JPH06273318A - 粉体分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置の保守を容易化し、サンプリングや分析
値の信頼性を高める。サンプルの保存を可能にし、分析
センサからサンプルまでの測定距離を高精度に設定す
る。 【構成】 パイプラインから試料を抽出するサンプラー
１、ホッパー１１等の粉体抽出機構部と、試料に平滑面
を形成するプッシャ２８、押圧型３３等の試料圧縮機構
部と、位置Ｓ２の上方で試料表面レベルを検出する変位
センサ３６、試料をセンサ３６方向へ移動させるモータ
Ｍ４、プッシャ３４等の試料表面レベル測定手段と、位
置Ｓ３，Ｓ４の上方で試料成分等を非接触で分析する近
赤外線成分分析センサ３８、色度センサ４３と、位置Ｓ
２での検出移動距離に基き位置Ｓ３，Ｓ４で試料がセン
サ３８，４３の所定測定距離に達するまでに必要な移動
距離を求め、これに基き試料をセンサ３８，４３方向へ
移動させるモータＭ４、プッシャ３７，３９、電磁弁４
２等の分析位置調整手段とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、サンプリングした粉体
の表面を押圧して平滑面を形成してから、近赤外分光分
析装置等の分析センサを用いて粉体の成分や色度等を非
接触にて分析する粉体分析装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の分析装置として公表特許
６１−５０１９４３号公報に記載されたものがある。こ
の装置では、粉体が連続して送られるパイプライン中に
粉体の圧縮機構を設置し、移送されている粉体を圧縮機
構部に強制的に滞留させてから加圧板によりパイプライ
ン内壁のガラス窓に押し当て、パイプラインの外側に設
置されている光学的な分析センサによりガラス窓越しに
成分を分析している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この装
置では、圧縮機構がパイプライン中に設置されているた
め、次のような問題点があった。 （１）パイプライン内に設置されている圧縮機構につい
ての保守が容易に行えない。 （２）パイプライン内壁のガラス窓に押し付けられた粉
体が付着して残り、新たにサンプリングされる粉体と混
在するため、サンプリングの信頼性ひいては分析値の信
頼性が低い。 （３）粉体の分析値に異常が検出された場合、その粉体
を再分析用のサンプルとしてパイプラインから取り出す
ことができない。

【０００４】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、サンプリング手
段をパイプラインの外部に設けることにより装置の保守
を容易にすると共に、サンプリングや分析値の信頼性が
高く、しかも、異常が検出された粉体を異常サンプルと
して保存可能にし、更には、非接触形の分析センサと測
定対象である粉体との間の測定距離を高精度に設定可能
な粉体分析装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、粉体抽出機構部、試料圧縮機構部、試料
表面レベル測定手段、分析センサ及び分析位置調整手段
から構成されている。ここで、粉体抽出機構部は、試料
としての粉体が移送されているパイプラインから試料を
取り出して受け皿内に抽出する機構からなり、試料圧縮
機構部は、受け皿内の試料を型体により圧縮し、その表
面に平滑面を形成する機構からなる。試料表面レベル測
定手段は、試料との間の距離を測定して試料の表面レベ
ルを測定する変位センサ等からなり、分析センサは、近
赤外線成分分析センサやＸ線を用いた放射線分析セン
サ、更には、色度センサのように、測定対象との間の距
離を所定値に保つ必要がある非接触形の分析センサから
なる。また、分析位置調整手段は、試料表面レベル測定
手段により検出された表面レベルに応じ、分析センサと
試料表面レベルとの間の距離を前記所定値に調整する手
段からなる。

【０００６】

【作用】本発明において、粉体抽出機構部により受け皿
内に抽出された試料は、試料圧縮機構部により型体に圧
縮されてその表面に平滑面が形成される。この平滑面の
位置（レベル）は、試料の組成や粒度等によってサンプ
ルごとに異なる場合があるため、試料表面レベル測定手
段により表面レベルが測定される。次に、分析センサに
よって試料の分析を行うにあたり、分析センサに応じた
所定距離を試料との間に保有させる必要があることか
ら、分析位置調整手段は、試料表面レベル測定手段の測
定結果に応じて試料と分析センサとの間の距離を調節
し、位置決めする。そして、その後、試料の成分等を非
接触状態で分析する。

