JPH06279177A - Method and device for controlling pulling of single crystal - Google Patents

Method and device for controlling pulling of single crystal

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JPH06279177A
JPH06279177A JP7231393A JP7231393A JPH06279177A JP H06279177 A JPH06279177 A JP H06279177A JP 7231393 A JP7231393 A JP 7231393A JP 7231393 A JP7231393 A JP 7231393A JP H06279177 A JPH06279177 A JP H06279177A
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JP
Japan
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single crystal
pulling
crystal body
diameter
weight
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Withdrawn
Application number
JP7231393A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Morita
潔 守田
Shigeyoshi Takao
滋良 高尾
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Nippon Steel Corp
Siltronic Japan Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
NSC Electron Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp, NSC Electron Corp filed Critical Nippon Steel Corp
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Publication of JPH06279177A publication Critical patent/JPH06279177A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To control the diameter of a single crystal with high precision. CONSTITUTION:A pulled single crystal is vibrated with a prescribed period for a prescribed distance, the variation of the weight of the single crystal caused by the vibration is detected and the single crystal is pulled so that the variation is kept always constant.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体回路製造用の単
結晶基板の材料となる単結晶体の引き上げ制御方法及び
その装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pulling control method and apparatus for a single crystal body which is a material for a single crystal substrate for manufacturing a semiconductor circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造の分野においては、従来から
シリコン単結晶の成長方法としてチョクラルスキー法が
一般的に使用されている。この方法を用いた装置の一例
としては、例えば、図4(特開昭64−72984号公
報)に示したような装置が例示できる。
2. Description of the Related Art In the field of semiconductor manufacturing, the Czochralski method has been generally used as a method for growing a silicon single crystal. An example of an apparatus using this method is an apparatus as shown in FIG. 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 64-72984).

【0003】図4に示す装置1は、主にシリコン溶融の
ための構造体が収容される加熱チャンバ2aと引き上げ
られるシリコン単結晶体Sを収納する引き上げチャンバ
2bとからなるチャンバ2を有し、加熱チャンバ2a内
には、るつぼ5と、このるつぼ5の主に側面部を取り囲
むように配置された加熱ヒータ6とが設けられている。
るつぼ5にはこの加熱ヒータ6によって溶融されたシリ
コンが収容される。このるつぼ5は、図示されていない
駆動装置と回転軸4によって接続され、この駆動装置に
よって所定の速度で回転される。通常、るつぼ5は、石
英るつぼ5aとこれを保護する黒鉛製るつぼ5bとから
構成されている。
An apparatus 1 shown in FIG. 4 has a chamber 2 mainly composed of a heating chamber 2a containing a structure for melting silicon and a pulling chamber 2b containing a silicon single crystal S to be pulled, In the heating chamber 2a, a crucible 5 and a heater 6 arranged so as to mainly surround the side surface of the crucible 5 are provided.
The crucible 5 contains the silicon melted by the heater 6. The crucible 5 is connected to a driving device (not shown) by a rotary shaft 4, and is rotated at a predetermined speed by the driving device. Usually, the crucible 5 is composed of a quartz crucible 5a and a graphite crucible 5b for protecting it.

