JPH06271625A - シクロオレフィンポリマーの製造法 - Google Patents

シクロオレフィンポリマーの製造法

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JPH06271625A
JPH06271625A JP6016527A JP1652794A JPH06271625A JP H06271625 A JPH06271625 A JP H06271625A JP 6016527 A JP6016527 A JP 6016527A JP 1652794 A JP1652794 A JP 1652794A JP H06271625 A JPH06271625 A JP H06271625A
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JP
Japan
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zirconium
dichloride
group
bis
dimethylsilyl
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JP6016527A
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Michael-Joachim Brekner
ミヒャエル−ヨアヒム・ブレクナー
Frank Osan
フランク・オサン
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F232/00Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
    • C08F232/08Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system having condensed rings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
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    • B01J19/1868Stationary reactors having moving elements inside resulting in a loop-type movement
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01J8/006Separating solid material from the gas/liquid stream by filtration
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    • B01J2219/00166Controlling or regulating processes controlling the flow controlling the residence time inside the reactor vessel
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S526/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S526/943Polymerization with metallocene catalysts

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はシクロオレフィンコポリマーの製造
法を提供する。 【構成】 本発明の方法によれば、ある反応スペースに
てある触媒系を使用して、環式オレフィンモノマーおよ
ぴ非環式オレフィンモノマーからシクロオレフィンポリ
マーが製造され、このとき前記反応スペースにおけるモ
ノマーの滞留時間と前記反応スペースにおける触媒系の
滞留時間とが分離される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シクロオレフィンコポ
リマー(COC)の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】CO
Cを製造するための種々の方法がすでに知られており、
これらの方法は、異なった触媒を使用することをベース
にしている(EP−A0 156 464, EP−A
0 203 799, DD−237 070, EP
−A0 355 682, EP−A0 485 89
3,および EP−A0 503422)。
【0003】これらの触媒の欠点は、特にメタロセン化
合物が比較的高価であること、そしてさらに比較的高価
な助触媒(通常は特定のアルキルアルミニウム)を併用
しなければならない、という事実にある。さらに、選択
性が高くて極めて有利な特性分布を与える特定のメタロ
センは、同時に、触媒活性(単位時間当たりの特定のモ
ノマーの導入)が低いという欠点をもつ。
【0004】本発明の目的は、適切な触媒系を使用し
て、環式オレフィンモノマーおよび非環式オレフィンモ
ノマーからCOCを製造する方法を提供することにあ
り、本製造法により、シクロオレフィンコポリマーの所
望の特性分布をできるだけ保持しつつ、触媒の消費量と
助触媒のコストを大幅に減少させることが可能となる。
【0005】上記の目的は、ある反応スペースにてある
触媒系を使用して、環式オレフィンモノマーおよび非環
式オレフィンモノマーからシクロオレフィンポリマーを
製造する方法であって、前記反応スペースにおける前記
モノマーの滞留時間と前記スペースにおける前記触媒系
の滞留時間とを分離することを含む前記製造法によって
達成される。したがって、“別個の(すなわち異なっ
た)滞留時間を有する製造法”と表される。
【0006】モノマーの滞留時間と触媒系の滞留時間の
分離は、先ず第1に触媒系を担体上に固定し、そして第
2に反応スペース中に多孔質区画(porous pa
rtition)を設けることによって達成される。
【0007】上記第1の方策においては、触媒(少なく
とも1種の助触媒と一緒になって触媒系を形成する)
は、反応条件下にて触媒のほとんどが担体上に保持され
るように担体上に固定される。第2の方策は、ポリマー
溶液に対しては透過性であるが担持触媒に対してはほと
んど不透過性であるような多孔質区画を使用することに
よって、触媒がポリマー溶液と共に運び去られるのを防
止する。
【0008】触媒は、種々の方法によって担体に固定す
ることができる。好ましい方法としては、例えばヨーロ
ッパ特許出願EP92107331.8に記載の方法が
あり、または特に好ましい方法としては、担体への固定
がマイクロ波を使用することによって行われるという新
しいタイプの方法がある(P 4304 286.
1)。これら2つの文献を参照文献としてここに引用す
る。後者の方法は、触媒と担体材料に担持された助触媒
とを懸濁液中で接触させること、およびマイクロ波の作
用により触媒を担体材料上に固定することを含む。
【0009】適切な担体材料としては、例えばシリカゲ
ル、酸化アルミニウム、固体アルミノキサン、または他
の無機担体材料(塩化マグネシウム等)がある。他の適
切な担体材料としては、重合条件下で不溶性で微粉形態
の部分結晶質ポリオレフィン粉末がある。
【0010】担体材料の粒径は、かなり広い範囲で選ぶ
ことができる。しかしながら、被覆可能な面積が極めて
大きいことに加えて、区画による保持が確実に行われる
よう注意しなければならない。大きな被覆可能面積を得
るためには、5〜250μmの平均直径を有する担体粒
子が好ましい。特に好ましいサイズは10〜120μm
である。担体の粒径は、反応スペースにおける多孔質区
画の平均孔幅の少なくとも5倍、好ましくは10倍以上
でなければならない。
【0011】担体を選定する際には、表面の化学組成や
平均粒径だけでなく、担体粒子のサイズ分布にも留意し
なければならない。サイズ分布はできるだけ狭いのが好
ましい。なぜなら、これによって区画の多孔度に対する
より良いマッチングが可能となるからである。こうした
ことにもかかわらずある割合の微細粒子が避けられなか
った場合は、触媒を担持させるためのプロセスを施す前
に、反応ゾーンにおける区画の多孔度と同等程度の篩を
通して篩分けしなければならない。
【0012】多孔質区画が、図1〜3において太い破線
によって概略的に示されている。この区画は担持された
