JPH06294629A - 表面の曲率の測定装置 - Google Patents
表面の曲率の測定装置Info
- Publication number
- JPH06294629A JPH06294629A JP5054319A JP5431993A JPH06294629A JP H06294629 A JPH06294629 A JP H06294629A JP 5054319 A JP5054319 A JP 5054319A JP 5431993 A JP5431993 A JP 5431993A JP H06294629 A JPH06294629 A JP H06294629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detector
- lens
- light
- light beam
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/255—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures for measuring radius of curvature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 使用が便利でかつ簡単であり、かつ、レンズ
に損傷を与えることのない、レンズの曲率を測定するた
めの装置を提供する。 【構成】 表面の曲率を測定するための装置は、少なく
とも１個の電磁放射光源と、電磁放射光線の検出器装置
と、表面で反射された電磁放射光線を前記検出器装置に
焦点を結ぶように配置されかつ構成されたレンズ装置と
を有する。表面の曲率を測定するための前記装置は、前
記電磁放射光線が入射した点の出力信号特性を得るよう
に前記検出器装置が構成されることと、前記出力信号に
応答する信号処理装置が前記表面の曲率に関する指標を
供給することとを特徴とする。
に損傷を与えることのない、レンズの曲率を測定するた
めの装置を提供する。 【構成】 表面の曲率を測定するための装置は、少なく
とも１個の電磁放射光源と、電磁放射光線の検出器装置
と、表面で反射された電磁放射光線を前記検出器装置に
焦点を結ぶように配置されかつ構成されたレンズ装置と
を有する。表面の曲率を測定するための前記装置は、前
記電磁放射光線が入射した点の出力信号特性を得るよう
に前記検出器装置が構成されることと、前記出力信号に
応答する信号処理装置が前記表面の曲率に関する指標を
供給することとを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面の曲率を測定する
ための装置に関する。さらに詳細にいえば、しかしそれ
に限定されるわけではないが、本発明は、レンズの曲率
を測定するための装置に関する。
ための装置に関する。さらに詳細にいえば、しかしそれ
に限定されるわけではないが、本発明は、レンズの曲率
を測定するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその問題点】可視スペクトル領域ま
たは非可視スペクトル領域のいずれかで用いられる光学
用レンズの曲率、またはマイクロ波用レンズの曲率は、
多くの応用において精密に定められなければならない。
したがって、曲率の測定の目的のために（例えば、製造
中において）使用することができる装置を得ることが必
要である。
たは非可視スペクトル領域のいずれかで用いられる光学
用レンズの曲率、またはマイクロ波用レンズの曲率は、
多くの応用において精密に定められなければならない。
したがって、曲率の測定の目的のために（例えば、製造
中において）使用することができる装置を得ることが必
要である。
【０００３】この測定のためによく知られている方法
は、全体的には、２つの種類の中の一方または他方に分
類される装置を用いる。第１の種類の方法は接触法であ
り、そして第２の種類の方法は非接触法である。
は、全体的には、２つの種類の中の一方または他方に分
類される装置を用いる。第１の種類の方法は接触法であ
り、そして第２の種類の方法は非接触法である。
【０００４】接触法では、主として、球面計と呼ばれる
装置を用いる。球面計は、測定される表面の上に置かれ
たリングにより定められる平面からの、この表面の高さ
を測定する。この高さとリングの直径との間に成り立つ
関係を用いて、曲率半径を得ることができる。また別の
接触法では、検査される曲率半径に非常に近い曲率半径
を有する、検査板を使用する。この検査板が測定される
表面に接触して置かれる。この際、通常は、端部接触が
行われる。この表面を単色光で照射すると、干渉縞が現
れるであろう。この干渉縞の数は、測定される表面と検
査板との間の差を示す。けれども、これらの接触法は表
面に物理的損傷を与えることがある。
装置を用いる。球面計は、測定される表面の上に置かれ
たリングにより定められる平面からの、この表面の高さ
を測定する。この高さとリングの直径との間に成り立つ
関係を用いて、曲率半径を得ることができる。また別の
接触法では、検査される曲率半径に非常に近い曲率半径
を有する、検査板を使用する。この検査板が測定される
表面に接触して置かれる。この際、通常は、端部接触が
行われる。この表面を単色光で照射すると、干渉縞が現
れるであろう。この干渉縞の数は、測定される表面と検
査板との間の差を示す。けれども、これらの接触法は表
面に物理的損傷を与えることがある。
【０００５】物理的損傷を与えることがない非接触法
は、通常は、好ましい方法である。よく知られている非
接触法は、内部検査球を備えた干渉計を用いる。この装
置の場合、干渉計からの単色光の収束円錐が反射されて
装置の中に戻るように、測定されるべき表面が配置され
る。このことは、２つの位置で実行される。その１つの
位置は、放射円錐が表面上に結像する時であり、そして
もう１つの位置は、その結像位置が曲率半径の中心に一
致する時である。これらの位置で干渉縞が見られ、そし
て干渉縞の数が最小である位置が、要求された位置であ
る。したがって、表面の移動する距離が、その表面の半
径である。また別の方法は、オートコリメータの使用を
必要とし、そして干渉計と同様の方法で測定が実行され
るが、しかし、干渉縞よりはむしろ結像位置の観察が行
われる。けれども、これらのよく知られた非接触法は、
実際には、かなり不便である。
は、通常は、好ましい方法である。よく知られている非
接触法は、内部検査球を備えた干渉計を用いる。この装
置の場合、干渉計からの単色光の収束円錐が反射されて
装置の中に戻るように、測定されるべき表面が配置され
る。このことは、２つの位置で実行される。その１つの
位置は、放射円錐が表面上に結像する時であり、そして
もう１つの位置は、その結像位置が曲率半径の中心に一
致する時である。これらの位置で干渉縞が見られ、そし
て干渉縞の数が最小である位置が、要求された位置であ
る。したがって、表面の移動する距離が、その表面の半