【0004】一方、引き上げチャンバ2bは、加熱チャ
ンバ2aの開口部を塞ぐ天井部3aと、この天井部3a
の中央部に位置し、主に育成中のシリコン単結晶体Sを
収容する収容部3bとから構成されている。また、引き
上げチャンバ2b内には、頂壁を挿通して垂下された引
き上げワイヤ7が設けられ、この引き上げワイヤ7の下
端には種結晶8を保持するチャック9が設けられてい
る。この引き上げワイヤ7の上端側は、ワイヤ巻上機1
0に巻回されており、育成中のシリコン結晶体Sを所定
の速度で引き上げるようになっている。なお、図示され
ている加熱ヒータ6の加熱チャンバ2a側には断熱部材
11が設けられているが、これは、加熱ヒータ6からの
熱が加熱チャンバ2a外部に逃げるのを防止するためで
ある。
On the other hand, the pull-up chamber 2b has a ceiling portion 3a which closes the opening of the heating chamber 2a and the ceiling portion 3a.
Is located in the central portion of and is mainly composed of an accommodating portion 3b for accommodating the growing silicon single crystal S. Further, inside the pulling chamber 2b, a pulling wire 7 penetrating through the top wall is provided, and a chuck 9 for holding a seed crystal 8 is provided at the lower end of the pulling wire 7. The upper end side of the pulling wire 7 is the wire hoisting machine 1
It is wound around 0, and the silicon crystal body S being grown is pulled up at a predetermined speed. Although the heat insulating member 11 is provided on the side of the heating chamber 2a of the heating heater 6 shown in the figure, this is to prevent heat from the heating heater 6 from escaping to the outside of the heating chamber 2a.

【0005】チャンバ2内には、引き上げチャンバ2b
に形成されたガス導入口12からアルゴンガスが導入さ
れるようになっているが、このアルゴンガスは図示され
ているように、ガス導入口12から収容部3bの内部を
通って加熱チャンバ2a内に流入し、ガス排出口13か
ら排出される。このようにアルゴンガスを流通させるの
は、育成中のシリコン単結晶体Sを急冷するためと、シ
リコンの溶融に伴ってチャンバ2内に発生するSiO2
ガスをシリコン融液内に混入させないようにするためで
ある。
Inside the chamber 2, there is a pulling chamber 2b.
Argon gas is introduced from the gas introduction port 12 formed in the heating chamber 2a from the gas introduction port 12 through the inside of the housing portion 3b as shown in the drawing. And is discharged from the gas discharge port 13. The argon gas is circulated in this way in order to rapidly cool the silicon single crystal S that is being grown, and in SiO 2 generated in the chamber 2 as the silicon is melted.
This is to prevent gas from being mixed into the silicon melt.

【0006】引き上げチャンバ2bの天井部3aの一部
には、るつぼ5内で溶融している融液とここから引き上
げられるシリコン単結晶体Sの外周面との境界面である
固液界面の状態を観察するための覗き孔26が開口され
ている。この覗き孔26には直径観測用及び固液界面の
状態観測用のカメラ27が図示されているように据え付
けられ、このカメラ27からの信号に基づいて所望の直
径のシリコン単結晶体が引き上がるようにワイヤ巻上機
10の引き上げ速度が調整される。
At a part of the ceiling portion 3a of the pulling chamber 2b, a state of a solid-liquid interface which is a boundary surface between the melt melted in the crucible 5 and the outer peripheral surface of the silicon single crystal body S pulled from here. A peephole 26 for observing is displayed. A camera 27 for observing the diameter and for observing the state of the solid-liquid interface is installed in the peephole 26 as shown in the drawing, and a silicon single crystal having a desired diameter is pulled up based on a signal from the camera 27. Thus, the lifting speed of the wire hoisting machine 10 is adjusted.

【0007】またインゴットの直径制御においては、上
記の技術以外に、ワイヤ巻上機10にワイヤ7を介して
シリコン単結晶体Sの重量を測定する重量測定機を設
け、この重量測定機によって検出される重量の増加量に
基づいて、所望の直径のシリコン単結晶体が引き上がる
ようにワイヤ巻上機10の引き上げ速度を調整している
ものもある。
Further, in controlling the diameter of the ingot, in addition to the above technique, a weight measuring machine for measuring the weight of the silicon single crystal body S via the wire 7 is provided in the wire hoisting machine 10 and the weight measuring machine detects the weight. In some cases, the pulling rate of the wire winding machine 10 is adjusted so that the silicon single crystal body having a desired diameter is pulled up based on the amount of increase in the weight.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
構成を有する従来の単結晶体の製造装置にあっては、シ
リコン単結晶体の直径は、上記のようにカメラからの撮
像信号あるいは重量測定機によって検出される重量に基
づいて行なわれていたために、その精度は必ずしも満足
できるものではなかった。
However, in the conventional apparatus for producing a single crystal body having such a structure, the diameter of the silicon single crystal body is determined by the image pickup signal from the camera or the weight measurement as described above. The accuracy was not always satisfactory because it was based on the weight detected by the machine.