【０００７】

【実施例】以下、図に沿って本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明の実施例の一部を示し、粉体を移送し
ているパイプラインからその外部に試料としての粉体を
抽出する粉体抽出機構部の概略構成を示す説明図であ
る。図において、１はパイプライン２に設置されたサン
プラーであり、筒部１ａの先端側であってパイプライン
２の内部に位置する部分に軸方向のスリット１ｂが形成
されている。通常はこのスリット１ｂがラインの下流側
に向いている。サンプリングする場合は、モータＭ１を
回転させて筒部１ａを１８０度回転させ、スリット１ｂ
を上流側に向かせる。この状態でスリット１ｂから粉体
が筒部１ａ内に進入してくる。

【０００８】ここで、筒部１ａ内のスクリュー１ｃをモ
ータＭ２により回転駆動して粉体を右方へ移動させ、出
口１ｄより排出する。なお、図示しないが、スリット１
ｂに外側に開いたホッパー状のガイド板を取り付ける
と、粉体の取込み量を増すことができる。出口１ｄより
排出された粉体は、出口１ｄに接続されているテフロン
チューブ３内に送られる。テフロンチューブ３の途中に
はエゼクタ４が接続されていて、電磁弁５、コック６を
介して圧縮空気が送られ、粉体を下方へ強制的に送り出
す。

【０００９】テフロンチューブ３の下端はノズルブロッ
ク７を介してピンチバルブ８に接続されている。ノズル
ブロック７には電磁弁９を介して圧縮空気が供給されて
おり、粉体を採取した後にピンチバルブ８を閉状態にし
て電磁弁９を開くことにより、ノズルブロック７に圧縮
空気が送られ、ピンチバルブ８の上部及びテフロンチュ
ーブ３下端に溜まっている粉体を完全にパイプライン２
方向へ逆送する。それにより、ピンチバルブ８の上部に
古い粉体が残って次のサンプリング時に新しい粉体に混
じることが防止される。

【００１０】ピンチバルブ８はサンプリング時以外は、
電磁弁１０を介して圧縮空気が送られて閉じている。サ
ンプリングが開始されると、電磁弁１０が閉じられて圧
縮空気の供給が絶たれピンチバルブ８が開放し、上方か
ら送られてくる粉体の通過が可能になる。ピンチバルブ
８の下端はホッパー１１に接続されており、ピンチバル
ブ８の開放中に粉体がホッパー１１へ落下する。ホッパ
ー１１には、受け皿１２が待機しており、落下した粉体
が受け皿１２内に積もっていく。粉体が受け皿１２内に
充分に積もり、少々盛り上がった状態で受け皿１２はホ
ッパー１１の外部に搬出される。なお、ホッパー１１の
内面には粉体の付着を防止するためテフロンコーティン
グがなされている。

【００１１】ホッパー１１の下端には更にピンチバルブ
１３が接続されており、電磁弁１４を介し圧縮空気が送
られて開閉が制御される。このピンチバルブ１３の動作
は、上方のピンチバルブ８と同様にサンプリング時にの
み開放される。ピンチバルブ１３の下端にはエゼクタ１
５が接続されていて、電磁弁１６、コック１７を介して
圧縮空気が送られることにより、ホッパー１１内で受け
皿１２内に積もらずに落下した粉体を吸引して下方のテ
フロンチューブ１８へ強制的に送り出す。テフロンチュ
ーブ１８の先端はパイプライン２に接続されており、粉
体はパイプライン２に戻される。

【００１２】テフロンチューブ１８の途中にはブリーザ
１９が設置されて、テフロンチューブ１８内の空気圧が
調整される。また、テフロンチューブ１８の途中には、
後述するクラッシャ系の排出ラインであるテフロンチュ
ーブ５２が接続されている。

【００１３】図２は本発明の実施例の一部を示し、図１
のホッパー１１において受け皿１２に積もった粉体のそ
の後の処理をする部分の概略構成を示す説明図である。
図において、ホッパー１１内の受け皿１２はアーム２１
の先端の凹部に支持されており、アーム２１がエアシリ
ンダ２２により水平方向に駆動され、受け皿１２は前方
のターンテーブル２３の上面の載置位置Ｓ１とホッパー
１１の中心位置との間を移動する。