径である。また別の方法は、オートコリメータの使用を
必要とし、そして干渉計と同様の方法で測定が実行され
るが、しかし、干渉縞よりはむしろ結像位置の観察が行
われる。けれども、これらのよく知られた非接触法は、
実際には、かなり不便である。
【０００６】
【問題点を解決するための手段】本発明の１つの目的
は、便利でかつ簡単な、レンズの曲率の測定装置を得る
ことである。
は、便利でかつ簡単な、レンズの曲率の測定装置を得る
ことである。
【０００７】本発明に従い、表面の曲率を測定するため
の装置は、少なくとも１つの電磁放射光源と、電磁放射
光線の検出器装置と、表面で反射された電磁放射光線を
前記検出器装置に焦点を結ぶように配置されかつ構成さ
れたレンズ装置とを有し、かつ、前記電磁放射光線が入
射した点の出力信号特性を得るように前記検出器装置が
構成されることと、前記出力信号に応答する信号処理装
置が前記表面の曲率に関する指標を供給することとを特
徴とする。
の装置は、少なくとも１つの電磁放射光源と、電磁放射
光線の検出器装置と、表面で反射された電磁放射光線を
前記検出器装置に焦点を結ぶように配置されかつ構成さ
れたレンズ装置とを有し、かつ、前記電磁放射光線が入
射した点の出力信号特性を得るように前記検出器装置が
構成されることと、前記出力信号に応答する信号処理装
置が前記表面の曲率に関する指標を供給することとを特
徴とする。
【０００８】前記光源はミリメートル級のマイクリ波電
磁放射器で構成されることができるが、通常は、前記光
源は光放射器で構成されるであろう。前記光放射器は好
ましくはレーザであるであろう。したがって、前記検出
器装置は、前記光放射器から放射される（可視スペクト
ル領域または非可視スペクトル領域の中の）光線に応答
するであろう。
磁放射器で構成されることができるが、通常は、前記光
源は光放射器で構成されるであろう。前記光放射器は好
ましくはレーザであるであろう。したがって、前記検出
器装置は、前記光放射器から放射される（可視スペクト
ル領域または非可視スペクトル領域の中の）光線に応答
するであろう。
【０００９】前記装置は、前記光源から放射された光ビ
ームがそれを通って前記表面に向かって進む、ビームス
プリッタを有することができる。前記ビームスプリッタ
は、前記検出器装置と前記表面との間に配置されること
ができる。
ームがそれを通って前記表面に向かって進む、ビームス
プリッタを有することができる。前記ビームスプリッタ
は、前記検出器装置と前記表面との間に配置されること
ができる。
【００１０】または、前記ビームスプリッタは、前記レ
ンズ装置と前記表面との間に配置されることができる。
ンズ装置と前記表面との間に配置されることができる。
【００１１】または、前記ビームスプリッタは、前記検
出器装置と前記レンズ装置との間に配置されることがで
きる。
出器装置と前記レンズ装置との間に配置されることがで
きる。
【００１２】前記装置は光学ベンチに取り付けられ、そ
れにより、前記装置が前記レンズ装置の光軸に事実上垂
直に移動することができる。
れにより、前記装置が前記レンズ装置の光軸に事実上垂
直に移動することができる。
【００１３】または、前記装置が携帯形に構成され、か
つ、信号処理装置に信号を送るように配置された付加的
光検出器を有することができる。
つ、信号処理装置に信号を送るように配置された付加的
光検出器を有することができる。
【００１４】前記付加的光検出器は、１つの実施例に従
い、前記光源から放射されかつ別のビームスプリッタを
通って前記表面に向かって進む光ビームに応答するよう
に配置され、かつ、別の前記ビームスプリッタを通って
前記表面で反射された光が前記付加的光検出器に到達す
るように構成することができる。
い、前記光源から放射されかつ別のビームスプリッタを
通って前記表面に向かって進む光ビームに応答するよう
に配置され、かつ、別の前記ビームスプリッタを通って
前記表面で反射された光が前記付加的光検出器に到達す
るように構成することができる。
【００１５】けれども、また別の実施例により、前記付
加的光検出器が前記表面で反射されかつ別の光源から放
射された光ビームに応答するように配置され、かつ、別
の前記光源から放射された光ビームがまた別のビームス
プリッタを通って前記表面に向かって進みかつ前記表面
で反射されることができる。
加的光検出器が前記表面で反射されかつ別の光源から放
射された光ビームに応答するように配置され、かつ、別
の前記光源から放射された光ビームがまた別のビームス
プリッタを通って前記表面に向かって進みかつ前記表面
で反射されることができる。
【００１６】前記装置は、光ビームが前記表面の子午面
を横断して走査する時、前記光源から放射された光ビー
ムを前記表面の上に結像するための自動結像装置を有す
る。したがって、前記表面で反射されて戻ってきた光ビ
ームが前記検出器の上に結像し、かつ、期待された位置
からの偏差が検出される。この偏差は、表面の品質の欠
陥、例えば、表面の粗さ、により生ずる。この偏差は、
後での解析のために記憶することができ、および表面の
品質を表す量として出力することができる。
を横断して走査する時、前記光源から放射された光ビー
ムを前記表面の上に結像するための自動結像装置を有す
る。したがって、前記表面で反射されて戻ってきた光ビ
ームが前記検出器の上に結像し、かつ、期待された位置
からの偏差が検出される。この偏差は、表面の品質の欠
陥、例えば、表面の粗さ、により生ずる。この偏差は、
後での解析のために記憶することができ、および表面の
品質を表す量として出力することができる。
【００１７】前記自動結像装置は、前記レンズ装置の一
部分を構成することができる。
部分を構成することができる。
【００１８】前記付加的検出器が「光軸上の」検出器を
有することができる。それにより、別の前記検出器に入
射する光ビームが、前記光軸に垂直であるように前記表
面から反射される時の指示が得られる。
有することができる。それにより、別の前記検出器に入
射する光ビームが、前記光軸に垂直であるように前記表
面から反射される時の指示が得られる。
【００１９】前記検出器装置が感光素子のアレイを有す
ることができる。前記感光素子のアレイからの信号によ
り、光ビームが入射する位置の指示が得られる。
ることができる。前記感光素子のアレイからの信号によ
り、光ビームが入射する位置の指示が得られる。
【００２０】前記検出器装置が光検出器構成体を有する
ことができる。前記光検出器構成体は光ポテンシオメー
タに等価な構成体であることができる。
ことができる。前記光検出器構成体は光ポテンシオメー
タに等価な構成体であることができる。
【００２１】
【実施例】本発明の実施例が、添付図面を参照して、単
に例示として説明される。
に例示として説明される。
【００２２】図１において、レンズの曲率を測定する装
置は、固定された光学ベンチ１を有する。この光学ベン
チ１の上に、プラットホーム２が滑動可能に取り付けら