【0009】つまり、カメラによる場合には、インゴッ
トと融液との固液界面の境目を極めて精度良く捕らえる
ことが容易ではなく、また、重量測定機による場合に
は、ワイヤ巻上機10自体の振動や地盤の暗震動等の影
響を受けることから、直径制御に必要とされている10
-5オーダーの重量変化を測定することが困難であるとい
う問題がある。
That is, when using a camera, it is not easy to accurately capture the boundary between the solid-liquid interface between the ingot and the melt, and when using a weight measuring machine, the wire hoisting machine 10 itself is not easily detected. It is required for diameter control because it is affected by vibration and dark ground vibration.
There is a problem that it is difficult to measure the weight change of -5 orders.

【0010】本発明は、このような従来の問題点を解消
するためになされたものであり、引き上げ中のシリコン
単結晶体を振動させながらその重量変化量を測定するこ
とで正確な直径制御ができる単結晶体の引き上げ方法及
びその装置の提供を目的とする。
The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and an accurate diameter control can be performed by measuring a weight change amount while vibrating a silicon single crystal body being pulled. An object of the present invention is to provide a method for pulling a single crystal and a device therefor.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、るつぼに収容されている融液から所望の直
径の単結晶体を引き上げる単結晶体の引き上げ制御方法
であって、該引き上げられる単結晶体を所定距離,所定
の周期で振動させ、該振動によって生じる前記単結晶体
の重量変化量を検出し、該重量変化量が常に一定となる
ように前記単結晶体を引き上げることを特徴とするもの
である。
The present invention for achieving the above object is a method for controlling pulling of a single crystal body for pulling a single crystal body having a desired diameter from a melt contained in a crucible, the method comprising: The single crystal body to be pulled is vibrated at a predetermined distance for a predetermined period, the weight change amount of the single crystal body caused by the vibration is detected, and the single crystal body is pulled so that the weight change amount is always constant. It is characterized by.

【0012】また、るつぼに収容されている融液から成
長する単結晶体を引き上げる引き上げ手段と、該単結晶
体を上下方向に加振する加振手段と、該加振手段により
振動される前記単結晶体の重量変化量を検出する重量変
化量検出手段と、該重量変化量検出手段によって検出さ
れる重量変化量が一定になるように前記引き上げ手段の
駆動を制御する制御手段とを有することを特徴とするも
のである。
Further, a pulling means for pulling a single crystal body grown from a melt contained in the crucible, a vibrating means for vertically vibrating the single crystal body, and a vibrating means for vibrating the single crystal body. Weight change amount detecting means for detecting the weight change amount of the single crystal, and control means for controlling the drive of the pulling means so that the weight change amount detected by the weight change amount detecting means becomes constant. It is characterized by.

【0013】[0013]

【作用】上記のような構成を有する本発明の単結晶体の
引き上げ方法及びその装置は次のように機能することに
なる。引き上げられる単結晶体を所定距離,所定の周期
で振動させると、この振動に同期した周期で検出される
重量が変化することになる。直径が同一の場合には、こ
の振動に応じて変化する重量の変化幅が同一であるが、
直径が増加した場合には、この変動幅は当然のことなが
ら増加することになる。したがって、この検出される変
動幅が常に一定になるように単結晶体の引き上げ量を調
整すれば全長に渡って同一直径のインゴットが得られる
ことになる。
The method and apparatus for pulling a single crystal body according to the present invention having the above-described structure will function as follows. When the pulled single crystal body is vibrated at a predetermined distance and at a predetermined cycle, the weight detected changes in a cycle synchronized with this vibration. When the diameter is the same, the change range of the weight that changes according to this vibration is the same,
When the diameter increases, this fluctuation range naturally increases. Therefore, if the pulling amount of the single crystal body is adjusted so that the detected fluctuation width is always constant, an ingot having the same diameter can be obtained over the entire length.