【００１４】受け皿１２内の底面には、必要に応じて円
板状をした底板４０が予め敷かれる。この底板４０は、
後述するごとく受け皿１２ごと保存された試料を再分析
する際に、試料の受け皿１２へのこびり付きを防止する
ためのものである。前記ホッパー１１と貫通するアーム
２１との間には、ダストシール２４が嵌装されており、
粉体Ｐが外部に飛散するのを防止する。

【００１５】ホッパー１１内で受け皿１２に粉体Ｐが積
もって多少盛り上がったところで、電磁弁２５を切り換
えてエアシリンダ２２を前進させ、アーム２１上の受け
皿１２をすり切り板２６の下面を摺動させるようにして
前方へ移動させる。すり切り板２６は単動のエアシリン
ダ２７に支持されているので、常時は上方に後退して待
機しており、粉体Ｐを入れた受け皿１２が前進するとき
だけ下降して、受け皿１２上に盛り上がっている粉体Ｐ
をすり切り、その表面を平らにする。

【００１６】アーム２１が前進端であるターンテーブル
２３上の載置位置Ｓ１に到達すると、Ｓ１の下方からプ
ッシャ２８が上昇してくる。このプッシャ２８はエアシ
リンダ２９により上下方向に往復駆動される。エアシリ
ンダ２９は電磁弁３１により動作が制御されるともに、
供給される圧縮空気をレギュレータ３２により調圧して
上昇時の押圧力を調節する。プッシャ２８の上面には凹
部が形成されて真空圧源に接続されており、プッシャ２
８の上面がアーム２１に支持されている受け皿１２の底
面に当接すると受け皿１２はプッシャ２８に吸着固定さ
れる。

【００１７】プッシャ２８は更に上昇し、受け皿１２を
上方の押圧型３３へ当接する。押圧型３３は受け皿１２
に嵌合可能な円柱形をしており、その底面は円滑な平面
である。この押圧型３３に対して受け皿１２内を下方か
ら押圧することにより、粉体Ｐが圧縮されて表面に平滑
面が形成される。このときの押圧力は、レギュレータ３
２により最適な値（例えば７０ｋｇ／ｃｍ²〜１００ｋ
ｇ／ｃｍ²）に予め調整されている。

【００１８】次いで、受け皿１２内の粉体Ｐが充分に圧
縮されたところで、押圧型３３をモータＭ３により若干
回動させた後にプッシャ２８を下降させ、受け皿１２を
押圧型３３から離す。すなわち、押圧型３３は圧縮した
粉体Ｐの表面を一旦滑った後に引き離されるため、粉体
Ｐの表面が押圧型３３に付着することがなくなり、表面
に形成された平滑面がそのまま保たれる。なお、プッシ
ャ２８、エアシリンダ２９、電磁弁３１、レギュレータ
３２、押圧型３３等は本発明における試料圧縮機構部を
構成する。

【００１９】また、受け皿１２が上昇している間に、先
端の中央部が開口されているアーム２１は後退する。プ
ッシャ２８が下降して受け皿１２がテーブル２３上の上
面レベルに達したところで、プッシャ２８の真空圧源を
切り、更にプッシャ２８のみを下降させて受け皿１２を
テーブル２３上に載置する。

【００２０】次に、ターンテーブル２３を回転させ、位
置Ｓ２へ受け皿１２を移動する。ターンテーブル２３
は、受け皿１２を保持することで、位置Ｓ２及び後述す
る位置Ｓ３における試料表面の基準レベルを規定してい
る。位置Ｓ２では、パルスモータＭ４の回転がギヤ２０
を介して送りネジ３５に伝達されることにより、下方の
原点に待機しているプッシャ３４が上昇する。

【００２１】プッシャ３４の上面には凹部が形成され真
空圧源に接続されており、プッシャ３４の上面が受け皿
１２の底面に当接すると受け皿１２はプッシャ３４に吸
着固定される。プッシャ３４は更に上昇し、受け皿１２
をその上方に位置する変位センサ３６に近づける。変位
センサ３６は下方の受け皿１２に対して光束を出射し、
粉体Ｐの表面からの反射光より粉体Ｐの表面レベルを検
出する。受け皿１２が上昇して、表面レベルから変位セ
ンサ３６までの距離が予め設定しておいた距離Ｔとなる
と、モータＭ４を停止させてプッシャ３４の上昇を止め
る。