れる。それにより、検査されるレンズ３に対してプラッ
トホーム２が移動することができる。レーザ光源４がプ
ラットホーム２に取り付けられる。レーザ光源４は、光
ビーム５をビーム・スプリッタ６に向けて放射する。レ
ーザ光源４から放射された光ビーム５はビーム・スプリ
ッタ６で反射され、そして変換レンズ７を通って、レン
ズ３の外側表面１０の上の点９に焦点を結ぶ。点９で反
射された光ビームが、光ビーム１１である。光ビーム１
１は、変換レンズ７を通って、細長い検出器１２の上に
焦点を結ぶ。検出器１２は、フォトダイオード・アレイ
で構成される。光ビーム１１は検出器１２の上の点ｙ１
に入射し、そして、光ビーム１１が検出器１２の上の入
射した点ｙ１を指示する信号を、出力線路１３に生ず
る。プラットホーム２が図１に示された位置にある場
合、レンズ３の後側表面１４の上の点１５でもまた反射
され、それにより、光ビーム１６が生ずる。光ビーム１
６は、変換レンズ７を通って、検出器１２の上の点ｙ２
に焦点を結ぶ。
置は、固定された光学ベンチ１を有する。この光学ベン
チ１の上に、プラットホーム２が滑動可能に取り付けら
れる。それにより、検査されるレンズ３に対してプラッ
トホーム２が移動することができる。レーザ光源４がプ
ラットホーム２に取り付けられる。レーザ光源４は、光
ビーム５をビーム・スプリッタ６に向けて放射する。レ
ーザ光源４から放射された光ビーム５はビーム・スプリ
ッタ６で反射され、そして変換レンズ７を通って、レン
ズ３の外側表面１０の上の点９に焦点を結ぶ。点９で反
射された光ビームが、光ビーム１１である。光ビーム１
１は、変換レンズ７を通って、細長い検出器１２の上に
焦点を結ぶ。検出器１２は、フォトダイオード・アレイ
で構成される。光ビーム１１は検出器１２の上の点ｙ１
に入射し、そして、光ビーム１１が検出器１２の上の入
射した点ｙ１を指示する信号を、出力線路１３に生ず
る。プラットホーム２が図１に示された位置にある場
合、レンズ３の後側表面１４の上の点１５でもまた反射
され、それにより、光ビーム１６が生ずる。光ビーム１
６は、変換レンズ７を通って、検出器１２の上の点ｙ２
に焦点を結ぶ。
【００２３】プラットホーム２が矢印１７の方向に移動
する時、点ｙ１および点ｙ２は相互に近づくように移動
し、光ビーム５がレンズ光軸１８に一致する時、点ｙ１
および点ｙ２は一致する。
する時、点ｙ１および点ｙ２は相互に近づくように移動
し、光ビーム５がレンズ光軸１８に一致する時、点ｙ１
および点ｙ２は一致する。
【００２４】プラットホームが光軸から移動した距離を
測定することにより、および光ビーム１１または光ビー
ム１６がこの光軸となす角度を決定することにより、も
し曲率の法則が既知であるならば、すなわち、この曲率
の表面が球面であるかまたは放物面であるかなどが既知
であるならば、表面の曲率を正確に知ることができる。
もし曲率の法則が未知であるならば、その場合には、表
面１０または表面１４の曲率を計算するために、多数個
の測定を行うことになるであろう。曲率の計算を自動的
にかつ容易に実行するために、線路１３の信号がアナロ
グ・ディジタル変換器１９に送られる。アナログ・ディ
ジタル変換器１９はディジタル信号を発生し、そしてこ
のディジタル信号を記憶装置２０に送る。したがって、
光ビーム５が光軸１８に一致する時、および、光ビーム
１１および光ビーム１６が検出器１２の上の点ｙ１およ
び点ｙ２に対応する角度で投射される時、プラットホー
ム２の位置に対応するディジタル信号が記憶される。
測定することにより、および光ビーム１１または光ビー
ム１６がこの光軸となす角度を決定することにより、も
し曲率の法則が既知であるならば、すなわち、この曲率
の表面が球面であるかまたは放物面であるかなどが既知
であるならば、表面の曲率を正確に知ることができる。
もし曲率の法則が未知であるならば、その場合には、表
面１０または表面１４の曲率を計算するために、多数個
の測定を行うことになるであろう。曲率の計算を自動的
にかつ容易に実行するために、線路１３の信号がアナロ
グ・ディジタル変換器１９に送られる。アナログ・ディ
ジタル変換器１９はディジタル信号を発生し、そしてこ
のディジタル信号を記憶装置２０に送る。したがって、
光ビーム５が光軸１８に一致する時、および、光ビーム
１１および光ビーム１６が検出器１２の上の点ｙ１およ
び点ｙ２に対応する角度で投射される時、プラットホー
ム２の位置に対応するディジタル信号が記憶される。
【００２５】曲率半径を測定するこの方法は、検査され
るレンズ３の子午面内で光ビームが走査されることを仮
定していることが分かる。したがって、レンズの頂点を
見出すために、すなわち、レンズの子午面を見出すため
に、プラットホーム２をｘ方向に移動することが必要で
ある。
るレンズ３の子午面内で光ビームが走査されることを仮
定していることが分かる。したがって、レンズの頂点を
見出すために、すなわち、レンズの子午面を見出すため
に、プラットホーム２をｘ方向に移動することが必要で
ある。
【００２６】この記憶されたディジタル情報から、レン
ズ３の表面１０または表面１４の曲率に対応するデータ
を、キーボード２２の制御の下で動作する処理装置２１
により、計算することは比較的簡単なことである。この
計算されたデータを、表示装置２３に表示することがで
きる。
ズ３の表面１０または表面１４の曲率に対応するデータ
を、キーボード２２の制御の下で動作する処理装置２１
により、計算することは比較的簡単なことである。この
計算されたデータを、表示装置２３に表示することがで
きる。
【００２７】図１の装置は、光源４と検出器１２との相
対的位置を単に転換することにより変更され、それによ
り、全く等価でまた別の構成の装置を得ることができ
る。
対的位置を単に転換することにより変更され、それによ
り、全く等価でまた別の構成の装置を得ることができ
る。
【００２８】図２は、図１に示された装置と同様な構成
の装置であるが、図１ではビームスプリッタ６が検出器
１２と変換レンズ７との間に配置されているのに対し、
図２のビームスプリッタ２４は、レンズ３と変換レンズ
７との間に配置されている。図２において、図１と対応
する部品には同じ番号が付されている。図２に示された
装置の場合、同様な結果がまた得られる。けれども、変
換レンズは、光源４から放射された光をレンズ３の表面
に集光する役割を果たさないことが分かるであろう。し
たがって、光源４から放射された光は、光源の内部に取
り付けられた光学装置により、独立に、集光されるまた
は平行光線にされる。
の装置であるが、図１ではビームスプリッタ６が検出器
１２と変換レンズ７との間に配置されているのに対し、
図２のビームスプリッタ２４は、レンズ３と変換レンズ
７との間に配置されている。図２において、図１と対応
する部品には同じ番号が付されている。図２に示された
装置の場合、同様な結果がまた得られる。けれども、変
換レンズは、光源４から放射された光をレンズ３の表面
に集光する役割を果たさないことが分かるであろう。し