【0014】一方、加振手段は、融液から成長しつつあ
る単結晶体を上下方向に振動させるべく加振する。重量
変化量検出手段は、加振手段によって加振されている単
結晶体の重量変化を検出し、同時に重量変化量をも検出
する。制御手段は、この検出される重量変化量が一定値
となるように引き上げ手段の駆動を制御し、この制御に
よって引き上げ手段は単結晶体をそれが一定の直径にな
るように引き上げる。
On the other hand, the vibrating means vibrates the single crystal body growing from the melt so as to vertically vibrate. The weight change amount detecting means detects the weight change of the single crystal body vibrated by the vibrating means, and at the same time, detects the weight change amount. The control means controls the drive of the pulling means so that the detected amount of change in weight becomes a constant value, and by this control, the pulling means pulls up the single crystal body so that it has a constant diameter.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、本発明にかかる単結晶体の引き上
げ装置の概略構成図である。この図は、本発明の要旨に
かかる部分のみを示したものであり、その他のチャンバ
ーにかかる部分の構成は従来のものとして示した図4の
構成とまったく同一であるので、その詳細な説明などは
省略する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a single crystal pulling apparatus according to the present invention. This drawing shows only the part related to the gist of the present invention, and the structure of the other parts related to the chamber is exactly the same as the structure shown in FIG. Is omitted.

【0016】この図には、ワイヤ巻上げ機10の詳細な
内部構造とこの内部に設けられている電気的構成要素か
らの信号を処理する制御装置の詳細な構成が描かれてい
る。成長する単結晶体を引き上げる引き上げワイヤ7
は、滑車40を介して巻取リール41に巻き取られるよ
うになっている。この巻取リール41はモータ42によ
って駆動される。
In this figure, a detailed internal structure of the wire winding machine 10 and a detailed structure of a control device for processing signals from electric components provided therein are drawn. Pulling wire 7 for pulling the growing single crystal
Is wound around a take-up reel 41 via a pulley 40. The take-up reel 41 is driven by a motor 42.

【0017】滑車40には、これに振動を与える加振手
段としての加振器43が機械的に接続され、この加振器
43にはさらに吊り下げ重量を検出するロードセル44
が機械的に接続されている。したがって、引き上げワイ
ヤ7に釣り下げられている育成中のシリコン単結晶体は
加振器43によって所定の振動数で所定の距離,引き上
げ方向及び引き下げ方向に上下させられることになる。
そして、このときの吊り下げ重量がロードセル44によ
って検出されることになる。
A shaker 43 is mechanically connected to the pulley 40 as a vibrating means for vibrating the pulley 40. The load cell 44 for detecting the suspended weight is further connected to the shaker 43.
Are mechanically connected. Therefore, the growing silicon single crystal body suspended by the pulling wire 7 is moved up and down in the pulling direction and the pulling direction by the vibrator 43 at a predetermined frequency.
Then, the suspended weight at this time is detected by the load cell 44.