【００２２】ここで、モータＭ４にその原点から停止す
るまでに送られたパルスの数を、図示しない計数手段に
より計数しておく。計数されるパルス数は、サンプリン
グごとに異なった値となる。これは、同一の受け皿１２
であっても粉体Ｐの組成や粒度等の違いにより、圧縮後
の粉体Ｐの表面レベルが変化する場合があるので、表面
レベルから変位センサ３６までの距離Ｔを確保するため
に基準レベルから粉体Ｐを移動させる距離が異なるから
である。言い換えれば、計数手段により計数されたパル
ス数が粉体Ｐの表面レベルを示すことになる。こうし
て、計数したパルス数を図示しない記憶手段に記憶した
後、モータＭ４を逆転させてプッシャ３４を下降させる
と共に途中で真空源を切り、受け皿１２をテーブル２３
上に戻す。

【００２３】上記モータＭ４及びその制御回路、ギヤ２
０、送りネジ３５、プッシャ３４、変位センサ３６、パ
ルス計数手段等は、本発明における試料表面レベル測定
手段を構成している。なお、この実施例では、表面レベ
ルから変位センサ３６までの距離が設定値Ｔになるまで
のモータＭ４への供給パルス数をもって表面レベルを間
接的に測定するようにしたが、超音波センサ等を用い
て、センサ及び表面レベルを静止させたままの状態で表
面レベルを直接測定しても良い。また、実施例のような
測定方法をとる場合、変位センサ３６側を適宜な駆動機
構により移動させても良い。

【００２４】次に、テーブル２３を回転させ、受け皿１
２を次の位置Ｓ３へ移動する。位置Ｓ３では、パルスモ
ータＭ４の回転がギヤ２０を介して送りネジ３０に伝達
されることにより下方の原点に待機しているプッシャ３
７が上昇する。プッシャ３７の上面には凹部が形成され
真空圧源に接続されており、プッシャ３７の上面が受け
皿１２の底面に当接すると、受け皿１２はプッシャ３７
に吸着固定される。プッシャ３７は更に上昇し、受け皿
１２をその上方に位置する非接触形分析センサとしての
近赤外線成分分析センサ３８に近づける。

【００２５】一般に、分析センサと検出対象との間に
は、センサの種類に応じた一定範囲内の測定距離があ
る。本実施例において試料の表面レベルは既に明らかで
あるので、近赤外線成分分析センサ３８から表面レベル
までを測定距離Ｌに等しくするために必要なモータＭ４
へのパルス数は、コントローラ等の駆動手段側で算出し
ておくことができる。こうして求めた数のパルスをモー
タＭ４に送って回転させることにより、粉体Ｐの表面レ
ベルは近赤外線成分分析センサ３８から距離Ｌの位置で
停止する。粉体Ｐが位置決めされると、近赤外線成分分
析センサ３８は下方の受け皿１２に対して近赤外線の光
束を出射し、粉体Ｐの表面からの反射光より粉体Ｐの蛋
白成分や水分等を分析する。この位置Ｓ３における分析
が終了すると、モータＭ４を逆転させてプッシャ３７を
下降させると共に途中で真空源を切り、受け皿１２をテ
ーブル２３上に戻す。

【００２６】次に、テーブル２３を回転し、受け皿１２
を次の位置Ｓ４へ移動する。位置Ｓ４では、下方からプ
ッシャ３９が上昇してくる。プッシャ３９はエアシリン
ダ４１により上下方向に往復駆動され、エアシリンダ４
１は電磁弁４２により動作が制御される。プッシャ３９
の上面には凹部が形成されて真空圧源に接続されてお
り、プッシャ３９の上面が受け皿１２の底面に当接する
と受け皿１２はプッシャ３９に吸着固定される。そし
て、プッシャ３９は更に上昇し、非接触形分析センサと
しての色度センサ４３の下方に受け皿１２を近接させ、
粉体Ｐの色度を測定する。