たがって、光源４から放射された光は、光源の内部に取
り付けられた光学装置により、独立に、集光されるまた
は平行光線にされる。
【００２９】図１および図２で説明された装置は１個の
光源４が用いられているが、図３に示されたまた別の装
置では、２個の光源２５および２６が使用される。光源
２５がビームスプリッタ２７および光検出器２８と一緒
に用いられ、これらの部品により、光軸１８が定められ
る。光源２６は変換レンズ２９および光検出器３０と一
緒に用いられ、レンズ３の表面１０から反射される光ビ
ーム３１の角度を決定する。光検出器３０は、検出器１
０と同様の機能を果たす。光軸１８に対するプラットホ
ーム２の位置が、また記録される。これらの位置に対応
するアナログ信号が、それぞれ、線路３２および線路３
３を通して、アナログ・ディジタル変換器１９に送られ
る。その後、図１で説明されたのと同様な処理工程が実
行され、それにより、レンズの曲率に対応するデータが
得られる。そして、これらのデータが表示装置２３に表
示される。
光源４が用いられているが、図３に示されたまた別の装
置では、２個の光源２５および２６が使用される。光源
２５がビームスプリッタ２７および光検出器２８と一緒
に用いられ、これらの部品により、光軸１８が定められ
る。光源２６は変換レンズ２９および光検出器３０と一
緒に用いられ、レンズ３の表面１０から反射される光ビ
ーム３１の角度を決定する。光検出器３０は、検出器１
０と同様の機能を果たす。光軸１８に対するプラットホ
ーム２の位置が、また記録される。これらの位置に対応
するアナログ信号が、それぞれ、線路３２および線路３
３を通して、アナログ・ディジタル変換器１９に送られ
る。その後、図１で説明されたのと同様な処理工程が実
行され、それにより、レンズの曲率に対応するデータが
得られる。そして、これらのデータが表示装置２３に表
示される。
【００３０】図１、図２および図３で説明された装置に
おいて、プラットホーム２が滑動可能である光学ベンチ
が用いられ、それにより、レンズの曲率に依存するディ
ジタル信号が得られ、そして、曲率が測定される。けれ
ども、図４に示されているように、２個の光源３４およ
び３５を有する携帯形装置を作成することができる。光
源３４がビームスプリッタ３６および光検出器３７と一
緒に用いられて、検査されるレンズ３の光軸１８の位置
を定める。光源３５は変換レンズ３８、ビームスプリッ
タ３９および光検出器４０と一緒に用いられ、検出器４
０の上の点４４に対応する線路４１にアナログ信号を生
ずる。点４４には、光源３５から放射されそして点４３
で反射された光ビーム４２が入射する。この点４４は、
光ビーム４２が光軸１８に対し角度φをなす点である。
おいて、プラットホーム２が滑動可能である光学ベンチ
が用いられ、それにより、レンズの曲率に依存するディ
ジタル信号が得られ、そして、曲率が測定される。けれ
ども、図４に示されているように、２個の光源３４およ
び３５を有する携帯形装置を作成することができる。光
源３４がビームスプリッタ３６および光検出器３７と一
緒に用いられて、検査されるレンズ３の光軸１８の位置
を定める。光源３５は変換レンズ３８、ビームスプリッ
タ３９および光検出器４０と一緒に用いられ、検出器４
０の上の点４４に対応する線路４１にアナログ信号を生
ずる。点４４には、光源３５から放射されそして点４３
で反射された光ビーム４２が入射する。この点４４は、
光ビーム４２が光軸１８に対し角度φをなす点である。
【００３１】図４に示された装置を用いて、レンズ３の
表面が携帯形装置により走査され、そして線路４５に適
切な信号が指示されて光軸１８が検出される時、線路４
１の対応する信号が、アナログ・ディジタル変換器１９
の中で対応するディジタル信号に自動的に変換され、そ
して記憶装置２０の中に記憶される。その後の信号の処
理は、図１で説明したのと同じ様に実行される。もちろ
ん、手動走査の期間中に光軸１８を検出する効率的な方
法が考案され、光軸が検出された時刻に、線路４１の信
号に対応するディジタル信号を記憶しなければならない
ことが分かるであろう。手動走査の期間中に光軸を検出
する前記図面で用いられた方法とは異なった、また別の
方法を図６を参照して説明しよう。
表面が携帯形装置により走査され、そして線路４５に適
切な信号が指示されて光軸１８が検出される時、線路４
１の対応する信号が、アナログ・ディジタル変換器１９
の中で対応するディジタル信号に自動的に変換され、そ
して記憶装置２０の中に記憶される。その後の信号の処
理は、図１で説明したのと同じ様に実行される。もちろ
ん、手動走査の期間中に光軸１８を検出する効率的な方
法が考案され、光軸が検出された時刻に、線路４１の信
号に対応するディジタル信号を記憶しなければならない
ことが分かるであろう。手動走査の期間中に光軸を検出
する前記図面で用いられた方法とは異なった、また別の
方法を図６を参照して説明しよう。
【００３２】けれども、先ず図５において、携帯形装置
に応用される本発明のまた別の実施例では、１個の光源
４６が図５に示されたようにして用いられる。図５で
は、図４と対応する部品には同じ参照番号が付されてい
る。図５において、光源４６がビームスプリッタ４７お
よび検出器３７と一緒に用いられて、光軸１８の位置に
対応する信号を線路４５に生ずることが分かる。光源か
ら放射された光を用いて、図５に示されているように、
光ビーム４２がまた発生される。このことは、ビームス
プリッタ３９の位置を、図４に示された位置から図５に
示された新しい位置へ、変更することにより達成され
る。このことにより、光源４６から放射された光はレン
ズ３の表面１０の上の点４３に入射し、そこで反射され
て、光ビーム４２が発生する。
に応用される本発明のまた別の実施例では、１個の光源
４６が図５に示されたようにして用いられる。図５で
は、図４と対応する部品には同じ参照番号が付されてい
る。図５において、光源４６がビームスプリッタ４７お
よび検出器３７と一緒に用いられて、光軸１８の位置に
対応する信号を線路４５に生ずることが分かる。光源か
ら放射された光を用いて、図５に示されているように、
光ビーム４２がまた発生される。このことは、ビームス
プリッタ３９の位置を、図４に示された位置から図５に
示された新しい位置へ、変更することにより達成され
る。このことにより、光源４６から放射された光はレン
ズ３の表面１０の上の点４３に入射し、そこで反射され
て、光ビーム４２が発生する。
【００３３】または、図５ｂに示されているように、２
個の光ビームを１個の光源から発生することができる。
この装置では、プリズム６１で定められる付加的素子が
用いられる。プリズム６１は、入射光ビームに対して４
５°の角度をなす表面の上に、半透明半反射被覆体を有
する。プリズム６１は１つの全反射表面をまた有する。
入射光ビームは、半透明半反射被覆体で部分的に反射さ
れた後、この全反射表面に入射する。この全反射表面で
