JPH06275587A - Printed circuit board washing device - Google Patents
Printed circuit board washing deviceInfo
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- JPH06275587A JPH06275587A JP5085242A JP8524293A JPH06275587A JP H06275587 A JPH06275587 A JP H06275587A JP 5085242 A JP5085242 A JP 5085242A JP 8524293 A JP8524293 A JP 8524293A JP H06275587 A JPH06275587 A JP H06275587A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線照射によって基
板表面を洗浄する基板洗浄装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate surface by irradiating ultraviolet rays.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製
造技術は急速に進展して、１０インチ級のフルカラーＴ
ＦＴの量産が開始されるまでになった。ＬＣＤを製造技
術面からみると、特にＴＦＴ−ＬＣＤタイプでは半導体
プロセスと類似する点が多く、高度な製造技術が必要と
されるとともに、総合的なクリーン化技術の開発が最も
重要なテーマの一つとなっている。その中でも、ＬＣＤ
ガラス基板の洗浄技術とこれに関連する洗浄装置は、製
造プロセスの歩留りに大きく影響を与える。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display (LCD) manufacturing technology has made rapid progress, and 10-inch class full-color T
The mass production of FT has started. In terms of LCD manufacturing technology, TFT-LCD type has many similarities to semiconductor processes, so advanced manufacturing technology is required and the development of comprehensive cleaning technology is one of the most important themes. It has become one. Among them, LCD
The glass substrate cleaning technology and the cleaning apparatus related thereto greatly affect the yield of the manufacturing process.
【０００３】洗浄工程は、その汚染物質（付着粒子、ク
ラック、有機汚染、無機汚染、エッチング、現像・剥離
残渣など）により洗浄方法が異なる。代表的な洗浄方法
としては、ブラッシング洗浄、超音波洗浄、ハイプレッ
シャ、超音波ドライ洗浄、中性・酸、アルカリ洗浄、化
学洗浄液などのウエット処理と、紫外線照射によるオゾ
ンの有機分解洗浄のドライ処理がある。In the cleaning process, the cleaning method differs depending on contaminants (adhered particles, cracks, organic contamination, inorganic contamination, etching, development / peeling residue, etc.). Typical cleaning methods include brushing cleaning, ultrasonic cleaning, high pressure, ultrasonic dry cleaning, wet treatment of neutral / acid, alkali cleaning, chemical cleaning liquid, etc. and dry treatment of organic decomposition cleaning of ozone by UV irradiation. There is.
【０００４】また、これらを実際に行う洗浄装置のガラ
ス基板の搬送方法としては、枚葉処理方式とバッチ処理
方式とがあり、前者はガラス基板を一枚ずつ搬送するも
ので、主にパターン形成プロセスにおけるガラス基板の
受入洗浄などのインライン形の洗浄システムに採用され
ている。一方、後者は所定枚数のガラス基板を専用のケ
ースに収納して、ケース単位でガラス基板を搬送するも
のであり、ガラス基板の製造プロセスにおける素ガラス
洗浄やパネルプロセスにおける液晶封止後の洗浄などに
多く採用されている。Further, as a method of actually carrying out these operations, a glass substrate carrying method for a cleaning apparatus includes a single-wafer processing method and a batch processing method. The former is a method of carrying glass substrates one by one, and mainly forms a pattern. It is used in in-line type cleaning systems such as receiving cleaning of glass substrates in the process. On the other hand, the latter is to store a predetermined number of glass substrates in a dedicated case and transport the glass substrates in case units, such as cleaning raw glass in the glass substrate manufacturing process and cleaning after liquid crystal sealing in the panel process. Has been adopted by many.
【０００５】図８は、従来の紫外線照射による基板洗浄
装置の一例を示す斜視図である。図示した従来の基板洗
浄装置５０は、大きくは洗浄前の基板（ガラス基板）を
供給するローダ部５１と、基板表面に紫外線を照射する
光洗浄部５２と、洗浄済の基板を収納するアンローダ部
５３と、これら相互間で基板を一時的に待機させるバッ
ファー部５４、５５とから構成されている。そして、ロ
ーダ部５１とアンローダ部５３にはそれぞれ複数の基板
を収納可能な搬送ケース５６がセットされるようになっ
ている。また、光洗浄部５２の蓋体５９には紫外線ラン
プ６０が組み込まれており、洗浄時は蓋体５９が完全に
閉ざされた状態となる。FIG. 8 is a perspective view showing an example of a conventional substrate cleaning apparatus using ultraviolet irradiation. The illustrated conventional substrate cleaning apparatus 50 roughly includes a loader unit 51 that supplies a substrate (glass substrate) before cleaning, an optical cleaning unit 52 that irradiates the substrate surface with ultraviolet rays, and an unloader unit that stores a cleaned substrate. 53, and buffer sections 54 and 55 for temporarily holding the substrate between them. A transport case 56 capable of accommodating a plurality of substrates is set in each of the loader section 51 and the unloader section 53. An ultraviolet lamp 60 is incorporated in the lid 59 of the light cleaning unit 52, and the lid 59 is completely closed during cleaning.