【００２７】このとき、受け皿１２の色度センサ４３方
向への移動距離は電磁弁４２により制御されるが、位置
Ｓ２において測定した粉体Ｐの表面レベル（具体的には
モータＭ４への供給パルス数）に基づいて電磁弁４２を
制御することにより、位置Ｓ３での測定時と同様に、色
度センサ４３にとっての所定の測定距離に粉体Ｐの表面
レベルを位置決めすることができる。なお、本発明にお
ける非接触形の分析センサとしては、上述した近赤外線
成分分析センサ３８や色度センサ４３のほかに、Ｘ線等
を用いた放射線分析センサ等であっても良い。

【００２８】色度の測定が終了すると、電磁弁４２を切
り換えてエアシリンダ４１及びプッシャ３９を下降さ
せ、受け皿１２をテーブル２３上のレベルに達したとこ
ろで、プッシャ３９の真空圧源を切り、更にプッシャ３
９のみを下降させ、受け皿１２をテーブル２３上に戻
す。

【００２９】なお、上記構成において、位置Ｓ３におけ
るモータＭ４及びその制御回路、ギヤ２０、送りネジ３
０、プッシャ３７等、並びに位置Ｓ４における電磁弁４
２及びその制御回路、エアシリンダ４１、プッシャ３９
等は、本発明における分析位置調整手段を構成してい
る。上記実施例では、分析位置調整手段により試料を近
赤外線成分分析センサ３８や色度センサ４３方向に移動
させて所定の測定距離をおくようにしたが、各センサ３
８，４３を適宜な駆動手段により試料方向へ移動させて
も良い。

【００３０】また、前記変位センサ３６、近赤外線成分
分析センサ３８、色度センサ４３の種類（測定原理）に
も依存するが、これらを一体的に形成したり、あるいは
各々別個に形成されていても同一の測定対象を異なる位
置から測定可能なものであれば、ターンテーブル２３上
の単一位置（例えば位置Ｓ２）にある受け皿１２内の試
料に対し、まず、表面レベルの測定を行い、次に、その
測定結果に応じて分析位置調整手段により試料または分
析センサを相対的に移動させて所定の測定距離に位置決
めし、その後、近赤外線成分分析センサ３８や色度セン
サ４３により分析、測定を行っても良い。これにより、
ターンテーブル２３の移動が一工程分少なくなって以後
の工程を順次繰り上げて実行できるため、全体的な処理
時間の短縮化、ターンテーブル２３やその駆動機構、セ
ンサ等の構造の小形化、簡素化を図ることができる。

【００３１】分析が終了した粉体Ｐの処分は、分析値に
異常がないときに受け皿１２から排除してパイプライン
２に戻す場合と、異常データが検出されたときのように
受け皿１２ごと保存する場合がある。これらの選択はス
イッチ４４により切り換えられる。スイッチ４４で廃棄
が選択されている場合は、受け皿１２が位置Ｓ５に移動
してから、下方のプッシャ４５が上昇してくる。プッシ
ャ４５はエアシリンダ４６により上下方向に往復駆動さ
れる。エアシリンダ４６は電磁弁４７により動作が制御
される。プッシャ４５の上面には凹部が形成されて真空
圧源に接続されており、プッシャ４５の上面が受け皿１
２の底面に当接すると受け皿１２はプッシャ４５に吸着
固定される。

【００３２】プッシャ４５は更に上昇し上方に位置する
クラッシャ４８に受け皿１２を押圧する。クラッシャ４
８は下面中心寄りに破砕刃４９が放射状に設置されてお
り、この破砕刃４９が受け皿１２内で圧縮・固化されて
いる粉体Ｐを砕く。更に、砕かれて粉状に戻った粉体Ｐ
は、クラッシャ４８の上部に接続されているエゼクタ５
１により吸引されてテフロンチューブ５２を介してパイ
プライン２に戻っていく。チューブ５２の途中には、電
動のボールバルブ５３が接続されて、エゼクタ５１が作
動している間は開放される。なお、エゼクタ５１には電
磁弁５４、コック５５を介して受け皿１２が上昇してい
る間だけ圧縮空気が送られる。