触媒系を反応スペース中に実質的に保持するが、モノマ
ーと不活性溶媒は妨げられずに区画を通過することがで
き、シクロオレフィンコポリマーの溶液として反応器を
出る。これにより担持触媒系の滞留時間は、モノマーと
溶媒の滞留時間と比較して長くなる。反応スペースにお
けるモノマーの滞留時間と比較して触媒の滞留時間が長
くなるほど、このプロセスはより経済的となる。
【0013】担持触媒系の粒径と区画の多孔度とのサイ
ズ比が大きくなるほど、ある時間にわたって反応スペー
スからポリマー溶液と共に運び去られる担持触媒は少な
くなる。反応器の原理および反応器の構造に応じて(例
えば図1〜3を参照)、重合時により大きな割合の又は
より小さな割合の微細物質が形成され(担持触媒系の摩
耗によって引き起こされる)、この微細物質は次いで運
び去られ、したがって触媒の滞留時間が限定されること
になる。
【0014】触媒の滞留時間に対するさらなる決定的フ
ァクターは、触媒または助触媒の固定の安定性である。
固定が不充分であると、触媒系が時間の経過と共に担体
から分離し、次いでポリマー溶液と一緒に運び去られ
る。
【0015】触媒の滞留時間に制約を加えるさらなる原
因は、時間と共に触媒に対する汚染物が増大する点にあ
る。供給されるモノマーと溶媒が少量の不純物を含有し
ているときには、触媒の滞留時間は急激に減少する。し
たがって、これらのモノマーや溶媒は、不活性化試剤
(inertizing reagent)を使用して
汚染物を除去しておくのが好ましい。
【0016】区画は種々の形状を有することができ、種
々の反応器構造に適用することができる(図1〜3を参
照)。反応スペースはさらに、個々の反応ゾーンにおい
て異なった重合条件を有する多くの反応ゾーンで構成さ
れていてもよい。
【0017】区画は、異なった多孔質材料で造り上げる
ことができる。例えば、このような区画は、セラミック
フィルタープレート、金網フィルター、金属不織物、お
よび多層フィルター(織布や不織布を含んでもよい)な
どから製造することができる。平均多孔度は0.1〜5
0μm、好ましくは0.25〜20μm、そして特に好
ましくは2〜10μmの範囲でなければならない。孔径
の分布はできるだけ狭くなければならない。
【0018】本発明の方法は、連続方式でもあるいはバ
ッチ方式でも操作することができる。触媒、モノマー、
および溶媒が連続的に加えられ、ポリマー溶液といわゆ
る“使用済み触媒”の一部が反応器から連続的に取り出
される、という連続操作が好ましい。
【0019】本発明の方法にしたがったCOCを合成す
るに際して使用することのできるモノマーは、モノマー
の全重量を基準として0.1〜99.9重量%の式I,
II,III,またはIV
【化11】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,および
8は同一または異なっていて、水素原子、C1〜C8
ルキル基、またはアリール基であり、このときそれぞれ
の式における同じ表示の基は異なった意味を有してもよ
い)で示される少なくとも1種のモノマー、モノマーの
全重量を基準として0.1〜99.9重量%の式V
【化12】 (式中、nは2〜10の数である)で示されるシクロオ
レフィン、およびモノマーの全重量を基準として0.1
〜99.9重量%の式VI
【化13】 (式中、R9,R10,R11,およびR12は同一または異
なっていて、水素原子もしくはC1〜C8アルキル基であ
る)で示される少なくとも1種の非環式1−オレフィン
であり、線状タイプの式VII
【化14】 (式中、R13はC1〜C6アルキル基、フェニル基、また
はベンジル基であり、nは2〜50の整数である)およ
び/または環状タイプの式VIII
【化15】 (式中、R13はC1〜C6アルキル基、フェニル基、また
はベンジル基であり、nは2〜50の整数である)で示
される少なくとも1種のアルミノキサン、および式IX
【化16】 (式中、M1はチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バ
ナジウム、ニオブ、またはタンタルであり、R14とR15
は同一または異なっていて、水素原子、ハロゲン原子、
1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C6
10アリール基、C6〜C10アリールオキシ基、C2〜C
10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C7
4 0アルキルアリール基、またはC8〜C40アリールア
ルケニル基であり、mは、中央原子M1の原子価に応じ
て1または2であり、R18
【化17】 =BR19、=AIR19、−Ge−、−Sn−、−O−、
−S−、=SO、=SO2、=NR19、=CO、=PR
19、または=P(O)R19であって、このときR1 9、R
20、およびR21は同一または異なっていて、水素原子、
ハロゲン原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10フルオ
ロアルキル基、C6〜C10フルオロアリール基、C6〜C
10アリール基、C1〜C10アルコキシ基、C2〜C10アル
ケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C8〜C40
リールアルケニル基、またはC7〜C40アルキルアリー
ル基であるか、あるいはR19とR20またはR19とR21
それぞれの場合においてそれらを連結している原子と一
緒になって環を形成しており、M2はケイ素、ゲルマニ
ウム、または錫であり、R16とR17は同一または異なっ
ていて、中央原子M1とサンドイッチ構造を形成するこ
とのできる単核もしくは多核の炭化水素基である)で示
される少なくとも1種のメタロセン化合物を含んだ担持
触媒系の存在下において、−78〜150℃の温度およ
び0.5〜64バールの圧力にて、溶液中、懸濁液中、
液状シクロオレフィンモノマーもしくはシクロオレフィ
ンモノマー混合物中、あるいは気相中で重合される。
【0020】重合されるモノマーとしては、式I,I
I,III,またはIV
【化18】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,および
8は同一または異なっていて、水素原子、C1〜C8
ルキル基、またはC1〜C16アリール基であり、このと
きそれぞれの式における同じ表示の基は異なった意味を
有してもよい)で示される少なくとも1種の多環式オレ
フィン(好ましくは式IまたはIIIの多環式オレフィ
ン)がある。必要であれば、式V
【化19】 (式中、nは2〜10の数である)で示される単環式オ
レフィンも使用することができる。
【0021】他のコモノマーとしては、式VI
【化20】 〔式中、R9,R10,R11,およびR12は同一または異
なっていて、水素原子、C1〜C8アルキル基(二重結合
を含んでいてもよい)、またはC6〜C16アリール基で
ある〕で示される非環式の1−オレフィンがある。好ま
しいのはエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オ
クテン、またはスチレンである。特に好ましいのはエテ
ンである。さらに、ジエン類も使用することができる。
【0022】式Iの多環式オレフィンと式IIの多環式
オレフィンのコポリマーが特に好ましい。
【0023】モノマーの全重量を基準として、多環式オ
レフィン(I〜IV)は0.1〜99.9重量%の量に
て使用され、単環式オレフィン(V)は0〜99.9重
量%の量にて使用され、非環式オレフィン(VI)は
0.1〜99.9重量%の量にて使用される。
【0024】モノマーは以下のような比で使用されるの
が好ましい。
【0025】a) 多環式オレフィン(I〜IV)対1
−オレフィン(VI)のモノマーモル比が、対応するポ
リマーにおいて1:99〜99:1、好ましくは20:
80〜80:20である; b) 多環式オレフィン(I〜IV)と単環式オレフィ
ン(V)のポリマーにおいて、多環式オレフィン対単環
式オレフィンのモノマーモル比が10:90〜90:1
0である; c) 多環式オレフィン(I〜IV)、単環式オレフィ
ン(V)、および1−オレフィン(VI)のポリマーに
おいて、多環式オレフィン対単環式オレフィン対1−オ
レフィンのモノマーモル比が93:5:2〜5:93:
2〜5:5:90である。すなわちモル比は、それらの
コーナーがモル比97:1:2、5:93:2、および
5:1:94によって固定されているミキシングトライ