【０００６】実際の洗浄工程では、先ずローダ部５１に
セットされたキャリアケース５６から一枚ずつ基板（ガ
ラス基板）６１が取り出される。また、こうして取り出
された基板６１は搬送機５７に搬送されながらバッファ
ー５４を通して光洗浄部５２に送り込まれる。このと
き、光洗浄部５２を通過する基板６１の表面には紫外線
ランプ６０から発せられた紫外線が照射され、これによ
り基板６１の表面には有機分解による洗浄処理がなされ
る。その後、洗浄済の基板６１はバッファー５５を通し
てアンローダ部５３に送り込まれ、そこにセットされた
キャリアケース５６に収納される。In an actual cleaning process, first, the substrates (glass substrates) 61 are taken out one by one from the carrier case 56 set in the loader section 51. The substrate 61 thus taken out is sent to the light cleaning section 52 through the buffer 54 while being carried by the carrier 57. At this time, the surface of the substrate 61 passing through the light cleaning unit 52 is irradiated with the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 60, whereby the surface of the substrate 61 is cleaned by organic decomposition. After that, the cleaned substrate 61 is sent to the unloader unit 53 through the buffer 55 and is stored in the carrier case 56 set therein.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の洗浄装置においては、基板を水平状態で搬送しながら
紫外線照射による洗浄を行うものであるため、搬送中に
基板の表面にダストが付着しやすく、またせっかく基板
表面の汚染物を有機分解しても、それらの汚染物質が基
板表面に残ったまま搬送されてしまうという問題があっ
た。However, in the above-mentioned conventional cleaning apparatus, since the cleaning is performed by ultraviolet irradiation while the substrate is transported in a horizontal state, dust is likely to adhere to the surface of the substrate during transportation, Further, even if the contaminants on the substrate surface are organically decomposed, there is a problem that the contaminants are conveyed while remaining on the substrate surface.
【０００８】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、紫外線照射による洗浄処理に際して、基板
表面へのダストの付着や汚染物質の付着を低減すること
ができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above problems, and provides a substrate cleaning apparatus capable of reducing adhesion of dust and contaminants to the surface of a substrate during cleaning processing by irradiation of ultraviolet rays. The purpose is to
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、複数の基板が略垂直状態
で収納された搬送ケースを載置するための載置テーブル
と、この載置テーブル上に載置された搬送ケース内の基
板を略垂直状態に保持したまま所定の高さまで突き上げ
可能なリフターと、このリフターによって突き上げられ
た基板の表面に紫外線を照射するための紫外線ランプと
を具備した基板洗浄装置である。また、リフターによっ
て突き上げられた基板を所定の高さに保持するチャック
を備えたもので、このチャックにより保持された基板の
表面に紫外線ランプからの紫外線を照射して、これによ
り洗浄された基板を洗浄済の搬送ケースに収納可能とし
たものである。さらに、複数の基板を所定の高さに保持
した状態で、それらの基板に紫外線ランプからの紫外線
を照射可能としたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above-mentioned object, and a mounting table for mounting a transfer case in which a plurality of substrates are housed in a substantially vertical state, and A lifter that can push up a predetermined height while holding the substrate in the transport case placed on the placing table in a substantially vertical state, and an ultraviolet lamp for irradiating the surface of the substrate pushed up by this lifter with ultraviolet rays. It is a substrate cleaning apparatus provided with. In addition, a chuck for holding the substrate pushed up by the lifter at a predetermined height is provided, and the surface of the substrate held by the chuck is irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet lamp to wash the cleaned substrate. It can be stored in a washed transport case. Further, the plurality of substrates can be irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet lamp while being held at a predetermined height.
【００１０】[0010]
【作用】本発明の基板洗浄装置においては、載置テーブ
ル上に載置された搬送ケース内の基板がリフターの駆動
により略垂直状態に保持されたまま所定の高さまで突き
上げられ、その突き上げられた状態で紫外線ランプから
の紫外線照射により基板表面の汚染物質が分解される。
この間、基板は常に垂直状態に保持されるため、基板表
面に対してはダストが付着しにくい状態にあるととも
に、紫外線照射によって分解された汚染物質はスムース
に基板表面から除去されるようになる。また、チャック
により保持された基板の表面に紫外線を照射して、これ
により洗浄された基板を洗浄済の搬送ケースに収納する
ことにより、紫外線照射によって洗浄された基板表面の
清浄度はそのまま維持されるようになる。さらに、複数
の基板を所定の高さに保持した状態でこれらの基板に紫
外線ランプからの紫外線を照射することにより、搬送ケ
ース１個あたりの基板洗浄処理が一回の突き上げ動作で
済むようになる。In the substrate cleaning apparatus of the present invention, the substrate in the carrying case placed on the placing table is pushed up to a predetermined height while being held in a substantially vertical state by the drive of the lifter, and then pushed up. In this state, the contaminants on the substrate surface are decomposed by the ultraviolet irradiation from the ultraviolet lamp.
During this time, since the substrate is always held in the vertical state, dust is unlikely to adhere to the substrate surface, and contaminants decomposed by ultraviolet irradiation are smoothly removed from the substrate surface. Further, by irradiating the surface of the substrate held by the chuck with ultraviolet rays and storing the cleaned substrate in the cleaned transport case, the cleanliness of the surface of the substrate cleaned by the irradiation of ultraviolet rays is maintained as it is. Become so. Further, by irradiating the plurality of substrates at a predetermined height with ultraviolet rays from the ultraviolet lamps, the substrate cleaning process for one carrying case can be completed by one push-up operation. .