【００３３】粉体Ｐが除去されると、電磁弁４７を切り
換えてエアシリンダ４５及びプッシャ４６を下降させ
て、受け皿１２がテーブル２３上のレベルに達したとこ
ろで、プッシャ４５の真空圧源を切り、更にプッシャ４
５のみを下降させて、受け皿１２をテーブル２３上に戻
す。以後、この受け皿１２はサンプリングや測定等に繰
返し使用される。

【００３４】スイッチ４４で廃棄が選択されていても、
分析データに異常が検出されてその試料を受け皿１２ご
と保存しておきたいような場合には、位置Ｓ５において
試料をクラッシャ４８にかけず、三爪フィンガ６３によ
り受け皿１２を外側からチャックし、保存ストッカ６４
まで移送して保存する。そして、受け皿ストッカ５８か
ら新たな受け皿１２を吸着パッド５６により吸着保持
し、ターンテーブル２３の上に載置して以後のサンプリ
ングや測定等に使用する。吸着パッド５６の上下移動は
シリンダ５９により、水平方向の移動はシリンダ６１，
６２により駆動される。受け皿ストッカ５８は、モータ
Ｍ７により受け皿１２を昇降させて、最上面のレベルを
常に一定に保っている。

【００３５】スイッチ４４で保存が選択されている場合
は、底板ストッカ内の底板４０が受け皿１２内に収容さ
れた状態でサンプリングや測定等が行われる。この場合
には、試料を保存するため位置Ｓ５においてクラッシャ
４８にかけず、受け皿１２が位置Ｓ６に移動してから、
上方から三爪フィンガ６３が下降して、受け皿１２を外
側からチャックする。次いで、チャックしたまま三爪フ
ィンガ６３が上昇し更に水平移動して保存ストッカ６４
に受け皿１２を搬送し、粉体Ｐを収納したままで受け皿
１２を保存する。三爪フィンガ６３の上下移動はシリン
ダ６５により、水平方向の移動はシリンダ６６により駆
動される。保存ストッカ６４は、モータＭ８により受け
皿１２を順次下降させて、常に最上面のレベルを一定に
保つ。

【００３６】また、テーブル２３は、その外周に受け皿
１２を支持するための孔８０が等間隔で形成されてお
り、この孔８０に受け皿１２の底に形成されている凸部
（図示せず）が嵌合することで、受け皿１２はテーブル
２３の上面に安定して支持される。この孔８０に受け皿
１２が嵌合・支持されている状態でテーブル２３が回転
して位置Ｓ７からＳ１，Ｓ２，……の順に停止してそれ
ぞれの処理が行われる。テーブル２３は、その中心に回
転軸７１が垂設され、回転軸７１は減速機７２を介して
モータＭ５に接続されており、モータＭ５により一定角
度づつ回転する。回転軸７１には回転位相を検出するた
めのドグ７３と原点を検出するためのドグ７４が、各々
センサ７５，７６に相対して取り付けられている。

【００３７】図３（ａ），（ｂ）は図１及び図２に示さ
れたホッパー１１及びその前後についての具体的構成を
示した部分断面図である。このうち、図３（ｂ）はアー
ム２１の先端部の構造を示しており、２１ａは受け皿１
２が載置される凹部、２１ｂはプッシャ２８を受容する
ためにアーム２１の先端に設けられた開口部である。図
３におけるその他の各部については、図１及び図２と同
一の符号を付して説明を省略する。

【００３８】この実施例では、分析のための粉体試料を
サンプラー１を用いてパイプライン２から外部へ取り出
す構造としたので、以後の分析のための装置が全てパイ
プライン２とは別個に設置可能となり、メンテナンスが
容易になる。また、取り出した試料をそれぞれ受け皿１
２に入れてから、搬送及び分析をおこなうため、個々の
試料の管理が明確になると共に、必要があればその試料
を保存ストッカ６４に搬送して保存することが可能にな
り、パイプライン２に対する試料の管理体制が充実す
る。取り出した試料を受け皿１２内で圧縮した場合、そ
の組成や粒度等の違いにより表面レベルが上下に変動す
るが、この表面レベルの変化を試料ごとに変位センサ３
６により検出し、その後、試料表面レベルを近赤外線成
分分析センサ３８や色度センサ４３に固有の測定距離に
各々合わせることにより、高精度の分析が可能になる。

