]

【0070】[0070]

【実施例5】ビスマレイミド−トリアジン型の熱硬化性
ポリイミド樹脂100重量部、参考例8で調製した3−
グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジン28.6
重量部、溶融石英粉末185.7重量部、カルナバウワ
ックス2.9重量部、3−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン1.0重量部および安息香酸アルミニウム
0.9重量部を均一に混合し、これを90℃の加熱ロー
ルでさらに混練後冷却して本発明の硬化性樹脂組成物を
調製した。次いで、これを粉砕し、220℃、70kg/c
m2の条件下で4分間トランスファーモールド成形した。
その後、硬化樹脂を230℃で3時間かけてポストキュ
アした。得られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸
特性を表3に示した。
Example 5 100 parts by weight of a bismaleimide-triazine type thermosetting polyimide resin, prepared in Reference Example 8
Glycidoxypropyl group-containing silicone resin 28.6
Parts by weight, 185.7 parts by weight of fused silica powder, 2.9 parts by weight of carnauba wax, 1.0 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 0.9 part by weight of aluminum benzoate are uniformly mixed, This was further kneaded with a heating roll at 90 ° C. and then cooled to prepare the curable resin composition of the present invention. Then, this is crushed, 220 ℃, 70kg / c
Transfer molding was carried out for 4 minutes under the condition of m 2 .
Then, the cured resin was post-cured at 230 ° C. for 3 hours. Table 3 shows various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin.

【0071】[0071]

【比較例5】実施例5において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンを使用
しない以外は実施例5と同様にして硬化性樹脂組成物を
調製した。これを実施例5と同様にして硬化させた。得
られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表3
に示した。
Comparative Example 5 In Example 5, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that the glycidoxypropyl group-containing silicone resin was not used. This was cured as in Example 5. Table 3 shows various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin.
It was shown to.

【0072】[0072]

【表3】 [Table 3]

【0073】[0073]

【実施例6】オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂
(軟化点80℃、エポキシ当量220)75重量部、溶
融石英粉末260重量部、カルナバウワックス1重量
部、フェノールノボラック樹脂35重量部、トリフェニ
ルフォスフィン0.6重量部、参考例8で調製した3−
グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジン10重量
部および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
1.0重量部を均一に混合し、これを90℃の加熱ロー
ルでさらに混練後冷却して本発明の硬化性樹脂組成物を
調製した。次いで、これを粉砕し、150℃、70kg/c
m2の条件下で3分間トランスファーモールド成形した。
その後、硬化樹脂を180℃で4時間かけてポストキュ
アした。得られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸
特性を表4に示した。
Example 6 75 parts by weight of ortho-cresol novolac epoxy resin (softening point 80 ° C., epoxy equivalent 220), 260 parts by weight of fused silica powder, 1 part by weight of carnauba wax, 35 parts by weight of phenol novolac resin, triphenylphosphine 0 6 parts by weight, 3-prepared in Reference Example 8
10 parts by weight of a glycidoxypropyl group-containing silicone resin and 1.0 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane were uniformly mixed, and this was further kneaded with a heating roll at 90 ° C. and then cooled to cure the composition of the present invention. A resin composition was prepared. Then, this is crushed, 150 ℃, 70kg / c
Transfer molding was carried out for 3 minutes under the condition of m 2 .
Then, the cured resin was post-cured at 180 ° C. for 4 hours. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin.

【0074】[0074]

【実施例7】実施例6において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例5で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンを使用した以外は実施例6と同様に
して硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例6と同
様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物および
硬化樹脂の諸特性を表4に示した。
Example 7 In Example 6, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 5 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured in the same manner as in Example 6. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin.

【0075】[0075]

【比較例6】実施例6において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンを使用
しない以外は実施例6と同様にして硬化性樹脂組成物を
調製した。これを実施例6と同様にして硬化させた。得
られた硬化性樹脂組成物および硬化樹脂の諸特性を表4
に示した。
Comparative Example 6 In Example 6, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the glycidoxypropyl group-containing silicone resin was not used. This was cured in the same manner as in Example 6. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and the cured resin.
It was shown to.