反射されした光ビームは、この光ビームに垂直な表面を
通って、プリズムの外に出る。点線６１ａにより示され
ているように、後方に反射された光ビームは、プリズム
への入射ビーム上の点から放射されて現れる。もしこの
点が、プリズムを移動することにより、レンズ３８の焦
点にあるように配置されるならば、このレンズを通った
２つの光ビームは相互に平行になるであろう。このこと
は、装置の正確な動作のために要求されることである。
すべての測定は、図４および図５のところでの前記説明
に従って実行される。
個の光ビームを１個の光源から発生することができる。
この装置では、プリズム６１で定められる付加的素子が
用いられる。プリズム６１は、入射光ビームに対して４
５°の角度をなす表面の上に、半透明半反射被覆体を有
する。プリズム６１は１つの全反射表面をまた有する。
入射光ビームは、半透明半反射被覆体で部分的に反射さ
れた後、この全反射表面に入射する。この全反射表面で
反射されした光ビームは、この光ビームに垂直な表面を
通って、プリズムの外に出る。点線６１ａにより示され
ているように、後方に反射された光ビームは、プリズム
への入射ビーム上の点から放射されて現れる。もしこの
点が、プリズムを移動することにより、レンズ３８の焦
点にあるように配置されるならば、このレンズを通った
２つの光ビームは相互に平行になるであろう。このこと
は、装置の正確な動作のために要求されることである。
すべての測定は、図４および図５のところでの前記説明
に従って実行される。
【００３４】前記で説明したように、そしてすぐに分か
るように、図４および図５で説明した携帯形装置でもっ
て、手動走査の期間中、光軸１８の位置を正確に決定す
ることが必要である。このことはまた、図６に示された
装置により実行することができる。図６に示された装置
は光源４８を有し、そしてこの光源４８はビームスプリ
ッタ４９および光検出器５０と一緒に動作する。光源４
８から放射された光ビームはビームスプリッタ４９で反
射され、そして検査されるレンズの表面５１に向かって
進む。検出器５０は４個の素子５０ａ、５０ｂ、５０ｃ
および５０ｄを有する。光ビームは、整合用十字線５３
を通って、検出器素子５０ａ、５０ｂ、５０ｃおよび５
０ｄに向かって進む。従って、図６ａに示されているよ
うに、反射されそして入射する光ビームが光軸５４に整
合している時、十字線の影が検出器素子５０ａ、５０
ｂ、５０ｃおよび５０ｄに対して対称的に配置され、そ
れにより、検出可能である特性出力信号が生ずるであろ
う。この対称的配置における信号の検出は、装置が光軸
５４と整合した要求された配置にあることを示す。
るように、図４および図５で説明した携帯形装置でもっ
て、手動走査の期間中、光軸１８の位置を正確に決定す
ることが必要である。このことはまた、図６に示された
装置により実行することができる。図６に示された装置
は光源４８を有し、そしてこの光源４８はビームスプリ
ッタ４９および光検出器５０と一緒に動作する。光源４
８から放射された光ビームはビームスプリッタ４９で反
射され、そして検査されるレンズの表面５１に向かって
進む。検出器５０は４個の素子５０ａ、５０ｂ、５０ｃ
および５０ｄを有する。光ビームは、整合用十字線５３
を通って、検出器素子５０ａ、５０ｂ、５０ｃおよび５
０ｄに向かって進む。従って、図６ａに示されているよ
うに、反射されそして入射する光ビームが光軸５４に整
合している時、十字線の影が検出器素子５０ａ、５０
ｂ、５０ｃおよび５０ｄに対して対称的に配置され、そ
れにより、検出可能である特性出力信号が生ずるであろ
う。この対称的配置における信号の検出は、装置が光軸
５４と整合した要求された配置にあることを示す。
【００３５】本発明は主として曲率の測定に関連してい
るけれども、さらに詳細にいえば、レンズの曲率の測定
に関連しているけれども、図７に示されているように、
この装置はまた、表面の品質の測定に対しても応用する
ことができる。
るけれども、さらに詳細にいえば、レンズの曲率の測定
に関連しているけれども、図７に示されているように、
この装置はまた、表面の品質の測定に対しても応用する
ことができる。
【００３６】図７において、光源５５は、ビームスプリ
ッタ５６、光検出器アレイ５７、および変換レンズ５８
と一緒に用いられ、そして光ビーム５９が検査されるレ
ンズ３の表面６０の上を横断して走査する。図７におい
て、図１と対応する部品には同じ参照番号が付されてい
る。この走査は、プラットホーム２を光学ベンチ１に対
して移動することにより、実行される。前記において説
明してきた装置では変換レンズ５８は固定焦点であった
が、この装置では、表面の上を横断して走査を行ってい
る間、変換レンズは表面の上に自動的に焦点を結ぶよう
に構成される。したがって、表面から反射されて戻って
くる光ビームは検出器の上に像を結び、そして期待され
た位置からの偏差が検出される。この偏差は、表面の品
質の欠陥、例えば、表面の粗さ、により生ずるであろ
う。この偏差が記憶され、そして後で解析される。そし
て、表面の品質を表す量として出力される。
ッタ５６、光検出器アレイ５７、および変換レンズ５８
と一緒に用いられ、そして光ビーム５９が検査されるレ
ンズ３の表面６０の上を横断して走査する。図７におい
て、図１と対応する部品には同じ参照番号が付されてい
る。この走査は、プラットホーム２を光学ベンチ１に対
して移動することにより、実行される。前記において説
明してきた装置では変換レンズ５８は固定焦点であった
が、この装置では、表面の上を横断して走査を行ってい
る間、変換レンズは表面の上に自動的に焦点を結ぶよう
に構成される。したがって、表面から反射されて戻って
くる光ビームは検出器の上に像を結び、そして期待され
た位置からの偏差が検出される。この偏差は、表面の品
質の欠陥、例えば、表面の粗さ、により生ずるであろ
う。この偏差が記憶され、そして後で解析される。そし
て、表面の品質を表す量として出力される。
【００３７】処理装置２１および表示装置２３は種々の
形式であることができるけれども、処理装置２１からの
出力信号の表示装置２３による１つの表示が、図８に示
されている。この表示は、測定された表面の等高線の形
式で表されている。測定された表面の周縁は円６２で示
される。この図により、表面の形状についての評価を、
容易にかつ正確に、行うことができる。等高線は、測定
された表面が有する要請された形状からの高さの偏差を
示す。他の形式の出力としては、干渉光強度の偏差の記
録図、例えば、単色光で照明された時の干渉縞図、また
は横断面の記録図、例えば、要請された半径に対する測
定された半径の偏差の分布図、または３次元表面分布
図、であることができる。
形式であることができるけれども、処理装置２１からの
出力信号の表示装置２３による１つの表示が、図８に示
されている。この表示は、測定された表面の等高線の形
式で表されている。測定された表面の周縁は円６２で示
される。この図により、表面の形状についての評価を、