アングル(mixing triangle)の範囲内
にある; d) a),b),およびc)において、多環式オレフ
ィン、単環式オレフィン、および1−オレフィンは、そ
れぞれのタイプの2種以上のオレフィンの混合物も含ん
でいるものとする。
【0026】重合において使用される触媒は、アルミノ
キサンおよび式IXで示される少なくとも1種のメタロ
センを含む。式IXにおいて、M1はチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、およびタンタ
ルを含む群から選ばれる金属であり、好ましいのはジル
コニウムとハフニウムである。
【0027】R14とR15は同一または異なっていて、水
素原子、C1〜C10アルキル基(好ましくはC1〜C3
ルキル基)、C1〜C10アルコキシ基(好ましくはC1
3アルコキシ基)、C6〜C10アリール基(好ましくは
6〜C8アリール基)、C6〜C10アリールオキシ基
(好ましくはC6〜C8アリールオキシ基)、C2〜C10
アルケニル基(好ましくはC2〜C4アルケニル基)、C
7〜C40アリールアルキル基(好ましくはC7〜C10アリ
ールアルキル基)、C7〜C40アルキルアリール基(好
ましくはC7〜C12アルキルアリール基)、C8〜C40
リールアルケニル基(好ましくはC8〜C12アリールア
ルケニル基)、またはハロゲン原子(好ましくは塩素原
子)であり、mは、中央原子M1の原子価に応じて1ま
たは2であり、R16とR17は同一または異なっていて、
中央原子M1と一緒になってサンドイッチ構造を形成す
ることのできる、単核もしくは多核の炭化水素基であ
る。
【0028】R16とR17は互いに独立しているのが好ま
しく、例えばインデニル、フルオレニル、またはシクロ
ペンタジエニルであり、このときこれらの基は1つ以上
の炭化水素基を有してもよい。
【0029】R18は、R16基とR17基を連結する単数員
または複数員のブリッジであって、
【化21】 =BR19、=AIR19、−Ge−、−Sn−、−O−、
−S−、=SO、=SO2、=NR19、=CO、=PR
19、または=P(O)R19であり、このときR19
20、およびR21は同一または異なっていて、水素原
子、ハロゲン原子(好ましく塩素原子)、C1〜C10
ルキル基(好ましくはC1〜C3アルキル基、特にメチル
基)、C1〜C10フルオロアルキル基(好ましくはCF3
基)、C6〜C10フルオロアリール基(好ましくはペン
タフルオロフェニル基)、C6〜C10アリール基(好ま
しくはC6〜C8アリール基)、C1〜C10アルコキシ基
(好ましくはC1〜C4アルコキシ基、特にメトキシ
基)、C2〜C10アルケニル基(好ましくはC2〜C4
ルケニル基)、C7〜C40アリールアルキル基(好まし
くはC7〜C10アリールアルキル基)、C8〜C40アリー
ルアルケニル基(好ましくはC8〜C12アリールアルケ
ニル基)、またはC7〜C40アルキルアリール基(好ま
しくはC7〜C12アルキルアリール基)であるか、ある
いはR19とR20またはR19とR21がそれぞれの場合にお
いてそれらを連結している原子と一緒になって環を形成
している。
【0030】M2はケイ素、ゲルマニウム、または錫で
あって、好ましくはケイ素またはゲルマニウムである。
【0031】R18は、好ましくは=CR1920、=Si
1920、=GeR1920、−O−、−S−、=SO、
=PR19、または=P(O)R19である、これらのメタ
ロセンは、例えばEP−A0 355 682に説明さ
れているように製造することができる。
【0032】好ましいメタロセンは、二塩化ビスシクロ
ペンタジエニルジルコニウム、ジメチル・ビスシクロペ
ンタジエニルジルコニウム、ジフェニル・ビスシクロペ
ンタジエニルジルコニウム、ジベンジル・ビスシクロペ
ンタジエニルジルコニウム、ビストリメチルシリル・ビ
スシクロペンタジエニルジルコニウム、二塩化ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ビス
(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム、二塩化ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム、二塩化ビス(1,2,4−トリメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ビス
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム、
二塩化ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム、二塩化ビス(プロピルシクロペンタジエニル)ジル
コニウム、二塩化ビス(ブチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウム、二塩化ビスフルオレニルジルコニウム、
二塩化ビスインデニルジルコニウム、二塩化ジフェニル
メチレン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム、二塩化ジフェニルメチレン(9−フ
ルオレニル)(シクロペンタジエニル)ハフニウム、二
塩化ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム、二塩化ジメチルシリル(9−フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジ
メチルシリル(9−フルオレニル)(シクロペンタジエ
ニル)ハフニウム、二塩化イソプロピリデン(9−フル
オレニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二
塩化イソプロピリデン(9−フルオレニル)(シクロペ
ンタジエニル)ハフニウム、二塩化ジメチルシリル−ビ
ス(9−フルオレニル)ジルコニウム、二塩化ジメチル
シリル−ビス−1−テトラヒドロインデニルジルコニウ
ム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチル−
テトラヒドロインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチ
ルシリル−ビス−1−(2,3,5−トリメチル−シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリ
ル−ビス−1−(2,3−ジメチル−シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1
−インデニルジルコニウム、ジメチル・ジメチルシリル
−ビス−1−インデニルジルコニウム、二塩化ジメチル
ゲルミル−ビス−1−インデニルジルコニウム、二塩化
ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチルインデニル)
ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2
−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニウ
ム、二塩化フェニルメチルシリル−ビス−1−(2−メ
チルインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル
−ビス−1−(2−メチル−4−エチルインデニル)ジ
ルコニウム、二塩化エチレン−ビス−1−(4,7−ジ
メチルインデニル)ジルコニウム、二塩化フェニル(メ
チル)シリル−ビス−1−インデニルジルコニウム、二
塩化フェニル(ビニル)シリル−ビス−1−インデニル
ジルコニウム、二塩化ジフェニルシリル−ビス−1−イ
ンデニルジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−
1−(2−メチル−4−tertブチルインデニル)ジ
ルコニウム、二塩化メチルフェニルシリル−ビス−1−
(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニ
ウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−エチル
−4−メチルインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチ
ルシリル−ビス−1−(2,4−ジメチルインデニル)
ジルコニウム、ジメチル・ジメチルシリル−ビス−1−
(2−メチル−4−エチルインデニル)ジルコニウム、
二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチル−4,
6−ジイソプロピルインデニル)ジルコニウム、二塩化
ジメチルシリル−ビス−1−(2,4,6−トリメチル
インデニル)ジルコニウム、二塩化メチルフェニルシリ
ル−ビス−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピル
インデニル)ジルコニウム、二塩化1,2−エタンジイ
ル−ビス−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピル
インデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビ
ス−1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ジ
ルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−
メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム、二塩
化エチレン−ビス(1−インデニル)ジルコニウム、二
塩化エチレン−ビス−1−(4,5,6,7−テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウム、二塩化エチレン−ビス
(1−インデニル)ハフニウム、二塩化ジメチルシリル
−ビス−1−(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウ
ム、二塩化イソプロピル−(シクロペンタジエニル)
(1−インデニル)ジルコニウム、二塩化イソプロピル
−(3−メチルシクロペンタジエニル)(1−インデニ
ル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−(シクロペ
ンタジエニル)(1−インデニル)ジルコニウム、二塩
化ジメチルシリル−ビス(3−メチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス
(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム、二塩化メチルエチレン−ビス(1−インデニル)ジ
ルコニウム、二塩化メチルフェニルカルビル(9−フル
オレニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二
塩化ジフェニルシリル(9−フルオレニル)(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル
〔9−(2,7−ジ−tertブチルフルオレニル)〕
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジフェ
ニルカルビル〔9−(2,7−ジ−tertブチルフル
オレニル)〕(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、
二塩化イソプロピル〔9−(2,7−ジ−tertブチ
ルフルオレニル)〕(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム、二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−
(3−メチルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、
二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−(3−
イソプロピルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、
二塩化ジメチルシリル(9−フルオレニル)〔1−(3
−メチルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、二塩
化ジメチルシリル(9−フルオレニル)〔1−(3−イ
ソプロピルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、二
塩化イソプロピル(9−フルオレニル)(1−インデニ
ル)ジルコニウム、および二塩化ジメチルシリル(9−
フルオレニル)(1−インデニル)ジルコニウムであ
る。
【0033】本発明の触媒系を製造するには、キラルメ
タロセンをラセミ化合物の形で使用するのが好ましい。
しかしながら、純粋なR形もしくはS形も使用すること
ができる。高タクチックポリオレフィンを製造する場合
には、使用する前にメソ形のメタロセンを分離しておか
なくてはならない。メタロセンの中央原子としてはジル
コニウムとハフニウムが好ましい。特に好ましいのはジ
ルコニウムである。
【0034】特に好ましいメタロセンは、二塩化ビスシ
クロペンタジエニルジルコニウム、二塩化ビスインデニ
ルジルコニウム、二塩化ジフェニルメチレン(9−フル
オレニル)(シクロペンタジエル)ジルコニウム、二塩
化ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエル)ジルコ
ニウム、二塩化ジメチルシリル(9−フルオレニル)
(シクロペンタジエル)ジルコニウム、二塩化イソプロ
ピリデン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエル)
ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−イン
デニルジルコニウム、二塩化ジフェニルシリル−ビス−
1−インデニルジルコニウム、二塩化エチレン−ビス
(1−インデニル)ジルコニウム、二塩化イソプロピル
−(シクロペンタジエル)(1−インデニル)ジルコニ
ウム、二塩化イソプロピル−(3−メチルシクロペンタ
ジエル)(1−インデニル)ジルコニウム、二塩化ジメ
チルシリル−(シクロペンタジエル)(1−インデニ
ル)ジルコニウム、二塩化メチルフェニルカルビル(9
−フルオレニル)(シクロペンタジエル)ジルコニウ
ム、二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−
(3−メチルシクロペンタジエル)〕ジルコニウム、お
よび二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−
(3−イソプロピルシクロペンタジエル)〕ジルコニウ
ムである。
【0035】助触媒は、線状タイプの式VII
【化22】 のアルミノキサン、および/または環状タイプの式VI
II
【化23】 のアルミノキサンである。これらの式において、R13
1〜C6アルキル基であり、好ましくはメチル、エチ
ル、イソブチル、ブチル、ネオペンチル、フェニル、ま
たはベンジルである。特に好ましいのはメチルである。
nは2〜50の整数であり、好ましくは5〜40であ
る。しかしながら、アルミノキサンの正確な構造は明ら
かでない。
【0036】担持された形で使用するのが好ましいアル
ミノキサンは、例えばEP−A0355 682に説明
されているように、種々の方法にて製造することができ
る。
【0037】モノマーと溶媒の汚染物除去は、安価なア
ルキルアルミニウム(例えばトリイソブチルアルミニウ
ム)を使用して行うことができる。このためには、反応
スペースにおいて0.0001〜20g/lの、好まし
くは0.001〜5g/lの、そして特に好ましくは
0.01〜2g/lの濃度のアルキルアルミニウムが使
用される。
【0038】重合は、チーグラー低圧法に対して通常使
用されるような不活性溶媒または懸濁媒体中(例えば脂
肪族炭化水素や脂環式炭化水素;このような炭化水素の
例としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、イ
ソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
およびデカリン等がある)で行われる。さらに、酸素、
イオウ化合物、および水分を注意深く取り除いた石油留
分や水素化ディーゼル油留分も使用することができる。
トルエンやキシレンも使用することができる。
【0039】最後に、重合させるべきモノマーも溶媒や
懸濁媒体として使用することができる。高純度ノルボル
ネンの場合、重合は、例えば45℃以上の温度で行われ
る。ポリマーの分子量は公知の方法で調節することがで
き、この調節には水素を使用するのが好ましい。