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図１は本発明に係わる基板洗浄
装置の第１実施例を示す斜視図であり、図２はその模式
図である。図示した基板洗浄装置１０の構成において、
１１は基板本体であり、この装置本体１１にはテーブル
ステージ１２が設けられている。また、テーブルステー
ジ１２上には装置本体１１の奥行方向Ｙに対して移動可
能な載置テーブル１３が設けられており、この載置テー
ブル１３には、複数の基板１４が略垂直状態で収納され
た搬送ケース１５が載置されるようになっている。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic view thereof. In the configuration of the illustrated substrate cleaning apparatus 10,
Reference numeral 11 denotes a substrate body, and a table stage 12 is provided on the apparatus body 11. A mounting table 13 that is movable in the depth direction Y of the apparatus body 11 is provided on the table stage 12, and a plurality of substrates 14 are stored in the mounting table 13 in a substantially vertical state. The transport case 15 is placed.
【００１２】一方、テーブルステージ１２の下方には昇
降自在なリフター１６が内蔵されてており、このリフタ
ー１６の上端には基板１４を下辺側より支持することが
できるリフト爪１６ａが設けられている。そして実際の
洗浄処理では、図１に示すように載置テーブル１３上に
載置された搬送ケース１５内の基板１４が、リフター１
６によって略垂直状態に保持されたまま所定の高さまで
突き上げられるようになっている。On the other hand, a lifter 16 which can be raised and lowered is built in below the table stage 12, and a lift pawl 16a capable of supporting the substrate 14 from the lower side is provided at the upper end of the lifter 16. . Then, in the actual cleaning process, as shown in FIG. 1, the substrate 14 in the transport case 15 placed on the placing table 13 is moved to the lifter 1
6 is pushed up to a predetermined height while being held in a substantially vertical state.
【００１３】さらに装置本体１１の上部奥側には紫外線
ランプ１７が設けられており、この紫外線ランプ１７は
上述した所定の高さ、すなわちリフター１６によって突
き上げられた基板１４の配置高さとほぼ同一高さに配置
されている。そして、実際の洗浄処理では、リフター１
６によって所定の高さまで突き上げられた基板１４の表
面に紫外線ランプ１７からの紫外線が照射されるように
なっている。加えて、装置本体１１の天井部分には排気
ダクト１８が設けられており、装置内に浮遊するような
極めて軽いダスト等はこの排気ダクト１８を通して外部
に排出されるようになっている。Further, an ultraviolet lamp 17 is provided on the rear side of the upper part of the apparatus main body 11, and the ultraviolet lamp 17 has the above-described predetermined height, that is, the height substantially equal to the arrangement height of the substrate 14 pushed up by the lifter 16. It is arranged in the And in the actual cleaning process, the lifter 1
The surface of the substrate 14 pushed up to a predetermined height by 6 is irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet lamp 17. In addition, an exhaust duct 18 is provided in the ceiling portion of the apparatus body 11, and extremely light dust or the like floating in the apparatus is exhausted to the outside through the exhaust duct 18.
【００１４】また図２に示すように、各々の駆動系、す
なわち載置テーブル１３には駆動モータ１９と駆動回路
２０が、またリフター１６には駆動モータ２１と駆動回
路２２がそれぞれ接続されており、さらに紫外線ランプ
１７には電源２３が接続されている。そして、これらの
駆動モータ１９、２１と駆動回路２０、２２、並びに電
源２３は、装置全体を駆動制御するためのプログラマー
ブルコントローラ２４に接続されており、装置自体の駆
動はオペレータパネル２５のボタン操作によって開始さ
れるようになっている。As shown in FIG. 2, a drive motor 19 and a drive circuit 20 are connected to each drive system, that is, the mounting table 13, and a drive motor 21 and a drive circuit 22 are connected to the lifter 16, respectively. Further, a power source 23 is connected to the ultraviolet lamp 17. The drive motors 19 and 21, the drive circuits 20 and 22, and the power supply 23 are connected to a programmable controller 24 for driving and controlling the entire apparatus, and the apparatus itself is driven by operating a button on an operator panel 25. It is supposed to be started by.
【００１５】続いて、本第１実施例の基板洗浄装置１０
の動作について説明する。まず、イニシャル状態にある
載置テーブル１３上に、複数の基板１４が略垂直状態で
収納された搬送ケース１５を載置する。このとき、搬送
ケース１５内に収納された複数の基板１４のうち、一番
奥側に配置された基板１４がリフター１６の真上に配置
される。Subsequently, the substrate cleaning apparatus 10 according to the first embodiment.
The operation of will be described. First, the transport case 15 in which the plurality of substrates 14 are housed in a substantially vertical state is placed on the placing table 13 in the initial state. At this time, among the plurality of substrates 14 housed in the transport case 15, the substrate 14 arranged on the innermost side is arranged right above the lifter 16.