容易にかつ正確に、行うことができる。等高線は、測定
された表面が有する要請された形状からの高さの偏差を
示す。他の形式の出力としては、干渉光強度の偏差の記
録図、例えば、単色光で照明された時の干渉縞図、また
は横断面の記録図、例えば、要請された半径に対する測
定された半径の偏差の分布図、または３次元表面分布
図、であることができる。
【００３８】本発明の範囲内において、種々の変更を行
うことができる。例えば、可視スペクトル領域または非
可視スペクトル領域の中の任意の周波数の光を用いるこ
とができること、および、応用の種類によっては、また
別の電磁放射源を用いることができることは、すぐにに
分かるであろう。
うことができる。例えば、可視スペクトル領域または非
可視スペクトル領域の中の任意の周波数の光を用いるこ
とができること、および、応用の種類によっては、また
別の電磁放射源を用いることができることは、すぐにに
分かるであろう。
【図１】レンズの曲率を測定するための本発明の１つの
実施例に従う装置の概要ブロック線図。
実施例に従う装置の概要ブロック線図。
【図２】レンズの曲率を測定するための本発明のまた別
の実施例に従う装置の概要ブロック線図。
の実施例に従う装置の概要ブロック線図。
【図３】レンズの曲率を測定するための本発明のさらに
別の実施例に従う装置の概要ブロック線図。
別の実施例に従う装置の概要ブロック線図。
【図４】レンズの曲率を測定するための携帯形装置の概
要ブロック線図。
要ブロック線図。
【図５】レンズの曲率を測定するためのまた別の携帯形
装置の概要ブロック線図であって、ａは１つの光源から
１つの光ビームが発生される装置の概要ブロック線図、
ｂは１つの光源から２つの光ビームが発生される装置の
概要ブロック線図。
装置の概要ブロック線図であって、ａは１つの光源から
１つの光ビームが発生される装置の概要ブロック線図、
ｂは１つの光源から２つの光ビームが発生される装置の
概要ブロック線図。
【図６】光軸の位置を自動的に決定するための装置の概
要ブロック線図であって、ａは光源と、ビームスプリッ
タと、検査されるレンズと、検出器との配置を示した
図、ｂは検出器の上の十字線の画像と検出器アレイとを
示した図。
要ブロック線図であって、ａは光源と、ビームスプリッ
タと、検査されるレンズと、検出器との配置を示した
図、ｂは検出器の上の十字線の画像と検出器アレイとを
示した図。
【図７】レンズの表面の品質およびその曲率を測定する
ための装置の概要ブロック線図。
ための装置の概要ブロック線図。
【図８】例えば、図１で説明された装置により提供され
る１つの形式の表示を示す図。
る１つの形式の表示を示す図。
４、２５、２６、３４、３５、４６、４８、５５ 光源 １２、２８、３０、３７、４０、５０、５７ 検出
器装置 ７、２９、３８、５８ レン
ズ装置 ６、２７、３６、３９、４９、５６ ビー
ムスプリッタ
器装置 ７、２９、３８、５８ レン
ズ装置 ６、２７、３６、３９、４９、５６ ビー
ムスプリッタ
Claims (16)
- 【請求項１】 少なくとも１個の電磁放射光源と、電磁
放射光線の検出器装置と、表面で反射された電磁放射光
線を前記検出器装置に焦点を結ぶように配置されかつ構
成されたレンズ装置とを有し、かつ、前記電磁放射光線
が入射した点の出力信号特性を得るように前記検出器装
置が構成されることと、前記出力信号に応答する信号処
理装置が前記表面の曲率に関する指標を供給することと
を特徴とする表面の曲率の測定装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の装置において、前記電磁
放射光源が光放射器を有する前記装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の装置において、前記光放
射器がレーザである前記装置。 - 【請求項４】 請求項１〜請求項３のいずれかに記載さ
れた装置において、前記光源から放射された光ビームが
それを通って前記表面に向かって進むビームスプリッタ
を有し、かつ、前記ビームスプリッタが前記検出器装置
と前記表面との間に配置される前記装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の装置において、前記ビー
ムスプリッタが前記レンズ装置と前記表面との間に配置
される前記装置。 - 【請求項６】 請求項４記載の装置において、前記ビー
ムスプリッタが前記検出器装置と前記レンズ装置との間
に配置される前記装置。 - 【請求項７】 請求項１〜請求項６のいずれかに記載さ
れた装置において、前記装置が光学ベンチに取り付けら
れ、それにより、前記装置が前記レンズ装置の光軸に事
実上垂直に移動することができる前記装置。 - 【請求項８】 請求項１〜請求項６のいずれかに記載さ
れた装置において、前記装置が携帯形に構成され、か
つ、信号処理装置に信号を送るように配置された付加的
光検出器を有する前記装置。 - 【請求項９】 請求項８記載の装置において、前記付加
的光検出器が前記光源から放射されかつ別のビームスプ
リッタを通って前記表面に向かって進む光ビームに応答
し、かつ、別の前記ビームスプリッタを通って前記表面
で反射された光が前記付加的光検出器に到達するように
配置される前記装置。 - 【請求項１０】 請求項９記載の装置において、前記付
加的光検出器が前記表面で反射されかつ別の光源から放
射された光ビームに応答するように配置され、かつ、別
の前記光源から放射された光ビームが別のビームスプリ
ッタを通って前記表面に向かって進みかつ前記表面で反
射される前記装置。 - 【請求項１１】 請求項１〜請求項１０のいずれかに記
載された装置において、前記光源から放射された光ビー
ムを前記表面の上に結像するための自動結像装置を有
し、それにより、前記表面で反射されて戻ってくる光ビ
ームが前記検出器の上に結像し、かつ、期待された位置
からの偏差がデータに変換され、かつ、前記データが記
憶される前記装置。 - 【請求項１２】 請求項１１記載の装置において、前記
自動結像装置が前記レンズ装置の一部分を構成する前記
装置。 - 【請求項１３】 請求項１２記載の装置において、前記
付加的検出器が「光軸上の」検出器を有し、それによ
り、別の前記検出器に入射する光ビームが前記光軸に垂
直であるように前記表面から反射される時の指示が得ら
れる前記装置。 - 【請求項１４】 請求項１〜請求項１３のいずれかに記
載された装置において、前記検出器装置が感光素子のア
レイを有し、かつ、前記感光素子のアレイからの信号に
より光ビームが入射する位置の指示が得られる前記装
置。 - 【請求項１５】 請求項１〜請求項１３のいずれかに記
載された装置において、前記検出器装置が光ポテンシオ
メータに等価な光検出器構成体を有する前記装置。 - 【請求項１６】 請求項１〜請求項６のいずれかに記載
された装置において、前記装置が固定されて配置され、
かつ、前記表面が前記レンズ装置の前記光軸に事実上垂