【0018】一方、加振電源50は、加振器43を駆動
するものであり、加振器43は、この加振電源50から
出力される加振信号によって所定の周波数と所定の振幅
で振動する。直径演算器51は、ロードセル44からの
重量信号に基づいてシリコン単結晶体の現在の直径を算
出するものであり、ロードセル44からの重量信号は直
径演算器51に出力され、加振電源50から出力される
加振周波数信号に基づいて分析されて、シリコン単結晶
体の直径信号に生成し直される。比較器52は、これに
入力される直径信号と設定されている直径設定値とを比
較するものであり、算出した直径信号が設定値よりも大
きくなると引上信号を出力するものである。モータドラ
イバー53はモータ42を駆動させるものであり、比較
器52から引上信号が出力された時にのみモータ42を
駆動してシリコン単結晶体を引き上げる。
On the other hand, the oscillating power source 50 drives the oscillating device 43, and the oscillating device 43 oscillates at a predetermined frequency and a predetermined amplitude according to the oscillating signal output from the oscillating power source 50. To do. The diameter calculator 51 calculates the current diameter of the silicon single crystal body based on the weight signal from the load cell 44. The weight signal from the load cell 44 is output to the diameter calculator 51, and the vibration power source 50 outputs the weight signal. It is analyzed based on the output excitation frequency signal and regenerated into the diameter signal of the silicon single crystal body. The comparator 52 compares the diameter signal input thereto with the set diameter setting value, and outputs a pull-up signal when the calculated diameter signal becomes larger than the set value. The motor driver 53 drives the motor 42, and drives the motor 42 only when the pull-up signal is output from the comparator 52 to pull up the silicon single crystal.

【0019】本発明の装置は概略以上のような構成とな
っているが、次に、この装置の動作を図2のフローチャ
ートに基づいて説明する。この装置が作動すると、まず
加振電源50が加振器43に加振信号を与え、加振器4
3はこの信号に同期して振動する。この加振器43の振
動は滑車40を介して引き上げワイヤ7に伝わり、結果
として育成中のシリコン単結晶体を上下に振動させるこ
とになる。この振動周波数は100Hz程度が推奨され
る。また、この振動の振幅は100μm程度であれば十
分である。したがってこのような振動が与えられること
によって、シリコン単結晶体は図3(A)に示すよう
に、ΔLだけ所定の周期で上下動されることになる。な
お、この加振器43は例えばピエゾ圧電素子のようなも
のである(S1)。ロードセル44はこの加振器43,
滑車40,引き上げワイヤ7を含むシリコン単結晶体の
重量を重量信号として出力する。シリコン単結晶体は加
振器43によって上記のように振動させられているの
で、この重量信号はその振動周波数に同期した図3
(B)の最上部のグラフに示すような正弦波状の信号と
なる。この信号は直径演算器51に入力される(S
2)。直径演算器51は、所定時間内に入力される図3
(B)最上部に示すような信号の上限値と下限値とを検
出し、この信号に基づいて引き上げられつつあるシリコ
ン単結晶体の直径を演算することになる。この上限値と
下限値との検出は、加振電源50から出力される加振周
波数信号に基づいて行なわれる。この加振周波数信号
は、加振器43に出力する加振信号と同様の周波数を有
する出力の小さな信号である。なお、この直径演算器5
1は入力した高周波信号を含む重量信号を波形整形して
図3(B)中段に示すような滑らかな正弦波状の信号に
変換し、この変換後の信号に基づいて直径演算を行なう
ことになる(S3,S4)。
The apparatus of the present invention has the above-described configuration. Next, the operation of the apparatus will be described with reference to the flowchart of FIG. When this device operates, first, the vibration power supply 50 gives a vibration signal to the vibration generator 43, and the vibration generator 4
3 vibrates in synchronization with this signal. The vibration of the vibrator 43 is transmitted to the pulling wire 7 via the pulley 40, and as a result, the silicon single crystal body being grown is vertically vibrated. It is recommended that this vibration frequency be about 100 Hz. It is sufficient that the amplitude of this vibration is about 100 μm. Therefore, when such a vibration is applied, the silicon single crystal body is vertically moved by ΔL in a predetermined cycle as shown in FIG. The vibrator 43 is, for example, a piezoelectric element (S1). The load cell 44 is the vibrator 43,
The weight of the silicon single crystal body including the pulley 40 and the pulling wire 7 is output as a weight signal. Since the silicon single crystal is vibrated as described above by the vibrator 43, this weight signal is synchronized with its vibration frequency.
The signal has a sinusoidal waveform as shown in the uppermost graph of (B). This signal is input to the diameter calculator 51 (S
2). The diameter calculator 51 is input within a predetermined time period as shown in FIG.
(B) The upper limit value and the lower limit value of the signal as shown in the uppermost part are detected, and the diameter of the silicon single crystal body being pulled up is calculated based on this signal. The detection of the upper limit value and the lower limit value is performed based on the vibration frequency signal output from the vibration power supply 50. This excitation frequency signal is a signal with a small output having the same frequency as the excitation signal output to the exciter 43. In addition, this diameter calculator 5
Reference numeral 1 indicates that the weight signal including the input high frequency signal is waveform-shaped and converted into a smooth sinusoidal signal as shown in the middle part of FIG. 3 (B), and the diameter is calculated based on the converted signal. (S3, S4).

【0020】直径演算器51は、この一定時間内に入力
される重量信号の内、上限の値と下限の値とを検出し、
シリコン単結晶体の加振に伴う重量変化量を検出する。
つまり、ロードセル44によって検出されるシリコン単
結晶体の重量のうち、加振に伴う重量変化がどの程度で
あるかを演算する。成長しつつあるシリコン単結晶体の
直径が変化していなければ、この直径演算器51によっ
て演算され、出力される直径信号の値は不変である。図
3(A)に示してあるように、シリコン単結晶体は加振
されることによってΔLだけ上下に振動することになる
が、シリコン単結晶体の直径が不変であれば、ΔLだけ
上に引き上げられたときの検出重量増加分は常に一定で
あると考えられる。本発明はこの考え方に基づいて直径
制御しようとしている(S5)。次に、比較器52はこ
の直径演算器51から出力された直径信号d(換言すれ
ば重量変化量)と予め設定されている直径設定値D(所
望の直径時の重量変化量)とを入力し、この直径信号d
の値が直径設定値Dの値よりも大きくなっているかを判
断する(S6,S7)。この判断において、d≦Dであ
るときには、ステップ1に戻って上記と同様の処理を繰
り返し行ない、d>Dとなっているときにはシリコン単
結晶体(インゴット)を引き上げるべき信号が比較器5
2からモータドライバー53に出力される。この信号を
受けたモータドライバー53はモータ42を駆動して、
シリコン単結晶体を引き上げる。この引き上げは、直径
信号dが直径設定値Dと一致するまで行なわれる(S
8)。
The diameter calculator 51 detects the upper limit value and the lower limit value of the weight signal input within the fixed time,
The amount of weight change due to the vibration of the silicon single crystal is detected.
That is, of the weight of the silicon single crystal body detected by the load cell 44, the degree of change in weight due to vibration is calculated. If the diameter of the growing silicon single crystal does not change, the value of the diameter signal calculated and output by the diameter calculator 51 is unchanged. As shown in FIG. 3 (A), the silicon single crystal body vibrates up and down by ΔL when being excited, but if the diameter of the silicon single crystal body is unchanged, the silicon single crystal body moves up by ΔL. It is considered that the amount of increase in the detected weight when pulled up is always constant. The present invention attempts to control the diameter based on this idea (S5). Next, the comparator 52 inputs the diameter signal d (in other words, the amount of weight change) output from the diameter calculator 51 and the preset diameter set value D (the amount of weight change at the desired diameter). And this diameter signal d
It is determined whether the value of is larger than the diameter setting value D (S6, S7). In this determination, if d ≦ D, the process returns to step 1 and the same processing as above is repeated. If d> D, the signal for pulling up the silicon single crystal (ingot) is the comparator 5
2 to the motor driver 53. Upon receiving this signal, the motor driver 53 drives the motor 42,
Pull up the silicon single crystal. This raising is performed until the diameter signal d matches the diameter setting value D (S
8).

【0021】このように、本発明においては、シリコン
単結晶体を一定の振動周期で振動させ、この振動に伴う
重量変化の偏差に基づいて直径を制御している。したが
って、この振動は装置の受ける暗震動などに比較して周
波数の高いものであるから、直径制御を行なうに際して
このような振動の影響をほとんど受けること無く、極め
て高精度の直径制御を実現することができることにな
る。
As described above, in the present invention, the silicon single crystal body is vibrated at a constant vibration period, and the diameter is controlled based on the deviation of the weight change accompanying the vibration. Therefore, this vibration has a higher frequency than the dark vibration that the device receives. Therefore, when performing diameter control, it is possible to achieve extremely high precision diameter control without being affected by such vibration. You will be able to

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、シ
リコン単結晶の直径を高精度で制御することができるよ
うになる。
As described above, according to the present invention, the diameter of a silicon single crystal can be controlled with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】は、本発明の方法を実現する単結晶体の引き上
げ制御装置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a pulling control apparatus for a single crystal body that realizes the method of the present invention.

【図2】は、図1に示した装置の動作を示すフローチャ
ートである。
FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the apparatus shown in FIG.

【図3】は、本発明方法及び装置の動作説明に供する図
である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the method and apparatus of the present invention.

【図4】は、従来の単結晶体の引き上げ制御装置の概略
構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional single crystal pulling control device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…単結晶体の製造装置 2…チャンバー 2a…加熱チャンバー 2b…引き上げチャンバー 5…るつぼ 6…加熱ヒータ 7…引き上げワイヤー(引き上げ手段) 8…種結晶 42…モータ(引き上げ手段) 43…加振器(加振手段) 44…ロードセル(重量変化量検出手段) 51…直径演算器(重量変化量検出手段) 52…比較器(制御手段) 53…モータドライバー(制御手段) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Single-crystal manufacturing apparatus 2 ... Chamber 2a ... Heating chamber 2b ... Pulling chamber 5 ... Crucible 6 ... Heating heater 7 ... Pulling wire (pulling means) 8 ... Seed crystal 42 ... Motor (pulling means) 43 ... Exciter (Vibration means) 44 ... Load cell (weight change amount detection means) 51 ... Diameter calculator (weight change amount detection means) 52 ... Comparator (control means) 53 ... Motor driver (control means)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】るつぼに収容されている融液から所望の直
径の単結晶体を引き上げる単結晶体の引き上げ制御方法
であって、 該引き上げられる単結晶体を所定距離,所定の周期で振
動させ、 該振動によって生じる前記単結晶体の重量変化量を検出
し、 該重量変化量が常に一定となるように前記単結晶体を引
き上げることを特徴とする単結晶体の引き上げ制御方
法。
1. A method for controlling the pulling of a single crystal having a desired diameter from a melt contained in a crucible, which comprises vibrating the pulled single crystal at a predetermined distance for a predetermined period. A method for controlling pulling up of a single crystal body, which comprises detecting a weight change amount of the single crystal body caused by the vibration and pulling up the single crystal body so that the weight change amount is always constant.
【請求項2】るつぼに収容されている融液から成長する
単結晶体を引き上げる引き上げ手段と、 該単結晶体を上下方向に加振する加振手段と、 該加振手段により振動される前記単結晶体の重量変化量
を検出する重量変化量検出手段と、 該重量変化量検出手段によって検出される重量変化量が
一定になるように前記引き上げ手段の駆動を制御する制
御手段とを有することを特徴とする単結晶体の引き上げ
制御装置。
2. A pulling means for pulling a single crystal body growing from a melt contained in a crucible, a vibrating means for vertically vibrating the single crystal body, and a vibrating means for vibrating the single crystal body. Weight change amount detecting means for detecting the weight change amount of the single crystal, and control means for controlling the drive of the pulling means so that the weight change amount detected by the weight change amount detecting means becomes constant. A pulling control device for a single crystal body characterized by:
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