【００１６】次に、リフター１６を作動させて上述の一
番奥側に配置された基板１４をリフト爪１６ａで略垂直
状態に保持し、そのままリフター１６の駆動によりリフ
ト爪１６ａで保持した基板１４を所定の高さまで突き上
げる。続いて、この状態から紫外線ランプ１７を点灯さ
せて、所定の高さまで突き上げられた基板１４の表面に
紫外線ランプ１７からの紫外線を照射させる。この紫外
線照射により、基板１４の表面に付着していた汚染物質
は例えば以下の反応により基板１４表面から剥離する。
すなわち、汚染物質がブチルアルコールの場合、ＣＨ3
（ＣＨ2 ）3 ＯＨ＋Ｏ2 →２ＣＨ4 ＋ＣＯ2 ＋ＣＯ＋Ｈ
2 の反応式を一例とするように、ブチルアルコールのよ
うな汚染物質はガスに分解されて基板１４表面から離脱
していく。なお、紫外線の照射時間は基板１４の製造プ
ロセスによって違いはあるが、通常は数分から数十分で
終了する。Next, the lifter 16 is actuated to hold the substrate 14 arranged on the innermost side in a substantially vertical state by the lift claws 16a, and the substrate 14 held by the lift claws 16a by driving the lifter 16 as it is. Push up to a predetermined height. Then, the ultraviolet lamp 17 is turned on from this state, and the surface of the substrate 14 pushed up to a predetermined height is irradiated with the ultraviolet light from the ultraviolet lamp 17. By this ultraviolet irradiation, contaminants attached to the surface of the substrate 14 are peeled off from the surface of the substrate 14 by the following reaction, for example.
That is, when the pollutant is butyl alcohol, CH 3
(CH 2 ) 3 OH + O 2 → 2CH 4 + CO 2 + CO + H
As an example of the reaction formula of No. 2 , a contaminant such as butyl alcohol is decomposed into a gas and separated from the surface of the substrate 14. Although the irradiation time of the ultraviolet rays varies depending on the manufacturing process of the substrate 14, the irradiation time is usually several minutes to several tens of minutes.
【００１７】さらに、紫外線の照射が終了すると、リフ
ター１６はテーブルステージ１２の下方まで下降し、こ
れによりリフト爪１６ａに保持された基板１４が元の搬
送ケース１５内に収納される。また、こうして一枚目の
基板１４の洗浄が完了すると、続いて載置テーブル１３
は搬送ケース１５内の基板収納ピッチと同一ピッチ分だ
け装置本体１１の奥側に移動し、この状態で二枚目の基
板１４が先程と同様の動作によって洗浄される。以降
は、これら一連の動作が繰り返されて、最後の基板（一
番手前側に配置された基板）１４の洗浄が終了すると、
載置テーブル１３は最初のイニシャル状態に戻り、この
時点で搬送ケース１５内に収納された全ての基板１４に
対する洗浄処理が完了する。Further, when the irradiation of ultraviolet rays is completed, the lifter 16 descends below the table stage 12, whereby the substrate 14 held by the lift claws 16a is stored in the original carrying case 15. In addition, when the cleaning of the first substrate 14 is completed in this way, the mounting table 13 is then continued.
Moves to the inner side of the apparatus main body 11 by the same pitch as the substrate storage pitch in the transport case 15, and in this state, the second substrate 14 is washed by the same operation as before. After that, a series of these operations is repeated, and when the cleaning of the last substrate (the substrate arranged on the front side) is completed,
The mounting table 13 returns to the initial state, and at this point, the cleaning process for all the substrates 14 accommodated in the transport case 15 is completed.
【００１８】このように本第１実施例の基板洗浄装置に
おいては、被洗浄物である基板１４が常に垂直状態に保
持された状態で紫外線照射による洗浄処理が行われるた
め、従来装置のように基板を水平状態に保持する場合に
比べて、基板表面にダストが付着しにくくなるのは勿論
のこと、紫外線照射によって分解された汚染物質もスム
ースに基板表面から離脱するようになる。As described above, in the substrate cleaning apparatus of the first embodiment, since the cleaning processing by ultraviolet irradiation is performed while the substrate 14 which is the object to be cleaned is always held in the vertical state, it is different from the conventional apparatus. As compared with the case where the substrate is held in a horizontal state, dust is less likely to adhere to the surface of the substrate, and contaminants decomposed by the irradiation of ultraviolet rays are also smoothly separated from the surface of the substrate.
【００１９】また、本第１実施例では、載置テーブル１
３を順次移動させることで、リフター１６により突き上
げられた基板１４と紫外線ランプ１７との間には常に一
定の離間距離が設定されるため、リフター１６により突
き上げられた基板１４表面への紫外線強度は搬送ケース
１５内の基板配置状態に係わらず常に一様となり、これ
により搬送ケース１５に収納された全ての基板を均一に
洗浄することが可能となる。Further, in the first embodiment, the placing table 1
By moving 3 sequentially, a constant distance is always set between the substrate 14 pushed up by the lifter 16 and the ultraviolet lamp 17, so that the ultraviolet intensity on the surface of the substrate 14 pushed up by the lifter 16 is It is always uniform regardless of the arrangement of the substrates in the transport case 15, and it is possible to uniformly wash all the substrates housed in the transport case 15.
【００２０】続いて、本発明の第２実施例について図３
〜図７を参照しつつ説明する。図３は本発明に係わる基
板洗浄装置の第２実施例を示す斜視図であり、図４はそ
の模式図である。なお、本第２実施例においては、上記
第１実施例の場合と同様の部材に同じ符号を付すととも
に、重複する説明は省略する。図示した基板洗浄装置１
０において、１１は装置本体、１２はテーブルステージ
であり、このテーブルステージ１２上には装置本体１１
の幅方向Ｘに対して移動可能な左右一対の載置テーブル
１３ａ、１３ｂが設けられている。そして、一方の載置
テーブル１３ａには未洗浄の基板１４が収納された搬送
ケース１５ａが載置されるようになっており、もう一方
の載置テーブル１５ｂには洗浄済の基板１４を収納する
ための搬送ケース１５ｂが載置されるようになってい
る。Next, the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
~ It will be described with reference to FIG. 7. 3 is a perspective view showing a second embodiment of the substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a schematic view thereof. In the second embodiment, the same members as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the duplicated description will be omitted. The illustrated substrate cleaning apparatus 1
In 0, 11 is an apparatus main body, 12 is a table stage, and the apparatus main body 11 is placed on the table stage 12.
A pair of left and right mounting tables 13a and 13b that are movable in the width direction X are provided. The carrying case 15a in which the uncleaned substrate 14 is stored is placed on one of the mounting tables 13a, and the cleaned substrate 14 is stored on the other mounting table 15b. A carrying case 15b for carrying is placed.
【００２１】一方、テーブルステージ１２の下方には昇
降自在なリフター１６が内蔵されており、このリフター
１６の上端には複数の基板１４を下辺側から支持するこ
とができるリフト爪１６ａが設けられている。そして実
際の洗浄処理では、図１に示すように載置テーブル１３
ａ上に載置された搬送ケース１５ａ内の基板１４が、一
括してリフター１６により略垂直状態に保持されたまま
所定の高さまで突き上げられるようになっている。On the other hand, a lifter 16 that can be raised and lowered is built in below the table stage 12, and a lift claw 16a capable of supporting a plurality of substrates 14 from the lower side is provided at the upper end of the lifter 16. There is. Then, in the actual cleaning process, as shown in FIG.
The substrates 14 in the transport case 15a placed on a are collectively pushed up to a predetermined height while being held by the lifter 16 in a substantially vertical state.
【００２２】また、装置本体１１の上部手前側にはチャ
ック２６が設けられており、このチャック２６はテーブ
ルステージ１２の下方に設けられたリフター１６のほぼ
真上に配置されている。そして、リフター１６により一
括して突き上げられた基板１４はこのチャック２６によ
って上述した所定の高さに保持されるようになってい
る。A chuck 26 is provided on the front side of the upper portion of the apparatus main body 11, and the chuck 26 is disposed almost directly above the lifter 16 provided below the table stage 12. The substrates 14 that are collectively pushed up by the lifter 16 are held by the chuck 26 at the above-described predetermined height.
【００２３】さらに装置本体１１の上部奥側には紫外線
ランプ１７が設けられており、この紫外線ランプ１７は
上述した所定の高さ、すなわちチャック２６によって保
持された基板１４の配置高さとほぼ同一高さに配置され
ている。そして実際の洗浄処理では、チャック２６によ
って保持された基板１４の表面に紫外線ランプ１７から
の紫外線が照射されるようになっている。加えて、装置
本体１１の天井部分には排気ダクト１８が設けられてお
り、装置内に浮遊するような極めて軽いダスト等はこの
排気ダクト１８を通して外部に排出されるようになって
いる。なお、紫外線ランプ１７の前面近傍にはレンズ２
７が設置されているが、このレンズ２７は紫外線ランプ
１７から発せられた紫外線の照射方向を統一させて、基
板１４表面に対する紫外線の照射効率並びに照射強度を
高めるためのものである。Further, an ultraviolet lamp 17 is provided on the back side of the upper part of the apparatus main body 11, and the ultraviolet lamp 17 has the same height as the above-mentioned predetermined height, that is, the same height as the arrangement height of the substrate 14 held by the chuck 26. It is arranged in the Then, in the actual cleaning process, the surface of the substrate 14 held by the chuck 26 is irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 17. In addition, an exhaust duct 18 is provided in the ceiling portion of the apparatus body 11, and extremely light dust or the like floating in the apparatus is exhausted to the outside through the exhaust duct 18. In addition, the lens 2 is provided near the front surface of the ultraviolet lamp 17.
7, the lens 27 is provided to unify the irradiation direction of the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 17 to enhance the irradiation efficiency and the irradiation intensity of the ultraviolet rays on the surface of the substrate 14.
【００２４】また図４に示すように、各々の駆動系、す
なわち載置テーブル１３ａ、１３ｂには駆動モータ１９
ａ、１９ｂと駆動回路２０ａ、２０ｂが、またリフター
１６には駆動モータ２１と駆動回路２２が、さらにチャ
ック２６には駆動モータ２８と駆動回路２９がそれぞれ
接続されており、紫外線ランプ１７には図示せぬ電源が
接続されている。そして、これらの駆動モータ１９ａ、
１９ｂ、２１、２８と駆動回路２０ａ、２０ｂ、２２、
２９、並びに電源（不図示）は、装置全体を駆動制御す
るためのプログラマーブルコントローラ２４に接続され
ており、装置自体の駆動はオペレータパネル２５のボタ
ン操作によって開始されるようになっている。Further, as shown in FIG. 4, a drive motor 19 is provided in each drive system, that is, the mounting tables 13a and 13b.
a, 19b and drive circuits 20a and 20b, a lifter 16 is connected to a drive motor 21 and a drive circuit 22, and a chuck 26 is connected to a drive motor 28 and a drive circuit 29. A power source not shown is connected. Then, these drive motors 19a,
19b, 21, 28 and drive circuits 20a, 20b, 22,
29 and a power source (not shown) are connected to a programmable controller 24 for driving and controlling the entire apparatus, and driving of the apparatus itself is started by operating a button on an operator panel 25.
【００２５】続いて、本第２実施例の基板洗浄装置１０
の動作について説明する。先ず図５（ａ）に示すよう
に、複数の基板１４が収納された搬送ケース１５ａを一
方の載置テーブル１３ａ上に載置するとともに、もう一
方の載置テーブル１３ｂには洗浄済の搬送ケース１５ｂ
を載置する。次に図５（ｂ）に示すように、一方の載置
テーブル１３ａを図中右側に移動させて、そこに載置さ
れた搬送ケース１５ａをチャック２６の真下に配置す
る。Subsequently, the substrate cleaning apparatus 10 of the second embodiment.
The operation of will be described. First, as shown in FIG. 5A, a transport case 15a accommodating a plurality of substrates 14 is placed on one of the mounting tables 13a, and the other transport table 15b has been cleaned. 15b
To place. Next, as shown in FIG. 5B, one of the mounting tables 13a is moved to the right side in the drawing, and the transport case 15a mounted on the mounting table 13a is arranged immediately below the chuck 26.
【００２６】続いて図５（ｃ）に示すように、リフター
１６を作動させて、搬送ケース１５ａに収納されている
全ての基板１４をリフト爪１６ａで略垂直状態に保持
し、そのままリフター１６の駆動によりリフト爪１６ａ
で保持した基板１４を一括して所定の高さまで突き上げ
るとともに、この突き上げた基板１４をチャック２６の
開閉動作により上記所定の高さに保持する。この時点
で、電源からの電力供給により紫外線ランプ１７が点灯
し、チャック２６により保持された基板１４の表面に紫
外線ランプ１７からの紫外線照射が開始する。このと
き、チャック２６により保持された基板１４が、例えば
ガラス基板のように光学的に透過率の高い基板の場合
は、所定の高さに保持された複数の基板１４全てに紫外
線ランプ１７からの紫外線が照射されることになる。ま
た、チャック２６に基板１４を渡し終えたリフター１６
は図５（ｄ）に示すようにテーブルステージ１２の下方
まで下降し、次の動作命令が来るまで待機状態となる。Then, as shown in FIG. 5 (c), the lifter 16 is actuated to hold all the substrates 14 stored in the carrying case 15a in a substantially vertical state by the lift claws 16a, and the lifter 16 is directly held. Driven by lift claw 16a
The substrates 14 held in 1 are collectively pushed up to a predetermined height, and the pushed up substrates 14 are held at the predetermined height by opening and closing the chuck 26. At this point, the ultraviolet lamp 17 is turned on by the power supply from the power source, and the ultraviolet irradiation from the ultraviolet lamp 17 is started on the surface of the substrate 14 held by the chuck 26. At this time, in the case where the substrate 14 held by the chuck 26 is a substrate having a high optical transmittance such as a glass substrate, all the plurality of substrates 14 held at a predetermined height from the ultraviolet lamp 17 are removed. It will be irradiated with ultraviolet rays. In addition, the lifter 16 that has finished passing the substrate 14 to the chuck 26
Is lowered to below the table stage 12 as shown in FIG. 5D, and stands by until the next operation command arrives.
【００２７】次に図６（ａ）に示すように、一方の載置
テーブル１３ａを図中左側に移動して、空になった搬送
ケース１５ａをチャック２６の真下から退避させ、これ
に続いて図６（ｂ）に示すように、もう一方の載置テー
ブル１３ｂを図中左側に移動して、今度はチャック２６
の真下に洗浄済の搬送ケース１５ｂを配置する。この時
点で基板表面の洗浄が終了している場合は連続して次の
動作に移行し、まだ洗浄が終了していない場合は図６
（ｂ）の状態のままで待機する。Next, as shown in FIG. 6 (a), one of the mounting tables 13a is moved to the left side in the figure to evacuate the emptied transport case 15a from directly below the chuck 26. As shown in FIG. 6B, the other mounting table 13b is moved to the left side in the drawing, and this time the chuck 26 is moved.
The cleaned transport case 15b is arranged immediately below the. At this point, if the cleaning of the substrate surface has been completed, the operation proceeds continuously to the next operation.
Stand by in the state of (b).
【００２８】その後、所定の時間が経過して紫外線ラン
プ１７が消灯すると、図６（ｃ）に示すようにリフター
１６が上昇してリフト爪１６ａが基板１４の下辺近傍に
待機し、この状態から図６（ｄ）に示すようにチャック
２６の開閉動作により基板１４をリフト爪１６ａによっ
て保持する。続いて図７（ａ）に示すように、リフター
１６は再びテーブルステージ１２の下方まで下降し、そ
の下降途中で基板１４は洗浄済の搬送ケース１５ｂに収
納される。そして最後は図７（ｂ）に示すように、載置
テーブル１３ｂが図中右側に移動して各搬送ケース１５
ａ、１５ｂが初期の配置状態となり、この時点で搬送ケ
ース一個分の基板に対する一連の洗浄処理が完了する。Thereafter, when the ultraviolet lamp 17 is turned off after a lapse of a predetermined time, the lifter 16 rises and the lift claws 16a stand by near the lower side of the substrate 14 as shown in FIG. 6 (c). As shown in FIG. 6D, the substrate 14 is held by the lift claws 16 a by opening and closing the chuck 26. Subsequently, as shown in FIG. 7A, the lifter 16 again descends below the table stage 12, and the substrate 14 is stored in the cleaned transport case 15b during the descending. Finally, as shown in FIG. 7 (b), the mounting table 13b moves to the right side in the drawing to move each transport case 15
The a and 15b are in the initial arrangement state, and at this point, a series of cleaning processing for the substrate for one carrying case is completed.
【００２９】このように本第２実施例の基板洗浄装置に
おいても、上記第１実施例の場合と同様に被洗浄物であ
る基板１４が常に垂直状態に保持された状態で紫外線照
射による洗浄処理が行われるため、従来装置のように基
板を水平状態に保持する場合に比べて、基板表面にダス
トが付着しにくくなるのは勿論のこと、紫外線照射によ
って分解された汚染物質もスムースに基板表面から離脱
するようになる。As described above, also in the substrate cleaning apparatus of the second embodiment, as in the case of the first embodiment, the cleaning treatment by ultraviolet irradiation is performed while the substrate 14 as the object to be cleaned is always held in the vertical state. Therefore, compared to the case where the substrate is held horizontally as in the conventional device, dust is less likely to adhere to the substrate surface, and contaminants decomposed by UV irradiation can be smoothly transferred to the substrate surface. To leave.
【００３０】また本第２実施例では、紫外線ランプ１７
からの紫外線照射によって洗浄処理した基板１４を元の
搬送ケース１５ａに戻すのではなく洗浄済の搬送ケース
１５ｂに収納するようにしたので、搬送ケース１５ａか
らのダスト付着が防止されて、紫外線照射により洗浄処
理された基板１４表面の清浄度がそのまま維持されるよ
うになる。Further, in the second embodiment, the ultraviolet lamp 17
Since the substrate 14 that has been cleaned by irradiation with ultraviolet rays from the above is stored in the cleaned transportation case 15b instead of being returned to the original transportation case 15a, dust adhesion from the transportation case 15a is prevented, The cleanliness of the surface of the substrate 14 that has been subjected to the cleaning process is maintained as it is.
【００３１】さらに本第２実施例においては、複数の基
板１４を一括して所定の高さに保持することにより、こ
れらの基板１４に紫外線ランプ１７からの紫外線を照射
可能としたので、搬送ケース１個あたりの基板洗浄処理
が一回の突き上げ動作で済むようになり、基板を一枚ず
つ突き上げて紫外線照射するよりも格段に効率的であ
る。Further, in the second embodiment, the plurality of substrates 14 are collectively held at a predetermined height so that the substrates 14 can be irradiated with the ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 17, so that the carrying case can be carried. The substrate cleaning process for one substrate can be performed by one push-up operation, which is much more efficient than pushing up the substrates one by one and irradiating them with ultraviolet rays.
【００３２】なお、上記第２実施例の装置構成では、紫
外線照射によって洗浄処理した基板１４を洗浄済の搬送
ケース１５ｂに収納するためチャック２６を設けるよう
にしたが、上記第１実施例のように元の搬送ケースに戻
すような場合はチャック２６を設ける必要はなく、また
載置テーブルも一台だけ設けられていればよい。In the apparatus configuration of the second embodiment, the chuck 26 is provided to house the substrate 14 cleaned by the irradiation of ultraviolet rays in the cleaned transport case 15b. However, as in the first embodiment. When returning to the original transport case, it is not necessary to provide the chuck 26, and only one placing table is required.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
一連の紫外線照射による基板洗浄処理に際して、被洗浄
物である基板は常に垂直状態に保持されるため、基板表
面に対してはダストが付着しにくい状態になるととも
に、紫外線照射によって分解された汚染物質はスムース
に基板表面から除去されるようになる。その結果、基板
の製造プロセス、例えば半導体ウエハの表面処理プロセ
スや液晶ディスプレイのガラス基板製造プロセスにおい
ては、基板表面に対するダストの付着や汚染物質の付着
を大幅に低減させることが可能となり、これによって種
々の基板製造プロセスにおける工程歩留りの向上が期待
できる。As described above, according to the present invention,
When a substrate is cleaned by a series of UV irradiation, the substrate that is the object to be cleaned is always held in a vertical state, which makes it difficult for dust to adhere to the surface of the substrate and contaminants decomposed by UV irradiation. Will be smoothly removed from the substrate surface. As a result, in a substrate manufacturing process, such as a semiconductor wafer surface treatment process or a liquid crystal display glass substrate manufacturing process, it is possible to significantly reduce the adhesion of dust and contaminants to the surface of the substrate. It can be expected to improve the process yield in the substrate manufacturing process.
【００３４】また、チャックにより保持された基板の表
面に紫外線を照射して、これにより洗浄された基板を洗
浄済の搬送ケースに収納することにより、元の搬送ケー
スからのダスト付着が防止されるとともに、紫外線照射
によって洗浄された基板表面の清浄度をそのまま維持す
ることが可能となる。Further, by irradiating the surface of the substrate held by the chuck with ultraviolet rays and storing the cleaned substrate in the cleaned transport case, dust adhesion from the original transport case is prevented. At the same time, it becomes possible to maintain the cleanliness of the surface of the substrate cleaned by the irradiation of ultraviolet rays.
【００３５】さらに、複数の基板を所定の高さに保持し
た状態でこれらの基板に紫外線ランプからの紫外線を照
射することにより、搬送ケース１個あたりの基板洗浄処
理が一回の突き上げ動作で済むようになるため生産効率
の面で非常に有利である。Further, by irradiating the plurality of substrates at a predetermined height with the ultraviolet rays from the ultraviolet lamp, the substrate cleaning process for one carrying case can be completed by one push-up operation. Therefore, it is very advantageous in terms of production efficiency.
【図１】本発明に係わる基板洗浄装置の第１実施例を示
す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the present invention.
【図２】本発明に係わる基板洗浄装置の第１実施例を示
す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing a first embodiment of the substrate cleaning apparatus according to the present invention.
【図３】本発明に係わる基板洗浄装置の第２実施例を示
す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a second embodiment of the substrate cleaning apparatus according to the present invention.
【図４】本発明に係わる基板洗浄装置の第２実施例を示
す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing a second embodiment of the substrate cleaning apparatus according to the present invention.
【図５】第２実施例における基板洗浄装置の動作説明図
（その１）である。FIG. 5 is an operation explanatory view (1) of the substrate cleaning apparatus in the second embodiment.
【図６】第２実施例における基板洗浄装置の動作説明図
（その２）である。FIG. 6 is an operation explanatory view (No. 2) of the substrate cleaning apparatus in the second embodiment.
【図７】第２実施例における基板洗浄装置の動作説明図
（その３）である。FIG. 7 is an operation explanatory diagram (3) of the substrate cleaning apparatus in the second embodiment.
【図８】従来の基板洗浄装置の一例を示す斜視図であ
る。FIG. 8 is a perspective view showing an example of a conventional substrate cleaning apparatus.
１０ 基板洗浄装置 １３ 載置テーブル １４ 基板 １５ 搬送ケース １６ リフター １７ 紫外線ランプ ２６ チャック 10 Substrate Cleaning Device 13 Placement Table 14 Substrate 15 Transport Case 16 Lifter 17 Ultraviolet Lamp 26 Chuck
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 奉弘 神奈川県厚木市温水1937番地 正和エンジ ニアリング株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Fukuhiro Sato 1937 Atsui, Atsugi, Kanagawa Masakazu Engineering Co., Ltd.
Claims (3)
送ケースを載置するための載置テーブルと、 前記載置テーブル上に載置された搬送ケース内の基板を
略垂直状態に保持したまま所定の高さまで突き上げ可能
なリフターと、 前記リフターによって突き上げられた基板の表面に紫外
線を照射するための紫外線ランプとを具備したことを特
徴とする基板洗浄装置。1. A placing table for placing a carrying case in which a plurality of substrates are housed in a substantially vertical state, and a substrate in the carrying case placed on the placing table is held in a substantially vertical state. A substrate cleaning apparatus comprising: a lifter that can be pushed up to a predetermined height while keeping it; and an ultraviolet lamp for irradiating the surface of the substrate pushed up by the lifter with ultraviolet rays.
板を前記所定の高さに保持するチャックを備え、 前記チャックにより保持された基板の表面に前記紫外線
ランプからの紫外線を照射して、これにより洗浄された
基板を洗浄済の搬送ケースに収納可能としたことを特徴
とする請求項１記載の基板洗浄装置。2. A chuck for holding the substrate pushed up by the lifter at the predetermined height, wherein the surface of the substrate held by the chuck is irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp to be cleaned. 2. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the substrate can be stored in a cleaned transport case.
状態で、それらの基板に前記紫外線ランプからの紫外線
を照射可能としたことを特徴とする請求項１又は請求項
２記載の基板洗浄装置。3. The substrate according to claim 1, wherein a plurality of substrates can be irradiated with the ultraviolet rays from the ultraviolet lamp while the plurality of substrates are held at the predetermined height. Cleaning device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08524293A JP3277401B2 (en) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | Substrate cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08524293A JP3277401B2 (en) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | Substrate cleaning device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06275587A true JPH06275587A (en) | 1994-09-30 |
| JP3277401B2 JP3277401B2 (en) | 2002-04-22 |
Family
ID=13853103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08524293A Expired - Fee Related JP3277401B2 (en) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | Substrate cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3277401B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7398726B2 (en) | 2003-12-12 | 2008-07-15 | Keurig, Incorporated | System for dispensing metered volumes of heated water to the brew chamber of a single serve beverage brewer |
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-
1993
- 1993-03-19 JP JP08524293A patent/JP3277401B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US7398726B2 (en) | 2003-12-12 | 2008-07-15 | Keurig, Incorporated | System for dispensing metered volumes of heated water to the brew chamber of a single serve beverage brewer |
| US7523695B2 (en) | 2003-12-12 | 2009-04-28 | Keurig, Incorporated | System for dispensing metered volumes of heated water to the brew chamber of a single serve beverage brewer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3277401B2 (en) | 2002-04-22 |
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