【００３９】分析後の試料を保存するか否かはスイッチ
４４の切り換えで容易に選択可能であり、保存しない側
を選択した場合、その試料が再びパイプライン２に自動
的に戻されるため、試料の処理に人手を煩わされること
がない。また、パイプライン２から試料を取り出して、
受け皿１２に入れる場合にその処理がホッパー１１内で
行われるが、ホッパー１１内の圧力をエゼクタ１５等に
より大気圧より若干低くなるように調節しておくこと
で、粉体Ｐがホッパー１１の外部へ飛散することが防止
されて、環境がクリーンに保たれる。更には、位置Ｓ
２，Ｓ３におけるプッシャ３４，３７の昇降機構の駆動
源をパルスモータＭ４として共通化したことで、部品点
数が少なくなると共に制御回路部も簡略化することがで
きる。

【００４０】なお、位置Ｓ２〜Ｓ４における受け皿１２
の保持機構にも依存するが、位置Ｓ２において試料をそ
の基準レベルから下降させて表面レベルを設定値に一致
させ、その際の移動距離に基づき位置Ｓ３，Ｓ４におい
て試料を下降させて近赤外線成分分析センサ３８や色度
センサ４３の測定距離に位置決めしても良い。

【００４１】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、粉体
からなる試料がパイプラインの外部に抽出されて分析用
の受け皿に入れられるため、必要な場合は容器ごと試料
を保管することが可能になる。また、パイプラインに取
り付けられる粉体抽出機構部以外の装置各部はパイプラ
インの外部に設置されるため、装置の保守作業が容易に
なる。

【００４２】従来のようにパイプライン内壁のガラス窓
に試料を押し付けて測定する方法に比べ、新旧の試料ど
おしが混合する恐れが少なく、サンプリングの信頼性更
には分析値の信頼性を高めることができる。更に、本発
明では、受け皿で圧縮された後の試料表面レベルを測定
し、これに応じて、非接触形分析センサと表面レベルと
の距離を所定値に調整できるため、測定対象までの距離
を所定値に保つ必要がある分析センサを使用する場合に
分析精度を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の粉体抽出機構部の概略構成を
示す説明図である。

【図２】本発明の実施例の粉体抽出機構部以降の概略構
成を示す説明図である。

【図３】図１及び図２の要部の具体的構成を示した部分
断面図である。

【符号の説明】

１ サンプラー ２ パイプライン ３，１８，５２ テフロンチューブ ４，１５，５１ エゼクタ ５，９，１０，１４，１６，２５，３１，４２，４７，
５４ 電磁弁 ６，１７，５５ コック ７ ノズルブロック ８，１３ ピンチバルブ １１ ホッパー １２ 受け皿 １９ ブリーザ ２０ ギヤ ２１ アーム ２２，２７，２９，４１，４６ エアシリンダ ２３ ターンテーブル ２４ ダストシール ２６ すり切り板 ２８，３４，３７，３９，４５ プッシャ ３０，３５ 送りネジ ３２ レギュレータ ３３ 押圧型 ３６ 変位センサ ３８ 近赤外線成分分析センサ ４０ 底板 ４３ 色度センサ ４４ スイッチ ４８ クラッシャ ４９ 破砕刃 ５３ ボールバルブ ５６ 吸着パッド ５７ 底板ストッカ ５８ 受け皿ストッカ ５９，６１，６２，６５，６６ シリンダ ６３ 三爪フィンガ ６４ 保存ストッカ ７１ 回転軸 ７２ 減速機 ７３，７４ ドグ ７５，７６ センサ ８０ 孔 Ｌ，Ｔ 距離 Ｍ１〜Ｍ８ モータ Ｐ 粉体（試料） Ｓ１〜Ｓ７ 位置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 試料としての粉体が移送されているパイ
   プラインから試料を受け皿内に抽出する粉体抽出機構部
   と、 受け皿内に抽出された試料を圧縮して表面に平滑面を形
   成する試料圧縮機構部と、 圧縮された試料の表面レベルを測定する試料表面レベル
   測定手段と、 試料を非接触状態で分析する分析センサと、 分析センサと試料の表面レベルとの距離を、試料表面レ
   ベル測定手段の検出結果に基づいて調整する分析位置調
   整手段と、 を備えたことを特徴とする粉体分析装置。