【0076】[0076]

【比較例7】実施例6において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例9で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンを使用した以外は実施例6と同様に
して硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例6と同
様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物および
硬化樹脂の諸特性を表4に示した。なお、比較例7で得
られた硬化性樹脂組成物は、実施例6、7および8で得
られた硬化性樹脂組成物に比べ、成形時の金型汚れが著
しかった。
Comparative Example 7 In Example 6, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 9 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured in the same manner as in Example 6. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin. The curable resin composition obtained in Comparative Example 7 was more susceptible to mold staining during molding than the curable resin compositions obtained in Examples 6, 7 and 8.

【0077】[0077]

【比較例8】実施例6において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例10で調製した3−グリシドキシプロピル基
含有シリコーンレジンを使用した以外は実施例6と同様
にして硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例6と
同様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物およ
び硬化樹脂の諸特性を表4に示した。
Comparative Example 8 In Example 6, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 10 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured in the same manner as in Example 6. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin.

【0078】[0078]

【表4】 [Table 4]

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明の硬化性樹脂組成物は(A)硬化性
樹脂および(B)エポキシ基含有シリコーンレジンからな
り、特に(B)成分として、−90℃〜150℃のガラス
転移点を有し、かつT単位を必須とするエポキシ基含有
シリコーンレジンを配合しているので、硬化前には流動
性が優れ、硬化後には可撓性、耐湿性および耐熱衝撃性
が優れた樹脂を形成することができるという特徴を有す
る。
EFFECTS OF THE INVENTION The curable resin composition of the present invention comprises (A) curable resin and (B) epoxy group-containing silicone resin. In particular, the component (B) has a glass transition point of -90 ° C to 150 ° C. Since it has an epoxy group-containing silicone resin that contains T units as essential components, it forms a resin that has excellent fluidity before curing and excellent flexibility, moisture resistance, and thermal shock resistance after curing. It has the feature of being able to.

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年3月14日[Submission date] March 14, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0055[Correction target item name] 0055

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0055】 (PhSiO3/2)0.75[(CH3)2SiO2/2]0.24 [Ep(CH3)SiO2/2] 0.01 (PhSiO 3/2 ) 0.75 [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] 0.24 [Ep (CH 3 ) SiO 2/2 ] 0.01

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0060[Correction target item name] 0060

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0060】 [0060]

【化1】 [Chemical 1]

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0076[Correction target item name] 0076

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0076】[0076]

【比較例7】実施例6において、参考例8で調製した3
−グリシドキシプロピル基含有シリコーンレジンの代わ
りに参考例9で調製した3−グリシドキシプロピル基含
有シリコーンレジンを使用した以外は実施例6と同様に
して硬化性樹脂組成物を調製した。これを実施例6と同
様にして硬化させた。得られた硬化性樹脂組成物および
硬化樹脂の諸特性を表4に示した。なお、比較例7で得
られた硬化性樹脂組成物は、実施例6および7で得られ
た硬化性樹脂組成物に比べ、成形時の金型汚れが著しか
った。
Comparative Example 7 In Example 6, 3 prepared in Reference Example 8
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the 3-glycidoxypropyl group-containing silicone resin prepared in Reference Example 9 was used instead of the glycidoxypropyl group-containing silicone resin. This was cured in the same manner as in Example 6. Table 4 shows various properties of the obtained curable resin composition and cured resin. In addition, the curable resin composition obtained in Comparative Example 7 was more prone to mold stains during molding than the curable resin compositions obtained in Examples 6 and 7 .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 63/00 NKA 8830−4J NKB 8830−4J (72)発明者 田中 賢 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI Technical display location C08L 63/00 NKA 8830-4J NKB 8830-4J (72) Inventor Ken Tanaka Chikusaigan, Ichihara, Chiba Prefecture 2-2 Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)硬化性樹脂 1
00重量部および(B)一般式: (R1SiO3/2a(R23SiO2/2b(SiO4/2c {式中、R1、R2およびR3は同種もしくは異種の一価
炭化水素基またはエポキシ基含有有機基であり、但し、
(B)成分中のケイ素原子結合全有機基に対するエポキシ
基含有有機基の含有量は0.1〜40モル%であり、a
は正数であり、bは0または正数であり、cは0または
正数であり、かつb/aは0〜10の数であり、c/
(a+b+c)は0〜0.3の数である。}で示され、
かつ−90℃〜150℃にガラス転移点を有するエポキ
シ基含有シリコーンレジン
0.1〜500重量部からなる硬化性樹脂
組成物。
1. A curable resin (A) 1
00 parts by weight and (B) general formula: (R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 R 3 SiO 2/2 ) b (SiO 4/2 ) c (wherein R 1 , R 2 and R 3 are The same or different monovalent hydrocarbon groups or epoxy group-containing organic groups, provided that
The content of the epoxy group-containing organic group with respect to all the silicon atom-bonded organic groups in the component (B) is 0.1 to 40 mol%, and a
Is a positive number, b is 0 or a positive number, c is 0 or a positive number, and b / a is a number from 0 to 10, c /
(A + b + c) is a number from 0 to 0.3. },
And epoxy group-containing silicone resin having a glass transition point at -90 ° C to 150 ° C
A curable resin composition comprising 0.1 to 500 parts by weight.
【請求項2】 (A)成分がエポキシ樹脂,フェノール樹
脂,イミド樹脂およびシリコーン樹脂からなる群から選
択される硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1記
載の硬化性樹脂組成物。
2. The curable resin composition according to claim 1, wherein the component (A) is a curable resin selected from the group consisting of epoxy resins, phenol resins, imide resins and silicone resins.
【請求項3】 (B)成分中、R1の30モル%以上がフェ
ニル基であることを特徴とする請求項1記載の硬化性樹
脂組成物。
3. The curable resin composition according to claim 1 , wherein 30 mol% or more of R 1 in the component (B) is a phenyl group.
【請求項4】 (B)成分が、(I)下記(i)成分〜(iv)成分
からなる群より選択されるオルガノポリシロキサンの1
種もしくは2種以上の混合物[但し、(ii)成分のみを除
く。]と (i)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、 (ii)一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、 (iii)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン、および (iv)一般式: R4SiO3/2 で示されるシロキサン単位と一般式: R56SiO2/2 で示されるシロキサン単位と一般式: SiO4/2 で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキ
サン (式中、R4、R5およびR6は同種もしくは異種の一価
炭化水素基である。) (II)一般式: R78 dSi(OR9(3-d) (式中、R7はエポキシ基含有有機基であり、R8は一価
炭化水素基であり、R9はアルキル基であり、dは0ま
たは1である。)で示されるエポキシ基含有アルコキシ
シランもしくはその部分加水分解物[(II)成分の配合量
は、(II)成分中のエポキシ基含有有機基が(I)成分と(I
I)成分のケイ素原子結合全有機基に対して0.1〜40
モル%となる量である。]を、水および塩基性触媒の存
在下で反応させてシリコーンレジンを合成し、次いで、
有機溶剤により該シリコーンレジンの濃度を調節した
後、塩基性触媒により該シリコーンレジンを平衡化反応
させてなるエポキシ基含有シリコーンレジンであること
を特徴とする請求項1記載の硬化性樹脂組成物。
4. An organopolysiloxane in which component (B) is selected from the group consisting of (I) components (i) to (iv) below.
Species or a mixture of two or more kinds (however, only the component (ii) is excluded. ] And (i) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 , (ii) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by a general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 , (iii) an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 and a siloxane unit represented by the general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 , and (iv) a general formula: R 4 SiO An organopolysiloxane comprising a siloxane unit represented by 3/2 and a general formula: R 5 R 6 SiO 2/2 and a siloxane unit represented by a general formula: SiO 4/2 (wherein R 4 , R 5 and R 6 are the same or different monovalent hydrocarbon groups.) (II) General formula: R 7 R 8 d Si (OR 9 ) (3-d) (In the formula, R 7 contains an epoxy group. an organic group, R 8 is a monovalent hydrocarbon group, R 9 is Is an alkyl group and d is 0 or 1.) The epoxy group-containing alkoxysilane represented by the formula (2) or its partial hydrolyzate [the amount of the component (II) is equal to that of the epoxy group-containing organic group in the component (II). (I) component and (I
0.1 to 40 based on the total silicon-bonded organic groups of component I)
The amount is mol%. ] In the presence of water and a basic catalyst to synthesize a silicone resin, and then
The curable resin composition according to claim 1, wherein the curable resin composition is an epoxy group-containing silicone resin obtained by adjusting the concentration of the silicone resin with an organic solvent and then equilibrating the silicone resin with a basic catalyst.
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