【0040】重合は、溶液中において連続方式またはバ
ッチ方式で、1つ以上の工程にて−78〜150℃(好
ましくは−20〜120℃)の温度で行うのが最も好ま
しい。圧力は0.5〜64バールであり、この圧力はガ
ス状オレフィンによって、あるいは不活性ガスを使用す
ることによって保持される。
【0041】連続法や多段階法が特に有利である。なぜ
なら、多環式オレフィンを効率的に使用することができ
るからである(多環式オレフィンは、残留モノマーとし
て反応混合物と一緒になって再循環される)。
【0042】コポリマーの製造においては、多環式オレ
フィン対1−オレフィンのモル比は広い範囲内で変える
ことができる。重合温度の選択、触媒成分の濃度、およ
び使用されるモル比により、導入されるコモノマーの量
を、所望する殆どすべての値に調節することができる。
【0043】本発明の方法は、高価な触媒と助触媒のか
なりの量を低減できるという利点を提供する。
【0044】実施例 担持されたアルミニウム化合物(シリカゲル上メチルア
ルミノキサン)(以後“MAO on SiO2,タイ
プA”と呼ぶ)を使用する試験に対しては、約10重量
%のn−デカン中懸濁液を作製した。この懸濁液は、ア
ルミニウムの定量によれば1ml当たり60mgのAl
を含有していた。
【0045】さらに、溶媒を含まないシリカゲル上担持
メチルアルミノキサン(以後“MAO on Si
2,タイプB”と呼ぶ)(固体状態にて20重量%の
アルミニウムを含有)を作製した。
【0046】略語の意味: VN = cm3/gで表示した粘度数 Mw = g/モルで表示した重量平均分子量(ゲル透
過クロマトグラフィーにより測定) Mw/Mn = 分子量の分散度 mp = ℃で表示した融点(DSCにより測定,加熱
/冷却速度は20℃/分) II = アイソタクチック指数(II= mm +
1/2mr,13C−NMR分光分析法により測定) MFI/(230/5) = dg/分で表示したメル
トフローインデックス(DIN53735にしたがって
測定) BD = g/dm3で表示したポリマーの嵩密度実施例1 約80μmの平均粒径を有する3.9gの“MAO o
n SiO2,タイプB”を、機械的撹拌が可能な容器
中にて60mlのトルエン中に懸濁させ、本混合物を−
30℃に冷却した。
【0047】これと同時に65mg(0.15ミリモ
ル)の二塩化イソプロピル−(9−フルオレニル)シク
ロペンタジエニルジルコニウムを40mlのトルエン中
に溶解し、上記懸濁液中に滴下した。この低温の反応混
合物をマイクロ波装置中に導入した。不活性ガス流れ中
で、2.45GHzのマイクロ波振動数および500W
のマイクロ波エネルギーにて撹拌しながら、混合物を1
5分間で80℃に加熱した。このとき懸濁液は赤色を呈
するようになった。輻射線エネルギーは、懸濁液が前記
温度に1時間保持されるように調節した〔250W,パ
ルスト(pulsed)〕。次いで混合物を濾過し、得
られた赤色染料を50mlのトルエンで3回洗浄した。
この淡赤色の濾液を分析したところ、0.9mgのジル
コニウム含量〔この値は、4.3mgの二塩化イソプロ
ピル−(9−フルオレニル)シクロペンタジエニルジル
コニウムに相当する〕が得られた。固体を減圧乾燥し
た。さらさらした紫色の担持触媒が3g得られ、これは
触媒1g当たり20mgのジルコノセンを含有してい
た。
【0048】実施例2 “MAO on SiO2,タイプA”の懸濁液20m
lを、アルゴン雰囲気下でG3シュレンク・フリット
(G3 Schlenk frit)中に導入し、4.
2mgの二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)シク
ロペンタジエニルジルコニウムを10mlのトルエン中
に溶解して得られた溶液(9.7マイクロモルのZr)
と混合した。反応混合物を室温で30分撹拌し、このと
き紫色への色の変化は徐々に弱まっていった。次いで本
混合物を濾過し、得られた固体を10mlのヘキサンで
3回洗浄した。ヘキサンで湿潤した担持触媒が濾過器残
留物2として得られた。
【0049】実施例3 撹拌機を取り付けた清浄・乾燥状態の1.5リットル重
合反応器を、先ず窒素で、次いでエチレンでフラッシン
グした。この反応器に、ノルボルネンのトルエン溶液6
00ml(411gのノルボルネンと86mlのトルエ
ン)を仕込んだ。この溶液を、トリ(n−ブチル)アル
ミニウムの20重量%濃度トルエン溶液2mlと混合し
た。次いで反応器の温度を70℃に設定し、エチレンの
圧力を6バールに設定した。
【0050】実施例1にしたがって作製した210mg
の触媒粉末を、25mlシュレンク容器中にて10ml
の乾燥ヘキサン中に懸濁させた。この懸濁液を移送チュ
ーブを介して反応器中に導入し、エチレンを計量しつつ
さらに加えることによって、エチレンの圧力を60分間
一定の6バールに保持した。Brooksからの質量流
量計を使用することによって、エチレンの取り込み量を
連続的にモニターした。重合反応の進行中にわたって、
エチレンの取り込み量は殆ど一定の9リットル/時(標
準リットル/時)であった。
【0051】60分後に水を含んだトルエン(室温で飽
和)100mlを加えることによって、重合を停止させ
た。次いで反応器の内容物を、挿入フィルター層T55
00(Seitz社製)を有する70℃に加熱された3
リットル容量の加圧濾過器を通して、2.5バールのゲ
ージ圧にて4分で濾過した。透明な溶液が得られた。次
いで溶液を5リットルのアセトン中に析出沈殿させ、生
成した固体を3リットルのアセトンで洗浄した。こうし
て得られた粉末を、100℃、0.2バールにて15時
間乾燥した。
【0052】トータルで51.4gのノルボルネン/エ
チレンコポリマーが得られた。本コポリマーのガラス転
移温度は154℃であり、粘度数(溶液の粘度)は18
0ml/gであった。
【0053】実施例4 ヘキサンで湿潤した濾過器残留物(実施例2に記載の触
媒調製法にしたがって得られたもの)の全部を10ml
の乾燥ヘキサン中に再懸濁し、そしてこれを重合に使用
したこと以外は、実施例3に記載の手順を繰り返した。
重合の初めのほうではエチレンの取り込み量は9.3リ
ットル/時であったが、60分経過後においては6.7
リットル/時に大幅に低下した。濾過(実施例9の場合
と同じ条件で実施)には18分を要した。
【0054】44.6gの生成物が得られた。本生成物
のガラス転移温度は152℃であり、粘度数は169m
l/gであった。
【0055】実施例5 本実験において使用される装置は以下のものを含む。
【0056】− 撹拌機、移送チューブ、および上向き
パイプ〔本パイプの端部には、支持チュ ーブと多層
金属フィルター(金属織物間に埋め込まれた金属不織物
によって、 その多孔度が5μmであることが求めら
れている)を含んだ円柱状フィルタ ーキャンドルが
ねじ締めされている〕を取り付けた1.5リットル容量
の反 応器; − ダイヤフラムポンプを介して反応器に接続されてい
る15リットル容量の供給容器; − 触媒貯蔵器として作用し、1mlの移送チューブを
介して反応器に接続されている0.1リットル容量の圧
力容器;および − 2つの弁を介して反応器の上向きパイプとボトム弁
〔これらはいずれもパルストモード(pulsed m
ode)で作動することができる〕に接続されている2
リットル容量の減圧容器。
【0057】1250gのノルボルネン、270mlの
トルエン、および3.5gのトリ(−ブチル)アルミニ
ウムを含んだ溶液を15リットルの供給容器に仕込ん
だ。実施例1にしたがって作製した1gの担持触媒と4
8mlのヘキサンとを含んだ触媒懸濁液を0.1リット
ルの圧力容器に仕込んだ。清浄・乾燥状態の反応器の温
度を70℃に上げ、供給容器から600mlのノルボル
ネン溶液を仕込んだ。引き続きエチレンを導入して6バ
ールに加圧し、飽和後、圧力容器から10mlの触媒懸
濁液を加えた。本実験のさらなる進行中、エチレンをさ
らに計量導入することによって、エチレンの圧力を一定
の6バールに保持した。温度を一定の70℃に設定し
た。60分後、パルスト弁(pulsed valv
e)と上向きパイプを介して0.6リットル/時の流れ
を連続的に取り出した。これと同時にダイヤフラムポン
プが、ノルボルネン供給容器から反応器中に同じ流れを
供給し始めた。質量流量計(Brooks社製)を使用
することによって、エチレンの取り込み量を連続的にモ
ニターした。最初の60分においてエチレン取り込み量
は8.7リットル/時(標準リットル/時)から8.2
リットル/時に低下し、次の60分においてさらに7.
8リットル/時に低下した。こうして得られた溶液を実
施例3の場合と同様に析出沈殿させ、引き続きポリマー
生成物を乾燥した。120分の反応時間でトータル8
8.5gのノルボルネン/エチレンコポリマーが得られ
た。ガラス転移温度は156℃であり、粘度数は176
ml/gであった。
【0058】実施例6(比較例) 以下に記載の相違点以外は実施例5と同様の手順で実験
を行った。
【0059】− 60分後、上向きパイプを介してでは
なくボトム弁を介して反応溶液を取り出した; − 初めのほうのエチレン取り込み量は9.1リットル
/時であり、60分後のエチレン取り込み量は8.7リ
ットル/時であり、そしてさらに60分後のエチレン取
り込み量は4.7リットル/時であった。
【0060】120分の反応時間に対してトータル7
2.2gのポリマーが得られた。本ポリマーのガラス転
移温度は154℃であり、粘度数は165ml/gであ
った。
【0061】実施例7 実施例1からの1gの乾燥触媒を50mlのヘキサン中
に懸濁させ、この懸濁液を重合に使用した。これと並行
して、乾燥した16dm3の反応器を先ず窒素で、次い
でプロピレンでフラッシングし、10dm3の液体プロ
ピレンを仕込んだ。3cm3のトリイソブチルアルミニ
ウム(高純度品,12ミリモル)を30mlのヘキサン
で希釈し、反応器中に導入し、本混合物を30℃で15
分間撹拌した。次いで、この作製された触媒懸濁液を反
応器中に導入し、本混合物を70℃の重合温度に加熱し
(4℃/分)、そして冷却することによってこの重合系
を70℃にて1時間保持した。20mlのイソプロパノ
ールを加えることによって、重合を停止させた。過剰の
モノマーを抜き取り、得られたポリマーを減圧にて乾燥
した。600gの粗粒形態のポリプロピレン粉末が得ら
れた。反応器は、その内壁や撹拌機にいかなる付着物も
認められなかった。触媒活性は、(1gのメタロセン×
1時間)当たり30kgのPPであった。
【0062】実施例8 実施例1からの1gの乾燥触媒を、不活性ガスで飽和し
た100mlの無水トルエン中に懸濁させた。この懸濁
液を、保護ガスの雰囲気下にて80℃で3時間加熱し
た。室温に冷却後、G3フリットを通して濾過した。紫
色の濾過器残留物をヘキサンで洗浄し、次いで50ml
のヘキサン中に懸濁させ、これを重合に使用した。重合
は、実施例7の場合と同様の手順で行った。530gの
粗粒形態のポリプロピレン粉末が得られた。反応器は、
その内壁や撹拌機にいかなる付着物も認められなかっ
た。触媒活性は、(1gのメタロセン×1時間)当たり
26.5kgのPPであった。
【0063】実施例9 実施例2にしたがって作製した触媒系の濾過器残留物
(ヘキサンで湿潤している)を50mlのヘキサン中に
懸濁させ、これを重合に使用した。重合は、実施例7の
場合と同様の手順で実施した。この結果250gの微細
粒形態のポリプロピレン粉末が得られた。反応器は、そ
の内壁や撹拌機にいかなる付着物も認められなかった。
触媒活性は、(1gのメタロセン×1時間)当たり60
kgのPPであった。
【0064】実施例10(比較例) 実施例2にしたがって作製した触媒系の濾過器残留物
(ヘキサンで湿潤している)を、不活性ガスで飽和した
100mlの無水トルエン中に懸濁させた。この懸濁液
を、保護ガスの雰囲気下にて80℃で3時間加熱した。
室温に冷却後、G3フリットを通して濾過した。濾液は
赤色を呈していた。濾過器残留物をヘキサンで洗浄し、
次いで50mlのヘキサン中に懸濁させ、これを重合に
使用した。重合は、実施例7の場合と同様の手順で行っ
た。ポリプロピレン粉末は得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にしたがった1つの態様の反応器構造物
である。
【図2】本発明にしたがった他の態様の反応器構造物で
ある。
【図3】本発明にしたがったさらに他の態様の反応器構
造物である。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ある反応スペースにてある触媒系を使用
    して、環式オレフィンモノマーおよび非環式オレフィン
    モノマーからシクロオレフィンポリマーを製造する方法
    であって、前記反応スペースにおける前記モノマーの滞
    留時間と前記スペースにおける前記触媒系の滞留時間と
    を分離することを含む、前記製造法。
  2. 【請求項2】 前記モノマーの滞留時間と前記触媒系の
    滞留時間との分離が、前記触媒系を担体上に固定し、前
    記反応スペース中に多孔質区画を設けることによって達
    成される、請求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】 触媒および/または助触媒の前記担体上
    への固定が、マイクロ波の作用の下で行われる、請求項
    2記載の製造法。
  4. 【請求項4】 前記区画の平均多孔度が0.1〜50μ
    m、好ましくは0.25〜20μm、さらに好ましくは
    2〜10μmである、請求項2記載の製造法。
  5. 【請求項5】 使用される前記担体材料が、シリカゲ
    ル、酸化アルミニウム、固体アルミノキサン、例えば塩
    化マグネシウム等の他の無機担体材料、または重合条件
    下で不溶性であって且つ微粉形態をとっている部分結晶
    質ポリオレフィン粉末である、請求項2記載の製造法。
  6. 【請求項6】 前記触媒系が、少なくとも1種のメタロ
    セン触媒と少なくとも1種の助触媒を含む、請求項1記
    載の製造法。
  7. 【請求項7】 使用される前記モノマーが、モノマーの
    全重量を基準として0.1〜99.9重量%の式I,I
    I,III,またはIV 【化1】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,および
    8は同一または異なっていて、水素原子、C1〜C8
    ルキル基、またはアリール基であり、このときそれぞれ
    の式における同じ表示の基は異なった意味を有してもよ
    い)で示される少なくとも1種のモノマー、 モノマーの全重量を基準として0.1〜99.9重量%
    の式V 【化2】 (式中、nは2〜10の数である)で示されるシクロオ
    レフィン、およびモノマーの全重量を基準として0.1
    〜99.9重量%の式VI 【化3】 (式中、R9,R10,R11,およびR12は同一または異
    なっていて、水素原子もしくはC1〜C8アルキル基であ
    る)で示される少なくとも1種の非環式1−オレフィン
    であり、 線状タイプの式VII 【化4】 (式中、R13はC1〜C6アルキル基、フェニル基、また
    はベンジル基であり、nは2〜50の整数である)およ
    び/または環状タイプの式VIII 【化5】 (式中、R13はC1〜C6アルキル基、フェニル基、また
    はベンジル基であり、nは2〜50の整数である)で示
    される少なくとも1種のアルミノキサン、および式IX 【化6】 (式中、 M1はチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウ
    ム、ニオブ、またはタンタルであり、 R14とR15は同一または異なっていて、水素原子、ハロ
    ゲン原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ
    基、C6〜C10アリール基、C6〜C10アリールオキシ
    基、C2〜C10アルケニル基、C7〜C40アリールアルキ
    ル基、C7〜C4 0アルキルアリール基、またはC8〜C40
    アリールアルケニル基であり、 mは、中央原子M1の原子価に応じて1または2であ
    り、 R18は 【化7】 =BR19、=AIR19、−Ge−、−Sn−、−O−、
    −S−、=SO、=SO2、=NR19、=CO、=PR
    19、または=P(O)R19であって、このときR1 9、R
    20、およびR21は同一または異なっていて、水素原子、
    ハロゲン原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10フルオ
    ロアルキル基、C6〜C10フルオロアリール基、C6〜C
    10アリール基、C1〜C10アルコキシ基、C2〜C10アル
    ケニル基、C7〜C40アリールアルキル基、C8〜C40
    リールアルケニル基、またはC7〜C40アルキルアリー
    ル基であるか、あるいはR19とR20またはR19とR21
    それぞれの場合においてそれらを連結している原子と一
    緒になって環を形成しており、 M2はケイ素、ゲルマニウム、または錫であり、 R16とR17は同一または異なっていて、中央原子M1
    サンドイッチ構造を形成することのできる単核もしくは
    多核の炭化水素基である)で示される少なくとも1種の
    メタロセン化合物を含んだ担持触媒系の存在下におい
    て、−78〜150℃の温度および0.5〜64バール
    の圧力にて、溶液中、懸濁液中、液状シクロオレフィン
    モノマーもしくはシクロオレフィンモノマー混合物中、
    あるいは気相中で重合される、請求項1および2の少な
    くとも一項に記載の製造法。
  8. 【請求項8】 前記メタロセン触媒が式IXのメタロセ
    ンに相当し、このときM1は、チタン、ジルコニウム、
    ハフニウム、バナジウム、ニオブ、およびタンタルを含
    む群から選ばれる金属であって、好ましくはジルコニウ
    ムおよびハフニウムであり、 R14とR15は同一または異なっていて、水素原子、C1
    〜C10アルキル基、好ましくはC1〜C3アルキル基、C
    1〜C10アルコキシ基、好ましくはC1〜C3アルコキシ
    基、C6〜C10アリール基、好ましくはC6〜C8アリー
    ル基、C6〜C10アリールオキシ基、好ましくはC6〜C
    8アリールオキシ基、C2〜C10アルケニル基、好ましく
    はC2〜C4アルケニル基、C7〜C40アリールアルキル
    基、好ましくはC7〜C10アリールアルキル基、C7〜C
    40アルキルアリール基、好ましくはC7〜C12アルキル
    アリール基、C8〜C40アリールアルケニル基、好まし
    くはC8〜C12アリールアルケニル基、またはハロゲン
    原子、好ましくは塩素原子であり、 mは、中央原子M1の原子価に応じて1または2であ
    り、 R16とR17は同一または異なっていて、中央原子M1
    サンドイッチ構造を形成することのできる単核もしくは
    多核の炭化水素基であり、 R18は、基R16とR17を連結する単数員または複数員の
    ブリッジであって、 【化8】 =BR19、=AIR19、−Ge−、−Sn−、−O−、
    −S−、=SO、=SO2、=NR19、=CO、=PR
    19、または=P(O)R19であって、このときR1 9、R
    20、およびR21は同一または異なっていて、水素原子、
    ハロゲン原子、好ましく塩素原子、C1〜C10アルキル
    基、好ましくはC1〜C3アルキル基、特にメチル基、C
    1〜C10フルオロアルキル基、好ましくはCF3基、C6
    〜C10フルオロアリール基、好ましくはペンタフルオロ
    フェニル基、C6〜C10アリール基、好ましくはC6〜C
    8アリール基、C1〜C10アルコキシ基、好ましくはC1
    〜C4アルコキシ基、特にメトキシ基、C2〜C10アルケ
    ニル基、好ましくはC2〜C4アルケニル基、C7〜C40
    アリールアルキル基、好ましくはC7〜C10アリールア
    ルキル基、C8〜C40アリールアルケニル基、好ましく
    はC8〜C12アリールアルケニル基、またはC7〜C40
    ルキルアリール基、好ましくはC7〜C12アルキルアリ
    ール基であるか、あるいはR19とR20またはR19とR21
    がそれぞれの場合においてそれらを連結している原子と
    一緒になって環を形成しており、 M2はケイ素、ゲルマニウム、または錫であって、好ま
    しくはケイ素またはゲルマニウムであり、そしてR
    18は、好ましくは=CR1920、=SiR1920、=G
    eR1920、−O−、−S−、=SO、=PR19、また
    は=P(O)R19である、請求項7記載の製造法。
  9. 【請求項9】 使用されるメタロセンが、二塩化ビスシ
    クロペンタジエニルジルコニウム、ジメチル・ビスシク
    ロペンタジエニルジルコニウム、ジフェニル・ビスシク
    ロペンタジエニルジルコニウム、ジベンジル・ビスシク
    ロペンタジエニルジルコニウム、ビストリメチルシリル
    ・ビスシクロペンタジエニルジルコニウム、二塩化ビス
    (メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化
    ビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
    ニウム、二塩化ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジ
    エニル)ジルコニウム、二塩化ビス(1,2,4−トリ
    メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ビ
    ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
    ム、二塩化ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコ
    ニウム、二塩化ビス(プロピルシクロペンタジエニル)
    ジルコニウム、二塩化ビス(ブチルシクロペンタジエニ
    ル)ジルコニウム、二塩化ビスフルオレニルジルコニウ
    ム、二塩化ビスインデニルジルコニウム、二塩化ジフェ
    ニルメチレン(9−フルオレニル)(シクロペンタジエ
    ニル)ジルコニウム、二塩化ジフェニルメチレン(9−
    フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ハフニウム、
    二塩化ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)
    ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル(9−フルオレニ
    ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジ
    メチルシリル(9−フルオレニル)(シクロペンタジエ
    ニル)ハフニウム、二塩化イソプロピリデン(9−フル
    オレニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二
    塩化イソプロピリデン(9−フルオレニル)(シクロペ
    ンタジエニル)ハフニウム、二塩化ジメチルシリル−ビ
    ス(9−フルオレニル)ジルコニウム、二塩化ジメチル
    シリル−ビス−1−テトラヒドロインデニルジルコニウ
    ム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチル−
    テトラヒドロインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチ
    ルシリル−ビス−1−(2,3,5−トリメチル−シク
    ロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリ
    ル−ビス−1−(2,3−ジメチル−シクロペンタジエ
    ニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1
    −インデニルジルコニウム、ジメチル・ジメチルシリル
    −ビス−1−インデニルジルコニウム、二塩化ジメチル
    ゲルミル−ビス−1−インデニルジルコニウム、二塩化
    ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチルインデニル)
    ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2
    −メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニウ
    ム、二塩化フェニルメチルシリル−ビス−1−(2−メ
    チルインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル
    −ビス−1−(2−メチル−4−エチルインデニル)ジ
    ルコニウム、二塩化エチレン−ビス−1−(4,7−ジ
    メチルインデニル)ジルコニウム、二塩化フェニル(メ
    チル)シリル−ビス−1−インデニルジルコニウム、二
    塩化フェニル(ビニル)シリル−ビス−1−インデニル
    ジルコニウム、二塩化ジフェニルシリル−ビス−1−イ
    ンデニルジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−
    1−(2−メチル−4−tertブチルインデニル)ジ
    ルコニウム、二塩化メチルフェニルシリル−ビス−1−
    (2−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニ
    ウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−エチル
    −4−メチルインデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチ
    ルシリル−ビス−1−(2,4−ジメチルインデニル)
    ジルコニウム、ジメチル・ジメチルシリル−ビス−1−
    (2−メチル−4−エチルインデニル)ジルコニウム、
    二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−メチル−4,
    6−ジイソプロピルインデニル)ジルコニウム、二塩化
    ジメチルシリル−ビス−1−(2,4,6−トリメチル
    インデニル)ジルコニウム、二塩化メチルフェニルシリ
    ル−ビス−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピル
    インデニル)ジルコニウム、二塩化1,2−エタンジイ
    ル−ビス−1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピル
    インデニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビ
    ス−1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ジ
    ルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス−1−(2−
    メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム、二塩
    化エチレン−ビス(1−インデニル)ジルコニウム、二
    塩化エチレン−ビス−1−(4,5,6,7−テトラヒ
    ドロインデニル)ジルコニウム、二塩化エチレン−ビス
    (1−インデニル)ハフニウム、二塩化ジメチルシリル
    −ビス−1−(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウ
    ム、二塩化イソプロピル−(シクロペンタジエニル)
    (1−インデニル)ジルコニウム、二塩化イソプロピル
    −(3−メチルシクロペンタジエニル)(1−インデニ
    ル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−(シクロペ
    ンタジエニル)(1−インデニル)ジルコニウム、二塩
    化ジメチルシリル−ビス(3−メチルシクロペンタジエ
    ニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル−ビス
    (2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
    ム、二塩化メチルエチレン−ビス(1−インデニル)ジ
    ルコニウム、二塩化メチルフェニルカルビル(9−フル
    オレニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二
    塩化ジフェニルシリル(9−フルオレニル)(シクロペ
    ンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジメチルシリル
    〔9−(2,7−ジ−tertブチルフルオレニル)〕
    (シクロペンタジエニル)ジルコニウム、二塩化ジフェ
    ニルカルビル〔9−(2,7−ジ−tertブチルフル
    オレニル)〕(シクロペンタジエニル)ジルコニウム、
    二塩化イソプロピル〔9−(2,7−ジ−tertブチ
    ルフルオレニル)〕(シクロペンタジエニル)ジルコニ
    ウム、二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−
    (3−メチルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、
    二塩化イソプロピル(9−フルオレニル)〔1−(3−
    イソプロピルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、
    二塩化ジメチルシリル(9−フルオレニル)〔1−(3
    −メチルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、二塩
    化ジメチルシリル(9−フルオレニル)〔1−(3−イ
    ソプロピルシクロペンタジエニル)〕ジルコニウム、二
    塩化イソプロピル(9−フルオレニル)(1−インデニ
    ル)ジルコニウム、および二塩化ジメチルシリル(9−
    フルオレニル)(1−インデニル)ジルコニウムであ
    る、請求項7および8の少なくとも一方に記載の製造
    法。
  10. 【請求項10】 使用される助触媒が、線状タイプの式
    VII 【化9】 で示されるアルミノキサンおよび/または環状タイプの
    式VIII 【化10】 で示されるアルミノキサンであり、このときR13はC1
    〜C6アルキル基、好ましくはメチル、エチル、イソブ
    チル、ブチル、ネオペンチル、フェニル、またはベンジ
    ル、特に好ましくはメチルであり、nは2〜50の整
    数、好ましくは5〜40の整数である、請求項6記載の
    製造法。
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