直な平面の中で移動するように配置された前記装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB92056555 | 1992-03-14 | ||
| GB929205655A GB9205655D0 (en) | 1992-03-14 | 1992-03-14 | Improvements in or relating to surface curvature measurement |
| GB92136266 | 1992-06-26 | ||
| GB9213626A GB2265215B (en) | 1992-03-14 | 1992-06-26 | Improvements in or relating to surface curvature measurement |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06294629A true JPH06294629A (ja) | 1994-10-21 |
| JP3377820B2 JP3377820B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=26300535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05431993A Expired - Fee Related JP3377820B2 (ja) | 1992-03-14 | 1993-03-15 | 表面の曲率の測定装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0561178B1 (ja) |
| JP (1) | JP3377820B2 (ja) |
| AT (1) | ATE159810T1 (ja) |
| AU (1) | AU663922B2 (ja) |
| DE (1) | DE69314829T2 (ja) |
| ES (1) | ES2107566T3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017068813A1 (ja) * | 2015-10-23 | 2017-04-27 | 株式会社カツラ・オプト・システムズ | 光学素子特性測定装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3345016B2 (ja) * | 1994-05-28 | 2002-11-18 | ロウク マナー リサーチ リミテッド | 表面の曲率測定装置における、または該装置に関する改良 |
| AU698522B2 (en) * | 1995-09-29 | 1998-10-29 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Lens parameter measurement using optical sectioning |
| DE19854942C2 (de) * | 1998-11-27 | 2000-11-16 | Bundesrep Deutschland | Verfahren zur Bestimmung der Topographie von sphärisch oder asphärisch gekrümmten Oberflächen |
| AUPR419301A0 (en) * | 2001-04-03 | 2001-05-03 | Solar Systems Pty Ltd | Solar mirror testing and alignment |
| DE102009010019B4 (de) | 2009-02-21 | 2012-05-31 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Verfahren zum berührungslosen Messen der Topographie |
| CN103308278B (zh) * | 2012-03-16 | 2015-08-19 | 山东华光光电子有限公司 | 一种测量半导体巴条激光器近场非线性效应的方法 |
| EP2880398B1 (en) * | 2012-07-31 | 2018-03-28 | Essilor International | Method and system for identification of a given geometrical feature of an optical component |
| CN103487239B (zh) * | 2013-10-11 | 2015-11-25 | 杭州奥普特光学有限公司 | 手持式镜片面焦度测量装置 |
| DE102018111466A1 (de) | 2018-05-14 | 2019-11-14 | Carl Mahr Holding Gmbh | Verfahren zur justage einer messvorrichtung mittels eines justagekörpers, justagekörper und verfahren zur justage eines justagekörpers |
| CN114001679A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-02-01 | 江苏创源电子有限公司 | 一种法兰平面度测量方法及测量装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4007990A (en) * | 1975-05-23 | 1977-02-15 | Acuity Systems, Incorporated | Apparatus and method for measuring refractive properties of a sphero-cylindrical optical system |
| DE2641004C2 (de) * | 1976-09-11 | 1981-12-17 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Vorrichtung zur Messung der Hornhautkrümmung |
| JPS53110553A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-27 | Sony Corp | Measurement apparatus of gradients of curved faces |
| US4410267A (en) * | 1980-02-26 | 1983-10-18 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Hand-held lens meter |
| JPS5875531A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-07 | 株式会社トプコン | 曲率測定装置 |
| SU1523907A1 (ru) * | 1987-11-09 | 1989-11-23 | Новосибирский институт инженеров геодезии, аэрофотосъемки и картографии | Сферометр |
| US4902123A (en) * | 1987-11-25 | 1990-02-20 | Taunton Technologies, Inc. | Topography measuring apparatus |
| DE4003699A1 (de) * | 1990-02-07 | 1991-08-22 | Wild Heerbrugg Ag | Verfahren und anordnung zur pruefung optischer komponenten oder systeme |
-
1993
- 1993-02-20 DE DE69314829T patent/DE69314829T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-20 AT AT93102712T patent/ATE159810T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-02-20 ES ES93102712T patent/ES2107566T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-20 EP EP93102712A patent/EP0561178B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-09 AU AU34073/93A patent/AU663922B2/en not_active Ceased
- 1993-03-15 JP JP05431993A patent/JP3377820B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017068813A1 (ja) * | 2015-10-23 | 2017-04-27 | 株式会社カツラ・オプト・システムズ | 光学素子特性測定装置 |
| JPWO2017068813A1 (ja) * | 2015-10-23 | 2017-10-19 | 株式会社カツラ・オプト・システムズ | 光学素子特性測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0561178A2 (en) | 1993-09-22 |
| DE69314829D1 (de) | 1997-12-04 |
| EP0561178A3 (en) | 1995-04-12 |
| ES2107566T3 (es) | 1997-12-01 |
| EP0561178B1 (en) | 1997-10-29 |
| DE69314829T2 (de) | 1998-03-05 |
| JP3377820B2 (ja) | 2003-02-17 |
| AU3407393A (en) | 1993-09-16 |
| AU663922B2 (en) | 1995-10-26 |
| ATE159810T1 (de) | 1997-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4334780A (en) | Optical surface roughness detection method and apparatus | |
| US6909509B2 (en) | Optical surface profiling systems | |
| JPH09503065A (ja) | 表面形状を測定する干渉計測方法及び装置 | |
| US20130010286A1 (en) | Method and device of differential confocal and interference measurement for multiple parameters of an element | |
| JP2001021449A (ja) | 光学物体の光学特性の自動非接触測定のための方法およびシステム | |
| US4984883A (en) | Translation insensitive keratometer using moire deflectometry | |
| JP3377820B2 (ja) | 表面の曲率の測定装置 | |
| JP2002071513A (ja) | 液浸系顕微鏡対物レンズ用干渉計および液浸系顕微鏡対物レンズの評価方法 | |
| US5467192A (en) | Improvements in or relating to surface curvature measurement | |
| CN110017791B (zh) | 光纤连接器端面参数测量装置及测量方法 | |
| JP2001235317A (ja) | 光学球面曲率半径測定装置 | |
| US5978089A (en) | Non-contact method for measuring the shape of an object | |
| US20160003614A1 (en) | Method and apparatus for quantitative measurement of surface accuracy of an area | |
| JP2001066127A (ja) | 光学的表面検査機構及び光学的表面検査装置 | |
| JPH08122210A (ja) | 光学素子の屈折率分布の測定方法および装置 | |
| JP2942972B2 (ja) | 干渉計測システム | |
| JP3276577B2 (ja) | 光学式表面粗さ計測装置 | |
| JPH03243804A (ja) | 非球面の形状測定方法 | |
| CN109883357B (zh) | 横向相减差动共焦抛物面顶点曲率半径测量方法 | |
| JP2588679Y2 (ja) | 表面粗さ検査装置 | |
| JP2000275005A (ja) | 波面形状測定方法 | |
| JPH03186709A (ja) | 光学式形状測定方法 | |
| RU2301400C2 (ru) | Способ и устройство для определения шероховатости поверхности | |
| JPH10260020A (ja) | 非球面形状測定装置及び方法 | |
| JPS6110164Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |